TW201835093A - 光路易士酸產生劑 - Google Patents

光路易士酸產生劑 Download PDF

Info

Publication number
TW201835093A
TW201835093A TW106142875A TW106142875A TW201835093A TW 201835093 A TW201835093 A TW 201835093A TW 106142875 A TW106142875 A TW 106142875A TW 106142875 A TW106142875 A TW 106142875A TW 201835093 A TW201835093 A TW 201835093A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
compound
pentafluorophenyl
tris
borate
lewis acid
Prior art date
Application number
TW106142875A
Other languages
English (en)
Inventor
田中智章
石田知史
西田俊文
Original Assignee
日商日本觸媒股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商日本觸媒股份有限公司 filed Critical 日商日本觸媒股份有限公司
Publication of TW201835093A publication Critical patent/TW201835093A/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02Boron compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02Boron compounds
    • C07F5/027Organoboranes and organoborohydrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/06Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
    • C07D213/16Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom containing only one pyridine ring
    • C07D213/20Quaternary compounds thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/06Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
    • C07D213/22Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom containing two or more pyridine rings directly linked together, e.g. bipyridyl
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/24Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D213/28Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D213/30Oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/04Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D215/10Quaternary compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/34Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/72Complexes of boron halides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

本發明提供一種不同於先前之光酸產生劑而能夠藉由光產生路易士酸之化合物。 化合物包含以硼為中心原子之陰離子部及特定之陽離子部(例如,HOMO-LUMO間之能隙為5.3 eV以下之陽離子)。陽離子部亦可具有例如選自N-取代吡啶鎓骨架、N-取代聯吡啶鎓骨架、N-取代喹啉鎓及吡喃鎓骨架之骨架。

Description

光路易士酸產生劑
本發明係關於一種能夠藉由光照射(光能)使路易士酸產生之化合物及包含該化合物之組合物。
酸產生劑係藉由光或熱使質子酸(布忍斯特酸)產生之化合物,被用於聚合起始劑或化學增幅型抗蝕劑等(參照專利文獻1~3)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2014-205624號公報 [專利文獻2]日本專利特開2014-214129號公報 [專利文獻3]日本專利特開2001-183821號公報
[發明所欲解決之問題] 本發明之目的在於提供一種能夠藉由光產生路易士酸之化合物、包含該化合物之光路易士酸產生劑、及包含該等化合物或藥劑之組合物。 [解決問題之技術手段] 上述先前之光酸產生劑於陽離子部使用藉由光或熱產生質子酸之成分,及於陰離子部使用SbF6 - 或BF4 - 等無機陰離子、(C6 F5 )4 B- 等有機陰離子,但存在僅能夠用於質子酸能夠應用之系統、於陰離子部必須使用銻之類之毒性金屬等應該改善之方面。 於此種狀況下,本發明者等人就是否能夠獲得完全不同於先前之光酸產生劑之概念而藉由光產生路易士酸之化合物之觀點,反覆進行了努力研究,結果發現:藉由將以硼為中心原子之陰離子部與特定之陽離子部組合,而能夠獲得能夠藉由陰離子部產生路易士酸之化合物(光路易士酸產生劑);由此種化合物產生之酸係具有與質子酸不同之反應性之路易士酸;此外,由於以硼為中心原子,故而通常為強路易士酸,利用價值較高等。 本發明者等人除上述發現以外,還如下述般獲得各種新見解,進一步反覆進行了努力研究,從而完成本發明。 即,本發明之化合物係具有以硼為中心原子之陰離子部及陽離子部之化合物(陽離子部與陰離子部之鹽)且能夠藉由光照射自陰離子部產生路易士酸(詳細而言,以硼為中心原子之路易士酸)之化合物。 此種本發明之化合物尤其是亦可為具有陰離子部及陽離子部之化合物且能夠藉由光照射自陰離子部產生路易士酸之化合物,所述陰離子部以硼為中心原子,且具有包含至少1個鹵素原子之芳基。 [發明之效果] 本發明之化合物(光路易士酸產生劑)能夠藉由光產生路易士酸。因此,可應用於能夠利用路易士酸之各種用途[例如,光聚合起始劑(光潛伏性聚合起始劑)、化學增幅抗蝕劑等]。 而且,本發明之化合物使陰離子部之中心原子包含硼,無需包含銻之類之金屬,因此,於安全性上亦優異,有用性極高。
[化合物] 本發明之化合物具有以硼為中心原子之陰離子部及陽離子部。而且,該陰離子部能夠藉由光照射使路易士酸產生(以硼為中心原子之路易士酸)。 (陰離子部) 陰離子部以硼為中心原子,只要能夠藉由光產生路易士酸,則並無特別限定。作為陰離子部之中心原子之硼原子(>B<)[或硼陰離子(>B<)- ]上所取代(或鍵結)之基(或原子)並無特別限定,例如,可列舉烴基、雜環基(雜芳基等)、羥基、鹵素原子、氫原子等。 作為烴基,例如,可列舉脂肪族烴基[例如,烷基(例如,甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基等C1-20 烷基,較佳為C2-10 烷基,進而較佳為C2-6 烷基)、環烷基(例如,環戊基、環己基等C3-20 環烷基,較佳為C4-8 環烷基)、芳烷基(例如,苄基、苯乙基等C6-10 芳基C1-4 烷基)等]、芳香族烴基[例如,芳基(例如,苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基等C6-20 芳基,較佳為C6-12 芳基,進而較佳為C6-10 芳基)等]等。 烴基及雜環基亦可具有取代基。再者,所謂具有取代基之烴基,係指構成不具有取代基之烴基之氫原子之1個或2個以上被取代基取代而成之基,所謂具有取代基之雜環基,係指構成不具有取代基之雜環之氫原子之1個或2個以上被取代基取代而成之基。取代基亦可進而被取代基取代。 作為取代基並無特別限定,例如,可列舉鹵素原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)、羥基、烷氧基(例如,甲氧基、乙氧基等C1‑20 烷氧基,較佳為C1-10 烷氧基,進而較佳為C1-4 烷氧基)、芳氧基(例如,苯氧基等C6-10 芳氧基)、醯基(例如,乙醯基等C1-10 烷基羰基;苯甲醯基等C6-10 芳基羰基等)、醯氧基(例如,乙醯氧基等C1-10 烷基羰氧基;苯基羰氧基等C6-10 芳基羰氧基等)、烷氧基羰基(例如,甲氧基羰基等C1-10 烷氧基羰基)、芳基氧基羰基(例如,苯氧基羰基等C6-10 芳基氧基羰基)、巰基、烷基硫基(例如,甲基硫基等C1-20 烷基硫基,較佳為C1-10 烷基硫基,進而較佳為C1-4 烷基硫基)、芳基硫基(例如,苯硫基等C6-10 芳基硫基)、胺基、取代胺基(例如,二甲基胺基等單或二C1-4 烷基胺基)、醯胺基(例如,N,N'-二甲基胺基羰基等單或二C1-4 烷基胺基羰基)、氰基、硝基、取代磺醯基(例如,甲磺醯基等C1-10 烷基磺醯基、C6-10 甲苯磺醯基等芳基磺醯基)、烴基(例如,烷基等上述例示之烴基)等。 該等取代基可單獨使用或以2種以上之組合之形式使用,烴基或雜環基亦可包含1個或2個以上之取代基。 該等取代基亦可單獨或使用2種以上直接與硼原子鍵結。 於較佳之態樣中,陰離子部亦可具有至少1個芳基(與硼原子鍵結之芳基、芳基硼骨架),尤其是,亦可具有至少1個具有至少1個鹵素原子之芳基(氟芳基)。 作為鹵素原子,較佳為氯及氟,更佳為氟。 其中,更佳為具有至少1個具有至少3個鹵素原子之芳基,進而較佳為具有至少1個具有至少5個鹵素原子之芳基。若為上述態樣,則有路易士酸強度增加而作為聚合起始劑之特性提昇之傾向。 於具有鹵素原子之芳基中,鹵素原子可與芳基直接鍵結,或以含有鹵素原子之基與芳基鍵結之態樣具有鹵素原子,亦可以使該等組合而成之態樣具有鹵素原子。 作為含有鹵素原子之基,例如,可列舉含有鹵素之烴基[例如,鹵烷基(例如,三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、全氟辛基等鹵代C1-20 烷基,較佳為氟代C1-10 烷基,進而較佳為C1-4 氟烷基、普通全氟烷基)、鹵代環烷基(例如,全氟環丙基、全氟環丁基、全氟環戊基、全氟環己基等鹵代C3‑20 環烷基,較佳為氟代C4-8 環烷基、普通全氟環烷基)等]、鹵代烷氧基(例如,三氟甲氧基、五氟乙氧基、七氟丙氧基、全氟辛氧基等鹵代C1-20 烷氧基,較佳為氟代C1-10 烷氧基,進而較佳為C1-4 氟烷氧基、普通全氟烷氧基)、鹵化巰基(例如,五氟巰基(-SF5 )等)等。 作為具體之具有鹵素原子(尤其是氟原子)之芳基,例如,可列舉氟芳基[例如,五氟苯基、2-氟苯基、2,3-二氟苯基、2,4-二氟苯基、2,5-二氟苯基、2,6-二氟苯基、3,5-二氟苯基、2,3,6-三氟苯基、2,4,6-三氟苯基、2,3,4,6-四氟苯基、2,3,5,6-四氟苯基、2,2',3,3',4,4',5,5',6-九氟-1,1'-聯苯,較佳為五氟苯基、2,6-二氟苯基、2,4,6-三氟苯基、2,3,5,6-四氟苯基、2,2',3,3',4,4',5,5',6-九氟-1,1'-聯苯等]、(氟烷基)芳基[例如,2-三氟甲基苯基、3-三氟甲基苯基、4-三氟甲基苯基、2-五氟乙基苯基、3-五氟乙基苯基、4-五氟乙基苯基、2,4-雙(三氟甲基)苯基、2,5-雙(三氟甲基)苯基、2,6-雙(三氟甲基)苯基、3,5-雙(三氟甲基)苯基、2,4,6-三(三氟甲基)苯基、2,4,6-三甲基苯基,較佳為2,6-雙(三氟甲基)苯基、3,5-雙(三氟甲基)苯基、2,4,6-三(三氟甲基)苯基等]、氟-(氟烷基)芳基[例如,氟-三氟甲基苯基(-C6 H3 FCF3 )、氟-雙(三氟甲基)苯基(-C6 H2 F(CF3 )2 )、氟-五氟乙基苯基(-C6 H3 FCF3 CF2 )、氟-雙(五氟乙基)苯基(-C6 H2 F(CF3 CF2 )2 )等氟-(氟代C1-20 烷基)C6-10 芳基,較佳為氟-(氟代C1-10 烷基)C6-10 芳基,進而較佳為氟-(C1-4 氟烷基)苯基、普通氟-全氟烷基芳基等]、氯代芳基[例如,五氯苯基、2-氯苯基、2,3-二氯苯基、2,4-二氯苯基、2,5-二氯苯基、2,6-二氯苯基、3,5-二氯苯基、2,3,6-三氯苯基、2,4,6-三氯苯基、2,3,4,6-四氯苯基、2,3,5,6-四氯苯基,較佳為五氯苯基、2,6-二氯苯基、2,4,6-三氯苯基等]、(氟巰基)芳基[例如,2-五氟巰基苯基、3-五氟巰基苯基、4-五氟巰基苯基、2,4-雙(五氟巰基)苯基、2,5-雙(五氟巰基)苯基、2,6-雙(五氟巰基)苯基、3,5-雙(五氟巰基)苯基、2,4,6-三(五氟巰基)苯基、2,4,6-三甲基苯基,較佳為2,6-雙(五氟巰基)苯基、3,5-雙(五氟巰基)苯基、2,4,6-三(五氟巰基)苯基等]等。 該等之中,尤佳為五氟苯基、2,6-二氟苯基、2,4,6-三氟苯基、2,3,5,6-四氟苯基、2,2',3,3',4,4',5,5',6-九氟-1,1'-聯苯、五氯苯基、2,6-二氯苯基、2,4,6-三氯苯基、2-三氟甲基苯基、2,6-雙(三氟甲基)苯基、3,5-雙(三氟甲基)苯基、2,4,6-三(三氟甲基)苯基等。 於陰離子部具有芳基(與硼原子鍵結之芳基)之情形時,芳基之數只要為4(硼陰離子之原子價)以下即可,較佳為1~4,進而較佳為2~3,尤佳為3。 尤其是,於陰離子部具有具有鹵素原子(尤其是氟原子)之芳基(與硼原子鍵結之芳基)之情形時,具有鹵素原子之芳基之數為1~3,較佳為2~3,尤佳為3。 陰離子部(硼酸鹽陰離子)較佳為由下述式(1)表示。 [化1](式中,Ar1 、Ar2 及Ar3 為相同或不同之可具有取代基之芳基,R1 表示取代基)。 於上述式(1)中,於Ar1 、Ar2 及Ar3 (可具有取代基之芳基)中,作為芳基及取代基,可列舉上述例示之芳基及取代基。 於較佳之態樣中,可列舉Ar1 、Ar2 及Ar3 之至少1者(較佳為2者或3者,進而較佳為3者)為具有至少1個鹵素原子之芳基[上述例示之基,例如,氟苯基、氯苯基、(氟烷基)苯基、氟-(氟烷基)苯基等]之態樣等。 其中,更佳為Ar1 、Ar2 及Ar3 之至少2者為具有至少1個鹵素原子之芳基,進而較佳為Ar1 、Ar2 及Ar3 之3者為具有至少1個鹵素原子之芳基。若為上述態樣,則有路易士酸強度增加而作為聚合起始劑之特性提昇之傾向。 再者,Ar1 、Ar2 及Ar3 可相同,亦可不同。例如,於Ar1 、Ar2 及Ar3 全部為具有氟原子之芳基之情形時,該等可為全部具有相同之數之氟原子之芳基(例如,五氟苯基等),亦可為具有不同之數之氟原子之芳基之組合。 又,於上述式(1)中,作為R1 (取代基),可列舉上述例示之取代基。具代表性之取代基可列舉烴基、雜環基、羥基等。 作為較佳之R1 ,可列舉可具有取代基之烴基或羥基,尤佳為可具有取代基之烴基。若為上述態樣,則有更高效地產生路易士酸之傾向。 關於可具有取代基之烴基,作為取代基及烴基,可列舉上述例示之基。 具代表性之R1 包含烷基(例如,甲基、乙基、丙基、丁基等C1-20 烷基,較佳為C1-10 烷基,進而較佳為C2-6 烷基)、芳烷基(例如,苄基、苯乙基等C6-10 芳基C1-4 烷基)、芳基(例如,苯基、甲苯基等C6-10 芳基)等,R1 尤佳為烷基、芳烷基等脂肪族烴基。 再者,本發明之化合物能夠藉由光照射自陰離子部產生路易士酸。此種路易士酸係根據陰離子部之態樣等而異,但通常為自與硼鍵結之4個取代基(以硼為中心原子鍵結之4個取代基)中脫離1個取代基後之化合物。 例如,於陰離子部為式(1)之陰離子部之情形時,產生Ar1 、Ar2 、Ar3 及R1 之任1個基經脫離之化合物作為路易士酸。 尤其是,於R1 脫離之情形時,產生下述式所表示之化合物[例如,三(五氟苯基)硼烷(Ar1 、Ar2 及Ar3 全部為五氟苯基之化合物)等]作為路易士酸。 [化2](式中,Ar1 、Ar2 及Ar3 與上述相同)。 尤其是,本發明之化合物能夠藉由光照射產生來自以硼為中心原子之陰離子部之路易士酸,但亦可藉由選擇此種陰離子部等產生強路易士酸[例如,三(五氟苯基)硼烷等氟芳基硼烷]。 又,SbF6 - 或BF4 - 等無機陰離子會導致腐蝕性之HF氣體產生,用作有機陰離子之(C6 F5 )4 B- 遇到高溫後會使樹脂著色或分解,但於本發明中,能夠抑制此種HF氣體之產生或樹脂之著色、分解。 (陽離子部) 陽離子部係上述陰離子部之抗衡陽離子,只要為於與陰離子部之組合中能夠使來自陰離子部之路易士酸產生者,則並無特別限定。 尤其是,如上所述般,路易士酸之產生大多情況下伴有因光照射引起之自陰離子向陽離子之電荷轉移及由此引起之取代基之脫離。 因此,為了使取代基快速地自陰離子部脫離(促進取代基之脫離),陽離子部較佳為使來自光陰離子部之電荷(電子)轉移較容易者。 就此種觀點而言,陽離子部亦可為HOMO-LUMO間之能隙(能量差)相對較低者,例如,5.5 eV以下(例如,5.3 eV以下)、較佳為5.2 eV以下(例如,5.1 eV以下)、更佳為5 eV以下(例如,4.5 eV以下)、進而較佳為4.2 eV以下之陽離子。 再者,能隙之下限值並無特別限定,例如,亦可為1 eV、1.5 eV、2 eV等。 陽離子部較佳為相對於路易士酸(來自陰離子部之路易士酸)為非反應性。藉由將此種非反應性之陽離子部與陰離子部組合,而能夠高效地利用自陰離子部產生之路易士酸。 再者,作為相對於路易士酸為反應性之陽離子部,例如,可列舉具有如下取代基(例如,胺基、N-單取代胺基、亞胺基(-NH-)等)之陽離子部等,該等取代基表現出鹼性且藉由與路易士酸形成鹽而使觸媒功能失活。因此,陽離子部較佳為不具有能夠與路易士酸形成鹽之基之陽離子部。 又,陽離子部較佳為不會阻礙(難以阻礙)自陰離子部產生路易士酸者。具體而言,陽離子部可為不會藉由光產生質子酸之陽離子部(結構)及/或不會藉由光分解之陽離子部(結構)。 陽離子部之中心原子(陽離子性之原子)並無特別限定,亦可為硫原子(S)、碘原子(I)等,尤其是,亦可為選自氮、氧及磷之雜原子,尤其是氮及/或氧。此種以雜原子為中心原子之陽離子部大多情況下不會阻礙路易士酸之產生(例如,不會藉由光分解),而容易高效地使路易士酸產生。 關於以雜原子為中心原子之陽離子部,雜原子之存在態樣並無特別限定,可為構成鏈狀結構之原子,亦可為構成環狀結構之原子,尤其是,亦可構成雜環(heterocycle)。即,此種以雜原子為中心原子之陽離子部亦可為以選自氮、氧及磷之至少1個雜原子為環之構成原子之雜環或雜環(heterocycle)(之陽離子)。即,陽離子部較佳為包含雜環(heterocycle)。若為上述態樣,則有作為聚合起始劑之特性提昇之傾向。 此種雜環(heterocycle)亦可為脂肪族環、芳香族環之任一者,尤其是,亦可為芳香族環(芳香族雜環)。 作為具體之雜環(heterocycle),例如,可列舉:含氮雜環[例如,單環式環(吡啶環(吡啶鎓環)等)、多環式環(例如,喹啉環、異喹啉環、吲哚環等縮合環;聯吡啶鎓環等集合環)等含氮雜環(尤其是含氮芳香族雜環)]、含氧雜環[例如,吡喃鎓環(Piririniumu環)等含有氧之芳香族雜環等]等。 再者,較佳為於雜原子上未取代(鍵結)氫原子(質子性之氫原子)。例如,構成鎓離子(例如,吡啶鎓(陽離子)等)之氫原子較佳為全部被氫原子以外之取代基取代。 作為此種於雜原子上取代(鍵結)之取代基,例如,可列舉上述陰離子部之項中例示之取代基等。作為具代表性之取代基,例如,可列舉烴基[例如,烷基(例如,甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等C1-20 烷基,較佳為C1-10 烷基等)、環烷基(例如,環戊基、環己基等C3-20 環烷基,較佳為C4-8 環烷基)、芳烷基(例如,苄基、苯乙基等C6-10 芳基C1-4 烷基)、芳基(例如,苯基等C6-10 芳基)等可具有取代基之烴基)等]等。 又,於陽離子部,雜環(heterocycle)亦可具有取代基。作為於雜環(heterocycle)上取代(鍵結)之取代基,可根據上述HOMO-LUMO間之能隙等適當選擇,例如,可列舉上述陰離子部之項中例示之取代基[例如,烴基(例如,烷基、芳基等可具有取代基之烴基)、醯基(例如,乙醯基等C1-10 烷基羰基;苯甲醯基等C6-10 芳基羰基(芳醯基)等)等]等。具有取代基或者未經取代之雜環(heterocycle)亦可為取代基。 取代基亦可單獨或2種以上組合而與雜環(heterocycle)鍵結。 作為具代表性之陽離子部,例如,可列舉:具有含有氮原子之雜環骨架[例如,N-取代吡啶鎓骨架、N-取代聯吡啶鎓骨架、N-取代喹啉鎓骨架、N-取代異喹啉鎓骨架等於上述例示之含氮雜環之氮原子上具有取代基之骨架]之陽離子{例如,N-取代吡啶鎓類[例如,N-取代-芳基吡啶鎓(例如,4-苯基-1-正丙基吡啶鎓、4-苯基-1-正丁基吡啶鎓、4-苯基-1-苄基吡啶鎓等N-取代-C6-10 芳基吡啶鎓,較佳為N-烷基-C6-10 芳基吡啶鎓及N-芳烷基-C6-10 芳基吡啶鎓,進而較佳為N-C1-20 烷基-苯基吡啶鎓及N-C6-10 芳基C1-4 烷基-苯基吡啶鎓)、N-取代-醯基吡啶鎓(例如,4-苯甲醯基-1-苄基吡啶鎓等N-取代-C6-10 芳基羰基吡啶鎓)等]、N-取代聯吡啶鎓類[例如,N-取代-聯吡啶鎓(例如,1,1'-二辛基-4,4'-聯吡啶鎓等N,N'-二烷基聯吡啶鎓,較佳為N,N'-二C1-20 烷基聯吡啶鎓,進而較佳為N,N'-二C1-10 烷基聯吡啶鎓)等]、N-取代喹啉鎓類[例如,N-取代-喹啉鎓(例如,1-乙基喹啉鎓等N-烷基喹啉鎓,較佳為N-C1-20 烷基-喹啉鎓;1-苄基喹啉鎓等N-芳烷基喹啉鎓,較佳為N-C6-10 芳基C1-4 烷基喹啉鎓)等]、N-取代異喹啉鎓類[例如,N-取代-異喹啉鎓(例如,2-正丁基異喹啉鎓等N-烷基異喹啉鎓,較佳為N-C1-20 烷基-異喹啉鎓;2-苄基異喹啉鎓等N-芳烷基異喹啉鎓,較佳為N-C6‑10 芳基C1-4 烷基喹啉鎓)等]等}、具有含有氧原子之雜環骨架(例如,吡喃鎓骨架等具有上述例示之含氧雜環之骨架)之陽離子{例如,吡喃鎓類[例如,烷基吡喃鎓(例如,2,4,6-三甲基吡喃鎓等C1-20 烷基吡喃鎓,較佳為C1-10 烷基吡喃鎓,進而較佳為C1-4 烷基吡喃鎓)等]等}、四級鏻類[例如,四萘基鏻、甲基三萘基鏻、苯醯甲基三苯基鏻等]等。 陽離子部較佳為亦可具有選自N-取代吡啶鎓骨架、N-取代聯吡啶鎓骨架、N-取代喹啉鎓骨架、四級鏻骨架、及吡喃鎓骨架之骨架。 本發明之化合物係具有陰離子部及陽離子部之化合物(或陰離子部與陽離子部形成鹽之化合物)。陰離子部與陽離子部之組合只要能夠藉由光產生路易士酸,則並無特別限定,包含上述全部之陰離子部與陽離子部之組合。 能夠使路易士酸產生之光之波長並無特別限定,可根據本發明之化合物之用途等選擇,例如,可為1000 nm以下(例如,900 nm以下),較佳為800 nm以下(例如,750 nm以下),進而較佳為650 nm以下(例如,630 nm以下)左右,且220 nm以上(例如,230 nm以上),較佳為240 nm以上(例如,245 nm以上),更佳為250 nm以上(例如,275 nm以上),進而較佳為295 nm以上,通常亦可為240~700 nm。 能夠使路易士酸產生之光亦可為紫外線~近紅外線之區域之光。通常,能夠使酸產生之光多為紫外光區域之光,但於本發明中即便為可見光~近紅外區域之光,亦能夠使路易士酸高效地產生。如此,本發明之化合物能夠使路易士酸高效地產生,但於遮蔽下或光不發揮作用之環境下,能夠高度地抑制分解或路易士酸之產生,從而穩定性或保存穩定性優異。 本發明之化合物能夠藉由使陰離子部與陽離子部進行反應而製造。反應(鹽形成反應)能夠利用慣用之方法。例如,可藉由使陰離子部之鹽(例如,鈉鹽、鉀鹽、鈉/二甲氧基乙烷鹽等錯鹽等)與陽離子部之鹽(例如,與溴等鹵素之鹽)於適當之溶劑中進行反應而製造。 再者,陰離子部及陽離子部亦能夠藉由慣用之方法製造,存在市售品者亦可使用市售品。 [化合物之用途及組合物] 本發明之化合物藉由光(光能)產生路易士酸,因此,可以稱作光路易士酸產生劑。此種本發明之化合物(及光路易士酸產生劑)可用作能夠利用路易士酸之各種用途,例如,聚合起始劑(光聚合起始劑、光潛伏性聚合起始劑)、化學增幅抗蝕劑材料等。 尤其是,本發明之化合物(光路易士酸產生劑)可較佳地用作光聚合起始劑(較佳為光陽離子聚合起始劑)。即,本發明之光聚合起始劑包含本發明之化合物。 本發明之光聚合起始劑只要包含本發明之化合物即可,於不損害本發明之效果之範圍內,亦可包含其他光聚合起始劑。於光聚合起始劑中,本發明之化合物可為例如10~100質量%左右。本發明之光聚合起始劑亦可包含下述溶劑或添加劑。 此種本發明之化合物(光路易士酸產生劑)可根據用途構成各種組合物。即,本發明之組合物包含上述化合物(或藥劑),其他成分可根據用途等選擇。 例如,於將上述化合物用作聚合起始劑之情形時,本發明之組合物亦可包含上述化合物及能夠藉由路易士酸聚合之聚合性化合物。 作為此種聚合性化合物,例如,包含陽離子聚合性化合物[例如,環狀醚類(環氧系化合物、氧雜環丁烷系化合物等)、乙烯基醚類、含氮單體(例如,N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基咔唑等)等]等。再者,聚合性化合物亦可為低聚物狀。 聚合性化合物可單獨使用或將2種以上組合而使用。 代表性而言,聚合性化合物亦可包含選自上述陽離子聚合性化合物之至少1種。 作為環氧系化合物(陽離子聚合性環氧樹脂),並無特別限定,例如,可為脂肪族環氧化合物(例如,己二醇二縮水甘油醚等脂肪族多元醇之聚縮水甘油醚)、脂環族(脂環式)環氧化合物[例如,環氧環烷烴類(例如,環氧環己烷、3,4-環氧環己烷羧酸3',4'-環氧環己基甲酯)]、芳香族環氧化合物[例如,酚類(苯酚、雙酚A、酚系酚醛清漆等)之縮水甘油醚等]之任一種,亦可將該等組合。 該等之中,可較佳地使用脂環族環氧化合物及芳香族環氧化合物,尤其是脂環族環氧化合物。 再者,於環氧系化合物中,環氧基之態樣亦可為縮水甘油醚型、縮水甘油酯型、烯烴氧化(脂環式)型等任一種。 於組合物中,關於上述化合物(或藥劑)之比率,例如,相對於聚合性化合物100質量份,例如亦可為0.001~20質量份,較佳為0.01~10質量份,進而較佳為0.1~5質量份左右。 組合物亦可視需要包含溶劑[例如,碳酸酯類(例如,碳酸乙二酯、碳酸丙二酯、1,2-碳酸丁二酯、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯等)等慣用之溶劑]、添加劑(例如,增感劑、顏料、填充劑、抗靜電劑、阻燃劑、消泡劑、穩定劑、抗氧化劑等)。 溶劑或添加劑可單獨使用或將2種以上組合而使用。 於組合物包含溶劑之情形時,組合物中之固形物成分之比率例如亦可為0.01~50質量%,較佳為0.1~30重量%左右。 又,組合物亦可視需要包含不屬於本發明之化合物(光路易士酸產生劑)之範疇之酸產生劑或聚合起始劑[例如,光酸產生劑(藉由光產生質子酸之化合物、光質子酸產生劑)]。 本發明之化合物如上所述般相對穩定而能夠形成穩定性優異之組合物。因此,本發明包含上述組合物之保存方法或製造方法。於此種方法中,通常,可於遮蔽下或光不發揮作用之環境下保存或製造上述組合物。 更具體而言,本發明包含以下方法(A)及(B)等。 (A)於遮蔽下,保存上述組合物(例如,至少包含上述化合物及聚合性化合物之組合物)之方法。 (B)於遮蔽下,將上述化合物與其他成分(尤其是,包含至少聚合性化合物之組合物)混合而製造上述組合物之方法。 關於保存方法,保存時間並無特別限定,例如,可為1天以上、3天以上、5天以上、10天以上、20天以上、30天以上、50天以上等。再者,保存時間之上限並無特別限定,例如,可為5年、4年、3年、2年、1年、6個月、3個月等。 作為進行遮蔽之光,至少將使上述化合物產生路易士酸之光(相對於上述化合物具有吸收波長區域之光)遮蔽即可。又,關於遮光,作為遮光之程度,例如,作為上述波長或區域之透光率,可為20%以下,較佳為10%以下,進而較佳為5%以下,尤其是3%以下等。 關於保存方法及製造方法,作為保存或混合時之溫度,並無特別限定,亦可為低溫下(例如,10℃以下)、常溫下(例如,10~35℃)或加溫下(例如,35℃以上)之任一者。於本發明中,即便為相對高溫下(例如,20~80℃、25~70℃、30~60℃、35~50℃等),亦能夠實現較高之穩定性。 再者,作為遮蔽方法,只要能夠於遮蔽環境下保存或混合,則並無特別限定,例如,可列舉於暗處進行保存或混合之方法、將組合物保存於遮光容器中之方法、將該等組合之方法等。 本發明之化合物如上所述般藉由光產生路易士酸。因此,本發明亦包含對上述組合物(上述化合物或藥劑)進行光照射(照射活性能量線)而使路易士酸產生之方法。 於此種方法中,於組合物包含聚合性化合物之情形時,能夠藉由路易士酸進行聚合性化合物之聚合,而製造聚合性化合物之聚合體。因此,本發明亦包含對包含能夠藉由路易士酸聚合之聚合性化合物之上述組合物進行光照射而製造聚合性化合物之聚合體之方法。 再者,根據聚合性化合物之種類,聚合體形成硬化物。 關於光照射,作為光源,只要能夠使路易士酸產生,則並無特別限定,例如,可列舉螢光燈、水銀燈(低壓、中壓、高壓、超高壓等)、金屬鹵素燈、LED燈、氙氣燈、碳弧燈、雷射(例如,半導體固體雷射、氬雷射、He-Cd雷射、KrF準分子雷射、ArF準分子雷射、F2雷射等)等。尤其是,於本發明中,即便為可見光區域之光源(LED燈)亦能夠利用。 光照射時間可根據化合物、聚合性化合物或光源之種類等適當選擇,並無特別限定。 上述方法亦可於加熱下進行。藉由於加熱下進行,而能夠更進一步實現高效之聚合(硬化)。 加熱(加熱步驟)只要能夠對上述組合物或化合物進行,則可於光照射前、光照射時(與光照射一起)、光照射後之任一時間進行,亦可將該等組合而進行。代表性而言,加熱亦可於光照射時及/或光照射後進行,尤其是,至少可於光照射時或光照射中進行。 作為加熱溫度,並無特別限定,例如,可為35℃以上(例如,35~150℃)、40℃以上(例如,40~120℃)、45℃以上(例如,45~100℃),亦可為50℃以上(例如,50~80℃)、60℃以上、70℃以上等。 作為本發明之組合物之用途,例如,可列舉塗料、塗佈劑、各種被覆材料(硬塗、防污被覆材、防霧被覆材、防觸被覆材、光纖等)、黏著帶之背面處理劑、黏著標記用剝離片材(剝離紙、剝離塑膠膜、剝離金屬箔等)剝離塗佈材、印刷板、牙科用材料(牙科用調配物、牙科用複合)油墨、噴墨油墨、正型抗蝕劑(電路基板、CSP、MEMS元件等電子零件製造之連接端子或佈線圖案形成等)、抗蝕膜、液狀抗蝕劑、負型抗蝕劑(半導體元件等之表面保護膜、層間絕緣膜、平坦化膜等永久膜材料等)、MEMS用抗蝕劑、正型感光性材料、負型感光性材料、各種接著劑(各種電子零件用暫時固定劑、HDD用接著劑、讀取透鏡用接著劑、FPD用功能性膜(偏向板、抗反射膜等)用接著劑等)、全像術用樹脂、FPD材料(彩色濾光片、黑矩陣、間隔壁材料、光刻襯墊、阻隔壁、液晶用配向膜、FPD用密封劑等)、各向異性導電性材料、光學構件、成形材料(建築材料用、光學零件、透鏡)、澆鑄材料、膩子、玻璃纖維含浸劑、填縫材、密閉材、密封材、光半導體(LED)密封材、光波導材料、奈米壓印材料、光造形用及微光造形用材料等。 本發明並不限定於上述各實施形態,能夠進行各種變更,將不同之實施形態中分別揭示之技術方法適當組合而獲得之實施形態亦包含於本發明之技術範圍內。 [實施例] 以下,列舉實施例更具體地對本發明進行說明,但本發明根本不受下述實施例之限制,能夠於符合上述、下述宗旨之範圍內適當地施加變更而實施,其等均包含於本發明之技術範圍內。 [合成例1]五氟苯基溴化鎂之製造 於具備溫度計、滴液漏斗、攪拌機、氮氣導入管及回流冷卻器之反應容器內添加鎂(2.64 g、0.109 mol),充分地進行氮氣置換後,於該反應容器中,加入二丁基醚(52.3 g)。又,於滴液漏斗中加入溴化正丁烷(13.4 g、0.098 mol)。 繼而,於30℃以下,滴加滴液漏斗內之溴化正丁烷,藉此,獲得溴化正丁烷鎂之二丁基醚溶液。 另外,於滴液漏斗中加入溴代五氟苯(25.3 g、0.103 mol)。於藉由上述反應獲得之反應液中,於30℃以下,滴加滴液漏斗內之溴代五氟苯,藉此,獲得五氟苯基溴化鎂之二丁基醚溶液。 利用F-NMR確認到已獲得五氟苯基溴化鎂(下述化合物)。又,溴代五氟苯之轉化率為97%以上。 [化3][合成例2]三(五氟苯基)硼烷之製造 對與合成例1相同之反應容器內充分地進行氮氣置換後,於該反應容器中加入作為硼化合物之三氟化硼四氫呋喃錯合物(4.70 g、0.034 mol)及甲基環己烷(17.0 g)。又,於滴液漏斗中加入合成例1中獲得之包含五氟苯基溴化鎂之二丁基醚溶液。 繼而,於30℃以下,歷時30分鐘滴加反應容器內之二丁基醚溶液後,於室溫下進而繼續進行2小時攪拌。藉此,獲得三(五氟苯基)硼烷之二丁基醚溶液。 利用F-NMR確認到已獲得三(五氟苯基)硼烷(下述化合物)。 [化4][合成例3]正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之製造 對與合成例1相同之反應容器內充分地進行氮氣置換後,於該反應容器中,加入藉由與合成例1相同之操作獲取之包含溴化正丁烷鎂之二丁基醚溶液。又,於滴液漏斗中加入合成例2中獲得之包含三(五氟苯基)硼烷之二丁基醚溶液。 繼而,於30℃以下,一面攪拌反應容器內之二丁基醚溶液,一面歷時15分鐘滴加滴液漏斗內之二丁基醚溶液後,將反應液加熱至50℃,進而攪拌3小時。藉此,以二丁基醚溶液之形式獲得正丁基-三(五氟苯基)硼酸酯溴化鎂。 添加過量之鹽酸水溶液並攪拌15分鐘後,將反應液靜置,抽出經2相分離之水層。繼而,於反應容器中殘留之有機層中添加使碳酸鈉1.20 g溶解於水18 g中而成之水溶液並攪拌15分鐘後,將反應液靜置,抽出經2相分離之水層,作為正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉鹽之二丁基醚溶液。 藉由於該二丁基醚溶液中添加二甲氧基乙烷(4.56 g、0.051 mol)並進行攪拌,使正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之結晶析出。對其進行過濾,利用庚烷洗淨後,進行風乾,藉此,獲得11.8 g正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之結晶。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物(下述化合物)。 [化5][實施例1]1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 對與合成例1相同之反應容器內充分地進行氮氣置換後,於該反應容器中,加入合成例3中獲得之正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷(0.149 g、0.17 mmol)及乙酸乙酯(3.9 g)、水(4.0 g)。又,稱取1,1'-二辛基-4,4'-聯吡啶鎓溴化物(0.089 g、0.17 mmol),添加至反應容器中。 於室溫下進而攪拌1小時。將反應液靜置而進行2層分離後,將下層之水層去除。進而,向有機層中添加水(5.0 g),攪拌洗淨後,進行靜置,將下層之水層去除,而獲得包含1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽之乙酸乙酯溶液。於該溶液中添加無水碳酸鎂並進行脫水乾燥。利用蒸發器將乙酸乙酯去除,藉此,獲得1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體(0.21 g)。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化6][合成例4]乙基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之製造 將溴化正丁烷變更為溴化乙烷,除此以外,藉由與合成例1相同之操作,獲取乙基溴化鎂。 將正丁基溴化鎂變更為上述反應中獲得之乙基溴化鎂,除此以外,藉由與合成例3相同之操作,獲得乙基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之結晶。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得乙基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物(下述化合物)。 [化7][合成例5]苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之製造 將溴化正丁烷變更為溴化苄烷,除此以外,藉由與合成例1相同之操作,獲取苄基溴化鎂。 將正丁基溴化鎂變更為上述反應中獲得之苄基溴化鎂,除此以外,藉由與合成例3相同之操作,獲得苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物之結晶。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物(下述化合物)。 [化8][實施例2]1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-乙基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 將正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物變更為乙基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,除此以外,藉由與實施例1相同之操作,獲得1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-乙基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-乙基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化9][實施例3]1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 將正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物變更為苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,除此以外,藉由與實施例1相同之操作,獲得1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化10][實施例4]4-苯基-1-正丙基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 將1,1'-二庚基-4,4'-聯吡啶鎓二溴化物變更為4-苯基-1-正丙基吡啶鎓溴化物,除此以外,藉由與實施例3相同之操作,獲得4-苯基-1-正丙基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得4-苯基-1-正丙基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化11][實施例5]4-苯甲醯基-1-苄基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 使用4-苯甲醯基-1-苄基吡啶鎓溴化物及苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,藉由與實施例1相同之操作,獲得4-苯甲醯基-1-苄基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得4-苯甲醯基-1-苄基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化12][實施例6]1-苄基喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 使用1-苄基喹啉鎓溴化物及苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,藉由與實施例1相同之操作,獲得1-苄基喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之黏稠性液體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得1-苄基喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化13][實施例7]2,4,6-三甲基吡喃鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 使用2,4,6-三甲基吡喃鎓溴化物及苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,藉由與實施例1相同之操作,獲得2,4,6-三甲基吡喃鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得2,4,6-三甲基吡喃鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化14][合成例6]五氟苯基溴化鎂之製造 與合成例1同樣地,於具備溫度計、滴液漏斗、攪拌機、氮氣導入管及回流冷卻器之反應容器內添加鎂(2.48 g、0.102 mol),充分地進行氮氣置換後,於該反應容器中,加入環戊基甲基醚(37.8 g)。 另外,於滴液漏斗中加入溴代五氟苯(21.0 g、0.085 mol)。於30℃以下,滴加大概2 g滴液漏斗內之溴代五氟苯,並攪拌一段時間,藉此,反應液之溫度上升,藉此,確認反應已開始。之後,於30℃以下滴加剩餘之溴代五氟苯,藉此,獲得五氟苯基溴化鎂之環戊基甲基醚溶液。 利用F-NMR確認到已獲得五氟苯基溴化鎂(下述化合物)。又,溴代五氟苯之轉化率為97%以上。 [化15][合成例7]三(五氟苯基)硼烷之製造 使用與合成例1相同之反應容器並對容器內充分地進行氮氣置換後,使合成例6中製備之五氟苯基溴化鎂之環戊基甲基醚溶液通過玻璃過濾器移送至該反應容器中,藉此,將未反應之鎂金屬除掉。於滴液漏斗中加入三氟化硼四氫呋喃錯合物(3.8 g、0.0272 mol)。繼而,於30℃以下,歷時30分鐘進行滴加後,於室溫下進而繼續進行2小時攪拌。藉此,獲得三(五氟苯基)硼烷之環戊基甲基醚溶液。 另外準備與合成例1相同之反應容器,於其中加入異十二烷(200 g)。將上述中獲得之三(五氟苯基)硼烷之環戊基甲基醚溶液加入至滴液漏斗中,設置於加入有異十二烷之反應容器。於減壓下,於70℃左右滴加三(五氟苯基)硼烷之環戊基甲基醚溶液,藉此,實施異十二烷與環戊基甲基醚之溶劑交換。於反應容器中析出作為副產物之鎂鹽,因此,藉由過濾將其除掉,而獲得三(五氟苯基)硼烷之異十二烷溶液。為了防止因液溫下降導致三(五氟苯基)硼烷析出,而添加二丁基醚(13.5 g)。 利用F-NMR確認到已獲得三(五氟苯基)硼烷(下述化合物)。 [化16][合成例8]正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液之製造 使用與合成例1相同之反應容器並對容器內充分地進行氮氣置換後,於該反應容器中,加入藉由與合成例1相同之操作獲取之包含溴化正丁烷鎂之二丁基醚溶液。又,於滴液漏斗中加入合成例7中獲得之包含三(五氟苯基)硼烷之異十二烷溶液。 繼而,於30℃以下,一面攪拌反應容器內之二丁基醚溶液,一面歷時1小時滴加滴液漏斗內之異十二烷溶液後,將反應液加熱至50℃並攪拌1時間,進而使溫度提高至70℃並攪拌2小時。藉此,獲得正丁基-三(五氟苯基)硼酸酯溴化鎂之反應液。添加過量之鹽酸水溶液並15分鐘攪拌後,將反應液靜置,抽出經2相分離之水層。繼而,於反應容器中殘留之有機層中添加使碳酸鈉(2.7 g、0.026 mol)溶解於水18.0 g中而成之水溶液並攪拌15分鐘後,將反應液靜置,抽出經2相分離之水層,作為正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉鹽之異十二烷溶液。 於該異十二烷溶液中添加水(160 g),於減壓下,將有機溶劑與水一起蒸餾去除,藉此,獲得正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉鹽之水溶液(84.0 g、硼酸鹽固形物成分為14.7質量%)。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液。 [化17][合成例9]苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液之製造 將溴化正丁烷變更為溴化苄烷,除此以外,藉由與合成例1相同之操作,獲取苄基溴化鎂。 將正丁基溴化鎂變更為上述反應中獲得之苄基溴化鎂,除此以外,藉由與合成例8相同之操作,獲得苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉鹽之水溶液。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液。 [化18][實施例8]4-苯基-1-正丁基吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 於具備攪拌子之梨型燒瓶中加入4-苯基-1-正丁基吡啶鎓溴化物(0.125 g、0.42 mmol),並添加水(0.56 g)製成水溶液。一面於0℃下進行攪拌一面滴加合成例8中獲得之正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液(1.70 g、硼酸鹽固形物成分為14.7質量%)。 保持原樣繼續攪拌1小時,進而升溫至50℃並攪拌1小時。於滴加中析出有白色之固體。對固體進行過濾,利用少量之水洗淨後,進行乾燥,藉此,獲得4-苯基-1-正丁基吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽之白色固體(0.31 g)。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得4-苯基-1-正丁基吡啶鎓-正丁基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化19][實施例9]4-苯基-1-正丁基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 將正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液變更為苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液,除此以外,藉由與實施例8相同之操作,獲得4-苯基-1-正丙基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得4-苯基-1-正丙基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化20][實施例10]1-乙基喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 將正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液變更為苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液,將4-苯基-1-正丁基吡啶鎓溴化物變更為1-乙基喹啉鎓溴化物,除此以外,藉由與實施例8相同之操作,獲得1-乙基喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得1-乙基喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化21][實施例11]2-苄基異喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 將正丁基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液變更為苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉水溶液,將4-苯基-1-正丁基吡啶鎓溴化物變更為2-苄基異喹啉鎓溴化物,除此以外,藉由與實施例8相同之操作,獲得2-苄基異喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之固體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得2-苄基異喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化22][比較例1]四苯基鏻-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 使用四苯基鏻溴化物及苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,藉由與實施例1相同之操作,獲得四苯基鏻-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之黏稠性液體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得四苯基鏻-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化23][比較例2]四正丁基銨-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 使用四正丁基銨溴化物及苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,藉由與實施例1相同之操作,獲得四正丁基銨-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之黏稠性液體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得四正丁基銨-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化24][比較例3]1-正丁基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之製造 使用1-正丁基吡啶鎓溴化物及苄基-三(五氟苯基)硼酸鈉/二甲氧基乙烷錯合物,藉由與實施例4相同之操作,獲得1-正丁基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之黏稠性液體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得1-正丁基吡啶鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化25][確認有無產生路易士酸] 使用實施例及比較例中獲得之化合物進行有無產生路易士酸之確認試驗。 即,使實施例及比較例中獲得之化合物1質量份溶解於碳酸丙二酯1質量份中。針對所獲得之溶液(15 mg),於25℃下,使用高壓水銀燈照射UV光5分鐘(365 nm波長之照射強度,50 mW/cm2 )。 藉由對光照射後之溶液進行F-NMR分析,確認到作為路易士酸之三(五氟苯基)硼烷之生成。 [聚合性評價實驗] 使用實施例及比較例中獲得之化合物進行聚合試驗。 即,使實施例及比較例中獲得之化合物1質量份溶解於碳酸丙二酯1質量份中。將該混合溶液1質量份與聚合性化合物[脂環式環氧樹脂(Celloxide2021P,Daicel公司製造)或芳香族環氧樹脂(雙酚A二縮水甘油醚,東京化成工業公司製造)]99質量份進行混合。 再者,分別地,對實施例1~7及比較例1~3中獲得之化合物使用脂環式環氧樹脂,對實施例8~11中獲得之化合物使用脂環式環氧樹脂及芳香族環氧樹脂之兩者。 針對所獲得之溶液(5 mg),於25℃(未加熱)、50℃或80℃下,使用高壓水銀燈照射UV光5分鐘(365 nm波長之照射強度,20 mW/cm2 ),利用Photo-DSC測定此時之聚合發熱量。針對聚合發熱量之峰值,利用直線將光照射之起點與終點連結,將所獲得之面積作為發熱量。 再者,針對實施例1~7及比較例1~3中獲得之化合物,僅於50℃下進行照射。 [陽離子部之HOMO-LUMO Gap之計算方法] 使用美國Gaussian公司製造之分子軌道計算用軟體即Gaussian09計算實施例及比較例中獲得之化合物之HOMO、LUMO能量。 計算方法係選擇密度泛函數法B3LYP,基底函數係使用6-311G(d,p)。進行作為對象之分子結構之結構最佳化,計算結構最佳化完成後之HOMO、LUMO之能量等級(eV單位換算值)。 將結果與化合物之結構一起表示於表1、表2、表3及表4。 [表1] [表2] [表3] [表4] 根據上述表之結果可知,於實施例之化合物中,藉由光產生有路易士酸。而且,藉由使用實施例之化合物,而使聚合良好地進行。 [單液穩定性評價試驗] 使用實施例中獲得之化合物及作為比較具代表性之光酸產生劑即異丙苯-4-基(對甲苯基)碘-四(五氟苯基)硼酸鹽(以下,設為碘硼酸鹽),進行單液穩定性評價試驗。 使實施例8中獲得之化合物、實施例9中獲得之化合物或碘硼酸鹽1質量份溶解於碳酸丙二酯1質量份中,而獲得混合溶液。 將該混合溶液1質量份與脂環式環氧樹脂(Celloxide2021P,Daicel公司製造)99份進行混合,進行密閉並於遮蔽下於40℃下進行保管。 藉由黏度測定對單液穩定性進行評價。以初始黏度(經過天數為0天)為基準(增黏倍數1),與經過一定天數時之黏度進行比較,將所得之值設為增黏倍數(測定時之黏度/初始黏度)。 將結果表示於以下之表。 [表5] 根據上述表之結果可知,實施例8及9中獲得之化合物之單液穩定性較大,樹脂組合物之黏度增加得到抑制。 如此,可知,實施例中獲得之化合物之遮蔽下之路易士酸之產生得到高度抑制,而具有優異之穩定性。 (實施例12) 於實施例6中,使用喹啉鎓溴化物代替1-苄基喹啉鎓溴化物,除此以外,以與實施例6相同之方式,獲得喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽之黏稠性液體。 利用H-NMR、F-NMR確認到已獲得喹啉鎓-苄基-三(五氟苯基)硼酸鹽(下述化合物)。 [化26]針對所獲得之化合物,藉由與上述相同之方法,確認有無產生路易士酸,結果,確認產生有路易士酸。 又,針對所獲得之化合物,藉由與上述相同之方法,計算陽離子部之HOMO-LUMO Gap,結果為4.287 eV。 [產業上之可利用性] 根據本發明之化合物,能夠藉由光產生路易士酸。因此,本發明之化合物可應用於利用路易士酸之各種用途,例如,聚合起始劑、抗蝕劑等。

Claims (13)

  1. 一種化合物,其具有以硼為中心原子且具有包含至少1個鹵素原子之芳基之陰離子部及陽離子部,能夠藉由光照射自陰離子部產生路易士酸。
  2. 如請求項1之化合物,其中陰離子部由下述式(1)表示, [化1](式中,Ar1 、Ar2 及Ar3 係相同或不同之可具有取代基之芳基,R1 表示取代基)。
  3. 如請求項2之化合物,其中於式(1)中,Ar1 、Ar2 及Ar3 之至少1者為具有至少1個鹵素原子之芳基,R1 為可具有取代基之烴基或羥基。
  4. 如請求項1至3中任一項之化合物,其中陽離子部包含HOMO-LUMO間之能隙為5.3 eV以下之陽離子。
  5. 如請求項1至4中任一項之化合物,其中陽離子部相對於路易士酸為非反應性。
  6. 如請求項1至5中任一項之化合物,其中陽離子部不會藉由光產生質子酸。
  7. 如請求項1至6中任一項之化合物,其中陽離子部係以選自氮、氧及磷之雜原子為中心原子之陽離子。
  8. 如請求項1至7中任一項之化合物,其中光之波長為240 nm以上。
  9. 一種光聚合起始劑,其包含如請求項1至8中任一項之化合物。
  10. 一種組合物,其包含如請求項1至9中任一項之化合物或藥劑。
  11. 一種製造方法,其係進而對包含能夠藉由路易士酸聚合之聚合性化合物之如請求項10之組合物進行光照射而製造聚合性化合物之聚合體。
  12. 如請求項11之製造方法,其中於加熱下製造。
  13. 一種保存方法,其係於遮蔽下保存如請求項10之組合物。
TW106142875A 2016-12-08 2017-12-07 光路易士酸產生劑 TW201835093A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016238916 2016-12-08
JP2016-238916 2016-12-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201835093A true TW201835093A (zh) 2018-10-01

Family

ID=62491936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106142875A TW201835093A (zh) 2016-12-08 2017-12-07 光路易士酸產生劑

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20200062783A1 (zh)
JP (1) JPWO2018105537A1 (zh)
KR (1) KR20190092514A (zh)
CN (1) CN110049989A (zh)
TW (1) TW201835093A (zh)
WO (1) WO2018105537A1 (zh)

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY132867A (en) * 1995-11-24 2007-10-31 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc Acid-stable borates for photopolymerization
JPH09183960A (ja) * 1995-12-28 1997-07-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物および硬化性組成物
JP3873310B2 (ja) * 1996-01-22 2007-01-24 東洋インキ製造株式会社 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、硬化性組成物およびその硬化物
JPH09241614A (ja) * 1996-03-04 1997-09-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物、硬化性組成物およびその硬化物
JPH101508A (ja) * 1996-06-17 1998-01-06 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感活性線酸発生剤組成物、感応性組成物および画像記録用組成物
WO2000010964A1 (de) * 1998-08-21 2000-03-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoaktivierbare stickstoffhaltige basen
JP2000319283A (ja) * 1999-03-08 2000-11-21 Fuji Photo Film Co Ltd ボレート化合物、それを含む光重合性組成物及び記録材料
JP2001183821A (ja) 1999-12-27 2001-07-06 Nippon Shokubai Co Ltd 化学増幅型レジスト用光酸発生剤
KR101128206B1 (ko) * 2003-05-12 2012-03-23 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 고분자 발광체 조성물
JP2009019145A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Toyo Ink Mfg Co Ltd 帯電防止剤およびその用途
JP5433933B2 (ja) * 2007-07-18 2014-03-05 東洋インキScホールディングス株式会社 帯電防止剤およびその用途
KR101602756B1 (ko) * 2007-11-01 2016-03-11 가부시키가이샤 아데카 염 화합물, 양이온 중합 개시제 및 양이온 중합성 조성물
JP2010171373A (ja) * 2008-12-25 2010-08-05 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2013142956A1 (en) * 2012-03-28 2013-10-03 Uti Limited Partnership Methods and compounds for photo lewis acid generation and uses thereof
US20160009737A1 (en) * 2013-03-28 2016-01-14 San-Apro Ltd. Photobase generator
JP2014205624A (ja) * 2013-04-11 2014-10-30 サンアプロ株式会社 オニウムボレート塩系酸発生剤
JP2014214129A (ja) 2013-04-26 2014-11-17 サンアプロ株式会社 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体
WO2015055576A1 (de) * 2013-10-17 2015-04-23 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung zur herstellung holographischer medien mit boraten mit niedriger tg
ES2709023T3 (es) * 2014-01-24 2019-04-12 Fujifilm Wako Pure Chemical Corp Generador de bases basado en borato, y composición reactiva frente a bases que comprende dicho generador de bases

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190092514A (ko) 2019-08-07
CN110049989A (zh) 2019-07-23
JPWO2018105537A1 (ja) 2019-10-31
US20200062783A1 (en) 2020-02-27
WO2018105537A1 (ja) 2018-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2927216B1 (en) Novel sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, cationic polymerization initiator, resist composition, and cationically polymerizable composition
TWI660938B (zh) 光酸產生劑
KR101222214B1 (ko) 신규한 술포늄 보레이트 착체
JP6924754B2 (ja) スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物、及びその硬化体
JP6902031B2 (ja) スルホニウム塩、熱又は光酸発生剤、熱又は光硬化性組成物及びその硬化体
TW202003460A (zh) 鋶鹽、光酸產生劑、能量線硬化性組成物、硬化體、化學增幅型正型光阻組成物、抗蝕劑圖案之製作方法及化學增幅型負型光阻組成物
JP2015163672A (ja) 組成物
TW201835093A (zh) 光路易士酸產生劑
EP3498691B1 (en) Novel cationic photoinitiator, and preparation method therefor and applications thereof
JP7126344B2 (ja) 硬化性組成物及びそれを用いた光学素子
JP2014201555A (ja) スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物
JP6963468B2 (ja) 熱酸発生剤及び硬化性組成物
JP3565516B2 (ja) 新規オニウム塩化合物および重合開始剤
TW201942113A (zh) 自由基聚合起始劑、含有其之組成物、其硬化物、其製造方法,及化合物
JP2021128259A (ja) 感光性組成物
JP6865606B2 (ja) 熱潜在性重合開始剤
JPWO2016132413A1 (ja) スルホニウムボレート塩、酸発生剤及び硬化性組成物
JP7177281B2 (ja) 酸発生剤、およびこれを含む硬化性組成物
TWI640511B (zh) Sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, photoresist composition, cationic polymerization initiator, and cationic polymerizable composition
JPH03149216A (ja) 光硬化材料
TW202012547A (zh) 化合物及其製造方法
JP2015168617A (ja) 芳香族スルホニウム塩化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物