TW201902729A - 防偽元件及防偽元件的製造方法 - Google Patents

防偽元件及防偽元件的製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明係關於一種防偽元件，其包含一個或多個第一微結構，該等第一微結構係分別設於一條或多條至少部分區段形成彎曲的條帶內或一條帶的一個或多個至少部分區段形成彎曲的區段內，及/或該等第一微結構係分別沿著一條或多條至少部分區段形成彎曲的條帶或一條帶的一個或多個至少部分區段形成彎曲的區段延伸，本發明也關於一種方法，提供一個檔案，該檔案包含一個或多個像元的像點，該檔案包含所述像點的位置安排，從該像點位置安排決定一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶，或一條或多條條帶內一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段，在該條帶或該等條帶或條帶的各區段內，分別設有一個或多個第一微結構，該等第一微結構在曝光時提供一個第一光學可變資訊，尤其是提供一個或多個立體效果及/或移動效果，較佳地提供無色或單色的立體效果及/或移動效果。

Description

防偽元件及防偽元件的製造方法
本發明係關於一種防偽元件以及一種防偽元件的製造方法。
按，目前防偽元件有許多不同的設計。防偽元件特別是用來產生防偽效果，以及標記出物件的真實性。防偽元件進一步特別用於增加操縱的難度，尤其是增加偽造物件的難度。在身分證明文件等防偽文件領域和紙鈔等有價文件領域內，防偽元件尤其十分重要。
本發明之目的，在於提供一種改良的防偽元件以及一種改良的防偽元件製造方法，該防偽元件具有特別良好的視覺效果。
為達到上述目的，本發明提供一種如申請專利範圍第1項所述之防偽元件，以及一種如申請專利範圍第63項所述之方法。
所述防偽元件及方法的特徵在於，提供或製造一個或多個第一微結構，該等第一微結構分別設於一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶內，或設於一條帶內一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段內，及/或分別沿著一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶或沿著一條條帶內一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段延伸。
這樣的防偽元件，其製造方法的特徵在於，提供一個檔案，該檔案包含一個或多個像元的像點，該檔案包含所述像點的位置安排，從該像 點位置安排決定一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶，或一條或多條條帶內一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段，在該條帶或該等條帶或條帶的各區段內，分別設有一個或多個第一微結構，該等第一微結構在曝光時提供一個第一光學可變資訊，尤其是提供一個或多個立體效果及/或移動效果，較佳地提供無色或單色的立體效果及/或移動效果。
藉此，可以檢驗防偽元件的真實性，以進一步提升防偽元件的防偽效果。
很意外地，透過本發明可以使一個或多個像元產生一個或多個視覺上吸引人的、強烈的移動效果、變形(morphing)效果及/或翻轉(flip)效果，及/或使一個或多個像元產生一個或多個視覺上吸引人的、強烈的立體移動效果、立體變形效果及/或立體翻轉效果。依照結構的選擇，還可以進一步讓所述效果較佳地呈現無色或單色。所謂變形(morphing)效果，是指將一個圖案改變、轉換或轉變成另一個圖案，其中這個改變、轉換或轉變過程可以有多個中間階段。所謂翻轉(flip)效果，尤其是指將一個圖案轉變成另一個圖案，而此轉變過程尤其沒有中間階段。
本發明有利的結構設計，請見各附屬項。
防偽元件會產生人類觀看者可以感知的資訊，這個資訊可以是光學上可變化的。所謂的光學可變性，是指資訊的光學外表會因為觀看角度及/或照明角度不同而有所變化。防偽元件，尤其是光學防偽元件，在此最好是由轉印膜的轉移層、層壓膜或薄膜件組成，或該防偽元件可以直接設於物件表面內。所述防偽元件，尤其是光學防偽元件，在此較佳地係施覆於防偽文件的表面上，或至少有部分嵌設於該防偽文件內。
該等第一微結構較佳地在使用光觀看的情況下，會產生一個或多個由人類觀看者或機械可以感知的光學效果。肉眼可以感覺到的波長介於 電磁波波譜380nm(紫色)與780nm(深紅色)之間，肉眼對於波長在430nm以下和690nm以上的光線的相對敏感度，只有波長555nm處最大值的1%。因此，在光譜範圍380~430nm以及690~780nm內，只有很強的光源，例如很亮的LED或雷射光，才能被感覺到。
該等第一微結構較佳地共同提供一個第一光學可變資訊，所述第一光學可變資訊最好包含一個或多個立體效果及/或移動效果，而這些效果較佳地為無色或單色。如果是無色效果，則不會出現任何或幾乎沒有繞射顏色效果，而各像元對人類觀看者而言是呈現白色或帶點灰色、平光或金屬亮光。如果是單色效果，像元會顯示一個大致上單色的外表，尤其不會顯示出「一般」繞射結構會出現的彩虹效果。
所述第一光學可變的資訊，最好具有一個或多個像元，這些像元較佳地由多個像點組成。在此，該等像點分別較佳地由設於不同條帶內或沿個不同條帶延伸的第一微結構提供。
所以，像元的像點分別由一個或多個第一微結構提供，所述第一微結構因為設置於一個或多個條帶內或一個或多個條帶的區段內，而在預定的觀看方向及/或照明方向下，散射、反射或繞射入射光，進而提供所述圖點。
因此，一個或多個像元的每個像點最好由被分配到的第一微結構其中之一提供，且被分配到的第一微結構中每一個都設於所述一條或多條條帶其中一條分別被分配到的條帶內，或被分配到的第一微結構中每一個都沿著一條各自所屬的條帶延伸。在此，最好是讓一個像元的每個像點都分配到所述一條或多條條帶中一條不相同的條帶。而分配給各條帶的微結構更佳地設計成，在防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，所述像點在使用至少一光源，較佳地使用一個點狀光源照明的情況下，沿著所屬的條帶移動。在此， 如果只使用一個光源進行照明，較佳地每條條帶只顯現出一個像點。
所提供的該一或該等第一微結構，最好是讓一個或多個像元的該等像點較佳地在彼此保持恆定距離的情況下相互移動。在此，所述像點尤其是在彼此耦接或相對耦合的情況下移動或活動，其中，該像元最好是不會改變。
不過，所提供的該一或該等第一微結構，也可以讓各像點之間的距離較佳地可以改變。尤其是各像點的安排可以只在一個狹窄的觀看角度區內顯示該像元。如果相反地，在這個狹窄的觀看角度區外觀看該防偽元件，則該等像點尤其是隨機排列，這個排列尤其不是顯示該像元，而是較佳地以點雲(point cloud)型態呈現。
所謂「彎曲」，尤其是指藉由施加外力，使防偽元件以一種特定的方式變形。因此，所謂使防偽元件「彎曲」，尤其是指施加外力到防偽元件上，防偽元件的形狀因為受到力的作用而改變或可改變。一個彎曲的防偽元件相較於沒有彎曲的防偽元件，其幾何產生了改變，尤其是產生了彎曲。
在使防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉的期間，各像點在一個恆定的角度速度下沿著各條帶移動的移動速度，在這裡可以一樣或彼此不一樣，及/或各像點可以有不同的移動速度歷程。透過對應地選擇各字條帶上像點的移動速度及/或移動速度歷程，可以產生有趣的光學可變效果，當作第一光學可變資訊。可以透過對應地選擇分別設於各條帶上及/或各條帶區段上的微結構，決定各像點的空間安排與空間走向。藉此，尤其藉由使具有該至少一條帶的防偽元件產生一次或多次旋轉及/或彎曲及/或翻轉，經由一個或多個任意的軸，由一位觀看者登錄下分別沿著該至少一條帶設置的該等像元其中一個或多個的一個或多個移動效果，尤其是光學移動效果。尤其是繞著一個或多個垂直於防偽元件的平面的軸進行一次或多次旋轉時，及/或繞著一個或 多個軸進行一次或多次翻轉時，及/或繞著一個或多個該防偽元件平面上以及各第一微結構平面上及/或軌道平面上的軸進行一次或多次彎曲時，可以由一位觀看者登錄下這類移動效果。此外，一個或多個移動效果尤其可以分別是無色及/或單色，及/或隨著照明角度及/或觀看角度而改變的移動效果。
此外，尤其在使防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，可以由該等第一微結構提供一個像元順序，這些像元會產生一種移動效果、一種變形效果及/或一種翻轉效果。此外，較佳地在使防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，可以由該等第一微結構提供一個像元順序，這些像元會產生一種立體移動效果、一種立體變形效果及/或一種立體翻轉效果。在此，較佳地，係在使防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，如前面所述，藉由像點沿著各條帶移動而產生上述之像元順序。
由所述各第一微結構所產生的像點，可以形成各式各樣的外型。這些像點較佳地形成一個圓盤形或橢圓形。
在此，所選擇的個別像點的尺寸，較佳地為能讓沒有穿戴輔具的肉眼可以感覺到像點。其中，像點的側邊尺寸較佳地介於200~500μm之間，更佳地介於200~300μm之間。不過，像點的側邊尺寸進一步也可以在肉眼解析能力以下，這樣一來可以產生特別高的像元解析度。在此情況下，像點的側邊尺寸較佳地介於20~200μm之間，更佳地介於75~200μm之間。由沒有穿戴輔具的肉眼所感覺到像點大小，在此可能與像點的真實大小有所不同。例如，發亮的像點感覺起來可能比較大。如此一來，尤其是真實大小在沒有穿戴輔具的肉眼的解析能力以下的像點，可以被感覺到。在這一點上，較佳地，由內設有第一微結構的各條帶的寬度決定所述像點的側邊尺寸其中至少一個，所述第一微結構產生各像點。較佳地，透過選擇分配到的第一微結構的結構參數，決定該像點的其它側邊尺寸。
可以將該等像點其中兩個或多個彼此相間而設，像點的間距，較佳地介於5~300μm之間，更佳地介於10~200μm之間，這樣的設置結果使這些像點無法被沒有穿戴輔具的肉眼解析。
所謂的像點間距，在此較佳地是指像點的外緣之間的距離。較佳地，由被分配到的條帶的相對應間距，來決定所述像點間距，所述被分配到的條帶會產生各自的像點。
此外，也可以將像點間距設計得讓個別像點可以被肉眼解析。在這種情況下，像點間距較佳地大於300μm，更佳地大於500μm。
有利的是，該等像元其中一個或多個可以分別是一個圖案、一個以圖形表現的輪廓、一個圖示、一個圖像、一個視覺上可辨識的圖像、一個符號、一個標誌、一個人像、一個花紋、一個字母數字記號、一段文字及/或計類似的內容等。
特別較佳地，在使防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，該像元的個別像點也可沿著相對於條帶及/或各條帶上速度而言不同的移動方向移動。像元的移動效果尤其是可以隨著繞著一個任意定向的軸所進行的旋轉而改變。
尤其一種變換(transformation)，尤指一種變形(morphing)，較佳地一種翻轉(flip)，可以提供至少一種像元順序，觀看者可以感知到這樣的像元順序，將這個順序當作移動效果、變換效果及/或變形效果。
較佳地，可以將一個或多個條帶及/或複數個第一微結構配置在一起，而可提供一種變換(transformation)，尤指所述變形(morphing)，較佳地所述翻轉(flip)，作為一個像元到另一個或另外多個像元的順序。
尤其將防偽元件繞著任何一軸旋轉及/或彎曲及/或翻轉一次，可以提供一種像元順序，觀看者可以感知到這樣的像元順序，將這個順序當 作移動效果、變換效果及/或變形效果。這個也適用於說明立體移動效果、立體變換效果及/或立體變形效果。
所述變換(transformation)，尤指所述變形(morphing)，較佳地所述翻轉(flip)，最好可以提供至少一種觀看者可以感知到的無色或單色移動效果、變換效果及/或變形效果，及/或至少一種隨著至少一照明角度及/或觀看角度而改變的移動效果、變換效果及/或變形效果，所述效果係沿著各條帶及/或第一微結構產生。
如果該防偽元件具有數字「4」和數字「2」，則在將防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，數字「4」可能會轉變為數字「2」，及/或相反。
此外，該防偽元件可以僅包含一條條帶。若用一光源照明該條帶，則較佳地有一個像點可以讓觀看者感覺到，在使防偽元件繞著任一軸旋轉及/或彎曲及/或翻轉時，這個像點會提供至少一種移動效果，尤其是至少一種隨著一照明角度及/或觀看角度而改變的移動效果，所述效果係沿著該條帶產生。
所述防偽元件較佳地包含複數條條帶，該等條帶包含複數個第一微結構。如上所述，藉此，尤其與條帶數目相對應的像點數目可以被觀看者感知，所述像點提供一個或多個像元。
此外，也可以將所述防偽元件設計為使用複數個光源照明所述防偽元件。在此，很典型地，會提供每條條帶及/或每個第一微結構一個對應於該等光源的像點數目，這些像點共同提供一個或多個觀看者可感知到的像元。
藉此，可以產生其它有趣的光學效果。所以，最簡單的情況下，如果同時用不同的點狀光源進行照明，前面已描述過的光學效果有可能會出現好幾次。此外，在此如果在不同的角度下，用不同的點狀光源進行照射， 則也有可能由該防偽元件產生不同的光學可變效果，如此一來，該防偽元件可提供其它很難偽造的防偽特徵以及特別是所謂的「第二條線」(second line)。所謂的「第二條線」防偽特徵，尤其是指僅能用一種輔助工具辨別出及/或證明的特徵。這裡所需要的輔助工具是一般常用的技術器具，例如放大鏡或紫外線燈具。
所謂條帶，尤其是指具有寬度，最好具有不變寬度的平面狀區域，條帶係順著一個至少有部分區段呈彎曲的曲線前進，該曲線較佳地為橢圓形、圓形、螺旋形及/或圓弧形，其中，該曲線尤其可以是開放或封閉的，尤其是一條封閉曲線的一個子區可以是開放或封閉的。在另一有利的結構設計，該條帶及/或該條帶的一個或多個輪廓係順著一條一側呈彎曲的曲線前進，使得尤其該曲率的跡象(leading sign)到處都一樣，使得特別是至少一曲線的曲率不會改變跡象。
所謂的曲率，尤其是指一條曲線局部偏離直線的程度。所謂的曲線的曲率，尤其是指一段夠短的曲線段或曲線走向每個連續長度及/或線段的方向產生改變。直線的曲率到處都等於零。半徑r的圓，其曲率到處都一樣，也就是1/r。大部分的曲線，從曲線點到曲線點的曲率會改變，尤其從曲線點到曲線點的曲率會持續改變，使曲線尤其不會有彎折及/或不連續性地方。因此，曲線在一個點P的曲率即表示該曲線在該點P的最近周圍偏離直線的程度。曲率的絕對值被稱為曲率半徑，而曲率半徑相對應於一局部半徑向量的絕對值的倒數。所述曲率半徑是圓的半徑，在一條曲線的觸點及/或切點P的局部周圍內，所述半徑即最逼近的地方。
兩條或多條條帶的彎曲走向，尤其是圓形條帶及/或橢圓形條帶的彎曲走向，可以是一樣的。尤其較佳地，兩條或多條各包含一個或多個第一微結構的條帶，更佳地圓形條帶及/或橢圓形條帶，其彎曲走向可以不一 樣，其中，尤其可以提供一個顯著的立體效果，更佳地提供一個與一個強烈無色移動效果結合的立體效果，其中所述兩條或多條各包含一個或多個第一微結構的條帶，較佳地圓形條帶及/或橢圓形條帶，尤其彼此之間可以留有一個間隔。
有利的設計是，所述條帶其中一條或多條的寬度介於3~300μm之間，較佳地介於10~100μm之間。
此外，所述一條或多條條帶的寬度也可以分別隨著各條帶的走向而變化。在此，所述的寬度最好是分別至少有部分區段是連續地及/或不連續地沿著各條帶走向而變化。其中，各條帶的寬度較佳地由各條帶的縱向緣之間的距離決定。
此外，複數條帶的所有條帶中至少50%，較佳地70%，特別較佳地90%，可以分別形成一個封閉條帶的至少五分之一，較佳地至少四分之一，特別較佳地三分之一，尤其較佳地二分之一。
本發明另一個有利的實施方式，複數條帶的所有條帶中至少50%，較佳地70%，特別較佳地90%，可以分別形成至少一個四分之一圓，較佳地至少一個三分之一圓，特別較佳地至少一個半圓。
有利的是，所述條帶其中一條或多條的曲率分別介於0.02~2mm-1之間，較佳地介於0.1~1mm-1之間，或該半徑介於0.5~50mm之間，尤其是介於1~10mm之間。
更佳地，所述條帶其中一條或多條可以到處，尤其是在各條帶的每個位置上，更佳地在各條帶的每個點上具有同一個曲率，尤其是相同的曲率。
較佳地，兩條或多條條帶，尤其是所有條帶，更佳地所有圓形及/或橢圓形的條帶，其彎曲走向分別都一樣。此外，所述條帶其中一條或多 條，更佳地所有圓形及/或橢圓形的條帶，其彎曲走向可以彼此不一樣。
進行所有這些實施時，特別較佳地，所述條帶其中一條或多條的曲率，尤其是所有條帶的曲率，在各條帶的整個歷程都不會改變跡象(leading sign)。
此外，所述條帶其中一條或多條的半徑及/或曲率及/或曲率半徑，也可以是分別隨個各條帶的走向而改變。較佳地，分別沿著各條帶的走向，至少有部分區段連續或不連續地進行這個改變。此外，所述條帶其中一條或多條的寬度，分別小於各條帶的該半徑或該等半徑，及/或分別小於各條帶的該曲率半徑或該等曲率半徑。
最好在所述條帶的每個條條帶內，或在一條條帶的該等區段的每個區段內，設置一被分配的第一微結構。在此，各該條帶或各該區段的整個表面區域，最好是由該分配的第一微結構占滿。此外，在各該條帶或各該區段的整個表面區域之外，最好不要設置該分配的第一微結構。
該分配的第一微結構最好是沿著該分配到的該條帶，或沿著一條帶被分配到的該區段延伸。這表示，被分配到的該第一微結構的至少一結構參數，會隨著該條帶的一個參數改變，尤其是該條帶的局部切線定向及/或該條帶的寬度會改變，尤其是該第一微結構的結構件的縱向延伸與被分配到的條帶的切線定向之間所形成的角度是不變的。
因此，較佳地，至少該第一微結構及/或該第一微結構的該等結構件的定向、縱向延伸及/或首選方向，是分別順著該被分配到的條帶或該被分配到的條帶的輪廓行進。在此，所述第一微結構的定向、縱向延伸及/或首選方向，較佳地在條帶的每個位置上與該條帶及/或該條帶的輪廓呈平行，及/或與該條帶及/或該條帶的輪廓圍成一個預設的偏移角度。
因此，該作為基礎的第一微結構的一個或多個結構參數的局部 定向，較佳地係相對於各條帶的各局部切線定向進行定向。尤其較佳地，該等第一微結構其中一個或多個微結構的一個或多個結構參數的局部切線定位與局部彎曲半徑向量之間的夾角，可以是和各條帶與局部彎曲半徑向量之間的夾角同一個。其中，所謂「局部」是指各條帶上同一個位置，尤其是指各條帶上同一個點，在這個點上觀看局部定向與局部彎曲半徑向量。
關於如何選擇不同、可作為第一微結構的微結構，在之後對此微結構進行相對應的詳細說明時，會詳細地說明。
所述防偽元件可以更佳地具有一個或多個第二微結構，該等第二微結構提供一第二光學資訊，該第二光學資訊尤其可以是光學可變的。
所述一個或多個第二光學資訊較佳地分別設於一個沒有與該等條帶重疊的平面區域內。
其內設置有所述一個或多個第二光學資訊的平面區域，較佳地以圖案形式形成，尤其是字母數字記號、花紋、圖形表現的圖案或人像。
此外，該等第二微結構可以設於一個由兩個或多個彼此間隔設置的子區組成的平面區域內，該等子區分別為長條形，尤其具有小於300μm的厚度。所述子區其中一個或多個，可以分別至少部分區域重疊於所述一條或多條條帶的一個被方配到中斷區。
此外，所述一個或多個第二微結構的該等第二微結構元件其中一個或多個，尤其可以分別形成為一個或多個表面浮雕，較佳地形成為一個或多個橢圓形或圓形透鏡，更佳地形成為一個或多個具有一個或多個透鏡效果的自由形狀平面，尤其較佳地形成為一個或多個形狀不拘及/或圓形的菲涅耳透鏡(Fresnel lens)。
所述第二微結構其中一個或多個最好提供一個看起來立體的浮雕圖像，尤其是一個看起來立體無色的浮雕圖像。所述各個第二微結構為 此較佳地具有複數個第二稜角平面，所決定的該等第二稜角平面的走向及/或傾斜角走向，係讓入射光經過反射及/或繞射後可以產生該浮雕圖像。
此外，所述第一及第二微結構其中一個或多個或全部，較佳地形成為體積全像，或結合一高折射率層或一金屬層或一個產生色移效果的層體，或一個產生色移效果的多層系統。
關於所使用的微結構，尤其說明如下：可以分別藉由全像曝光，將所述第一及/或第二微結構其中一個或多個轉化為體積全像，或形成為浮雕結構。
此外，較佳地，所述第一及/或第二微結構其中一個或多個可以分別包含複數個第一微結構元件或第二微結構元件，這些微結構元件分別尤其是透過微結構元件的間距、浮雕深度、浮雕形狀、微結構元件的縱向定向等參數，表示其特徵。
此外，尤其可以將所述第一及/或第二微結構其中一個或多個形成為光柵，尤其是正弦形狀或矩形或三角形的光柵。
正弦形光柵的好處是，它尤其可以產生兩個強度一樣的繞射圖像，最好是在第-1和第+1繞射階的繞射圖像，不過尤其也可以有更高階的繞射階出現。
特別較佳地，所述第一及/或第二微結構其中一個或多個可以形成為一個或多個鋸齒狀微結構，尤其是閃耀光柵。有利的是，閃耀光柵使入射光主要往第一繞射階繞射，較佳地往第-1或第+1繞射階繞射。因此，理想的情況是，在僅使用一個光源，尤其是點狀燈源照明時，只能看到一張高發光度的繞射圖，最好是比另一個繞射階還高的發光度。在這裡較高的發光度是指，一個繞射階的發光度，例如第-1繞射階的發光度，比另一個繞射階的發光度，例如第+1繞射階的發光度，尤其大至少兩倍，最好是大三倍。
有利的是，較佳地，可以各使用至少一個較小的結構，例如一個次波長光柵，覆蓋住所述第一微結構其中一個或多個，尤其是該閃耀光柵，其中該等第一微結構的無色折射較佳地變成單色。為了達到上述效果，尤其可以使用高頻次波長十字光柵，進行覆蓋。
有利的是，所述第一及/或第二微結構元件其中一個或多個的微結構元件的週期，尤其是光柵週期，或間距，介於0.2~50μm之間，較佳地介於0.3~20μm之間，特別較佳地介於2~10μm之間。
所述第一或第二微結構其中一個或多個的深度，典型地介於50nm~15μm之間，有利是分別介於50~5,000nm之間，較佳地介於100~3,000nm之間。
有利的是，所述第一或第二微結構將入射光，環繞著該直接反射的光，即第零繞射階的光，繞射及/或散射在一個比較狹窄的角度區，尤其是在+10°~-10°之間的角度區。
所述第一或第二微結構元件其中一個或多個的浮雕形狀，較佳地分別是上弦形狀、三角形、鋸齒形及/或梯形。
此外，所述第一或第二微結構元件其中一個或多個的可以分別成型為線形，尤其是成型為光柵線形狀，該等光柵線橫截面最好是三角形。
所述線形微結構元件，尤其是光柵線，其中一個或多個的長度可以分別介於50~100mm之間，較佳地介於0.5~50mm之間，尤其是介於2~20mm之間，及/或所述線形微結構元件，尤其是光柵線，其中一個或多個的長度，比光柵週期及/或各線形微結構元件，尤其是各光柵線到與相鄰光柵線之間的距離，大至少五倍，最好是大十倍。
較佳地，所述第一或第二微結構其中一個或多個可以形成為一個或多個異方性散射結構，尤其形成為異方性平光結構，相較於往與首選方 向相交及/或垂直的方向觀看，沿著首選方向觀看時，所述異方性平光結構對入射光，具有比較大的散射能力及/或比較大的散射角度。所述一個或多個異方性散射結構的第一微結構元件其中一個或多個的中間距離，分別介於0.5~10μm之間，特別較佳地介於0.8~5μm之間。
所述一個結構的中間間距，係定義為一個結構，尤其是一個平光結構的相鄰局部最大值及/或局部最小值之間的間距的中間值。
特別較佳地，所述第一微結構其中一個或多個的各至少三個，較佳地至少五個光柵週期，及/或所述第一微結構其中一個或多個的各至少三個，較佳地至少五個中間間距，可以設在所述各一條或多條條帶內。
此外，該第一或第二微結構的該等第一及/或第二微結構元件其中一個或多個，分別具有至少一個第一或第二稜角平面，所述第一或第二稜角平面較佳地形成一個或多個主要是產生折射效果的微結構，例如微鏡。該等第一或第二稜角平面，其最小的平面尺寸分別是介於10~5000μm2之間，特別是介於25~900μm2之間。及較佳地，該等第一或第二稜角平面相對於防偽元件的平面法線，分別形成一個介於1~45°的傾斜角度，尤其是介於1~20°的傾斜角度。該等第一或第二稜角平面較佳地具有一個平坦表面或一個凸起或凹入表面。
由該等第一或第二稜角平面組成的該等第二微結構元件其中一個或多個，較佳地係顯示一浮雕圖像的至少一個最好是無色立體示圖。該等第一或第二稜角平面的傾斜角，在此最好是分別介於1~45°之間，尤其是介於1~20°之間。該等第一或第二稜角平面其中一個或多個的週期及/或傾斜情況，在此最好是分別沿著側邊維度其中一個或多個持續地變化。
所述第一微結構的該等微結構元件其中一個或多個的一個或多個結構參數，最好可以分別持續及/或不斷地沿著各一條或多條條帶改變， 其中該等結構參數其中一個或多個最好可以分別由下列參數選出：該等第一微結構元件的間距、浮雕深度、該等第一微結構元件的縱向定向、首選方向、該等第一微結構元件的中間間距、該等第一稜角平面的傾斜角。
此外，較佳地，各該第一微結構的一個或多個第一微結構元件的定向，以及/各該第一微結構的一個或多個第一稜角平面的首選方向及/或傾斜角度，可以分別順著各該條帶的一個或多個輪廓行進，所述輪廓係特別分別由各該條帶的縱向邊緣其中之一或分別由各該條帶平面重心線的決定。
尤其在至少該等條帶其中一條或多條的一個子區內，使各該第一微結構的一個或多個第一微結構元件的局部定向，或各該第一微結構的一個或多個第一稜角的局部首選方向，分別對應於各該條帶的局部彎曲程度。所述的各該條帶的局部彎曲程度，尤其可以由各該或各該等條帶的縱向邊緣其中一個或多個，以及藉由各該或各該等條帶的所述一條或多條平面重心線決定。
較佳地，可以至少在該等條帶其中一條或多條的一個子區內，使各該第一微結構的一個或多個第一微結構元件的局部定向，或各該第一微結構的一個或多個第一稜角的局部首選方向，分別與各該條帶的局部彎曲的差別不會高過0~30°，其中所述局部彎曲尤其可以各該條帶的一個或多個縱向邊緣或由各該等條帶的一條或多條平面重心線決定。
較佳地，可以至少在該等條帶其中一條或多條的一個子區內，使各該第一微結構的一個或多個第一微結構元件的局部定向，或各該第一微結構的一個或多個第一稜角的局部首選方向，分別與各該條帶的局部彎曲之間形成一個偏移角度，這個偏移角度最大±30°，其中所述局部彎曲尤其可以各該條帶的一個或多個縱向邊緣或由各該等條帶的一條或多條平面重心線決定。
較佳地，可以至少在該等條帶其中一條或多條的一個子區內，使各該第一微結構的一個或多個第一微結構元件的局部定向，或各該第一微結構的一個或多個第一稜角的局部首選方向，分別與各該條帶的局部彎曲之間形成一個角度，這個角度介於-45~+45°之間，較佳地介於-30~+30°之間，更佳地介於-15~+15°之間，其中所述局部彎曲尤其可以各該條帶的一個或多個縱向邊緣或由各該等條帶的一條或多條平面重心線決定。
較佳地，可以至少在該等條帶其中一條或多條的一個子區內，使各該第一微結構的一個或多個第一微結構元件的縱向延伸或該首選方向，分別平行或垂直於各該條帶，相對於垂直於該防偽元件平面法線而撐開的平面而言，所述縱向延伸或該首選方向尤其是分別平行或垂直於各該條帶的一個或多個縱向邊緣，或分別平行或垂直於各該條帶的一條或多條平面重心線。
較佳地，上述該等條帶其中一條或多條的該子區，在此各包含各該條帶的至少50%，特別較佳地包含各該條帶的至少70%，尤其較佳地包含各該條帶的至少85%。如此一來，尤其可以在透過至少一照射源，尤其是一光源，較佳地一點狀光源，對這類防偽元件進行照射時，各該條帶只有一個點及/或一個地方會將光散射及/或繞射及/或反射，俾使在至少使包含該條帶的該防偽元件向左及/或向右及/或向前及/或向後翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，尤其是繞著一個任意軸翻轉及/或彎曲及/或旋轉，藉此提供的一個像元，尤其是至少一像點，會提供至少一個移動效果。
此外，該等條帶其中一條或多條，及/或該等第一微結構其中一個或多個，可以在一個或多個交叉區內交叉，其中該等條帶其中一條或多可以分別一次或兩次或多次交叉，及/或該等條帶其中一條或多條可以成對地，以不同的頻率交叉。如此，從三條條帶B1、B2、B3中分別選出的各條帶對B1和B2、B2和B3以及B1和B3，可以分別以以不同的頻率交叉。
例如，三條封閉及/或開放的條帶B1、B2、B3交叉的方式可以是，條帶B1和B2交叉兩次，條帶B1和B3交叉四次，條帶B2和B3僅交叉一次。
也可以是一條條帶自己交叉，較佳地條帶不要自己交叉。
其中，可以設計在所述交叉區其中一個或多個內，分別只有設置在各該交叉區內交叉的該條帶的該第一微結構或該等第一微結構。然後，在這個交叉區內，不設置其它交叉的條帶的該第一微結構或該等第一微結構。
不過，此外，也可以分別將在該交叉區內交叉的條帶其中兩個或多個的複數個第一微結構，設置在所述交叉區其中一個或多個內。其中較佳地，將所述交叉的條帶的該第一微結構或該等第一微結構設置於一個一維或二維光柵(raster)內，光柵的寬度尤其介於10~300μm之間。
以下將不同第一微結構的這個光柵稱為馬賽克面。
藉由這樣的馬賽克面，可以分別避免各該條帶的移動效果，尤其是光學移動效果的中斷，或至少讓這類中斷在光學上比較不容易看出，尤其是相對於條帶不具有馬賽克面的防偽元件，這類具有馬賽克面的條帶避免中斷或使中斷較不明顯的效果。
有利的是，可以在所述馬賽克面內，讓每一條穿過交叉區的條帶及/或每一第一微結構，分配到一個相同的交叉區面積比重，使得在交叉區內提供的每一條條帶都具有相同的比重，尤其是面積比重。
假如兩條條帶及/或兩個第一微結構交叉，最好是分配一個面積，尤其是的一個交叉區面積的50%面積比重給所述交叉區內兩條條帶及/或兩個第一微結構中每一條/個。這樣一來，三條交叉的條帶及/或三個交交的第一微結構，這裡三個一般用n個表示，這三個中每一個都分配到交叉區的各三分之一面積比重，一般用1/n的面積比重表示。
此外，也可以在所述交叉區其中一個或多個的區域內的所述條帶其中一條或多條之外，設置一個或多個平面區，這些平面區包含所述在各交叉區內交叉的該等第一微結構其中一個。所述一個或多個平面區，在此與各該交叉區的距離較佳地少於150μm，更佳地少於50μm。這個距離係由該交叉區及/或在該交叉區內交叉的該等條帶的最相近的外緣之間的距離，以及各該平面區的最相近的外緣之間的距離所決定。
藉由這樣的設計，可以有效加大分配給交叉區內交叉之該等條帶的該等第一微結構的既有面積，同時不會對光學外表造成負面影響。這樣一來，即可避免在移動、變形及/或翻轉效果過程中中斷，或至少讓這類中斷在光學上比較不容易看出來。所述移動、變形及/或翻轉效果，係由各該交叉區內交叉的條帶所提供的。
更佳地，所述條帶其中至少一條及/或所述第一微結構其中至少一個，可以中斷至少一次。
在此，最好不要在中斷區內設置各該等條帶的該第一微結構或該等第一微結構，或不要讓所述第一微結構在這中斷區內延續。
這類中斷的功效是，改善由該等第一微結構提供的效果與該防偽元件的其它光學效果的重疊情況，進而提高該防偽元件的防偽效果。
所述各該條帶沿著其縱向所產生的中斷，其尺寸較佳地是在肉眼解析能力以下，這些中斷最好在往這個方向側邊延伸0.5~200μm，更佳地延伸1~100μm。
較佳地，在兩條或多條條帶及/或兩個或多個第一微結構的至少一交叉區內，有至少一條條帶及/或至少一第一微結構中斷至少一次。
更佳地，在兩條或多條條帶及/或兩個或多個第一微結構的一交叉區之外，有至少一條條帶及/或至少一第一微結構中斷至少一次。
較佳地，隨機式及/或假隨機分散設置所述中斷，尤其是可以分別隨機及/或假隨機，將所述中斷其中一個或多個分散設置，使其平行及/或垂直於各該條帶的一個或多個切線向量。
此外，至少一條帶及/或至少一第一微結構，至少有一次錯位。當至少一條帶及/或至少一第一微結構的兩個部分及/或子區及/或區段，彼此錯開時，尤其是彼此偏移時，就會形成錯位。其中錯位程度的大小，尤其是偏移的大小，則可以是任意的大小。
錯位的側邊尺寸其中一個或多個，尤其可以分別小於各該條帶的寬度。
至少一條帶及/或至少一第一微結構，最好是至少有一次錯位，所述至少一次錯位尤其是可以隨機及/或假隨機分佈到所述至少一條條帶及/或至少一第一微結構的所述弧形長度上，較佳地分佈到所述弧形長度的一部份。更佳地，該等錯位，尤其是錯位程度及/或偏移程度的大小，可以隨機及/或假隨機分佈。尤其可以將該等錯位其中一個或多個，分別以隨機及/或假隨機分佈，使其平行及/或垂直於各該條帶的一個或多個切線向量。
可以透過穿過至少一條條帶及或一第一微結構交叉一次，尤其是直線交叉一次，以及透過接著使該至少一條這樣被交叉的條帶及/或第一微結構相對於所述條帶及/或第一結構產生偏移，提供這樣的錯位。
更佳地，可以將該至少一交叉的角度，尤其是該至少一交叉角，任意定向，尤其是任意相對該至少一被交叉的條帶及/或第一微結構的定向及/或縱向延伸方向定向，俾使所述至少一被至少一交叉所交叉的條帶及/或第一微結構，以及所述至少一條帶及/或第一微結構轉入彼此後不會形成彼此齊平的狀態。
此外，可以使至少一被交叉的條帶及/或一第一微結構的交叉 的相鄰部分，尤其是垂直於該至少一條帶及/或第一微結構的定向及/或縱向延伸方向，形成彼此偏移。
錯位最好是能減少不希望的有色繞射情況，以便尤其可以提供改善的無色外表，進而提供改善的像元順序。
特別較佳地，可以透過在不同位置上，尤其是該條帶及/或第一微結構上的位置上，形成兩個同向的交叉，尤其是形成兩個彼此任意定向的交叉，更佳地透過兩個彼此平行的交叉，及透過將所述條帶及/或第一微結構以這樣方式切出來的子區偏移及/或錯開，使一條帶及/或一第一微結構的一個子區及/或一個區段相對於該沒有被交叉的條帶及/或第一微結構形成錯位，進而尤其產生條帶及/或第一微結構的子區及/或區段的錯位。
更佳地，至少所述錯位，尤其是所述錯位及/或偏移的大小，可以小於一條條帶及/或一第一微結構的寬度。此外，錯位，尤其是所述錯位及/或偏移的大小，可以對應於一條條帶的寬度。更佳地，至少所述錯位，尤其是所述錯位及/或偏移的大小，沒有大於一條條帶及/或一第一微結構的寬度的五倍，如此一來，尤其可以避免在產生該等第一微結構的移動、變形及/或翻轉效果時，較佳地係指在一個或多個像點產生移動、變形及/或翻轉效果時，發生跳動的情形。尤其較佳地，錯位，尤其是所述錯位及/或偏移的大小，平均是一條或多條條帶及/或第一微結構的寬度的1~50%，較佳地2~20%。
一個較佳的條帶及/或第一微結構產生方法的第一步驟，係提供一個檔案，這個檔案包含一個或多個像元的像點的一個或多個位置安排方式。在另一個步驟，最好由所述像點的位置安排方式，決定一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶，及/或一條或多條條帶的一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段。此外，尤其在下一個步驟，在所述條帶其中一條/個或多條/個條帶或區段內，分別設置一個或多個第一微結構，所述第一微結構在 曝光時會提供一個第一光學可變資訊，尤其是在將所述防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，所述第一微結構會提供一個或多個立體效果及/或移動效果，較佳地提供無色或單色的立體效果及/或移動效果。例如可以藉由電子束微影或雷射微影，將具有微結構的條帶製設於一主基體內。然後可以使用電鍍手段，將這樣的主基體的結構，複製到一個金屬基體內，尤其是由鎳組成的金屬基體。透過複製所述金屬基體，最好可以得到相對應的複製工具，例如可以藉由精密捲繞對位複製方法(roll-to-roll replication process)達到大量製造微結構的目的。
最好可以在所述檔案內定義像元的順序，以便可以決定該等條帶及/或條帶段，俾使所述防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，藉由像點沿著所述條帶移動，產生所希望的像元順序。
最好可以在所述檔案內定義像元的順序，俾使所述防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，可以從一張無法辨識的圖像，例如一種隨機或假隨機設置的點設置方式及/或一種雲似的點分佈方式，藉由像點沿著所述條帶的移動，產生出一張可以辨識的圖像，例如面額。
較佳地，藉由一種複製方法，將所述第一及/或第二微結構形成於防偽元件的相同的一個層體，或兩個不同的層體內。該等層體最好是漆層，其厚度最好介於1~10μm之間。此外，該等層體也可以是防偽元件的一張支持膜，尤其是一張PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜。
由支持膜的可見面來看，位於複製層上方的一層或多層其它層體，可以是塗層，尤其是不透明、半透明或透明的塗層。較佳地，以花紋形態塗覆或形成這些塗層。所述複製層也可以是半透明或透明塗層。
所述防偽元件的支持膜上，也可以設置一層或多層其它層體，尤其從下列層體種類選出所述其它層體的一層或多層：剝離層、保護層、附 著層、防附著層、障礙層、黏著劑層。
其內設有該等第一及/或第二微結構的所述防偽元件的一層或多層層體，更佳地，係塗上一層或多個反射層，這些層體分別覆蓋住所述一個或多個第一及/或第二微結構的至少部分區域。這些反射層最好是金屬反射層，尤其是由鋁(Al)、銅(Cu)或銀(Ag)組成的金屬層，及/或具有高折射能力的層體，所謂的高折射指數(high refraction index，HRI)層，例如二氧化鈦(TiO2)或硫化鋅(ZnS)。
其內形成有該等第一及/或第二浮雕結構的所述防偽元件的一層或多層層體，還可以進一步印上一層或多個塗層，尤其是半透明或透明塗層。較佳地，以花紋形態塗覆或形成這些塗層，這些塗層最好具有不同的顏色。其內形成有該等第一及/或第二微結構的該層或該等層體，可以分別印上一個或多個顏色及/或複數個依觀看角度而變化的層體，例如塗上膽固醇狀液晶層及/或含有換色色素的層體。所述產生換色效果的層體，尤其可以由一個干涉層系統組成，這個干涉層系統例如可以是一個三層系統，由一層半透明吸收層、一層電介距離層和一層半透明或不透明的鏡層組成。
上述的塗層，可以任意的形式組合，例如可以將上述層體中多層上下連續施覆於一層設有所述第一及/或第二浮雕結構其中一個或多個的層體的一側或兩側，這些層體尤其也可以分別形成花紋形狀。如此可以進一步達到光學效果，尤其是顏色效果，這些效果進一步提高防偽元件的防偽效果。
〔本發明〕
1‧‧‧防偽元件
2‧‧‧條帶、彎曲條帶
2a~2e‧‧‧條帶、彎曲條帶、圓形條帶
20a‧‧‧條帶內輪廓、內輪廓、邊緣、一側
20b‧‧‧條帶外輪廓、外輪廓、邊緣
21a、22a‧‧‧子區、條帶的子區
3、3’‧‧‧像元
3a~3e‧‧‧像點
300a~300f‧‧‧連接線
30、31、32、33‧‧‧位置
30‧‧‧中心點
4a~4e‧‧‧條帶中心點、中心點
5‧‧‧防偽元件
51‧‧‧文件體
52‧‧‧裝飾層
53‧‧‧黏著層、助黏層、黏著劑層
54‧‧‧保護層
Ra、Rb、Rc、Rd、Re‧‧‧半徑
Ra‧‧‧外半徑
B‧‧‧寬度
Λ‧‧‧光柵週期
R1、R2‧‧‧方向
M‧‧‧中心、中心點
α‧‧‧方位角、方向角
10‧‧‧第一微結構
20‧‧‧子塊、微結構、第二微結構
100‧‧‧第一微結構元件
10a‧‧‧光柵、正弦光柵
10d‧‧‧閃耀光柵
10e‧‧‧異方性平光結構、平光結構、往異方、以平光散射的結構
100a、100b、100c‧‧‧第一微結構、第一微結構元件、光柵結構
100b‧‧‧微結構
11、12‧‧‧交叉區
12‧‧‧中斷
121、122、123‧‧‧中斷
124‧‧‧交叉區、中斷
13、131、132‧‧‧錯位
131a、131b‧‧‧交叉邊
132a、132b‧‧‧交叉邊
14‧‧‧馬賽克面、馬賽克平面
141、142、143、144‧‧‧子馬賽克面、子馬賽克平面
141a、142a、143a、144a‧‧‧子馬賽克面、子馬賽克平面
15‧‧‧空出的平面區、平面區
200a、200b‧‧‧第二微結構、第二微結構元件
2f、2g、2h、2i、2j‧‧‧條帶、圓條帶、圓形條帶
3II、3III、3IV、3V、3VI‧‧‧像元
3f、3g、3h、3i、3j‧‧‧點、像點
4f、4g、4h、4i、4j‧‧‧中心、中心點
Rf、Rg、Rh、Ri、Rj‧‧‧半徑
Ri‧‧‧內半徑
2k、2l、2m、2n、2o、2p‧‧‧條帶、圓條帶、圓形條帶
3VII‧‧‧像元
3VIII‧‧‧像元
3k、3l、3m、3n、3o、3p‧‧‧像點
4k‧‧‧中心、中心點
Rk、Rl、Rm、Rn、Ro、Rp‧‧‧半徑
2q、2r、2s、2t、2u‧‧‧條帶、圓條帶、圓形條帶、圓條帶區段、圓形條帶區段
2q‧‧‧最大圓條段區段
3IX、3X、3XI、3XII‧‧‧像元
3q、3r、3s、3t、3u‧‧‧像點
4q‧‧‧中心、中心點
Rq‧‧‧半徑
R‧‧‧半徑、半徑向量
S‧‧‧垂線
T‧‧‧切線向量
以下利用隨附之圖式，以多個實施例說明本發明。
〔第1a~1e圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第2a圖〕係一防偽元件示意圖。
〔第2b~2d圖〕係浮雕及光柵示意圖。
〔第3圖〕係一具有大量條帶的防偽元件示意圖。
〔第4圖〕係一具有一交叉區的防偽元件示意圖。
〔第5圖〕係一具有一交叉區和複數個中斷的防偽元件示意圖。
〔第6圖〕係一具有一交叉區和複數個錯位的防偽元件示意圖。
〔第7圖〕係一具有一交叉區的防偽元件示意圖。
〔第8圖〕係一具有一交叉區的防偽元件示意圖。
〔第9a圖〕係一防偽元件的光學效果的示意圖。
〔第9b圖〕係一防偽元件的光學效果的示意圖。
〔第10a圖〕係一防偽元件的光學效果的示意圖。
〔第10b圖〕係一防偽元件在使用兩個光源照明下所產生的光學效果的示意圖。
〔第11a~11c圖〕係一防偽元件的光學效果的示意圖。
〔第12a~12b圖〕係一防偽元件隨著像點距離變化而產生的光學效果的示意圖。
〔第13a~13b圖〕係一具有複數第一及第二微結構的防偽元件示意圖。
〔第14a圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第14b圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第14c圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第14d圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第14e圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第15圖〕係一防偽元件的光學效果的示意圖。
〔第16a圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第16b圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第16c圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第16d圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第17a圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第17b圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第17c圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第17d圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
〔第17e圖〕係一具有多條條帶的防偽元件示意圖。
為讓本發明之上述及其他目的、特徵及優點能更明顯易懂，下文特舉本發明之較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：第1a~1e圖係顯示一份具有一個防偽元件1的防偽文件5的結構圖。
第1a~1d圖係該防偽元件1的俯視圖，第1e圖為該防偽元件1的剖示圖，該防偽元件1係施覆於一文件體上，或施覆於一防偽文件5上。
所述防偽文件5最好由一身分證明文件組成，例如護照、通行卡、簽證或出入卡。不過，也可以是另外一種防偽文件5，例如紙鈔、股票或信用卡或金融卡。
所述防偽文件5具有一文件體51和一個或多個防偽元件，第1a~1e圖即顯示所述防偽元件1。
可以將該等防偽元件施覆於所述防偽文件5的文件體51上，或嵌設於所述防偽文件5的文件體51內，尤其是全部或部分嵌設於其內。
所述防偽文件5的文件體51最好是多層結構，尤其包含一個由一紙基體及/或塑膠基體組成的支持基體。此外，該文件體51還可以包含一層或多層保護層、一層或多層裝飾層及/或一個或多個防偽特徵。此外，該文件體51還可以包含其它層體，例如一層或多層剝離層、附著層、防附著層、障礙層及/或黏著劑層。該文件體51在此最好也包含一電子電路，尤其是一無線射頻識別(radio frequency identification，RFID)晶片，在該晶片內儲存有資訊。
該文件體51可以具有一窗區，此窗區可以形成為該文件體51的穿透部，及/或形成為該文件體51的透明區。所述防偽元件1可以與該窗區重疊，而可從該防偽文件5的兩側看到該防偽元件1。
所述防偽元件1尤其是由轉印膜的轉移層、層壓膜及/或薄膜件組成，尤其是以防偽補丁(security patch)或防偽條或防偽線的形式形成。或該防偽元件可以直接設於物件表面內。所述防偽元件，尤其是光學防偽元件，在此較佳地係施覆於防偽文件的表面上，或至少有部分嵌設於該防偽文件內。所述防偽元件1在此可以整面覆蓋住該防偽文件5的表面，及/或遮蓋該防偽文件5的部分，例如形成為條狀或補丁狀，如第1e圖中所示的防偽元件1設計。
在此，所述防偽元件1較佳地具有一保護層54、一裝飾層52及一黏著層或助黏層53如此一來，該防偽元件1例如係以轉印膜的轉移層形式所形成，所述轉移層包含一保護層54、一裝飾層52及一黏著劑層53，並如第1e圖所示施覆於該文件體51的前側。
所述防偽元件1的裝飾層52形成一個或多個防偽特徵，這些特徵較佳地也在光學上可被人類觀看者看出來。
因此，該等裝飾層52例如具有下列層體其中一層或多層： 該裝飾層52具有一層或多層分別具有一個或多個第一及/或第二微結構的層體。
所述一個或多個第一及或第二微結構，在此可以在各層體內，透過全像曝光轉化為一體積全像。不過，所述一個或多個第一及或第二微結構也可以作為浮雕結構形成於各該層體的表面內。因此，這些層體最好是由光聚合物組成的層體，在光聚合物內設有複數個區域，這些區域具有用於產生一個體積全像的不同折射率。這些層體也可以是漆層或塑膠膜，透過複製方法將該微結構的表面浮雕形成於漆層或塑膠膜內。
所述微結構較佳地為繞射結構，例如矩形繞射光柵、正弦形光柵，或也可以是第零階的繞射結構。所述微結構也可以是同方性及/或異方性平光結構、三角形閃耀光柵及/或大致上在反射時起作用的結構，例如微透鏡、微角柱或微鏡。
所述一個或多個微結構最好是設於一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶內，第1a~1d圖內顯示其中多條條帶2a~2e。此外，也可以在一條條帶的一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段內，例如在第1a~1d圖內顯示之條帶的區段內，設置所述第一微結構其中一個或多個。此外，所述第一微結構其中一個或多個也可以分別沿著一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶延伸，或沿著一條條帶的一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段延伸。
所述裝飾層52最好具有一層或多層金屬層，這些金屬層最好分別不是設於防偽元件的整面，而是只設於其中部分。其中，所述金屬層可以不透明、半透明或可透射的。其中，所述金屬層最好是由不同金屬組成，這些不同的金屬層的反射譜及/或透射譜明顯不一樣。所述金屬層例如由鋁、銅、鉻、金、銀或這些金屬的一種合金組成。
其中，所述一層或多層金屬層最好是以花紋(pattern)形狀形成，最好是字母數字記號及/或圖形及/或複雜的物體描繪等形式形成。
所述裝飾層52進一步可以包含有一層或多層塗層，最好是透明或半透明塗層。所述塗層，較佳地為藉由印刷方法塗覆的塗層，這些塗層具有一種或多種塗料及/或色素，這些塗料及/或色素融入一黏結劑矩陣內。
所述裝飾層52更佳地具有一層或多層干涉層，這些干涉層對入射光會挑選波長反射或折射。這些層體例如可以是由薄膜元件組成，所述薄膜元件根據層體的設置方式產生一個依觀看角度不同而變化的色移效果，該等層體的光學厚度為入射光的一半或四分之一波長。這些層體很典型地包含一層電介間距層，該電介間距層尤其是設於一半透明吸收層及一半透明或不透明鏡層或反射層，這些層體較佳地可以由一層包含複數薄膜色素的層體所組成。
所述裝飾層52進一步最好可以具有一層或多層液晶層，所述液晶層一方面使入射光極化(polarize)，也會依液晶定向的不同，讓某些波長的入射光反射及/或透射。
第1a圖顯示該防偽元件1的局部，該防偽元件1包含所述彼此錯開的彎曲條帶2a、2b、2c、2d、2e。所述條帶具有半徑Ra、Rb、Rc、Rd、Re。所述條帶的中心點4a、4b、4c、4d、4e係設於該等條帶2a、2b、2c、2d、2e的幾何中心，並分別與圓形條帶2a、2b、2c、2d、2e上所有點保持半徑Ra、Rb、Rc、Rd、Re的距離，使該等條帶2a、2b、2c、2d、2e的曲率分別為1/Ra、1/Rb、1/Rc、1/Rd、1/Re。該等條帶所在的平面，或空間上擴張的平面，係由一個二維座標系統撐開的，透過基本向量x和y描述這個座標系統，所述基本向量x和y最好如第1a圖所示彼此垂直。
不過，尤其也可以選擇具有兩個以上維數的座標系統，及/或 至少一彎曲的條帶上的座標系統。
如第1a~1d圖所示，所有條帶都具有相同的半徑。更佳地，條帶2a~2e的半徑也可以不一樣。此外，所述條帶2a~2e其中至少一條可以在彎曲走向上有變化。最好是當條帶不是圓形，而是例如橢圓形及/或螺旋形及/或圓弧形時，才設計讓條帶2a~2e在彎曲走向有變化。所述條帶2a~2e更佳地可以是不斷的及/或可區別的及/或可結合為一體的曲線，其中，所述條帶2a~2e可以不一定要是一維曲線，較佳地也可以是二維曲線，例如是一個球形表面的子區。
特別較佳地，所述條帶可以形成為封閉的條帶及/或由一個封閉的條帶其中至少一個子區所形成。尤其所有條帶的至少50%，較佳地70%，特別較佳地90%，可以分別形成一個封閉條帶的至少五分之一，較佳地至少四分之一，特別較佳地三分之一，尤其較佳地二分之一。此外，尤其所有條帶的至少50%，較佳地70%，特別較佳地90%，可以分別形成至少一個四分之一圓，較佳地至少一個三分之一圓，特別較佳地至少一個半圓。在第1a~1d圖內所示的實施例中，該等圖示所顯示的條帶2a、2b、2c、2d、2e為用虛線表示的二維圓形彎曲曲線。特別是當條帶是圓條帶或圓形條帶時，彎曲條帶的曲率的跡象(leading sign)不會改變，是恆定的。此外，一條條帶的曲率較佳地介於0.02~2mm-1之間，較佳地介於0.01~1mm-1之間。尤其較佳地，可以讓至少一條條帶，尤其是至少一圓形條帶，到處具有同一個曲率。特別較佳地，可以讓所有條帶2a~2e，尤其是所有圓形及/或橢圓形的條帶，其彎曲走向都一樣，第1a~1d圖內所示。尤其較佳地，所述條帶2a~2e的彎曲走向可以彼此不一樣。
該等設於條帶2a~2e內的第一微結構，提供一個第一光學可變資訊。第1a~1d圖所示的實施例中的這個第一光學可變資訊，是一個移動 效果。其中，這個第一光學可變資訊包含一個或多個分別由多個像點組成的像元。
該等設於條帶2a~2e內的第一微結構，在第1a~1d圖所示的實施例中，係產生一個像元3，此像元3尤其是由像點3a、3b、3c、3d、3e的一個布置所形成。所述防偽元件1最好提供觀看者一個或多個像元3，其中至少一個像元3例如可以形成為圖案(motif)。
所述像點3a、3b、3c、3d、3e分別由該等條帶2a、2b、2c、2d或2e的第一微結構所產生。在將防偽元件1翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，所述像點3a、3b、3c、3d、3e在使用至少一光源，較佳地使用一個點狀光源照明的情況下，沿著分別所屬的條帶移動。
所述像元3的像點3a、3b、3c、3d、3e，可以形成點狀，尤其是圓盤形狀，如第1a~1d圖所示。不過，像點3a、3b、3c、3d、3e也可以有其它的形狀，例如橢圓形。
當該等條帶2a、2b、2c、2d、2e由一光源照射時，第1a圖中的像元3是可以被觀看者感知到的，或可以看到的。其中，該等條帶的設計是，在每一條條帶只有一個像點可以被觀看者看到。透過將這樣可被看到的像點3a、3b、3c、3d、3e間距不變地設置在該等條帶上，這些像點3a、3b、3c、3d、3e會提供該像元3。
尤其當觀看者觀看時，如果將包含該等條帶的該防偽元件1相對於觀看者及/或照射源，翻轉及/或彎曲及/或旋轉及/或傾斜，所述像元3會移動。特別較佳地，所述像元3係根據該防偽元件1相對於觀看者的翻轉及/或彎曲及/或旋轉及/或傾斜方向，沿著該等條帶，往每條條帶的兩個可能移動方向各一個方向移動，尤其是移動自由度的方向。
更佳地，所述像元3係以第1a圖中所示的五個像點3a~3e的 布置，沿著五條條帶2a、2b、2c、2d、2e移動，使得即使翻轉及/或彎曲及/或旋轉該防偽元件1，第1a圖中所示的五個像點3a~3e的布置也會維持不變，及/或不會改變相對於第1a~1d圖所示、由向量x和y撐開的座標系統的定向。
所謂防偽元件1的旋轉，在此是指防偽元件1繞著防偽元件1的平面法線旋轉，所述平面法線係以矩形狀位於由向量x和y撐開的平面上。所謂防偽元件1的翻轉，是指防偽元件1繞著一個軸翻轉，這個軸位於由向量x和y撐開的平面上。
有利的是，在該防偽元件1旋轉及/或彎曲及/或翻轉期間，所述像元3尤其可以改變像元3相對於一個沿著及/或平行於第1a~1d圖所示座標系統的向量x及/或y的軸的定向，較佳地持續地改變，以提供一個由觀看者看來是持續或不持續的移動效果。更佳地，在該防偽元件1旋轉及/或彎曲及/或翻轉期間，所述像元3保持像元3相對於一個平行及/或沿著於第1a~1d圖所示座標系統的向量x及/或y的軸的定向不變。
第1a~1d圖中，所述像元3相對該由向量x及y標示的座標系統的定向，在整個移動過程，尤其是在該等位置30、31、32、32每一個位置上都是不變的。
第1a~1d圖以一個任意的順序，顯示所述像元3的一個移動效果，所述像元3包含所述五個像點3a、3b、3c、3d、3e，其中，位於第1a圖中的像點3c位置上的像元3中心點30移動到第1b圖中的位置31上，繼續移到第1c圖中的位置32上，最後移動到第1d圖中的位置33上。所述像元3的移動效方向，可以最好是任意選擇的，以便提供不同的移動效果。
第2a圖顯示所述防偽元件1的局部，其包含一彎曲條帶2的一個子塊20，該彎曲條帶2具有寬度B和半徑R。所述彎曲條帶2尤其可以 是第1a~1e圖中的條帶2a~2e其中之一。
此外，第2a圖顯示一像點3a，其中該像點3a較佳地位於該條帶上，及最好可以沿著該條帶移動，這樣從觀看者來看會產生一個移動效果，尤其是一個持續性的移動效果。此外，第2a圖中顯示一截面A→A’，此一截面尤其是徑向往一個封閉的，較佳地圓形及/或橢圓形條帶的中心點行進，其中該截面往徑向穿過該條帶。此外，藉由中彼此垂直的向量x和y在第2a圖中顯示一個二維座標系統，該二維座標系統撐開該條帶2所在或該條帶2嵌入的平面。
所述條帶2的寬度較佳地介於2~300μm之間，尤其是介於5~150μm之間，更佳地介於10~100μm之間。
所述條帶的面積會隨著該條帶的弧形長度及該條帶的寬度而變化，該條帶的寬度可以是不變或沿著該條帶變化。該條帶的寬度最好是不要隨著該條帶的走向變化，尤其是不要隨著一個相對於具有基本向量x和y的座標系統的方位角走向。
一個內輪廓20a對應該條帶2一內緣及/或一條帶的一子區的內緣，該內緣最好具有內半徑Ri。所述條帶2及/或一條帶的該子區的該外輪廓20b，係對應該條帶的一外緣，該外緣最好具有外半徑Ra。該條帶2最好具有內半徑Ri。該內輪廓係設於該條帶指向一個圓的中心點M方向的一邊，該中心點M係由該彎曲半徑向量決定。而該條帶的外輪廓20b係設於該條帶遠離彎曲半徑向量的一側20a。此外，有一垂線S被畫入該半徑向量R延長部分，該垂線S垂直立於一切線向量T上，該垂線S貼近在該條帶的外緣。該切線向量T的方向在本實施例中係垂直於半徑向量R。
該彎曲半徑向量，尤其是一個局部該彎曲半徑向量，最好是與在由一條帶2撐開的平面以內的一個任意點及/或位置有關，其中，該彎曲半 徑向量的數額與角度，可以隨著由一條帶2撐開的平面上的位置及/或方位角α而變化。
該彎曲半徑向量，尤其也可以與至少一條帶2的一內輪廓或邊緣20a或一外輪廓或邊緣20b有關，其中，該彎曲半徑向量的數額與角度，可以隨著由一條帶2的內輪廓及/或外輪廓上的位置及/或該方位角α而變化。
在該條帶2及/或一條帶的該子區的一個特定方向角α上的內輪廓曲率，最好是永遠比在這個方向角α下外輪廓的曲率大。在一外輪廓上一特定方向角α的一特定位置及/或一特定點與一內輪廓上一特定方向角α的該相同位置及/或該相同點之間的距離，較佳地對應於該條帶2的寬度，尤其是對應隨著該特定方向角α的該位置及/或該點而變化的該條帶2寬度。
在一更佳的實施例中，該條帶2及/或該條帶的一子區的平面，可以由至少一第一微結構10占滿。尤其該第一微結構10也可以順著該條帶2及/或該條帶一子區的內輪廓及/或外輪廓延伸。
第2b~2d圖分別顯示至少一第一微結構10的一個實施例，所述至少一第一微結構10例如可以設於第2a圖中所示的條帶2上，及/或設於第2a圖中所示的一條帶的該子區內上。
尤其第2b~2d圖顯示該等第一微結構沿著第2a圖中所示的截線A→A’的截面。
第2b圖顯示一個設計成第一微結構10的光柵10a，其具有正弦形的輪廓。該光柵10a具有複數個連續的結構元件，這些結構元件最好是週期性地彼此相間隔。所述個別的結構元件，在此較佳地，其縱向延伸比橫向延伸大很多，因此所述結構元件最好是線形，尤其是形成為光柵線，這些光柵線的橫截面呈正弦形狀。這些光柵線的走向，在此界定出光柵10a的該等微結構元件的縱向定向。所述光柵線的橫截面也可以不是正弦形，而是矩 形，因而有一個矩形輪廓。
第2c圖顯示該等第一微結構10設計成閃耀光柵10d，該第一微結構尤其也可以形成為鋸齒狀的光柵及/或三角形光柵。
所述閃耀光柵10d同樣較佳地由微結構元件的一個順序組成，該等微結構元件各具有一個三角形橫截面。在此，該等微結構元件的兩個側面的傾斜度與由向量x和y撐開的平面有差異，而使該等微結構元件具有一個不對稱的輪廓。在此，該等微結構元件的縱向延伸進一步同樣比橫向延伸大，尤其大很多，而使該等微結構元件同樣形成線形的微結構元件，這些微結構元件的橫截面在此是三角形。該等微結構元件的縱向延伸的走向，在此界定出該等微結構元件的縱向。
該等第一微結構10，尤其是第2b~2c圖該等第一微結構10的週期或光柵週期Λ，介於0.2~50μm之間，較佳地介於0.3~20μm之間，更佳地介於2~20μm之間，特別較佳地介於3~10μm之間，及/或該光柵深度介於50~15,000nm之間，有利是介於50~5,000nm之間，較佳地介於100~3,000nm之間。
第2d圖顯示一第一微結構10，該第一微結構10係形成為往異方、以平光散射的結構及/或異方性平光結構10e。這類平光結構的特徵是，它們顯出一種不對稱的散射行為，藉此產生一個光學可變效果。當沿著首選方向進行觀察時，和沿著一個與所述首選方向相交及/或呈垂直的方向進行觀看相比較的話，所述異方性平光結構10e，在此對入射光具有比較大的散射能力及/或比較大的散射角度。所述平光結構10e的該等微結構元件的中間距離，較佳地介於0.5~10μm之間，特別較佳地介於0.8~5μm之間。
特別較佳地，該等第一微結構10其中至少三個，較佳地至少五個光柵週期，及/或該等第一微結構10其中至少三個，較佳地至少五個中 間間距，係設在該至少一條帶2內，尤其是分配設於該條帶2的整個寬度範圍，及/或分配設於該條帶該至少一子區內，尤其是分配設於該條帶的該子區的整個寬度範圍。
特別較佳地，該至少一第一微結構10可以進一步也由一種複數微鏡布置所組成，這些微鏡根據各傾斜角度，相對於由向量x和y撐開的平面傾斜。
更佳地，該第一微結構的第一微結構元件其中一個或多個，分別具有至少一個第一或第二稜角平面，所述第一或第二稜角平面尤其形成一個微鏡。在另一個實施例，該第一微結構10可以形成為透鏡結構、光柵10a、平光結構10e或閃耀光柵10d，及具有一個包含一個或多個微鏡的組合。較佳地，其中，該光柵10a具有一個正弦形、矩形、鋸齒形及/或三角形輪廓。
第3圖顯示一個防偽元件1，其包含複數個彎曲、但沒有封閉的條帶2及/或條帶的字區，其中條帶及/或子區在交叉區11內交叉及/或重疊。
第4圖顯示一個防偽元件1的局部，其局部包含三個彎曲的條帶2a、2b、2c，該等條帶2a、2b、2c尤其在一個交叉區11內交叉。此外，第4圖顯示沿著各條帶2a、2b、2c設置的第一微結構100a、100b、100c。
較佳地，該等第一微結構100a、100b、100c及/或該等第一微結構100a、100b、100c的至少一結構件參數，尤其是微結構元件的間距、浮雕深度、微結構元件的縱向定向、首選方向、微結構元件的中間間距及/或該等微鏡的傾斜角度，是沿著各該條帶持續及/或不間斷改變。
第4圖例如顯示縱向延伸的定向持續改變的情形，或沿著各條帶2a、2b、2c的該等光柵結構100a、100b、100c的該等微結構的縱向定向。該等光柵結構100a、100b、100c在各該等條帶2a、2b、2c的每個位置上的縱向延伸，均與各該等條帶2a、2b、2c的相對位置的切線方向呈平行。該等 光柵結構在與該等條帶相交的這個防偽元件1局部內，其寬度最好是七個光柵週期這麼大。
較佳地，所述一個或多個條帶2a、2b、2c的一個或多個第一微結構100a、100b、100c的定向及/或縱向延伸，可以順著該等條帶2a、2b、2c一個輪廓，尤其是該內輪廓，較佳地該外輪廓。更佳地，在所述一個或多個條帶的大部分點上的該等第一微結構的定向，較佳地係沿著該各整個條帶，與所述一個或多個條帶的一個彎曲半徑向量形成相同的角度。尤其所述一個或多個第一微結構100a、100b、100c的定向及/或縱向延伸，可以大部分是垂直的，尤其是垂直於該彎曲半徑向量。在大部分點上，較佳地可以在理想情況下，對條帶2a、2b、2c的所有點而言，尤其是在一條或多條條帶是橢圓形及/或圓形的情狀下，在至少50%的點上，特別較佳地在至少70%的點上，尤其較佳地在至少85%的點上的第一微結構100a、100b、100c的定向，尤其是首選方向，可以與該等對條帶2a、2b、2c的垂線同一方向，尤其是垂直於該等條帶2a、2b、2c的一個或多個切線向量。
如第4圖所示，該等條帶2a、2b、2c最好可以在一個交叉區11內交叉。第4圖中所示的交叉區11在幾何上對應於該等彎曲條帶2b與2c產生重疊及/或交叉的該平面上，其中，第4圖中的實施例中，條帶2b與2c的交叉區11內只有該條帶2c的該第一微結構100c，該條帶2b的該第一微結構100b沒有在交叉區11內。
第5圖顯示一防偽元件1，其包含三個彎曲的條帶2a、2b與2c，其具有第一微結構100a、100b或100c，該等條帶2b與2c尤其在一交叉區124內交叉。
此外，該條帶2b具有複數個中斷122和124，在中斷122內沒有設置該第一微結構100b，在交叉區124內該微結構100b則出現一次中 斷。此外，該條帶2c具有複數個中斷121和123，在中斷121和123內沒有設置該條帶2c的該等第一微結構100c。
此外，尤其是所述中斷121、122、123及124其中之一可以在幾何上對應所述一個平面，這個平面上各該等條帶2a、2b及/或2c沒有具有第一微結構。可以隨機及假隨機分佈各該等條帶2a、2b或2c的中斷121、122、123及/或124。最好可以隨機及/或假隨機分佈中斷121~124，使其平行及/或垂直於一個相對應的切線向量。
第5圖所示的實施例具有複數個中斷121、122、123，該等中斷121、122、123設於條帶2b和條帶2c的交叉區124以外。
特別較佳地，該等設於交叉區124以外的中斷121、122及/或123，分別占該等條帶2a、2b及/或2c的面積及/或長度的0.1~30%，較佳地1~10%。這樣的中斷除了微結構的光學效果外，還產生一個散射效果，而使整個產生一個無色的印象。
第6圖顯示該防偽元件1的一個實施例，該防偽元件1包含三個彎曲的條帶2a、2b與2c，其具有第一微結構100a、100b或100c，該條帶2c在兩個地方產生錯位131、132。該錯位131平行於交叉邊131a、131b，條帶的子區21a相對於第6圖的觀看方向往下移動該錯位131的長度這樣的距離。此外，該錯位132平行於交叉邊132a、132b，條帶的子區22a相對於第6圖的觀看方向往左邊移動該錯位132的長度這樣的距離。錯位131、132的移動方向，尤其彼此垂直。
因為錯位131、132而偏移的子區21a、22a的面積，在跨越子區21a或22a走向及/或子區21a或22a的弧形長度的走向，會隨著寬度及/或寬度走向而改變。其中，所述子區21a或22a的寬度及/或寬度走向，是原始沒有交叉的條帶2c的寬度及/或寬度走向，所述子區21a或22a係從條帶 2c中取的，或所述子區21a或22a係從條帶2c中移出的。
該等條帶2a、2b、2c及/或該等第一微結構100a、100b、100c的錯位131、132可以隨機及/或假隨機分佈，尤其是隨機及/或假隨機設置，及/或隨機及/或假隨機分佈及/或設置，使錯位131、132平行及/或垂直於一個對應的切線向量。
更佳地，可以讓一個或多個錯位131、132所占的面積小於條帶2a、2b或2c及/或該等第一微結構100a、100b或100c的一個或多個寬度。較佳地，該等錯位錯開1~100μm，尤其是3~50μm的距離。和第5圖相似地，該等錯位也會產生一個額外的散射效果，而使該防偽元件整個產生一個無色的印象。
第7圖顯示一防偽元件1，該防偽元件1包含三個彎曲的條帶2a、2b、2c，其具有第一微結構100a、100b、100c，該條帶2b、2c具有一馬賽克平面14。該馬賽克平面14細分為複數個子馬賽克平面141、142、143、144，這些子馬賽克平面141、142、143、144包含條帶2b、2c的第一微結構100b、100c。其中，至少一子馬賽克平面的第一微結構不同於該等子馬賽克平面剩下的第一微結構。
尤其在該等條帶2b、2c及/或該等條帶2b、2c的該等第一微結構100b、100c的馬賽克平面14內，有一個馬賽克形狀的布置，尤其是該等第一微結構100b、100c的一個光柵。這樣產生的效果是，觀看者看不出該二條帶有中斷。
第8圖顯示一防偽元件1，該防偽元件1包含三個彎曲的條帶2a、2b、2c，其具有第一微結構100a、100b、100c，該條帶2b、2c在一交叉區11內具有一馬賽克平面14。該馬賽克細分為複數個子馬賽克平面141、142、143、144，這些子馬賽克平面141、142、143、144包含條帶2b、2c 的第一微結構100b、100c。其中，至少一子馬賽克平面的第一微結構不同於該等子馬賽克平面剩下的第一微結構。進一步如第8圖所示，在平面區15內，尤其是在馬賽克平面14附近有一個子馬賽克平面141a、142a、143a、144a的布置，這些子馬賽克平面141a、142a、143a、144a具有第一微結構100b、100c。
其中，一子馬賽克平面141、142、143、144、141a、142a、143a、144a的至少一第一微結構100b或100c不同於剩下的子馬賽克平面的第一微結構。
尤其該等平面區15以及進一步也較佳地該等子馬賽克平面141a、142a、143a、144a，與該馬賽克平面14的距離小於150μm，更佳地少於50μm。這些子馬賽克平面帶來的效果是，該等條帶2b~2c的持續性移動效果，對沒有戴上輔具的肉眼而言，看起來像是沒有中斷。
第9a圖顯示一防偽元件1，該防偽元件1包含一像元3，其中該像元3係由數字「4」和數字「2」組成，從第9a圖的觀看方向來看，數字「4」是設於數字「2」上方。
第9b圖顯示一防偽元件1，該防偽元件1包含一像元3’，其中該像元3’係由一個翻轉了180度的數字「4」和一個翻轉了180度的數字「2」組成，從第9b圖的觀看方向來看，那個翻轉了180度的數字「2」是設於那個翻轉了180度的數字「4」上方。
第9a~9b圖所示的實施例，該像元3係沿著該等條帶及/或該等條帶的第一微結構及/或過渡區，透過一個移動效果轉化成該像元3’，該等條帶及/或該等條帶的第一微結構及/或過渡區的設置設計，使得該等條帶及/或該等第一微結構使像元3能轉化成該像元3’，尤其是使像元3能變形成該像元3’，最好是使像元3能翻轉成該像元3’。透過使該防偽元件1相對於一 個光源及/或一個觀看者翻轉及/或彎曲及/或旋轉，能讓觀看者感知到第9a圖中的像元3轉變或轉化成第9b圖中的像元3’。
第10a圖顯示一防偽元件1的示意圖，該防偽元件1包含一像元3，其中該像元3設計成數字「5」。使防偽元件1翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，該像元3三個作為例子的像點3a、3b、3c可以在該等彎曲條帶2a、2b、2c或條帶段上面往條帶2a、2b、2c兩個方向移動到位置30、31、32上。最好在防偽元件1翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，觀看者會感知到一個持續的移動效果，其中該像元3尤其是可以持續在位置30、31、32之間往一個特定的方向R1沿著該等條帶2a、2b、2c移動，及在翻轉方向及/或彎曲方向及/或旋轉方向發生變化時，該像元3可以提供一個相對於該特定方向R1的移動，也就是往方向R2的移動，以及相反過來。
第10b圖顯示在照明下在防偽元件1上看到的光學效果顛倒情形，該防偽元件1具有兩個設計成數字「5」的像元3、3’，其中每個像元都透過各一個光源所提供。沿著由單一像點的順序所顯示的、由像元3、3’連接起來的圓條帶或圓形條帶，最好設置閃耀結構，尤其是線性閃耀光柵，在此例子該等閃耀光柵的光柵週期為6μm，而該等閃耀光柵的光柵深度為2μm。此實施例所述線性閃耀光柵的縱向延伸，在條帶的每個位置上，都是垂直於該等條帶的對應位置上的半徑向量。
當使第10b圖中所示的防偽元件翻轉及/或彎曲及/或旋轉時所產生的光學效果，在於設計成數字「5」的像元3、3’所產生的移動，觀看者可以透過像元在該防偽元件下面或上面的虛擬移動，得到一個立體印象。
第11a~11c圖顯示一防偽元件1的示意圖，該防偽元件1包含四個像點3a、3b、3c、3d，這些像點3a、3b、3c、3d一起形成一個金字塔形像元3。所述四個點狀元件3a、3b、3c、3d分別位於所述彎曲的條帶2a、 2b、2c、2d其中一條上面，及形成該由四個三角形平面組成的金字塔的四個角落，防偽元件1翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，該等像點會提供一個移動效果，使像點3a、3b、3c、3d可以在其對應的條帶2a、2b、2c、2d上，各依照翻轉方向及/或彎曲方向及/或旋轉方向往前及/或往後移動。
第11a~11c圖所示的彎曲條帶2a、2b、2c、2d，具有彼此不同的彎曲半徑，其中該條帶2a的曲率比條帶2b、2c、2d的曲率小。
此外，第11a~11c圖顯示該四個像點3a、3b、3c、3d在其對應條帶2a、2b、2c、2d上移動歷程，分別係位於不同的位置30、31、32，其中該像點3a因為條帶2a的曲率相對於條帶2b、2c、2d的曲率比較小，而在條帶2a上經過的距離比像點3b、3c、3d還長，進而提供一個讓觀看者可以感知到的金字塔立體移動效果。
在第11a~11c圖內所顯示的這樣一種立體效果，係經過將該像元3形成為一個立體金字塔的二維投影而產生的，其中，在移動期間，因為條帶2b、2c、2d的對應曲率很強，所述金字塔的三個像點3b、3c、3d的位置只會些微改變，而位於金字塔頂端的像點3a則走過有些彎曲的條帶2a上一段很長的距離。所以在移動效果過程中，從觀看者的來看，該金字塔會變形，而觀看者的大腦會將金字塔的這個變形詮釋為在立體空間內一個立體物體的變形。
藉由使防偽元件1相對於至少一光源及/或相對於該觀看者翻轉及/或彎曲及/或旋轉，可提供該等像點3a、3b、3c、3d的移動效果。
第12a~12b圖顯示第1圖中所示的一防偽元件1的顛倒光學效果，該防偽元件1具有兩個由複數個設於該等條帶上的像點3a、3b所組成的像元3、3’，所述像元彼此比較下具有同樣的金字塔形狀。該等像元3的該等像點3a彼此相隔一個距離，而這些像點3a之間的距離可以被肉眼解析， 使得第12a圖中的金字塔形狀像元3的各個像點都可以被感知到。相對地，該等像元3’的該等像點3b的密度很高，使得各個點之間的距離無法被肉眼解析，所以金字塔形狀像元3’可以被感知成稍微模糊或持續不斷的金字塔形布置。
第11a~11c圖、第12a~12b圖中所示的條帶中的圓條帶或圓形條帶，其半徑介於金字塔頂端像點3a的10mm與金字塔底部像點3c的1mm之間。
第13a~13b圖顯示一防偽元件1作為例子，該防偽元件1係由一個或多個第二微結構產生一個第二光學資訊。
第13a圖顯示一防偽元件1，該防偽元件1尤其設置第4圖所示具有該等第一微結構元件100a、100b和100c的條帶2a、2b和2c設置於一個具有一第二微結構20的平面區內。其中，該等第一微結構元件100a、100b及/或100c沒有和該等第二微結構20的該等第二微結構元件200a重疊。
第13b圖顯示第一微結構和第二微結構的一種布置，第一微結構和第二微結構中該等產生該第一光學可變效果的條帶其中一個或多個，在此是條帶2a、2b，截切該第二微結構20的平面區。
第13b圖中的情況，最好讓該第二微結構20以及條帶2a、2b的平面區也可以轉化成碎片融入彼此(rasterzied)。為達此目的，該微結構20以及條帶2a、2b、2c往至少一個特定方向分別被割分成大量的條狀子區。這些條狀子區設置後的彼此關係是，一個包含該微結構20或該微結構20的一部份的條狀子區，係與兩個具有各一條狀子區的交叉邊相鄰，後者條狀子區包含條帶2a、2b、2c其中一條或多條，或條帶2a、2b、2c的一個或多個部分，以及相反。因此包含該等微結構的該等條狀子區，以及包含該等條帶的該等條狀子區，會往一個垂直於切向的方向，在空間上彼此穿插。其中， 該條體的寬度較佳地少於300μm。
該等第二微結構20最好產生一個光學可變的資訊。
該等第二微結構20最好分別包含複數個第二微結構元件200a、200b，最好透過第二微結構元件間距、浮雕深度、浮雕形狀及第二微結構元件的縱向定向等參數，來描述該等第二微結構元件200a、200b的特徵。
在此，該等第二微結構元件200a及/或200b較佳地形成為線形結構元件，尤其具有三角形橫截面。所述該等線形結構元件如第13b圖所示布置，及提供一個看起來是一維的浮雕圖像，尤其是一個看起來是立體無色的浮雕圖像。
此外，該等第二微結構20也可以具有複數個第二稜角平面，在光反射及/或繞射時，該等第二稜角平面會提供一個隨著該等第二稜角平面走向及/或傾斜角走向而變化的浮雕圖像。
不過，該等第二微結構分別也可以形成一個光柵，尤其是正弦形狀或矩形或三角形的光柵、一個異向散射結構、一個平光結構、一個閃耀光柵及/或一個表面全像圖。該等第一微結構和第二微結構也可以與一層金屬反射層及/或具高折射指數的反射層及/或一層產生色移效果的層體結合，之前對此已有說明。該等第一微結構和第二微結構也可以藉由全像曝光轉換成一個體積全像圖。
第14a~14e圖顯示一防偽文件的結構，該防偽文件具有一防偽元件。第14a~14d圖顯示一防偽元件1的俯視圖，第14e圖顯示不同觀看角度下的一防偽元件1的花紋照片。
第14a圖中顯示如第1a圖所顯示的該相同像元，此像元由五個點或像點3f、3g、3h、3i、3j組成。不過與第1a圖不同的是，該等圓條帶或圓形條帶2f、2g、2h、2i、2j的中心或中心點4f、4g、4h、4i、4j係隨機 或假隨機布置。該等中心或中心點4f、4g、4h、4i、4j的布置，也不是顯示由該五個點或像點3f、3g、3h、3i、3j組成的該像元，尤其是根據該五個點或像點3f、3g、3h、3i、3j的位置布置該等中心或中心點4f、4g、4h、4i、4j。條帶2f、2g、2h、2i、2j內的微結構選擇與布置，最好是能在一個特定的照明角度及/或觀看角度下，讓所希望的像元，尤其是包含像點3f、3g、3h、3i、3j的該像元能顯現給觀看者看到。在所有其它照明角度及/或觀看角度下，像點3f、3g、3h、3i、3j在條帶2f、2g、2h、2i、2j上分散開來，且該像元，尤其是包含像點3f、3g、3h、3i、3j的該像元無法再被感知。第14b~14d圖顯示此例中五個像點3f、3g、3h、3i、3j的散開示意圖。
在可隨意選擇情況下，只存在條帶的區段。較佳地這些區段結束的位置是，在所述特定的照明角度及/或觀看角度下，該像元可以被看到或感知到的地方，這樣的設置尤其可以比較容易找到正確或適合的角度配合。同樣地也可以將隨機或假隨機不同的半徑，分配給該等圓條帶或圓形條帶。
第14e圖之第(a)~(d)小圖顯示一個防偽元件1的一個有參考性的設計的照片，該防偽元件1係由圓條帶或圓形條帶所組成，這些圓條帶或圓形條帶具有假隨機設置的圓條帶或圓形條帶中心或中心點，其中，所述圓條帶或圓形條帶其中兩個圓條帶或圓形條帶，分別以元件符號2i或2j標示，尤其是如第14e圖之第(a)小圖所示，可以看到由像點組成字母「K」形狀的該像元3II。當防偽元件1向右傾斜時，該等像點會分散開來，被定義出的分配關係就消失了，該像元3II無法再被感知了，如第14e圖之第(b)~(d)小圖所示。尤其在防偽元件1向右傾斜時，所述可以被感知為字母「K」的像元3II會轉換為一個散開的像元3III。
第15圖顯示一防偽元件1的光學效果的兩張攝影影像，該防偽元件1包含兩個在照明下形成數字「5」和字母「K」的像元3IV和3V，這 兩個像元3IV和3V最好已經透過一個唯一的光源所提供。其中，較佳地先計算出這兩個像元3IV和3V所需的圓條帶或圓形條帶，接著將這些的圓條帶或圓形條帶上下疊置。最好由一個計算軟體分配大約一樣多的圓條帶或圓形條帶交叉點給這兩個3IV和3V。如此一來，這兩個3IV和3V顯現出的亮度尤其大約會是類似的。該等微結構較佳地是不對稱的結構，尤其是閃耀類的結構，例如閃耀光柵或微鏡。現在這些微結構設置於所述兩個像元3IV和3V所述圓條帶或圓形條帶內及確定方向，使所述兩個像元3IV和3V較佳地不會在所述圓條帶或圓形條帶的相同位置上亮起來。最好是讓所述兩個像元3IV和3V剛好顯現在所述圓條帶或圓形條帶上的對面。該等微結構的設置，例如是讓所述兩個像元3IV和3V剛好尤其往所述同一個方向繞圈圈移動。在第15圖所示的防偽元件翻轉及/或旋轉時所產生的光學效果是，像元「5」和「K」在該圓條帶或圓形條帶上的位置最好互換。尤其，在此例子閃耀光柵6的光柵週期也是6μm，閃耀光柵6的光柵深度也是2μm。若是使用對稱的光柵，例如正弦形光柵，取代閃耀光柵，則兩個像元尤其會同時及因此尤其相重疊顯現在兩個位置上。透過在翻轉及/或旋轉時檢查所述兩個像元的位置調換或位置變換，最好是可以很簡單、間接地證明有閃耀類的微結構存在。
如上所述，第15圖之第(a)小圖顯示該防偽元件1，該防偽元件1包含該等像元3IV和3V，其中像元3IV係設計成數字「5」並可被觀看者感知，像元3V係設計成字母「K」並可被觀看者感知。第15圖之第(b)小圖顯示在第15圖之第(a)小圖中所示該防偽元件1向右邊翻轉後，該防偽元件1包含該等像元3VI和3VII，其中像元3VI係設計成數字「K」並可被觀看者感知，像元3VII係設計成字母「K」並可被觀看者感知。最好是在該防偽元件1向右邊翻轉後，該像元3IV(數字「5」)在其位置上被該像元3VI(字母「K」)取代，在該防偽元件1向右邊翻轉後，該像元3V(字母「K」)在 其位置上被該像元3VII(數字「5」)取代。
第16a~16d圖顯示一防偽文件的結構，該防偽文件具有一防偽元件1，其中，該等中心或中心點4k，尤其是至少75%，較佳地至少90%，尤其較佳地所有的圓條帶或圓形條帶2k、2l、2m、2n、2o、2p的中心或中心點4k是一樣的，或近乎一樣的。所謂的近乎一樣，是指尤其是大部分，較佳地所有的圓條帶或圓形條帶2k、2l、2m、2n、2o、2p的中心或中心點4k，其彼此最大的距離尤其是不超過最大圓條帶或圓形條帶2k的半徑Rk的10%，較佳地不超過半徑Rk的5%，及/或所述中心或中心點4k，尤其是大部分，較佳地所有的圓條帶或圓形條帶2k、2l、2m、2n、2o、2p的中心或中心點4k，其彼此最大的距離尤其是不超過3mm，更佳地不超過1mm，尤其較佳地不超過0.5mm。尤其是從該像元3VIII被分配到像點3k、3l、3m、3n、3o、3p的各自位置得出各該圓條帶或圓形條帶2k、2l、2m、2n、2o或2p的半徑的Rk、Rl、Rm、Rn、Ro或Rp。該等條帶2k、2l、2m、2n、2o、2p內的微結構的最好選擇和布置，是在所希望的照明情況及觀看情況下，顯現出該像元3VIII。將所述防偽元件1翻轉或旋轉時，該像元3VIII較佳地繞著該等圓條帶或圓形條帶2k、2l、2m、2n、2o、2p的中心或中心點4k，沿著條帶2k、2l、2m、2n、2o、2p一起旋轉。例如該像元呈現出一隻鳥，在沿著圓形翻轉或旋轉時這隻鳥會飛。同樣地，也可以將圓條帶或圓形條帶相疊，以產生一個第二像元，使得該等微結構的設置與定向，尤其達到所述兩個像元不會在同一位置上亮起來的效果。例如可以讓第一像元呈現出一隻鴿子，第二像元呈現出一隻老鷹，在翻轉或旋轉時，老鷹最好是虛擬地從鴿子下方飛過。
如上述，一個防偽元件1的所有圓條帶或圓形條帶具有一樣或幾乎一樣的中心或中心點，這樣設計的好處，尤其是比較少圓條帶或圓形條 帶相交，因而使該等像元最好顯得比較亮。
第17a~17e圖顯示一防偽文件的結構，該防偽文件具有一防偽元件1，其中，該等中心或中心點4q，至少75%，較佳地至少90%，尤其較佳地所有的圓條帶或圓形條帶2q、2r、2s、2t、2u的中心或中心點4q是一樣的，或近乎一樣的，或圓形條帶2q、2r、2s、2t、2u的條帶區段或區是一樣的，或近乎一樣的。所謂的近乎一樣，是指尤其是大部分，較佳地所有的圓條帶或圓形條帶2q、2r、2s、2t、2u的中心或中心點4q，或圓條帶區段或圓形條帶區段2q、2r、2s、2t、2u的中心或中心點4q，其彼此最大的距離尤其是不超過最大圓條帶或圓形條帶2q或最大原條帶區段2q的半徑Rq的10%，較佳地不超過半徑Rq的5%，及/或所述中心或中心點4q，尤其是大部分，較佳地所有的圓條帶或圓形條帶2q、2r、2s、2t、2u的中心或中心點4q，或圓形條帶2q、2r、2s、2t、2u的所有原條帶區段或區段的中心或中心點4q，其彼此最大的距離尤其是不超過3mm，更佳地不超過1mm，尤其較佳地不超過0.5mm。尤其是從該像元3IX被分配到像點2q、2r、2s、2t或2u的各自位置，得出各該圓條帶或圓形條帶2q、2r、2s、2t或2u的半徑的2q、2r、2s、2t或2u，或得出各該圓條帶區段或圓形條帶區段2q、2r、2s、2t或2u的半徑的2q、2r、2s、2t或2u。該等圓條帶或圓形條帶2q、2r、2s、2t或2u內的微結構，或該等圓條帶區段或圓形條帶區段2q、2r、2s、2t、2u內的微結構，其較佳的選擇和布置，在所希望的照明情況及觀看情況下，顯現出來該像元3IX。將所述防偽元件1翻轉及/或旋轉時，該像元3IX最好是透過消失及/或新顯現的及/或持續存在的像點3q、3r、3s、3t、3u而產生變化，使得觀看者可以感知到一幅動畫。例如該像元可以呈現出一隻鳥，在繞著圓圈翻轉或旋轉時這隻鳥會飛翔，及在此看起來在揮動翅膀。
第17b~17e圖係顯示一幅骰子點3q、3r、3s、3t、3u的動畫， 其中，動畫是從五個骰子點3q、3r、3s、3t、3u「往下數到」兩個骰子點3q、3u，意思是說骰子點的數目尤其是以第17b~17圖的順序分別減少一個。
同樣地，也可以將條圓帶或圓形條帶相疊，以產生一個第二像元，使得該等微結構的設置與定向，尤其達到所述兩個像元不會在同一位置上亮起來的效果。例如可以讓第一像元顯示一隻飛翔鴿子的動畫，第二像元顯示一個沒有變化的像元，例如一個面額。一個動畫與一個靜止像元這樣的組合，很容易溝通，因而能提高防偽效果。
雖然本發明已利用上述較佳實施例揭示，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者在不脫離本發明之精神和範圍之內，相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本發明所保護之技術範疇，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (66)

  1. 一種防偽元件(1)，包含一個或多個第一微結構(10)，該等第一微結構(10)分別設於一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶(2、2a~2u)內，或設於一條帶(2、2a~2u)內一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段內，及/或分別沿著一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶(2、2a~2u)或沿著一條條帶(2、2a~2u)內一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段延伸。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之防偽元件(1)，其中，所述各第一微結構(10)提供一第一光學可變資訊，尤其是提供一個或多個立體效果及/或移動效果，較佳地提供無色或單色的立體效果及/或移動效果。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一光學可變的資訊具有一個或多個像元(3、3’~3IX)，該等像元(3、3’~3 IX)係由多個像點(3a~3u)組成，該等像點(3a~3u)由設於不同條帶(2、2a~2u)內或沿各不同條帶(2、2a~2u)延伸的第一微結構(10)提供。
  4. 如申請專利範圍第1~3項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一光學可變的資訊具有一個或多個像元(3、3’~3 IX)，該等像元(3、3’~3 IX)由多個像點(3a~3u)組成，其中所述像點(3a~3u)中的每一個係由第一微結構(10)其中一個被分配到的所提供，且被分配到的第一微結構(10)中的每一個都設於所述一個或多個條帶(2、2a~2u)其中一個分別被分配到的條帶(2、2a~2u)內，或每個被分配到的第一微結構(10)都沿著所述一個或多個條帶(2、2a~2u)其中一個分別被分配到的條帶(2、2a~2u)延伸，其中尤其是像點(2、2a~2u)中每一個都分配到所述一個或多個條帶(2、2a~2u)中一個不相同的條帶(2、2a~2u)。
  5. 如申請專利範圍第1~4項中任一項所述之防偽元件(1)，其 中，在防偽元件(1)傾斜及/或彎曲及/或旋轉時，所述像點(3a~3u)其中一個或多個是在使用至少一光源，更佳地使用至少一個點狀光源照明的情況下，沿著所屬的條帶(2、2a~2u)移動。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之防偽元件(1)，其中，在防偽元件(1)傾斜及/或旋轉的期間，各像點(3a~3u)在一個恆定的角度速度下沿著各條帶(2、2a~2u)移動的移動速度彼此不一樣，及/或各像點(3a~3u)有不同的移動速度歷程。
  7. 如申請專利範圍第1~6項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，由每個條帶(2、2a~2u)的第一微結構(10)所提供的像點(3a~3u)，其數目對應於該等光源的數目，該等光源尤其是指點狀光源。
  8. 如申請專利範圍第1~7項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，使防偽元件(1)翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，該等第一微結構(10)提供一個像元(3、3’~3 IX)順序作為第一視光學效果，這些像元(3、3’~3 IX)會產生一種移動效果、一種變形效果及/或一種翻轉效果。
  9. 如申請專利範圍第1~8項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，使防偽元件(1)翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，該等第一微結構(10)提供一個像元(3、3’~3 IX)順序作為第一光學效果，這些像元(3、3’~3 IX)會產生一種立體移動效果、一種立體變形效果及/或一種立體翻轉效果。
  10. 如申請專利範圍第1~9項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，使防偽元件(1)翻轉及/或彎曲及/或旋轉時，該等像點(3a~3u)沿著該等條帶(2、2a~2u)移動而產生所述像元(3、3’~3 IX)的順序。
  11. 如申請專利範圍第1~10項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述條帶(2、2a~2u)尤其中一條或多條分別為圓弧形及/或圓形條帶，其中，尤其所述一個或多個像元(3、3’~3 IX)至少兩個像元設置及/或 定位設計是，所述一個或多個像元(3、3’~3 IX)的所述兩個像元較佳地不是在同一個位置上位於各自分配到的圓形條帶上，所述至少兩個像元(3、3’~3 IX)最好在各自分配到的圓形條帶上呈相對狀態。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之防偽元件(1)，其中，該等圓形條帶的一個或多個中心點(M、4a~4j、4k、4q)係隨機或假隨機布置。
  13. 如申請專利範圍第11~12項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等圓形條帶的一個或多個中心點(M、4a~4j、4k、4q)的兩個或多個中心點位置相同，其中，較佳地該等中心點(M、4a~4j、4k、4q)，尤其是至少75%，較佳地至少90%，尤其較佳地所有圓形條帶的中心或中心點(M、4a~4j、4k、4q)，其彼此最大的距離尤其是不超過最大圓形條帶的半徑的10%，較佳地不超過半徑的5%，及/或其中，該等中心點(M、4a~4j、4k、4q)，尤其是大部分，較佳地所有圓形條帶的中心或中心點，或圓形條帶(2q、2r、2s、2t、2u)的所有原條帶區段或區段的中心或中心點(4q)，其彼此最大的距離不超過3mm，更佳地不超過1mm，尤其較佳地不超過0.5mm。
  14. 如申請專利範圍第1~13項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條分別為橢圓形條帶。
  15. 如申請專利範圍第1~14項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條分別為封閉及/或開放的條帶。
  16. 如申請專利範圍第1~15項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)至少50%，較佳地70%，特別較佳地90%，可以分別形成一個封閉條帶的至少五分之一，較佳地至少四分之一，特別較佳地三分之一，尤其較佳地二分之一，或形成一個三分之一圓或一個半圓。
  17. 如申請專利範圍第1~16項中任一項所述之防偽元件(1)， 其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的寬度，係分別隨著各該條帶的走向而變化，尤其是分別至少有部分區段持續地及/或間斷地沿著各該條帶的走向而變化，其中，各該等條帶(2、2a~2u)的寬度尤其係由各該條帶的縱向邊之間的距離所決定。
  18. 如申請專利範圍第1~17項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的半徑(Rf~Rb)及/或曲率及/或彎曲半徑，係分別隨著各該條帶的走向而變化，尤其是分別至少有部分區段持續地及/或間斷地沿著各該條帶的走向而變化。
  19. 如申請專利範圍第1~18項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的寬度，係分別小於各該條帶的該半徑(Rf~Rb)或該等半徑(Rf~Rb)，及/或分別小於各該條帶的該彎曲半徑或該等彎曲半徑。
  20. 如申請專利範圍第1~19項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的寬度，介於3~300μm之間，較佳地介於10~100μm之間。
  21. 如申請專利範圍第1~20項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的曲率，尤其是所有條帶的曲率，分別在各該條帶的整個歷程不會改變跡象(leading sign)。
  22. 如申請專利範圍第1~21項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條，尤其是所有條帶，更佳地所有圓形及/或橢圓形條帶的彎曲走向，彼此分別不同。
  23. 如申請專利範圍第1~22項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶其中兩條或多條，尤其是所有條帶，更佳地所有圓形及/或橢圓形條帶的彎曲走向，分別都一樣。
  24. 如申請專利範圍第1~23項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶其中兩條或多條，尤其是所有條帶的曲率，分別介於0.02~2mm 1之間，較佳地介於0.1~1mm -1之間。
  25. 如申請專利範圍第1~24項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該防偽元件(1)具有一個或多個第二微結構(20)，該等第二微結構(20)提供一個第二光學資訊，尤其是一個第二光學可變資訊。
  26. 如申請專利範圍第1~25項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一微結構(10)其中一個或多個，及/或該等第二微結構(20)其中一個或多個，分別為體積全像圖。
  27. 如申請專利範圍第1~26項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一微結構(10)其中一個或多個，及/或該等第二微結構(20)其中一個或多個，分別為浮雕結構。
  28. 如申請專利範圍第1~27項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一微結構(10)其中一個或多個分別包含複數個第一微結構元件(100)，該等第二微結構(20)其中一個或多個分別包含複數個第二微結構元件(200)，尤其該等第一或第二微結構元件分別透過第一或第二微結構元件的間距、浮雕深度、浮雕形狀、第一或第二微結構元件的縱向定向等參數，表示其特徵。
  29. 如申請專利範圍第1~28項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一微結構(10)其中一個或多個及/或第二微結構(20)其中一個或多個分別形成為光柵，尤其是正弦形狀光柵及/或三角形光柵。
  30. 如申請專利範圍第1~29項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一微結構(10)其中一個或多個及/或第二微結構(20)其中一個或多個分別形成為鋸齒狀微結構，尤其是閃耀光柵(10d)，其中該閃耀光 柵(10d)的光柵週期較佳地為6μm，及/或閃耀光柵(10d)的光柵深度較佳地為2μm。
  31. 如申請專利範圍第1~30項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一微結構元件(100)其中一個或多個及/或該等第二微結構元件(100)其中一個或多個的距離分別介於0.5~50μm之間，較佳地介於2~20μm之間，特別較佳地介於3~10μm之間，及/或該等第一微結構元件(100)其中一個或多個及/或該等第二微結構元件(200)其中一個或多個的浮雕深度分別介於50~5,000nm之間，較佳地介於100~3,000nm之間，及/或該等第一微結構元件(100)其中一個或多個及/或該等第二微結構元件(200)其中一個或多個的浮雕形狀分別是正弦形、三角形、鋸齒形與梯形其中一種形狀。
  32. 如申請專利範圍第1~31項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一微結構元件(100)其中一個或多個及/或該等第二微結構元件(200)其中一個或多個分別成型為線形，尤其是成型為光柵線形狀，該等光柵線橫截面尤其是三角形。
  33. 如申請專利範圍第1~32項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述線形微結構元件，尤其是光柵線，其中一個或多個的長度可以分別介於50μm~500mm之間，較佳地介於5~100mm之間，及/或所述線形微結構元件，尤其是光柵線，其中一個或多個的長度，比光柵週期及/或各線形微結構元件，尤其是各光柵線到與相鄰光柵線之間的距離，大至少五倍。
  34. 如申請專利範圍第1~33項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一微結構其中一個或多個及/或第二微結構其中一個或多個分別形成為一個或多個異方性散射結構，尤其形成為異方性平光結構(10e)，相較於往與首選方向相交及/或垂直的方向觀看，沿著首選方向觀看時，所述異 方性平光結構對入射光，具有比較大的散射能力及/或比較大的散射角度，所述異方性散射結構的其中一個或多個的第一或第二微結構元件(100、200)的中間距離，最好分別介於0.5~10μm之間，特別較佳地介於0.8~5μm之間。
  35. 如申請專利範圍第1~34項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一微結構(10))其中一個或多個及/或所述第二微結構(20)其中一個或多個的至少三個，較佳地至少五個光柵週期，及/或所述第一微結構(10)其中一個或多個及/或所述第二微結構(20)其中一個或多個的至少三個，較佳地至少五個中間間距，係設在所述各一條或多條條帶(2、2a~2u)內。
  36. 如申請專利範圍第1~35項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第一或第二微結構(10、20)的該等第一或第二微結構元件(100、200)其中一個或多個，分別具有至少一個第一或第二稜角平面，所述第一或第二稜角平面較佳地形成一微鏡。
  37. 如申請專利範圍第1~36項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一稜角平面其中一個或多個，及/或該等第二稜角平面其中一個或多個，其最小的平面尺寸分別是介於10~5,000μm 2之間，特別是介於25~900μm 2之間。
  38. 如申請專利範圍第1~37項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一稜角平面其中一個或多個，及/或該等第二稜角平面其中一個或多個，相對於防偽元件(1)的平面法線，分別形成一個介於1~45°的傾斜角度，尤其是介於1~20°的傾斜角度。
  39. 如申請專利範圍第1~38項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一稜角平面其中一個或多個，及/或該等第二稜角平面其中一個 或多個，分別具有一個平坦表面或一個凸起或凹入表面。
  40. 如申請專利範圍第1~39項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第一及/或第二稜角平面其中一個或多個係顯示至少一浮雕圖像示圖，尤其是至少一個無色的立體圖浮雕圖像示圖，其中該等第一或第二稜角平面的傾斜角，最好是分別介於1~45°之間，尤其是介於1~20°之間，及/或最好是該等第一或第二稜角平面其中一個或多個的週期及/或傾斜情況，分別沿著側邊維度其中一個或多個持續地變化。
  41. 如申請專利範圍第1~40項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第二微結構(20)其中一個或多個提供一個看起來立體的浮雕圖像，尤其是一個看起來立體無色的浮雕圖像。所述各該第二微結構(20)最好具有複數個第二稜角平面，所決定的該等第二稜角平面的走向及/或傾斜角走向，係讓入射光經過反射及/或繞射後可以產生該浮雕圖像。
  42. 如申請專利範圍第1~41項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述第二微結構(20)其中一個或多個分別提供一個透鏡效果，尤其是形成菲涅耳透鏡(Fresnel lens)。
  43. 如申請專利範圍第1~42項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該第一微結構(10)的該等微結構元件(100)其中一個或多個的一個或多個結構參數，分別持續及/或不斷地沿著各該條帶或各該等條帶(2、2a~2u)改變，其中該等結構參數其中一個或多個最好可以分別由下列參數選出：該等第一微結構元件(100)的間距、浮雕深度、該等第一微結構元件(100)的縱向定向、首選方向、該等第一微結構元件(100)的中間間距、該等第一稜角平面的傾斜角。
  44. 如申請專利範圍第1~43項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，各該第一微結構(10)的一個或多個第一微結構元件(100)的定向， 及/或各該第一微結構(10)的一個或多個第一稜角平面的首選方向及/或傾斜角度，分別順著各該條帶(2、2a~2u)的輪廓的至少部分區段行進，所述輪廓係特別是由各該條帶(2、2a~2u)的縱向邊緣其中之一或分別由各該條帶(2、2a~2u)平面重心線的決定。
  45. 如申請專利範圍第1~44項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，至少在該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的一個子區內，各該第一微結構(10)的第一微結構元件(100)其中一個或多個的局部定向、各該第一微結構(10)的第一稜角其中一個或多個的局部首選方向及/或局部傾斜角度，係分別對應於各該條帶(2、2a~2u)的局部彎曲程度，所述的各該條帶(2、2a~2u)的局部彎曲程度，尤其可以由各該或各該等條帶(2、2a~2u)的縱向邊緣其中一個或藉由各該條帶(2、2a~2u)的該平面重心線決定。
  46. 如申請專利範圍第1~45項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，至少在該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的一個子區內，該第一微結構(10)的該等第一微結構元件(100)其中一個或多個的局部定向，各該第一微結構(10)的該等第一稜角其中一個或多個的局部首選方向及/或局部傾斜角度，分別與各該條帶(2、2a~2u)的局部彎曲的差別不會高過0~30°，其中所述局部彎曲尤其可以各該條帶(2、2a~2u)的該等縱向邊緣其中之一或由各該條帶(2、2a~2u)的該平面重心線決定。
  47. 如申請專利範圍第1~46項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，至少在該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的一個子區內，各該第一微結構(10)的該等第一微結構元件(100)其中一個或多個的局部定向、各該第一微結構(10)的該等第一稜角的其中一個或多個的局部首選方向及/或局部傾斜角度，分別與各該條帶(2、2a~2u)的局部彎曲之間存在一個預設偏移角度+/-30°的差異，其中所述局部彎曲尤其是由各該條帶(2、2a~2u) 的該等縱向邊緣其中一個或多個或由各該條帶(2、2a~2u)的該平面重心線所決定。
  48. 如申請專利範圍第1~47項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，至少在該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的一個子區內，各該第一微結構(10)的該等第一微結構元件(100)其中一個或多個的局部定向、各該第一微結構(10)的該等第一稜角其中一個或多個的局部首選方向及/或局部傾斜角度，分別與各該條帶(2、2a~2u)的局部彎曲之間形成一個角度，這個角度介於-45~+45°之間，較佳地介於-30~+30°之間，更佳地介於-15~+15°之間，其中所述局部彎曲尤其係由各該條帶(2、2a~2u)的該等縱向邊緣其中一個或由各該條帶(2、2a~2u)的該平面重心線所決定。
  49. 如申請專利範圍第1~48項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，至少在該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條的一個子區內，各該第一微結構(10)的該等第一微結構元件(100)其中一個或多個的縱向延伸及/或該首選方向，係分別平行或垂直於各該條帶(2、2a~2u)，相對於垂直於該防偽元件平面法線而撐開的平面而言，所述縱向延伸或該首選方向尤其是分別平行或垂直於各該條帶(2、2a~2u)的該等縱向邊緣其中一個或多個，或分別平行或垂直於各該條帶(2、2a~2u)的該平面重心線。
  50. 如申請專利範圍第45~49項中任一項所述之防偽元件(1)，其中該子區各包含各該條帶(2、2a~2u)的至少50%面積及/或長度，特別較佳地包含各該條帶(2、2a~2u)的至少70%面積及/或長度，尤其較佳地包含各該條帶(2、2a~2u)的至少85%面積及/或長度。
  51. 如申請專利範圍第1~50項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條，及/或該等第一微結構(10)其中一個或多個，分別在一個或多個交叉區(11)內交叉一次或多次。
  52. 如申請專利範圍第1~51項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，在所述交叉區(11)其中一個或多個內，分別只有設置在各該交叉區(11)內交叉的該等條帶(2、2a~2u)其中一條的該第一微結構(10)或該等第一微結構(10)。
  53. 如申請專利範圍第51~52項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，在所述交叉區(11)其中一個或多個內，分別將該等交叉的條帶(2、2a~2u)的該第一微結構(10)或該等第一微結構(10)設置於一個一維或二維光柵(raster)內，其中光柵的寬度尤其介於10~300μm之間。
  54. 如申請專利範圍第1~53項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，在所述交叉區(11)其中一個或多個的區域內的所述條帶(2、2a~2u)其中一條或多條之外，設置一個或多個平面區(15)，這些平面區(15)包含所述在各交叉區(11)內交叉的該等第一微結構(10)其中一個，其中尤其所述一個或多個平面區(15)與各該交叉區的(11)距離較佳地少於150μm，更佳地少於50μm。
  55. 如申請專利範圍第1~54項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述條帶(2、2a~2u)其中一條或多條具有一個或多個中斷(12)，在這些中斷(12)內沒有設置該等第一微結構(10)，該等中斷(12)最好占各該條帶(2、2a~2u)或各該等條帶(2、2a~2u)的面積及/或長度的0~30%，更佳地1~10%。
  56. 如申請專利範圍第55項所述之防偽元件(1)，其中，所述中斷(12)其中一個或多個分別設於各該條帶(2、2a~2u)或各該等條帶(2、2a~2u)其中一個或多個交叉區(11)內。
  57. 如申請專利範圍第55項所述之防偽元件(1)，其中，所述中斷(12)其中一個或多個分別設於各該條帶(2、2a~2u)或各該等條帶(2、 2a~2u)其中一個或多個交叉區(11)以外。
  58. 如申請專利範圍第56~57項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，所述中斷(12)其中一個或多個分別較佳地隨機及/或假隨機分佈，尤其是使隨機及/或假隨機分佈後的中斷(12)分別平行及/或垂直於各該條帶(2、2a~2u)的一個或多個切線向量。
  59. 如申請專利範圍第1~58項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等條帶(2、2a~2u)其中一條或多條及/或該等第一微結構(10)其中一個或多個，分別有一次或多次錯位(13)。
  60. 如申請專利範圍第59項所述之防偽元件(1)，其中，該等錯位(13)其中一個或多個的側邊尺寸，分別小於各該條帶(2、2a~2u)的寬度。
  61. 如申請專利範圍第59~60項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等錯位(13)其中一個或多個分別隨機及/或假隨機分佈，尤其是使隨機及/或假隨機分佈後的錯位(13)分別平行及/或垂直於各該條帶(2、2a~2u)的一個或多個切線向量。
  62. 如申請專利範圍第1~61項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第二微結構(20)係設於一平面區內，該平面區沒有與該等條帶(2、2a~2u)重疊。
  63. 如申請專利範圍第1~62項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第二微結構(20)係設於一平面區內，該平面區係由兩個或多個分別間隔的子區，所述子區分別為條狀體，尤其是寬度小於300μm的條狀體。
  64. 如申請專利範圍第1~63項中任一項所述之防偽元件(1)，其中，該等第二微結構(20)係設於一平面區內，該平面區係由兩個或多個分別間隔的子區，所述子區分別為條狀體，尤其是寬度小於300μm的條狀 體，其中，所述一個或多個子區分別與所述一條或多條條帶(2、2a~2u)所分配到中斷區，至少有部分區域重疊。
  65. 一種如申請專利範圍第1項所述之防偽元件(1)的製造方法，其中，提供至少一個檔案，這個檔案包含一個或多個像元(3、3’~3 IX)的像點(3a~3u)，所述檔案包含所述像點(3a~3u)的該位置布置，由所述像點(3a~3u)的位置布置，決定一條或多條至少有部分區段形成彎曲的條帶(2、2a~2u)，或一條或多條條帶(2、2a~2u)的一個或多個至少有部分區段形成彎曲的區段，在所述條帶(2、2a~2u)其中一條/個或多條/個條帶(2、2a~2u)或區段內，分別設置一個或多個第一微結構(10)，所述第一微結構(10)在曝光時會提供一個第一光學可變資訊，尤其是會提供一個或多個立體效果及/或移動效果，較佳地提供無色或單色的立體效果及/或移動效果。
  66. 如申請專利範圍第65項所述之方法，其中，所述檔案定義像元(3、3’~3 IX)的順序，且該等條帶(2、2a~2u)及/或條帶段(2、2a~2u)的布置，能使所述防偽元件(1)傾斜及/或彎曲及/或旋轉時，藉由像點(3a~3u)沿著所述條帶(2、2a~2u)移動，產生該像元(3、3’~3 IX)順序。
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