TW201910825A - 相位差膜、附光學補償層之偏光板、圖像顯示裝置、及相位差膜之製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種相位差膜,其可實現斜方向之色相為中性之圖像顯示裝置。本發明之相位差膜可用於附光學補償層之偏光板,Re(550)為10 nm~400 nm,Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,Nz係數為0.3~0.7。
Description
本發明係關於一種相位差膜、附光學補償層之偏光板、圖像顯示裝置、及相位差膜之製造方法。
近年來,隨著薄型顯示器之普及,提出有一種搭載有有機EL(Electroluminescence,電致發光)面板之圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)。有機EL面板具有反射性較高之金屬層,容易產生外界光反射或背景之映入等問題。對此,已知有藉由將附光學補償層之偏光板(圓偏光板)設置於視認側,而防止該等問題。又,已知有藉由於液晶顯示面板之視認側設置附光學補償層之偏光板,而改善視角。作為通常之附光學補償層之偏光板,已知有將相位差膜與偏光元件以其遲相軸與吸收軸形成根據用途之特定角度(例如45°)之方式進行積層而成者。但是,先前之相位差膜存在於用於附光學補償層之偏光板之情形時斜方向之色相中產生不需要之色移之問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1:日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之課題而完成者,其主要目的在於提供一種可實現斜方向之色相為中性之圖像顯示裝置之相位差膜、及此種相位差膜之製造方法。 [解決問題之技術手段]
本發明之相位差膜之Re(550)為10 nm~400 nm,Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,Nz係數為0.3~0.7。 於一實施形態中,相位差膜包含含有具有正的固有雙折射之聚合物、及具有負的固有雙折射之聚合物之樹脂膜。 於提供附光學補償層之偏光板(圓偏光板)之態樣中,該附光學補償層之偏光板具備包含上述相位差膜之光學補償層及偏光元件,上述光學補償層之遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為35°~55°。 於另一實施形態中,附光學補償層之偏光板具備包含相位差膜之光學補償層及偏光元件,上述光學補償層之遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為80°~100°或-10°~10°。 根據本發明之另一態樣,提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置具備上述附光學補償層之偏光板。 根據本發明之另一態樣,提供一種相位差膜之製造方法。該製造方法包括以下之步驟:於收縮性膜上塗佈包含纖維素系樹脂及肉桂酸酯共聚物之雙折射性材料並進行乾燥,藉此製作上述收縮性膜與塗膜之積層體;及將上述積層體進行延伸,並且使上述積層體於與上述延伸方向正交之方向上收縮,藉此使上述塗膜之折射率特性成為nx>nz>ny。 於一實施形態中,與上述延伸方向正交之方向上之上述收縮性膜之收縮倍率為0.50倍~0.99倍。 [發明之效果]
根據本發明,藉由Re(550)為10 nm~400 nm,Nz係數為0.3~0.7,Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,可獲得可實現斜方向之色相為中性之附光學補償層之偏光板之相位差膜。
以下,對本發明之實施形態進行說明,但本發明並不限定於該等實施形態。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率最大之方向(即,遲相軸方向)之折射率,「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即,進相軸方向)之折射率,「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下利用波長λnm之光測定之面內相位差。例如,「Re(550)」係於23℃下利用波長550 nm之光測定之面內相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時,Re(λ)係藉由式:Re=(nx-ny)×d而求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下利用波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如,「Rth(550)」係於23℃下利用波長550 nm之光測定之厚度方向之相位差。於將層(膜)之厚度設為d(nm)時,Rth(λ)係藉由式:Rth=(nx-nz)×d而求出。 (4)Nz係數 Nz係數係藉由Nz=Rth/Re而求出。
A.相位差膜 本發明之相位差膜之Re(550)為10 nm~400 nm。進而,相位差膜之Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,且Nz係數為0.3~0.7。即,相位差膜顯示相位差值根據測定光之波長而增大之反色散波長特性,且顯示折射率特性為nx>nz>ny之關係。於一實施形態中,相位差膜包含含有具有正的固有雙折射之聚合物、及具有負的固有雙折射之聚合物之樹脂膜。本發明之相位差膜可積層於偏光元件(或偏光板)而以附光學補償層之偏光板之形式使用。本發明之相位差膜藉由Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,且Nz係數為0.3~0.7,於用作附光學補償層之偏光板之情形時,可於斜方向上實現中性(即,無不需要之色差)之色相。
於一實施形態中,相位差膜之面內相位差Re(550)為100 nm~180 nm,更佳為110 nm~170 nm,進而較佳為120 nm~160 nm,尤佳為130 nm~150 nm。於另一實施形態中,相位差膜之面內相位差Re(550)為190 nm~360 nm,更佳為200 nm~340 nm,進而較佳為210 nm~320 nm,尤佳為220 nm~300 nm。若相位差膜之面內相位差為上述範圍,則將相位差膜與偏光元件以相位差膜之遲相軸方向與偏光元件之吸收軸方向所成之角度為約45°或約135°之方式進行積層而獲得之附光學補償層之偏光板可用作可實現優異之抗反射特性之圓偏光板。又,以相位差膜之遲相軸方向與偏光元件之吸收軸方向所成之角度為約0°或約90°之方式進行積層而獲得之附光學補償層之偏光板可用作可實現優異之視角特性之附光學補償層之偏光板。
關於相位差膜之面內相位差,如上所述,Re(450)/Re(550)之值為0.8~0.9。Re(450)/Re(550)較佳為0.82~0.88,更佳為0.84~0.86,尤佳為約0.85。即,相位差膜滿足Re(450)<Re(550)之關係,顯示反色散波長特性。進而,相位差膜之面內相位差較佳為滿足Re(550)<Re(650)之關係。藉由滿足此種關係,可達成更優異之反射色相。
關於相位差膜之Nz係數,如上所述,為0.3~0.7,更佳為0.4~0.6,進而較佳為0.45~0.55,尤佳為約0.5。若Nz係數為此種範圍,則可達成更優異之反射色相。
相位差膜之光彈性係數之絕對值較佳為40×10-12
(m2
/N)以下,更佳為1×10-12
(m2
/N)~30×10-12
(m2
/N),進而較佳為1×10-12
(m2
/N)~20×10-12
(m2
/N)。若光彈性係數之絕對值為此種範圍,則即便厚度較小,亦可確保充分之相位差,並且維持圖像顯示裝置(尤其是有機EL面板)之彎曲性,進而可進一步抑制因彎曲時之應力所致之相位差變化(結果為有機EL面板之顏色變化)。
相位差膜之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為100℃以上。玻璃轉移溫度之下限更佳為110℃,進而較佳為120℃,尤佳為130℃。另一方面,玻璃轉移溫度之上限較佳為200℃,更佳為180℃。若玻璃轉移溫度過低,則有耐熱性變差之傾向,有可能於膜成形後引起尺寸變化,又,存在降低所獲得之有機EL面板之圖像品質之情況。若玻璃轉移溫度過高,則存在膜成形時之成形穩定性變差之情況,又,存在損壞膜之透明性之情況。再者,玻璃轉移溫度係依據JIS K 7121(1987)而求出。
相位差膜之厚度較佳為10 μm~150 μm,更佳為30 μm~120 μm,進而較佳為50 μm~100 μm。若為此種厚度,則可獲得上述所需之面內相位差及Nz係數。
B.相位差膜之製造方法 上述相位差膜可藉由本發明之製造方法而獲得。本發明之相位差膜之製造方法包括以下之步驟:於收縮性膜上塗佈包含纖維素系樹脂及肉桂酸酯共聚物之雙折射性材料並進行乾燥,藉此製作收縮性膜與塗膜之積層體;及將積層體進行延伸,並且使積層體於與延伸方向正交之方向上收縮,藉此使塗膜之折射率特性成為nx>nz>ny。
於先前之製造方法中,難以獲得面內相位差Re(550)為10 nm~400 nm,Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,Nz係數為0.3~0.7之相位差膜。具體而言,面內相位差Re(550)、Re(450)/Re(550)、與Nz係數處於互為取捨之關係,難以獲得該等全部值均為上述所需之範圍內之相位差膜。與此相對,根據上述製造方法,可獲得上述全部值均為上述所需之範圍內之理想的相位差膜。
B-1.積層體之製作步驟 如上所述,相位差膜之製造步驟包括以下之步驟,即,於收縮性膜上塗佈雙折射性材料並進行乾燥,藉此製作收縮性膜與塗膜之積層體。
收縮性膜較佳為於下述延伸步驟中與延伸方向正交之方向上之收縮倍率為0.50倍~0.99倍之範圍。上述收縮倍率較佳為0.60倍~0.98倍,更佳為0.75倍~0.95倍。
作為收縮性膜之形成材料,並無特別限制,就適於下述延伸處理而言,較佳為熱塑性樹脂。具體而言,例如可列舉:丙烯酸樹脂、聚乙烯或聚丙烯(PP)等聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯樹脂、降烯樹脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚醚碸、聚碸、聚醯亞胺、聚丙烯酸、乙酸酯樹脂、聚芳酯、聚乙烯醇、及該等之混合物等。又,亦可使用液晶聚合物等。收縮性膜較佳為由1種或2種以上之上述形成材料形成之單軸或雙軸之延伸膜。收縮性膜例如亦可使用市售品。作為市售品,例如可列舉:東洋紡織(股)製造之「SPACECLEAN」、GUNZE(股)製造之「Fancy Wrap」、東麗(股)製造之「Torayfan」、東麗(股)製造之「Lumirror」、JSR(股)製造之「ARTON」、日本瑞翁(股)製造之「ZEONOR」、旭化成(股)製造之「Suntec」等。
收縮性膜之厚度並無特別限制,例如為10 μm~300 μm之範圍,較佳為20 μm~200 μm之範圍,更佳為40 μm~150 μm之範圍。於收縮性膜之表面,以提高與雙折射層之密接性等為目的,亦可實施表面處理。作為表面處理,例如可列舉:鉻酸處理、臭氧暴露、火焰暴露、高壓電擊暴露、離子化放射線處理等化學或物理處理。又,於收縮性膜表面,亦可形成利用底塗劑(例如黏著物質)之塗佈所得之底塗層。
雙折射性材料較佳為包含含有具有正的固有雙折射之聚合物、及具有負的固有雙折射之聚合物之樹脂組合物。上述樹脂組合物代表性地包含纖維素系樹脂及肉桂酸酯共聚物。上述樹脂組合物可藉由將具有正的固有雙折射之聚合物與具有負的固有雙折射之聚合物進行摻合而獲得。作為上述聚合物之摻合之方法,可使用熔融摻合、溶液摻合等方法。於上述樹脂組合物中含有具有芳香族烴環或芳香族性雜環之添加劑之情形時之所謂熔融摻合法,係藉由利用加熱使樹脂與具有芳香族烴環或芳香族性雜環之添加劑熔融並進行混練而製造之方法。所謂溶液摻合法,係將樹脂與具有芳香族烴環或芳香族性雜環之添加劑溶解於溶劑中而進行摻合之方法。作為用於溶液摻合之溶劑,例如可使用二氯甲烷、氯仿等氯系溶劑;甲苯、二甲苯等芳香族溶劑;丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲醇、乙醇、丙醇等醇溶劑;二㗁烷、四氫呋喃等醚溶劑;二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。亦可將各樹脂及具有芳香族烴環或芳香族性雜環之添加劑溶解於溶劑中後進行摻合,亦可將各樹脂之粉體、顆粒等混練後溶解於溶劑中。亦可將所獲得之摻合樹脂溶液投入至不良溶劑中,使樹脂組合物析出,或者亦可直接使用摻合樹脂溶液。本實施形態中可使用之肉桂酸酯共聚物之詳細內容記載於例如日本專利第6048556號公報中。該公報之整體記載被引用至本說明書中作為參考。
雙折射性材料亦可包含溶解上述樹脂組合物之溶劑。作為上述溶劑,可根據上述樹脂組合物之種類而適當決定,可列舉:氯仿、二氯甲烷、甲苯、二氯甲烷、二甲苯、環己酮、環戊酮等。溶劑可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
雙折射性材料視需要亦可包含添加劑。作為添加劑,例如可列舉:抗劣化劑、紫外光抑制劑、光學各向異性調節劑、塑化劑、紅外線吸收劑、填料。添加劑可為固體,亦可為液體。
作為於上述收縮性膜上塗佈上述雙折射性材料之方法,可採用任意適當之塗佈方法。作為上述塗佈方法,例如可列舉:旋轉塗佈法、輥式塗佈法、流塗法、印刷法、浸漬塗佈法、流延成膜法、棒式塗佈法、凹版印刷法。又,於塗佈時,視需要亦可採用多層塗佈。藉此,可獲得收縮性膜與雙折射性材料之積層體。雙折射性材料之塗佈厚度可以所獲得之相位差膜成為所需之厚度之方式適當地設定。
作為將塗佈後之雙折射性材料進行乾燥之方法,可根據雙折射性材料採用任意適當之乾燥方法。乾燥方法例如可列舉:自然乾燥、吹送風之風乾、低溫乾燥、加熱乾燥,亦可為組合該等之方法。就抑制下述延伸步驟前之收縮性膜之收縮之觀點而言,乾燥方法較佳為低溫乾燥。低溫乾燥之乾燥溫度較佳為20℃~100℃。
B-2.積層體之延伸步驟 於積層體之延伸步驟中,將積層體進行延伸,並且使積層體於與延伸方向正交之方向上收縮,藉此使塗膜之折射率特性成為nx>nz>ny。代表性地,藉由將積層體一面進行加熱一面進行延伸,而使收縮性膜收縮,利用此種收縮性膜之收縮而使塗膜收縮。於一實施形態中,於積層體之寬度方向(TD方向)上延伸,於長度方向(MD方向)上收縮。
積層體之延伸倍率較佳為1.01倍~3.5倍,更佳為1.5倍~3倍,進而較佳為2倍~2.5倍。作為用於積層體之延伸之延伸機,可採用輥延伸機、拉幅延伸機、及雙軸延伸機等任意適當之延伸機。
積層體之延伸溫度(加熱溫度)較佳為25℃~300℃,更佳為50℃~200℃,進而較佳為60℃~180℃,尤佳為130℃~160℃。進而,較佳為於將積層體進行延伸之前進行預熱。預熱時間較佳為10秒~10分鐘,更佳為15秒~5分鐘。
以如上之方式,可於收縮性膜上形成具有nx>nz>ny之折射率分佈之雙折射層。可將所獲得之雙折射層自收縮性膜剝離而用作本發明之相位差膜,亦可不將雙折射層自收縮性膜剝離而直接使用雙折射層(相位差膜)與收縮性膜之積層體。
C.附光學補償層之偏光板 圖1係本發明之一實施形態之附光學補償層之偏光板的概略剖視圖。本實施形態之附光學補償層之偏光板100具備偏光元件10及光學補償層30。光學補償層30包含A項中所記載之相位差膜。於一實施形態中,光學補償層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為35°~55°。於另一實施形態中,光學補償層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為80°~100°或-10°~10°。於實用上,如圖示例所示,可於偏光元件10之與光學補償層30相反之側設置保護層20。又,附光學補償層之偏光板亦可於偏光元件10與光學補償層30之間具備另一保護層(亦稱作內側保護層)。於圖示例中,內側保護層被省略。於此情形時,光學補償層30亦可作為內側保護層發揮功能。若為此種構成,則可實現附光學補償層之偏光板之進一步薄型化。進而,視需要亦可於光學補償層30之與偏光元件10相反之側(即,光學補償層30之外側)依序設置導電層及基材(皆未圖示)。基材密接積層於導電層。於本說明書中,所謂「密接積層」,係指2個層未介隔接著層(例如接著劑層、黏著劑層)而直接且固定地積層。導電層及基材代表性地可以基材與導電層之積層體之形式導入至附光學補償層之偏光板100。藉由進一步設置導電層及基材,附光學補償層之偏光板100可較佳地用於內觸控面板型輸入顯示裝置。
C-1.偏光元件 作為偏光元件10,可採用任意適當之偏光元件。例如,形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜,亦可為兩層以上之積層體。
作為包含單層樹脂膜之偏光元件之具體例,可列舉:對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等聚烯系配向膜等。就光學特性優異之觀點而言,較佳為使用將PVA系膜利用碘進行染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。
上述利用碘之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行,亦可一面染色一面進行。又,亦可進行延伸後進行染色。視需要,對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗,不僅可將PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨,亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例,可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由以下之方式而製作:將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材,並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;將該積層體進行延伸及染色而使PVA系樹脂層成為偏光元件。於本實施形態中,延伸代表性地包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而,延伸視需要可進一步包括於硼酸水溶液中之延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即,可將樹脂基材作為偏光元件之保護層),亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材,於該剝離面積層根據目的之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報中。該公報之整體記載被引用至本說明書中作為參考。
偏光元件之厚度較佳為25 μm以下,更佳為1 μm~12 μm,進而較佳為3 μm~12 μm,尤佳為3 μm~8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍,則可良好地抑制加熱時之捲曲,以及獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm~780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。如上所述,偏光元件之單體透過率為43.0%~46.0%,較佳為44.5%~46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上,更佳為99.0%以上,進而較佳為99.9%以上。
C-2.保護層 保護層20係由可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例,可列舉:三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可列舉:(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外,例如亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如可使用含有側鏈中具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及側鏈中具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物,例如可列舉:具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
對於保護層20,視需要亦可實施硬塗處理、抗反射處理、抗沾黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者,對於保護層20,視需要亦可實施改善介隔偏光太陽眼鏡視認之情形時之視認性之處理(代表性地為賦予(橢圓)圓偏光功能,賦予超高相位差)。藉由實施此種處理,即便於介隔偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視認顯示畫面之情形時,亦可實現優異之視認性。因此,附光學補償層之偏光板亦可較佳地應用於可用於室外之圖像顯示裝置。
保護層20之厚度代表性地為5 mm以下,較佳為1 mm以下,更佳為1 μm~500 μm,進而較佳為5 μm~150 μm。再者,於實施有表面處理之情形時,保護層之厚度係包括表面處理層之厚度在內之厚度。
於偏光元件10與光學補償層30之間設置有內側保護層之情形時,該內側保護層較佳為光學各向同性。於本說明書中,所謂「光學各向同性」,係指面內相位差Re(550)為0 nm~10 nm,厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm~+10 nm。內側保護層只要為光學各向同性,則可包含任意適當之材料。該材料例如可自上文關於保護層20所述之材料中適當地選擇。
內側保護層之厚度較佳為5 μm~200 μm,更佳為10 μm~100 μm,進而較佳為15 μm~95 μm。
C-3.導電層或附基材之導電層 導電層可利用任意適當之成膜方法(例如,真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD(Chemical Vapor Deposition,化學氣相沈積)法、離子鍍覆法、噴霧法等),於任意適當之基材上,成膜金屬氧化物膜而形成。成膜後,視需要亦可進行加熱處理(例如,100℃~200℃)。藉由進行加熱處理,可使非晶質膜結晶化。作為金屬氧化物,例如可列舉:氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合氧化物、銦-鋅複合氧化物。於銦氧化物中亦可摻雜2價金屬離子或4價金屬離子。較佳為銦系複合氧化物,更佳為銦-錫複合氧化物(ITO)。銦系複合氧化物具有於可見光區域(380 nm~780 nm)中具有較高之透過率(例如,80%以上),且每單位面積之表面電阻值較低之特徵。
於導電層包含金屬氧化物之情形時,該導電層之厚度較佳為50 nm以下,更佳為35 nm以下。導電層之厚度之下限較佳為10 nm。
導電層之表面電阻值較佳為300 Ω/□以下,更佳為150 Ω/□以下,進而較佳為100 Ω/□以下。
導電層可自上述基材轉印至光學補償層而以單獨之導電層作為附光學補償層之偏光板之構成層,亦可以與基材之積層體(附基材之導電層)之形式積層於光學補償層。代表性地,如上所述,導電層及基材可以附基材之導電層之形式導入至附光學補償層之偏光板。
作為構成基材之材料,可列舉任意適當之樹脂。較佳為透明性優異之樹脂。作為具體例,可列舉:環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。
較佳為上述基材為光學各向同性,因此導電層可作為附各向同性基材之導電層用於附光學補償層之偏光板。作為構成光學各向同性之基材(各向同性基材)之材料,例如可列舉:以降烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂作為主骨架之材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構之材料等。若使用此種材料,則於形成各向同性基材時,可將伴隨分子鏈之配向之相位差之表現抑制為較小。
基材之厚度較佳為10 μm~200 μm,更佳為20 μm~60 μm。
C-4.其他 於構成本發明之附光學補償層之偏光板之各層之積層中,使用任意適當之黏著劑層或接著劑層。黏著劑層代表性地由丙烯酸系黏著劑形成。接著劑層代表性地由聚乙烯醇系接著劑形成。
雖未圖示,但於附光學補償層之偏光板100之光學補償層30側亦可設置黏著劑層。藉由預先設置黏著劑層,可容易地貼合於其他光學構件(例如,有機EL單元)。再者,較佳為在供於使用之前,於該黏著劑層之表面貼合有剝離膜。
D.圖像顯示裝置 本發明之圖像顯示裝置具備顯示單元、及於該顯示單元之視認側之上述C項中所記載之附光學補償層之偏光板。附光學補償層之偏光板係以光學補償層成為顯示單元側之方式(以偏光元件成為視認側之方式)積層。 [實施例]
以下,藉由實施例對本發明具體地進行說明,但本發明並不限定於該等實施例。各特性之測定方法如下所述。再者,只要無特別說明,則實施例及比較例中之「份」及「%」為重量基準。 (1)厚度 使用針盤量規(PEACOCK公司製造,製品名「DG-205 type pds-2」)進行測定。 (2)相位差 自各相位差膜切下50 mm×50 mm之樣品作為測定樣品,使用Axometrics公司製造之Axoscan進行測定。測定波長為450 nm、550 nm,測定溫度為23℃。 又,使用Atago公司製造之阿貝折射計測定平均折射率,根據所獲得之相位差值算出折射率nx、ny、nz、及Nz係數。
[合成例1] 於容量75 mL之玻璃安瓿中加入反丁烯二酸二異丙酯28 g、反丁烯二酸單乙酯5 g、4-甲氧基肉桂酸正丙酯17 g及作為聚合起始劑之2,5-二甲基-2,5-二(2-乙基己醯基過氧化)己烷1.40 g,反覆進行氮氣置換與降壓後,於減壓狀態下熔封。將該安瓿放入60℃之恆溫槽中,保持48小時,藉此進行自由基聚合。聚合反應結束後,自安瓿中取出聚合物,利用四氫呋喃50 g進行溶解。將該聚合物溶液滴加於甲醇/水=50/50(重量%/重量%)2 kg中而析出,利用甲醇/水=50/50(重量%/重量%)2 kg洗淨後,於80℃下真空乾燥10小時,藉此獲得反丁烯二酸二異丙酯/反丁烯二酸單乙酯/4-甲氧基肉桂酸正丙酯共聚物28 g。所獲得之聚合物之數量平均分子量為31,000,反丁烯二酸二異丙酯殘基單元為56莫耳%,反丁烯二酸單乙酯殘基單元為13莫耳%,4-甲氧基肉桂酸正丙酯殘基單元為31莫耳%。
[實施例1] 1.雙折射性材料之製備 將作為纖維素系樹脂之乙基纖維素(Dow Chemical公司製造 ETHOCEL standard 300,分子量Mn=85,000,分子量Mw=264,000,Mw/Mn=3.1,總取代度DS=2.5)89 g、藉由合成例1所獲得之反丁烯二酸二異丙酯/反丁烯二酸單乙酯/4-甲氧基肉桂酸正丙酯共聚物61 g溶解於乙酸乙酯:對二甲苯:甲苯=1:2:7(重量比)中而製成15重量%之樹脂溶液,將其設為雙折射性材料。 2.相位差膜之製作 於收縮性膜(PP之雙軸延伸膜,500 mm×200 mm,厚度60 μm)上,藉由塗佈機將上述雙折射性材料以乾燥後之厚度成為76 μm之方式進行塗敷,以40℃/15分鐘之乾燥條件進行乾燥,藉此製作收縮性膜與塗膜之積層體。 繼而,將積層體於153℃下預熱60秒鐘後,使用同時雙軸延伸機,以延伸溫度153℃於TD方向上進行2.0倍延伸,藉此於收縮性膜上形成相位差膜。繼而,將該相位差膜自收縮性膜剝離。
[實施例2] 將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為84 μm之方式進行塗敷,將預熱溫度及延伸溫度設為143℃,以及將積層體之延伸倍率設為2.5倍,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。
[實施例3] 將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為83 μm之方式進行塗敷,以及將預熱溫度及延伸溫度設為145℃,除此以外,與實施例2同樣地製作相位差膜。
[實施例4] 將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為85 μm之方式進行塗敷,以及將預熱溫度及延伸溫度設為147℃,除此以外,與實施例2同樣地製作相位差膜。
[比較例1] 於聚對苯二甲酸乙二酯膜(500 mm×200 mm,厚度60 μm)上將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為72 μm之方式進行塗敷,以40℃/15分鐘進行乾燥後進而以155℃/5分鐘進行乾燥,自積層體剝離聚對苯二甲酸乙二酯膜並將雙折射材料之膜(膜)進行延伸,將預熱時間設為40秒,以及將預熱溫度及延伸溫度設為143℃,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。
[比較例2] 將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為75 μm之方式進行塗敷,及將延伸倍率設為2.5倍,除此以外,與比較例1同樣地製作相位差膜。
[比較例3] 將延伸倍率設為3.0倍,除此以外,與比較例1同樣地製作相位差膜。
[比較例4] 將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為83 μm之方式進行塗敷,除此以外,與比較例1同樣地製作相位差膜。
[比較例5] 將雙折射性材料以乾燥後之厚度成為76 μm之方式進行塗敷,將延伸倍率設為2.5倍,不進行155℃/5分鐘之乾燥(將乾燥設為一階段),及將預熱時間設為60秒,除此以外,與比較例1同樣地製作相位差膜。
<評價> 針對實施例及比較例之相位差膜,測定或算出塗佈時之厚度、面內相位差Re(550)、Nz係數、及Re(450)/Re(550)。結果示於表1。
[表1]
實施例之相位差膜之Re(550)為10 nm~400 nm,Re(450)/Re(550)為0.8~0.9,且Nz係數為0.3~0.7。此種相位差膜可實現斜方向之色相為中性之附光學補償層之偏光板。 [產業上之可利用性]
本發明之附光學補償層之偏光板可較佳地用於有機EL面板。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧保護層
30‧‧‧光學補償層
100‧‧‧附光學補償層之偏光板
圖1係本發明之一實施形態之附光學補償層之偏光板的概略剖視圖。
Claims (7)
- 一種相位差膜,其Re(550)為10 nm~400 nm, Re(450)/Re(550)為0.8~0.9, Nz係數為0.3~0.7, 此處,Re(450)及Re(550)分別表示於23℃下利用波長450 nm及550 nm之光測定之面內相位差。
- 如請求項1之相位差膜,其包含含有具有正的固有雙折射之聚合物、及具有負的固有雙折射之聚合物之樹脂膜。
- 一種附光學補償層之偏光板,其具備包含如請求項1或2之相位差膜之光學補償層及偏光元件, 上述光學補償層之遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為35°~55°。
- 一種附光學補償層之偏光板,其具備包含如請求項1或2之相位差膜之光學補償層及偏光元件, 上述光學補償層之遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所成之角度為80°~100°或-10°~10°。
- 一種圖像顯示裝置,其具備如請求項3或4之附光學補償層之偏光板。
- 一種相位差膜之製造方法,其包括以下之步驟: 於收縮性膜上塗佈包含纖維素系樹脂及肉桂酸酯共聚物之雙折射性材料並進行乾燥,藉此製作上述收縮性膜與塗膜之積層體;及 將上述積層體進行延伸,並且使上述積層體於與上述延伸方向正交之方向上收縮,藉此使上述塗膜之折射率特性成為nx>nz>ny。
- 如請求項6之相位差膜之製造方法,其中與上述延伸方向正交之方向上之上述收縮性膜之收縮倍率為0.50倍~0.99倍。
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