JP2016194624A - 液晶パネル、液晶表示装置及び、その輝点欠陥修正方法 - Google Patents

Abstract

【課題】輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れを抑制可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】液晶パネル１５は、複数の開口７ａを有する枠状のブラックマトリクス７が配設されたカラーフィルタ基板１３と、カラーフィルタ基板１３との間に液晶１を挟むＴＦＴ基板１４とを備える。そして、液晶パネル１５は、ＴＦＴ基板１４に配設され、ブラックマトリクス７と平面視において重なる第１光吸収層５１、及び、カラーフィルタ基板１３に配設され、ブラックマトリクス７と平面視において重なる第２光吸収層５２、の少なくともいずれか１つを備える。【選択図】図３

Description

本発明は、液晶パネル、液晶表示装置及び、その輝点欠陥修正方法に関する。

一般的な液晶表示装置の液晶パネルは、液晶と、カラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板との間に液晶を挟む薄膜トランジスタアレイ基板とを備えている。そして、カラーフィルタ基板には、ブラックマトリクスが形成され、薄膜トランジスタアレイ基板には、ブラックマトリクスに覆われる領域に信号配線や走査配線が形成されている。

この液晶パネルでは、製造工程における異物混入などによって、輝点欠陥と呼ばれる欠陥が発生することがある。輝点欠陥は、画面を黒く表示しようとしても少数の画素が常に白く点灯する欠陥であり、人間の目に視認されやすく非常に目立つ。このため、輝点欠陥が発生した液晶パネルは不良品として廃棄されることが多く、液晶パネル製造における歩留り低下の原因となっている。

これに対して例えば特許文献１には、液晶パネルにおける輝点欠陥を修正する技術が開示されている。具体的には、輝点欠陥が発生した画素（輝点欠陥画素）にレーザ照射を行うことによって、カラーフィルタとガラスとの間にギャップを形成する。そして、ギャップが形成された輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス（樹脂）をレーザ照射によって分解して、ブラックマトリクスをギャップ内に拡散させる。このような技術によれば、輝点欠陥画素を黒点化して目立たなくすることが可能である。

特表２０１１−５０４５９９号公報

しかしながら、上述の輝点欠陥画素の黒点化方法においては、分解した樹脂性ブラックマトリクスが大量に輝点欠陥画素に流れ込むと、ブラックマトリクスが本来形成されていた位置においてブラックマトリクスの量が減り過ぎてしまうことがある。これにより、ブラックマトリクスが部分的に薄くなり過ぎたり、部分的に存在しなくなったりすることがある。

この結果、薄膜トランジスタアレイ基板の信号配線や走査配線の隙間を通過した光が、ブラックマトリクスが薄くなり過ぎた箇所または存在しない箇所を透過して、液晶パネルの表示面側に漏れてしまい、表示品位を劣化させることがあった。

そこで、本発明は、上記のような問題点を鑑みてなされたものであり、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れを抑制可能な技術を提供することを目的とする。

本発明に係る液晶表示装置は、複数の開口を有する枠状のブラックマトリクスが配設されたカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板との間に液晶を挟む薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板に配設され、前記ブラックマトリクスと平面視において重なる第１光吸収層、及び、前記カラーフィルタ基板に配設され、前記ブラックマトリクスと平面視において重なる第２光吸収層、の少なくともいずれか１つとを備える。前記第１光吸収層は、前記ブラックマトリクスにより平面視において覆われた不透明な信号配線と、前記信号配線に沿って延在するとともに、その延在方向にわたって、平面視において前記信号配線よりも前記開口に近い一端を有し、かつ、平面視において前記信号配線と隙間なく配設された不透明な補助容量電極とを含む。前記第２光吸収層は、互いに結合されることにより、前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面を前記ブラックマトリクスの線幅方向にわたって覆う複数のカラーフィルタ色材を含む。

本発明によれば、第１光吸収層及び第２光吸収層の少なくともいずれか１つとを備えるので、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れを抑制することができる。

実施の形態１に係る液晶モジュールの構成を示す断面図である。 実施の形態１に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。 実施の形態１に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 実施の形態１に係る輝点欠陥修正方法を説明するための平面図である。 実施の形態１に係る輝点欠陥修正方法を説明するための断面図である。 関連液晶モジュールの液晶パネルの構成を示す平面図である。 関連液晶モジュールの液晶パネルの構成を示す断面図である。 実施の形態１に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 実施の形態２に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 実施の形態３に係るカラーフィルタ基板の構成を示す断面図である。 実施の形態１に係るカラーフィルタ基板の構成を示す断面図である。 実施の形態３に係るカラーフィルタ基板の製造工程を示す断面図である。 実施の形態４に係るカラーフィルタ基板の構成を示す断面図である。 実施の形態５に係るカラーフィルタ基板の構成を示す断面図である。

＜実施の形態１＞
以下、図面を用いて本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置について説明する。なお、図面によっては、理解が容易になるように構成要素の一部が極端に変形されて図示されることもある。

図１は、本実施の形態１に係る液晶表示装置である液晶モジュール２０の構成を示す断面図である。図１に示すように、液晶モジュール２０は、液晶パネル１５と、バックライト１６と、駆動制御基板１７とを備える。バックライト１６は、液晶パネル１５の背面側に設置され、バックライト１６及び液晶パネル１５は、駆動制御基板１７に電気的に接続されて動作制御される。

液晶パネル１５は、液晶１と、カラーフィルタ基板１３と、カラーフィルタ基板１３との間に液晶１を挟む薄膜トランジスタアレイ基板１４とを備えている。なお、以下の説明では、薄膜トランジスタアレイ基板をＴＦＴ基板（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）と記す。

カラーフィルタ基板１３は、ガラス基板２と、ガラス基板２の液晶側表面（液晶１側の表面）上に配設されたカラーフィルタ１２と、カラーフィルタ１２の液晶側表面上に配設されたオーバーコート膜１８とを備える。また、カラーフィルタ基板１３は、オーバーコート膜１８の液晶側表面上に配設された、液晶１に電圧を印加させるための対向電極４と、対向電極４の液晶側表面上に配設された、液晶１を予め定められた向きに配向させるための配向膜５とを備える。さらに、カラーフィルタ基板１３は、ガラス基板２の液晶１と反対側の表面上に配設された偏光板３を備える。なお、対向電極４はパターニングされているが、図１では簡略化してパターニングされていない一の膜として図示されている。

カラーフィルタ１２は、赤（Red：Ｒ）、緑（Green：Ｇ）、青（Blue：Ｂ）に相当する特定の波長域の光を透過する複数のカラーフィルタ色材６と、光を遮ることが可能であり、複数の開口を有する枠状のブラックマトリクス７とを含む。なお、ブラックマトリクス７の開口内に、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ色材６のいずれかが設けられており、ブラックマトリクス７は、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ色材６を画素ごとに区分している。

カラーフィルタ色材６としては、例えばポリイミドやアクリル系、エポキシ系の樹脂に着色したもの等が用いられ、膜厚は例えば１μｍ程度である。ブラックマトリクス７は遮光性に優れた膜であり、例えば樹脂にカーボンを加えて黒くしたものや金属のクロム膜等が用いられる。本実施の形態１においては樹脂性のブラックマトリクスが用いられるものとし、ブラックマトリクス７の膜厚は例えば１〜３μｍ程度であるものとする。

オーバーコート膜１８は、透明な膜である。オーバーコート膜１８は、平坦面を形成するとともに、カラーフィルタ色材６から不純物が発生した場合に不純物の発生部を被覆する。オーバーコート膜１８の被覆により、カラーフィルタ１２の不純物が液晶１中に拡散することを防ぐことが可能である。オーバーコート膜１８の主要材料には、例えばポリイミド系、エポキシ系、アクリル系等の樹脂であって、熱硬化タイプまたは光硬化タイプの樹脂が用いられる。オーバーコート膜１８の膜厚は例えば１μｍ程度である。

対向電極４は液晶１に電圧を印加するためのものであり、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）のような透明導電膜で形成される。対向電極４の厚みは、例えば５０〜１５０ｎｍ程度である。

配向膜５は、液晶１の分子を予め定められた向きに配向させるためのものであり、例えばポリイミド等で形成される。厚みは、例えば数十ｎｍ程度である。

以上、カラーフィルタ基板１３について簡単に説明した。次にＴＦＴ基板１４について簡単に説明する。ＴＦＴ基板１４は、ガラス基板８と、ガラス基板８の液晶側表面上に配設された、液晶１に印加する電圧を制御するためのＴＦＴアレイ１０と、ＴＦＴアレイ１０の液晶側表面上に配設された配向膜１１とを備える。また、ＴＦＴ基板１４は、ガラス基板８の液晶１と反対側の表面上に配設された偏光板９を備える。

ＴＦＴアレイ１０には、後述するように液晶１に電圧を印加するための画素電極や印加する電圧を制御するためのＴＦＴ等が含まれる。なお、ＴＦＴアレイ１０はパターニングされた複数の膜からなるが、図１ではそれらを簡略化してパターニングされていない一の膜として図示されている。駆動制御基板１７は、このＴＦＴアレイ１０と電気的に接続されている。

配向膜１１には、カラーフィルタ基板１３側の配向膜５と実質的に同じものが使用される。

次に、バックライト１６について説明する。バックライト１６は、ＴＦＴ基板１４側から液晶パネル１５に光を照射するための光源である。バックライト１６としては、例えば発光ダイオードや蛍光管といった点光源や線光源から面光源を形成したものや、エレクトロルミネッセンス素子による面光源等が使用される。

次に、駆動制御基板１７について説明する。駆動制御基板１７は、制御用のＩＣ（Integrated Circuit）等を含む。駆動制御基板１７は、液晶パネル１５のＴＦＴアレイ１０の動作を制御することによって液晶１を駆動したり、バックライト１６から液晶パネル１５に光を照射したりする。

次に、図２及び図３を用いて、本実施の形態１に係る液晶モジュール２０の液晶パネル１５における画素構造についてさらに詳しく説明する。

図２は、本実施の形態１に係る液晶パネル１５の画素構造３０を示す平面図である。図３は、図２の断面線Ａ−Ａから液晶パネル１５を見た断面図である。本実施の形態１の液晶パネル１５の表示領域には、複数個の矩形状の画素構造３０がマトリクス状に配設されている。通常、液晶パネルには多数の画素構造が配設されているが、図２には理解を容易にするために、概ね３つの画素構造３０が示されている。液晶パネル１５では、各画素に、ストライプ状の赤、緑、青のカラーフィルタ色材６のいずれかが割り当てられ、３つの画素（３色の画素）を１単位としてカラー表示が行われる。本実施の形態１では、信号配線３３が延在する延在方向に同色のカラーフィルタ色材６が並んで配設され、当該延在方向と直交する方向に３色のカラーフィルタ色材６が順に繰り返し配設されている。

各画素構造３０は、ＴＦＴ基板１４と、カラーフィルタ基板１３と、ＴＦＴ基板１４及びカラーフィルタ基板１３間に封入される液晶１とを備えて構成される。

なお、ブラックマトリクス７は複数の開口７ａを有している。図２では、理解を容易にするために、ブラックマトリクス７の図示を省略し、ブラックマトリクス７の開口７ａのみを図示している。

＜ＴＦＴ基板＞
ＴＦＴ基板１４は、ガラス基板８と、ガラス基板８の液晶側表面に配設された走査配線３１、共通配線３２、信号配線３３、ゲート電極（図２では走査配線３１の一部がゲート電極となっている）、ソース電極３４、ドレイン電極３５、半導体層（例えばアモルファスシリコン膜）３６、補助容量電極３７、コンタクトホール３８、画素電極３９、絶縁膜１９ａ，１９ｂ及び配向膜１１と、ガラス基板８の液晶１と反対側の表面に配設された偏光板９とを備える。なお、図１に示したＴＦＴアレイ１０に含まれるＴＦＴは、ゲート電極（走査配線３１の一部）、ソース電極３４、ドレイン電極３５、半導体層３６、及び、絶縁膜１９ａ，１９ｂから構成される。

図３に部分的に図示されるように、共通配線３２、補助容量電極３７、及び、走査配線３１（ゲート電極）は、ガラス基板８の液晶側表面上に配設されている。また、図３に部分的に図示されるように、それらの上には絶縁膜１９ａが配設され、絶縁膜１９ａの上には、信号配線３３、ソース電極３４、ドレイン電極３５、及び、半導体層３６が配設されている。そして、図３に部分的に図示されるように、それらの上には絶縁膜１９ｂが配設され、絶縁膜１９ｂの上には、コンタクトホール３８を介してドレイン電極３５と電気的に接続された画素電極３９が配設されている。なお、画素電極３９は、カラーフィルタ基板１３に形成される対向電極４と同様に、ＩＴＯなどの透明な導電材料によって形成されている。

ここで本実施の形態１では、信号配線３３は、図２に示されるようにブラックマトリクス７により平面視に覆われている。

そして、補助容量電極３７は、図２に示されるように共通配線３２に接続された矩形状の電極であり、信号配線３３に沿って延在している。そして、補助容量電極３７は、その延在方向にわたって、平面視において信号配線３３よりもブラックマトリクス７の開口７ａに近い一端を有し、かつ、平面視において信号配線３３と隙間なく配設されている。なお、本実施の形態１では、補助容量電極３７の当該一端及びそれと逆側の他端は、信号配線３３の当該一端及び当該他端に対応する両端よりも平面視において外側に位置しており、図３に示されるように補助容量電極３７の中央部分が断面視において信号配線３３の下方に位置している。

なお、補助容量電極３７は、上述の走査配線３１、共通配線３２、信号配線３３、ゲート電極、ソース電極３４、ドレイン電極３５とともに、アルミニウム（Ａｌ）及びモリブデン（Ｍｏ）などの不透明な金属材料によって形成されている。

＜カラーフィルタ基板＞
カラーフィルタ基板１３は、ガラス基板２と、ガラス基板２の液晶側表面に配設されたブラックマトリクス７と、ガラス基板２の液晶側表面のうちブラックマトリクス７が配設されていない表面に配設されたカラーフィルタ色材６と、ブラックマトリクス７の液晶側表面上及びカラーフィルタ色材６の液晶側表面上に配設されたオーバーコート膜１８と、その上に順に配設された対向電極４及び配向膜５と、ガラス基板２の液晶１と反対側の表面に配設された偏光板３とを備える。

ブラックマトリクス７は、ＴＦＴ基板１４に配設された走査配線３１、信号配線３３、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）スイッチング素子及び補助容量電極３７を覆うように配設されている。言い換えれば、ＴＦＴ基板１４の走査配線３１、信号配線３３、ＴＦＴスイッチング素子及び補助容量電極３７は、ブラックマトリクス７と平面視において重畳するように配設されている。つまり、ＴＦＴ基板１４に配設された信号配線３３及び補助容量電極３７からなる図３の第１光吸収層５１は、ブラックマトリクス７と平面視において重なっている。

複数のカラーフィルタ色材６は、ブラックマトリクス７の線幅方向において、ブラックマトリクス７の液晶側の表面の端部を覆っている。そして、各カラーフィルタ色材６の大部分は、平面視において画素電極３９とほぼ同じ位置にある開口７ａ内に設けられており、画素ごとにブラックマトリクス７により取り囲まれている。

＜作用及び動作＞
次に、各画素構造３０に配設された各構造の作用及び動作について説明する。複数の走査配線３１にパルス状の電圧が選択的に印加されることによって、走査配線３１に平行な方向に並んで配設されている同一列の画素に電圧（選択電圧）が印加される。選択電圧が走査配線３１に印加される選択期間中に、信号配線３３に画像信号電圧（画素信号電圧）が印加される。上述の選択期間中は、上述したＴＦＴ（スイッチング素子）がオン状態となり、ソース電極３４及びドレイン電極３５の間が低抵抗になるので、その画素においては、信号配線３３に接続されたソース電極３４からドレイン電極３５に画像信号電圧が印加される。これにより、コンタクトホール３８によってドレイン電極３５と接続された画素電極３９にも画像信号電圧が印加される。このようにして、同一列の画素電極３９に一斉に画像信号電圧が印加される。

続いて別の走査配線３１に選択電圧が印加され、上記動作と同様の動作が行われる。上記動作を順に繰り返し行うことによって、表示領域のすべての画素電極３９にそれぞれの画像信号電圧が印加される。選択電圧が印加されない非選択期間中の画素では、ＴＦＴがオフ状態となり、ソース電極３４及びドレイン電極３５の間が高抵抗になるので、画素電極３９の電位は保持される。非選択期間（保持期間）の画素電極３９の電位の変動を低減するために、共通配線３２に接続された補助容量電極３７と、それと離間された画素電極３９との間に補助容量が形成される。

カラーフィルタ基板１３の対向電極４には、予め定められた電圧が印加されており、対向電極４と、画像信号電圧が印加される画素電極３９との間の電圧によって、その間に封入された液晶１の液晶分子の配向状態、ひいては複屈折性が変化する。画素電極３９及び対向電極４間の電圧の高低によって液晶１の複屈折性が調整され、当該液晶１と、ＴＦＴ基板１４の偏光板９と、カラーフィルタ基板１３の偏光板３との組み合わせによって、各画素を透過する光の透過率が制御される。

バックライト１６から液晶パネル１５に入射される光は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の光を含む白色の光であり、カラーフィルタ基板１３に配設された１色のカラーフィルタ色材６は、実質的に、１色の光を透過し、他の２色の光を吸収する。このため、カラーフィルタ基板１３に配設されたカラーフィルタ色材６を透過した各画素の透過光は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のうちのいずれかの色の光となる。

ブラックマトリクス７の液晶側表面上及びカラーフィルタ色材６の液晶側表面上には、オーバーコート膜１８が配設されている。オーバーコート膜１８は、カラーフィルタ色材６及びブラックマトリクス７の段差が反映されにくい平坦面を液晶１側に有している。このようなオーバーコート膜１８によれば、カラーフィルタ色材６及びブラックマトリクス７上方に平坦面を形成することができる。また、オーバーコート膜１８は、カラーフィルタ色材６から液晶１への不純物の拡散を遮断することができる。

ここで、各画素構造３０において、画素電極３９及び対向電極４間の液晶１には、画像信号電圧が印加されるが、画素電極３９が配設されていない領域に対応する液晶１には、画像信号電圧が印加されず、所望の透過率が得られない。そこで、液晶パネル１５では、カラーフィルタ基板１３のうち、画素電極３９が配設されていない領域に対応する領域に、ブラックマトリクス７を配設することによって、バックライト１６から出射された光を遮断している。

＜輝点欠陥修正方法＞
以上のように構成された液晶モジュール２０において、液晶パネル１５の製造時等に液晶パネル１５への異物の混入等で輝点欠陥が発生することがある。本実施の形態１に係る輝点欠陥修正方法では、このような輝点欠陥が発生した液晶パネル１５における、輝点欠陥画素のカラーフィルタ色材６及びそれに隣接するブラックマトリクス７に対してレーザ（レーザ光）を照射する。このレーザ照射によって、カラーフィルタ色材６とガラス基板２との間にブラックマトリクス７を拡散させることにより、液晶パネル１５上の輝点欠陥を遮蔽し（黒点化し）、目立たなくすることが可能となっている。

以下、輝点欠陥を有する画素にレーザを照射する工程について、図を用いて説明する。図４は本実施の形態１に係る黒点化加工時のレーザ４０の走査経路４１の一例を示すカラーフィルタ基板１３の平面図であり、図５は輝点欠陥画素（輝点欠陥を有する画素）が黒点化される過程を説明するためのカラーフィルタ基板１３の断面図である。

図４（ａ）では、スリット等を使用して画素よりも小さいサイズに成型されたレーザ４０が、ブラックマトリクス７上に照射される。そして、当該レーザ４０が、図４（ａ）に示される走査経路４１に沿って、輝点欠陥画素のカラーフィルタ色材６、及び、それに隣接するブラックマトリクス７上をジグザグ状に走査する。このレーザ照射により、図５（ａ）に示されるように、カラーフィルタ色材６とガラス基板２との間にギャップ４２が形成される。

ここでは、レーザ装置としてはＹＡＧレーザを使用し、周波数５０Ｈｚのパルスレーザを照射した。なお、図４（ａ）の工程の際に、ブラックマトリクス７の拡散よりもギャップ４２の形成を優先することが望まれる場合には、カラーフィルタ色材６に吸収されやすいレーザ波長を用いればよい。例えば、画素がＧ画素である場合には、レーザ波長３５５ｎｍの紫外線レーザを用いればよく、画素がＲ画素またはＢ画素である場合には、可視光線レーザを用いればよい。

また、以上の説明では、図４（ａ）のように上下方向に延在するカラーフィルタ色材６に対して、レーザ４０を左右方向に（カラーフィルタ色材６を横切るように）走査させたがこれに限ったものではない。例えば、カラーフィルタ色材６に対して、レーザ４０を上下方向に走査させてもよい。

なお、従来の液晶モジュール（液晶表示装置）では、カラーフィルタ色材６へのレーザ照射時にカラーフィルタ色材６に亀裂が生じるなどして不純物が発生することがある。この不純物が液晶１の内部に拡散すると、電圧保持不良が生じ、表示品位を低下させる。しかし、本実施の形態１に係る液晶モジュール２０では、カラーフィルタ色材６及びブラックマトリクス７の液晶側表面にオーバーコート膜１８が配設されているため、不純物が液晶１の内部に拡散することを防ぐことができる。

さて上述のようにギャップ４２を形成した後、例えば、図４（ａ）での照射よりもレーザ４０のパワー密度を小さくして、図４（ｂ）の走査経路４１に沿って、ブラックマトリクス７及びカラーフィルタ色材６上にレーザ４０を照射する。これにより、図５（ａ）に示されるギャップ４２の内部に図５（ｂ）で示されるようにブラックマトリクス７を拡散させることができる。

なお、図４（ａ）及び図４（ｂ）のレーザ照射だけではブラックマトリクス７を十分にギャップ４２内に拡散させることができない場合には、引き続いて、図４（ｃ）及び図４（ｄ）の走査経路４１に沿って、カラーフィルタ色材６に隣接するブラックマトリクス７上をレーザ照射してブラックマトリクス７を分解して、ブラックマトリクス７をギャップ４２内にさらに拡散させてもよい。

この結果、輝点欠陥画素のカラーフィルタ色材６とガラス基板２との間にブラックマトリクス７を十分に拡散することができるので、輝点欠陥画素の光透過率をより低下させ、より黒点化することができる。拡散されたブラックマトリクス７の量が輝点欠陥画素を黒点化するのに十分な場合は、図４（ｃ）及び図４（ｄ）のどちらか一方のレーザ照射だけを行ってもよいし、どちらも行わなくてもよい。

ここで、近年の液晶モジュールでは画素の開口率が著しく増大しており、ブラックマトリクス７の開口７ａ全体に光を遮蔽できるように均一に厚くブラックマトリクス７を充填するためには、多量のブラックマトリクス７の拡散（流出）が必要とされる。そこで、近年の液晶モジュールにおいて、ブラックマトリクス７を多量にギャップ４２に流出させるために、例えば図４（ｄ）に示されるように走査経路４１に沿って複数回のレーザ走査を繰り返した場合などには、ブラックマトリクス７が本来形成されていた箇所において、ブラックマトリクス７が部分的に薄くなり過ぎたり、部分的に存在しなくなったりする。この結果、バックライト１６から出射され、ＴＦＴ基板１４の信号配線３３などの隙間を通過した光が、ブラックマトリクス７が薄くなり過ぎた箇所または存在しない箇所を透過して、液晶パネル１５の表示面側に漏れてしまうことがあった。

＜関連液晶モジュール＞
次に、光漏れの現象を理解しやすくするために、本実施の形態１に係る液晶モジュール２０と関連する液晶モジュール（以下、「関連液晶モジュール」と記す）について説明する。図６は、関連液晶モジュールの液晶パネルの画素構造を示す平面図である。図７は、図６の断面線Ｂ−Ｂから見た当該液晶パネルの断面図である。なお、関連液晶モジュールにおいて、以上で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ参照符号を付し、異なる部分について主に説明する。

関連液晶モジュールでは、補助容量電極４７の構造が、本実施の形態１に係る補助容量電極３７の構造と異なっている。具体的には、関連液晶モジュールの補助容量電極４７は、図６に示されるように、信号配線３３の両側に、信号配線３３と間に隙間を設けて配設されている。このような構成によれば、図７に示されるように、液晶モジュール２０の背面側に設置されたバックライト１６（図１）から出射されて液晶パネル１５に入射した光は、補助容量電極４７と信号配線３３との隙間を通過する。

また、図７に示されるように、この隙間には画素電極３９が配設されていないため、画素信号に対応する電圧が液晶１に印加されず、当該液晶１を駆動することができない。このため、補助容量電極４７と信号配線３３との隙間を通過した光は、制御されずにカラーフィルタ基板１３に到達に到達する。

ここで本来なら、上記隙間を通過してカラーフィルタ基板１３に到達した光は、ＴＦＴ基板１４に設けられた走査配線３１、信号配線３３、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）スイッチング素子及び補助容量電極４７を覆うようにガラス基板２に配設されたブラックマトリクス７によって遮蔽される。しかしながら、前述したように図４（ｄ）に示したレーザ照射などにより、ブラックマトリクス７の膜厚が薄くなり過ぎたり、部分的にブラックマトリクス７が除去されたりしていると、図７に示されるように光がカラーフィルタ基板１３を透過して液晶パネル１５の表示面側に出射する。この結果として、関連液晶モジュールでは、表示品位が低下することになる。これに対して、以下で説明するように本実施の形態１では、このような光の透過（光漏れ）を抑制することが可能となっている。

＜実施の形態１のまとめ＞
図８は、本実施の形態１に係る液晶パネル１５の画素構造３０を示す断面図である。この図８では、図７と同様にバックライト１６からの入射光が示されている。上述したように本実施の形態１では、ＴＦＴ基板１４に配設され、ブラックマトリクス７と平面視において重なる第１光吸収層５１を備えている。そして、この第１光吸収層５１は、不透明な信号配線３３と、延在方向にわたって、信号配線３３よりも開口７ａに近い一端を有し、かつ、平面視において信号配線３３と隙間なく配設された不透明な補助容量電極３７とを含む。このような構成によれば、画素電極３９が形成されずに液晶１を駆動できない領域に入射した光も補助容量電極３７で遮蔽することができる。よって、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れ（レーザ照射後に新たに発生する表示不良）を抑制することができるので、表示品位を維持することができる。

なお、ＴＦＴ基板１４のガラス基板８に形成される電極及び配線は図３に示されるようにガラス基板８上に積層構造として配設されるが、補助容量電極３７は走査配線３１と同じ階層に形成されている。そのため、走査配線３１と補助容量電極３７とを絶縁するように、図２に示されるようにそれらの間には隙間が設けられる。このような構成された走査配線３１近傍を、図４（ｃ）及び図４（ｄ）の工程にてレーザ照射するときは、他の領域よりもレーザ出力を小さくする、または、照射回数を減らすなどして、走査配線３１近傍の領域におけるブラックマトリクス７の分解及び拡散を抑えることが望ましい。

＜実施の形態２＞
本発明の実施の形態２に係る液晶モジュールは、ＴＦＴ基板の構造が実施の形態１と異なっている点を除けば実施の形態１と同じである。以下、本実施の形態２に係る液晶モジュールにおいて、実施の形態１と同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付して説明する。

図９は、本実施の形態２に係る液晶モジュール２０が備える液晶パネル１５の画素構造の断面図であり、断面の位置は、実施の形態１の画素構造の平面図である図２中の断面線Ａ−Ａに対応している。本実施の形態２に係るＴＦＴ基板１４は、実施の形態１と同様に、ガラス基板８、走査配線３１、共通配線３２、信号配線３３、ゲート電極、ソース電極３４、ドレイン電極３５、半導体層３６、コンタクトホール３８、画素電極３９、絶縁膜１９ａ，１９ｂ、配向膜１１、及び、偏光板９を備える。そして、本実施の形態２に係るＴＦＴ基板１４は、実施の形態１で説明した補助容量電極３７の代わりに、補助容量電極５７を備えている。

補助容量電極５７は、実施の形態１と同様に、アルミニウム（Ａｌ）及びモリブデン（Ｍｏ）などの不透明な金属材料で形成されている。また、実施の形態１と同様に、補助容量電極５７は、その延在方向にわたって、信号配線３３よりもブラックマトリクス７の開口７ａに近い一端を有し、かつ、平面視において信号配線３３と隙間なく配設されている。したがって、実施の形態１と同様に、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れを抑制することができるので、表示品位を維持することができる。

ここで、近接して配設される信号配線と補助容量電極との間には、一般的に電気容量が形成される。この電気容量は、信号配線と補助容量電極とが重なる領域の面積が大きい場合には大きくなる。そして、電気容量が大きくなると、画素充電に必要な時定数が大きくなるので、所望の電位になりにくい、つまり所望の階調が表示されにくいという問題が生じる。

これに対し、本実施の形態２では、補助容量電極５７の、開口７ａに近い一端と逆側の他端５７ａのみが、信号配線３３と平面視において重なるように配設されている。つまり、本実施の形態２では、信号配線３３と補助容量電極５７とが重なる領域の面積が、実施の形態１よりも小さくなっている。したがって、前述のような駆動上の問題を抑制することができる。

＜実施の形態３＞
本発明の実施の形態３に係る液晶モジュールでは、カラーフィルタ基板の構造が、実施の形態１及び２に説明したカラーフィルタ基板の構造と異なっている。ＴＦＴ基板の構造には、関連液晶モジュールのＴＦＴ基板の構造を用いてもよいし、実施の形態１，２に係る液晶モジュールのＴＦＴ基板の構造を用いてもよい。ただし、実施の形態１，２に係る液晶モジュールのＴＦＴ基板の構造を、本実施の形態３に係るＴＦＴ基板に用いた場合には、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れをより抑制することが可能となる。なお、以下、本実施の形態３に係る液晶モジュールにおいて、これまでに説明した液晶モジュールと同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付して説明する。

図１０は、本実施の形態３に係るカラーフィルタ基板１３の構成を示す断面図である。

本実施の形態３に係るカラーフィルタ基板１３は、実施の形態１と同様に、ガラス基板２、ブラックマトリクス７、カラーフィルタ色材６、オーバーコート膜１８、対向電極４、配向膜５、及び、偏光板３を備える。

複数のカラーフィルタ色材６は、赤、緑、青の少なくともいずれか１色のカラーフィルタ色材を含む。図１０に示す例では、実施の形態１，２と同様に、複数のカラーフィルタ色材６は、赤、緑、青のカラーフィルタ色材６を含んでいる。なお、以下の説明では、赤、緑、青のカラーフィルタ色材６をそれぞれカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂと記す。

図１０に示すように、中央の画素にカラーフィルタ色材６Ｒが配設され、その隣の画素にそれぞれカラーフィルタ色材６Ｇ，６Ｂが配設されている。本実施の形態３では、カラーフィルタ色材６Ｒは、カラーフィルタ色材６Ｇの開口７ａまで拡がって配設され、カラーフィルタ色材６Ｇとわずかに重なっている。また、カラーフィルタ色材６Ｂは、カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇの開口７ａまで拡がって配設され、カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇとわずかに重なっている。

つまり、本実施の形態３では、複数のカラーフィルタ色材６（カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ）は、互いに結合されることにより、ブラックマトリクス７の液晶側表面をブラックマトリクス７の線幅方向にわたって覆っている。そして、このような複数のカラーフィルタ色材６からなる第２光吸収層５２は、ブラックマトリクス７と平面視において重なっている。

ここで比較のため、図１１に、実施の形態１に係るカラーフィルタ基板１３の構造を示す。図１１では、カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂのいずれも、ブラックマトリクス７の端部にわずかに重なるようにしか配設されておらず、ブラックマトリクス７の線幅方向における、ブラックマトリクス７の液晶側表面の中央部を覆うように配設されていない。つまり、複数のカラーフィルタ色材６が、ブラックマトリクス７の液晶側表面をブラックマトリクス７の線幅方向にわたって覆っていない。

ここで、本実施の形態３に係るカラーフィルタ基板１３（図１０）を搭載した液晶パネル１５において輝点欠陥が発生した場合、実施の形態１と同様に、輝点欠陥画素に対応するカラーフィルタ色材６及びブラックマトリクス７に向けてレーザを照射することによって、ブラックマトリクス７を分解して輝点欠陥画素の領域に拡散させる。これにより、輝点欠陥を黒点化する。

このとき、前述したように、ブラックマトリクス７の拡散を行った場合に、ブラックマトリクス７による光の遮蔽効果が小さくなることがある。

これに対して、本実施の形態３では、カラーフィルタ基板１３に配設され、ブラックマトリクス７と平面視において重なる第２光吸収層５２を備えている。そして、この第２光吸収層５２は、ブラックマトリクス７の液晶側表面をブラックマトリクス７の線幅方向にわたって覆う複数のカラーフィルタ色材６を含む。このような構成によれば、バックライト１６からの光は、カラーフィルタ色材６とブラックマトリクス７との２層構造により吸収されるので、ブラックマトリクスの単層構造（図１１）に比べて、光の透過率を低下させることができる。

＜製造工程＞
図１２は、本実施の形態３に係るカラーフィルタ基板１３の製造工程を示す断面図であり、具体的には、ガラス基板２上にブラックマトリクス７及びカラーフィルタ色材６をフォトリソグラフィ法で形成する工程を示す断面図である。

最初に、ガラス基板２上にブラックマトリクス７を形成する（図１２（ａ））。次に、ガラス基板２の全面に、カラーフィルタ色材６Ｒとなるカラーレジスト６ａを塗布する（図１２（ｂ））。続いて、フォトマスク６６を用いて選択的に露光してカラーレジスト６ａを選択的にＵＶ硬化し、必要な部分を不溶化させる（図１２（ｃ））。さらに、現像液によりカラーレジスト６ａの不要な部分を除去した後、ベークにて硬化させる（図１２（ｄ））。これで、図１２（ｄ）ではカラーフィルタ色材６Ｒが形成される。図１２（ｂ）のカラーレジスト塗布、図１２（ｃ）の露光、図１２（ｄ）の現像・ベーキングの工程をＲ，Ｇ，Ｂの３色のそれぞれについて行うことにより、ブラックマトリクス７及びカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂが形成される（図１２（ｅ））。

ここで、従来のカラーフィルタ基板１３の製造工程のうち、例えばカラーフィルタ色材６Ｒを形成する露光時（図１２（ｃ）の工程に対応）には、開口７ａよりやや大きめの範囲しか露光できないフォトマスクが用いられる。そのため、このフォトマスクを用いて形成されるカラーフィルタ色材６は、図１１のようにブラックマトリクス７の端部にわずかに重なるようにしか形成されない。

これに対して、本実施の形態３においては、カラーフィルタ色材６Ｒを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｒを形成すべき開口７ａの領域と、後にカラーフィルタ色材６Ｒとカラーフィルタ色材６Ｇとに挟まれるブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスク６６を用いる。また、カラーフィルタ色材６Ｂを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｂを形成すべき開口７ａの領域と、後にカラーフィルタ色材６Ｂとカラーフィルタ色材６Ｇとに挟まれるブラックマトリクス７の領域と、後にカラーフィルタ色材６Ｂとカラーフィルタ色材６Ｒとに挟まれるブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。カラーフィルタ色材６Ｇを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｇを形成すべき開口７ａの領域を露光可能な通常のフォトマスクを用いる。このように形成されたカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂは、図１０に示されるように、互いに連結して、ブラックマトリクス７の液晶側表面のほぼ全面に配設される。

なお、以上の説明では、カラーフィルタ色材６Ｒを最初に形成したが、カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂのいずれを最初に形成してもよい。また、以上の説明では、カラーフィルタ色材６を形成する３回の工程のうち１回目の工程で、ブラックマトリクス７の液晶側表面の中央部上にカラーフィルタ色材６を重ねたが、３回のいずれかの工程でカラーフィルタ色材６を重ねればよい。

＜実施の形態３のまとめ＞
以上のように、実施の形態３によれば、第２光吸収層５２、つまりブラックマトリクス７の液晶側表面をブラックマトリクス７の線幅方向にわたって覆う複数のカラーフィルタ色材６が配設されている。したがって、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れを抑制することができるので、表示品位を維持することができる。

なお、遮蔽効果が低下したブラックマトリクス７とカラーフィルタ色材６との積層構造を透過する光は、カラーフィルタ色材６と同じ色の光となるが、この色は人に感知され難い色の方が好ましい。このことに鑑みて、本実施の形態３では、カラーフィルタ色材６Ｂ（第１のカラーフィルタ色材）は、カラーフィルタ色材６Ｂよりも比視感度が高いカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ（第２のカラーフィルタ色材）よりも、ブラックマトリクス７の液晶側表面上に配設された領域が広くなっている。そして、カラーフィルタ色材６Ｒ（第１のカラーフィルタ色材）は、カラーフィルタ色材６Ｒよりも比視感度が高いカラーフィルタ色材６Ｇ（第２のカラーフィルタ色材）よりも、ブラックマトリクス７の液晶側表面上に配設された領域が広くなっている。

このような構成によれば、比視感度が最も低い青色のカラーフィルタ色材６Ｂが、ブラックマトリクス７の液晶側表面に広く配設され、比視感度が次に低い赤色のカラーフィルタ色材６Ｒが、ブラックマトリクス７の液晶側表面にやや広く配設されることになる。したがって、光漏れを人に感知され難くすることができる。

なお、本実施の形態３でも、カラーフィルタ色材６及びブラックマトリクスの液晶側表面にオーバーコート膜１８が配設されているため、実施の形態１と同様に、不純物が液晶１の内部に拡散することを防ぐことができる。

＜実施の形態４＞
本発明の実施の形態４に係る液晶モジュールでは、実施の形態３に係る液晶パネル１５の一部を変更した構造となっている。以下、本実施の形態４に係る液晶モジュールにおいて、これまでに説明した液晶モジュールと同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付して説明する。

図１３は、本実施の形態４に係るカラーフィルタ基板１３の構成を示す断面図である。図１３に示すように、中央の画素にカラーフィルタ色材６Ｒが配設され、その隣の画素にそれぞれカラーフィルタ色材６Ｇ，６Ｂが配設されている。ここで、カラーフィルタ色材６Ｒは、その両側のブラックマトリクス７まで拡がってその上に配設されている。そして同様に、カラーフィルタ色材６Ｇ，６Ｂも、それぞれの両側のブラックマトリクス７まで拡がってその上または上方に配設されている。なお、図１３には示されていないが、カラーフィルタ色材６Ｇとカラーフィルタ色材６Ｂとの間のブラックマトリクス７上には、カラーフィルタ色材６Ｇ，６Ｂがこの順に重なって配設される。

このようなカラーフィルタ基板１３は、図１２の製造工程を一部変更した製造工程によって形成することができる。具体的には、まず、カラーフィルタ色材６Ｒを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｒを形成すべき開口７ａの領域と、その両側のブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。これにより、カラーフィルタ色材６Ｒは、対応する開口７ａ内に形成されるとともに、その両側のブラックマトリクス７の液晶側表面上に形成される。

次に、カラーフィルタ色材６Ｇを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｇを形成すべき開口７ａの領域と、その両側のブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。これにより、カラーフィルタ色材６Ｇは、対応する開口７ａ内に形成されるとともに、その両側のブラックマトリクス７の液晶側表面上または上方に形成される。

それから、カラーフィルタ色材６Ｂを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｂを形成すべき開口７ａの領域と、その両側のブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。これにより、カラーフィルタ色材６Ｂは、対応する開口７ａ内に形成されるとともに、その両側のブラックマトリクス７の液晶側表面上方に形成される。

以上により、バックライト１６からの光は、３層構造（カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂのいずれか２つ、及び、ブラックマトリクス７の１つ）により吸収されることになる。したがって、ブラックマトリクス７が形成される位置における光の遮蔽効果を、２層構造であった実施の形態３よりも高めることができる。

以上のように本実施の形態４によれば、ブラックマトリクス７の液晶側表面上に、色が異なる２色のカラーフィルタ色材６が重ねて配設される。これにより、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れをより抑制することができるので、表示品位をより維持することができる。

＜実施の形態５＞
本発明の実施の形態５に係る液晶モジュールでは、実施の形態４に係る液晶パネル１５の一部を変更した構造となっている。以下、本実施の形態５に係る液晶モジュールにおいて、これまでに説明した液晶モジュールと同じまたは類似する構成要素については同じ参照符号を付して説明する。

図１４は、本実施の形態５に係るカラーフィルタ基板１３の構成を示す断面図である。図１４に示すように、中央の画素にカラーフィルタ色材６Ｒが配設され、その隣の画素にそれぞれカラーフィルタ色材６Ｇ，６Ｂが配設されている。ここで、カラーフィルタ色材６Ｒは、その両側のブラックマトリクス７まで拡がってその上に配設されるとともに、カラーフィルタ色材６Ｇとカラーフィルタ色材６Ｂとの間のブラックマトリクス７上にも配設される。カラーフィルタ色材６Ｇは、その両側のブラックマトリクス７まで拡がってその上方に配設されるとともに、カラーフィルタ色材６Ｒとカラーフィルタ色材６Ｂとの間のブラックマトリクス７の上方にも配設される。同様に、カラーフィルタ色材６Ｂは、その両側のブラックマトリクス７まで拡がってその上方に配設されるとともに、カラーフィルタ色材６Ｒとカラーフィルタ色材６Ｇとの間のブラックマトリクス７の上方にも配設される。

なお、図１４には示されないが、カラーフィルタ色材６Ｇとカラーフィルタ色材６Ｂとの間のブラックマトリクス７上には、孤島状のカラーフィルタ色材６Ｒと、緑色の画素の開口７ａから連続するカラーフィルタ色材６Ｇと、青色の画素の開口７ａから連続するカラーフィルタ色材６Ｂとが、この順に重なって配設される。

このようなカラーフィルタ基板１３は、図１２の製造工程を一部変更した製造工程によって形成することができる。具体的には、まず、カラーフィルタ色材６Ｒを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｒを形成すべき開口７ａの領域と、後にカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂのそれぞれと隣接するブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。これにより、カラーフィルタ色材６Ｒは、対応する開口７ａ内に形成されるとともに、ブラックマトリクス７の全てまたはほぼ全ての液晶側表面上に形成される。

次に、カラーフィルタ色材６Ｇを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｇを形成すべき開口７ａの領域と、後にカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂのそれぞれと隣接するブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。これにより、カラーフィルタ色材６Ｇは、対応する開口７ａ内に形成されるとともに、カラーフィルタ色材６Ｒを介してブラックマトリクス７の全てまたはほぼ全ての液晶側表面上に形成される。

それから、カラーフィルタ色材６Ｂを形成するときには、カラーフィルタ色材６Ｂを形成すべき開口７ａの領域と、後にカラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂのそれぞれと隣接するブラックマトリクス７の領域とを露光可能なフォトマスクを用いる。これにより、カラーフィルタ色材６Ｂは、対応する開口７ａ内に形成されるとともに、カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇを介してブラックマトリクス７の全てまたはほぼ全ての液晶側表面上に形成される。

以上により、バックライト１６からの光は、４層構造（カラーフィルタ色材６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの３つ、及び、ブラックマトリクス７の１つ）により吸収されることになる。したがって、ブラックマトリクス７が形成される位置における光の遮蔽効果を、３層構造であった実施の形態４よりも高めることができる。

以上のように本実施の形態５によれば、ブラックマトリクス７の液晶側表面上に、色が異なる３色のカラーフィルタ色材６が重ねて配設される。これにより、輝点欠陥を修正した場合に発生する光漏れをより抑制することができるので、表示品位をより維持することができる。

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。

１ 液晶、６，６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ カラーフィルタ色材、７ ブラックマトリクス、７ａ 開口、１３ カラーフィルタ基板、１４ 薄膜トランジスタアレイ基板、１５ 液晶パネル、１６ バックライト、１８ オーバーコート膜、２０ 液晶モジュール、３０ 画素構造、３３ 信号配線、３７，５７ 補助容量電極、４０ レーザ、５１ 第１光吸収層、５２ 第２光吸収層。

Claims (11)

1. 複数の開口を有する枠状のブラックマトリクスが配設されたカラーフィルタ基板と、
   前記カラーフィルタ基板との間に液晶を挟む薄膜トランジスタアレイ基板と、
   前記薄膜トランジスタアレイ基板に配設され、前記ブラックマトリクスと平面視において重なる第１光吸収層、及び、前記カラーフィルタ基板に配設され、前記ブラックマトリクスと平面視において重なる第２光吸収層、の少なくともいずれか１つと
   を備え、
   前記第１光吸収層は、前記ブラックマトリクスにより平面視において覆われた不透明な信号配線と、前記信号配線に沿って延在するとともに、その延在方向にわたって、平面視において前記信号配線よりも前記開口に近い一端を有し、かつ、平面視において前記信号配線と隙間なく配設された不透明な補助容量電極とを含み、
   前記第２光吸収層は、互いに結合されることにより、前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面を前記ブラックマトリクスの線幅方向にわたって覆う複数のカラーフィルタ色材を含む、液晶パネル。
2. 請求項１に記載の液晶パネルであって、
   前記第１光吸収層を少なくとも備え、
   前記補助容量電極の前記一端及びそれと逆側の他端は、前記信号配線の当該一端及び当該他端に対応する両端よりも平面視において外側に位置する、液晶パネル。
3. 請求項１に記載の液晶パネルであって、
   前記第１光吸収層を少なくとも備え、
   前記補助容量電極の前記一端と逆側の他端のみが、前記信号配線と平面視において重なる、液晶パネル。
4. 請求項１から請求項３のうちのいずれか１項に記載の液晶パネルであって、
   前記第２光吸収層を少なくとも備え、
   前記複数のカラーフィルタ色材は、赤、緑、青の少なくともいずれか１色のカラーフィルタ色材を含む、液晶パネル。
5. 請求項１から請求項３のうちのいずれか１項に記載の液晶パネルであって、
   前記第２光吸収層を少なくとも備え、
   前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面上に、色が異なる前記複数のカラーフィルタ色材のうちの少なくとも２つが重ねて配設された、液晶パネル。
6. 請求項１から請求項３のうちのいずれか１項に記載の液晶パネルであって、
   前記第２光吸収層を少なくとも備え、
   第１の前記カラーフィルタ色材は、前記第１のカラーフィルタ色材よりも比視感度が高い第２の前記カラーフィルタ色材よりも、前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面上に配設された領域が広い、液晶パネル。
7. 請求項１に記載の液晶パネルであって、
   前記第２光吸収層を少なくとも備え、
   前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面上、及び、前記複数のカラーフィルタ色材の前記液晶側の表面上に配設されたオーバーコート膜をさらに備える、液晶パネル。
8. 請求項１に記載の液晶パネルであって、
   前記第２光吸収層を備えずに前記第１光吸収層を備え、
   前記カラーフィルタ基板に配設された複数のカラーフィルタ色材と、
   前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面上、及び、前記複数のカラーフィルタ色材の前記液晶側の表面上に配設されたオーバーコート膜と
   をさらに備える、液晶パネル。
9. 請求項１から請求項８のうちのいずれか１項に記載の液晶パネルと、
   前記液晶パネルに光を入射するバックライトと
   を備える液晶表示装置。
10. 液晶パネルの輝点欠陥修正方法であって、
    前記液晶パネルは、
    複数の開口を有する枠状のブラックマトリクスが配設されたカラーフィルタ基板と、
    前記カラーフィルタ基板との間に液晶を挟む薄膜トランジスタアレイ基板と、
    前記薄膜トランジスタアレイ基板に配設され、前記ブラックマトリクスと平面視において重なる光吸収層と、
    前記カラーフィルタ基板に配設された複数のカラーフィルタ色材と
    を備え、
    前記光吸収層は、前記ブラックマトリクスにより平面視において覆われた不透明な信号配線と、前記信号配線に沿って延在するとともに、その延在方向にわたって、前記信号配線よりも前記開口に近い一端を有し、かつ、平面視において前記信号配線と隙間なく配設された不透明な補助容量電極とを含み、
    前記輝点欠陥修正方法は、
    輝点欠陥を有する画素である輝点欠陥画素に対応する前記カラーフィルタ色材及び前記ブラックマトリクスに向けてレーザを照射することによって、前記ブラックマトリクスを前記輝点欠陥画素の領域に拡散させる、液晶パネルの輝点欠陥修正方法。
11. 液晶パネルの輝点欠陥修正方法であって、
    前記液晶パネルは、
    複数の開口を有する枠状のブラックマトリクスが配設されたカラーフィルタ基板と、
    前記カラーフィルタ基板との間に液晶を挟む薄膜トランジスタアレイ基板と、
    前記カラーフィルタ基板に配設され、前記ブラックマトリクスと平面視において重なる光吸収層と
    を備え、
    前記光吸収層は、互いに結合されることにより、前記ブラックマトリクスの前記液晶側の表面を前記ブラックマトリクスの線幅方向にわたって覆う複数のカラーフィルタ色材を覆う複数のカラーフィルタ色材を含み、
    前記輝点欠陥修正方法は、
    輝点欠陥を有する画素である輝点欠陥画素に対応する前記カラーフィルタ色材及び前記ブラックマトリクスに向けてレーザを照射することによって、前記ブラックマトリクスを前記輝点欠陥画素の領域に拡散させる、液晶パネルの輝点欠陥修正方法。

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