TW201827890A - 顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之顯示裝置1具備：光源部2，其輸出雷射光L；導光光學系統3，其構成雷射光L之複數條光路；光路切換元件4，其將雷射光L之光路切換成複數條光路中任一者；光學構件5，其在複數條光路之後段側構成單一光路；及投影用反射鏡6，其掃描通過單一光路之雷射光L並形成投影至螢幕S之投影用圖像G；且複數條光路包含使雷射光L之亮度互不相同之低亮度用光路M1及高亮度用光路M2；光路切換元件4配置於光源部2與投影用反射鏡6之間之光路上；且前述顯示裝置具有控制部8，該控制部8利用光源部2之雷射光L之輸出之控制、及光路切換元件4對雷射光L之光路之切換之控制而控制投影用圖像G之亮度。

Description

顯示裝置

本形態係關於一種顯示裝置。

近年來，業界不斷開發例如將投影用圖像投影至配置於使用者之視野前方之顯示器，並使其與背景重合而顯示的抬頭顯示器或頭戴顯示器此類之顯示裝置。在如上述之顯示裝置中，基於確保良好的視認性之觀點，必須相應於周圍之狀況(尤其是亮度)調整投影用圖像之亮度。因而，作為顯示裝置乃被要求充分地具有投影用圖像之調光比(亮度之灰階性)。 例如專利文獻1所記載之抬頭顯示器裝置具有：第1雷射光源，其輸出相對地成為高亮度之第1雷射光；及第2雷射光源，其輸出相對地成為低亮度之第2雷射光。在該先前之抬頭顯示器裝置中，藉由相應於周圍之狀況切換第1光源與第2光源，而謀求確保投影用圖像之調光比。 又，例如在專利文獻2所記載之抬頭顯示器裝置中，在光源之後段側設置有濾光器等之光衰減機構。而且，藉由利用致動器等之驅動機構使光衰減機構相對於雷射光之光路進退，而謀求確保投影用圖像之調光比。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2016-25430號公報 [專利文獻2]日本特表2015-525899號公報

[發明所欲解決之問題] 一般而言，雷射光源係難以維持低輸出且穩定之動作之裝置。雖然在先前之抬頭顯示器中利用雷射光源之輸出控制進行了亮度調整，但在僅憑藉雷射光源之輸出控制之亮度調整中有難以實現低輸出且穩定之動作之問題。因而，低亮度之投影用圖像之顯示有其界限，難以實現充分之調光比。又，在如上述之專利文獻1般切換不同之2個雷射光源之構成中，還有導致裝置之大型化及伴隨其之成本增加之虞。在如專利文獻2般使光衰減機構相對於雷射之光路進退之構成中亦會考量到裝置之大型化。 本形態係為了解決上述課題而完成者，目的在於提供一種能夠在不會使裝置大型化下提高投影用圖像之調光比的顯示裝置。 [解決問題之技術手段] 本形態之顯示裝置具備：光源部，其輸出雷射光；導光光學系統，其構成複數條光路；光路切換元件，其將前述雷射光之光路切換成前述複數條光路中任一者；光學構件，其在複數條光路之後段側構成單一之光路；及投影用反射鏡，其掃描通過單一之光路之雷射光並形成投影至螢幕之投影用圖像；且複數條光路包含使雷射光之亮度互不相同之低亮度用光路及高亮度用光路；光路切換元件配置於光源部與投影用反射鏡之間之光路上；且前述顯示裝置具有控制部，該控制部利用光源部之雷射光之輸出之控制、及光路切換元件對雷射光之光路之切換之控制而控制投影用圖像之亮度。 在該顯示裝置中，利用光源部之雷射光之輸出之控制、及光路切換元件對雷射光之光路之切換之控制而控制投影用圖像之亮度。利用如上述之控制，能夠充分地提高投影用圖像之調光比。又，在該顯示裝置中，切換低亮度用光路及高亮度用光路之光路切換元件配置於光源部與投影用反射鏡之間之光路上。藉由在投影用反射鏡之前段配置光路切換元件，而能夠在雷射光被投影用反射鏡掃描而擴展前進行光路切換之亮度控制。藉此，與分別設置亮度不同之光源之構成、或使光衰減機構相對於雷射光之光路進退之構成相比，能夠避免裝置之大型化。 又，可行的是，在複數條光路中，至少低亮度用光路包含複數個亮度衰減元件。在該情形下，只要能夠利用複數個亮度衰減元件確保雷射光之所期望之衰減量即可。因而，無須相對於一個亮度衰減元件負擔過量之衰減特性，即能夠確保亮度之衰減之穩定性。 又，相對於螢幕使雷射光集光之集光透鏡可配置於輸出雷射光之光源與投影用反射鏡之間。藉此，能夠在螢幕中顯示高解析度之投影用圖像。 又，光源部可具有輸出波長互不相同之雷射光之複數個光源。在該情形下，能夠利用例如與RGB之各者對應之雷射光形成投影用圖像。 又，可具有將自複數個光源輸出之雷射光合波之合波光學系統。藉此，即便在使用複數個光源之情形下，仍將各自之雷射光之光路共通化，而可謀求裝置之小型化。 又，可在光路切換元件與投影用反射鏡之間配置光圈。在產生光路切換元件之角度偏移之情形下，可考慮到的是在較光路切換元件更靠後段側產生雷射光之光軸偏移。若在產生光軸偏移之狀態下雷射光入射至投影用反射鏡，則有產生雜散光之虞。因而，藉由在光路切換元件與投影用反射鏡之間配置光圈，而能夠利用該光圈將光軸偏移之部分之雷射光之成分截止，而能夠抑制雜散光之產生。 又，可在光學構件與投影用反射鏡之間配置光圈。於在光學構件中因折射產生雷射光之光軸偏移之情形下，若在產生光軸偏移之狀態下雷射光入射至投影用反射鏡，則有產生雜散光之虞。因而，藉由在光學構件與投影用反射鏡之間配置光圈，而能夠利用該光圈將光軸偏移之成分截止，而能夠抑制雜散光之產生。如上述之構成在光學構件相對於雷射光之光軸傾斜地配置之情形下尤其有用。 又，可在較光學構件更靠後段側配置檢測雷射光之受光元件。藉由利用受光元件監視雷射光之光軸位置，而能夠進一步確實地抑制雜散光之發生。又，藉由利用受光元件監視雷射光之光量，而能夠穩定地實施投影用圖像之亮度之控制。 又，受光元件可檢測至少通過低亮度用光路之雷射光。在低亮度用光路中，由於與高亮度用光路相比雷射光之衰減量為大，故利用受光元件監視雷射光之光量此舉尤其有用。 [發明之效果] 在該顯示裝置中，能夠在不會使裝置大型化下提高投影用圖像之調光比。

以下，一面參照圖式一面針對本發明之一態樣之顯示裝置之較佳之實施形態詳細地說明。 圖1係顯示顯示裝置之一實施形態之概略構成圖。該顯示裝置1係藉由將雷射光L掃描至螢幕S上而形成投影用圖像G的掃描型投影顯示裝置。上述之顯示裝置1可應用於例如車載用抬頭顯示器。螢幕S包含例如擴散板。藉由將由特定之投影用信號調變之雷射光L投影至擴散板而形成投影用圖像G。藉由將投影用圖像G放映在車輛之擋風玻璃，而使用者能夠將投影至擋風玻璃之像與背景重合而視認。 顯示裝置1係如圖1所示般包含：光源部2，其輸出雷射光L；導光光學系統3，其構成雷射光L之複數條光路；光路切換元件4，其將雷射光L之光路切換成複數條光路中任一者；光學構件5，其在複數條光路之後段側形成單一光路；投影用反射鏡6，其掃描雷射光L並形成投影用圖像G；受光元件7，其檢測雷射光L；及控制部8，其控制該顯示裝置1之驅動。 該等構成要件設置於例如配置於殼體11內之基板(未圖示)上。殼體11由例如鋁(例如ADC12等之鋁壓鑄)形成，具有相對於雷射光L及干擾光之遮光性。在殼體11之一面側設置有使由投影用反射鏡6掃描之雷射光L朝向螢幕S輸出的窗材12。窗材12包含例如BK7等之光學玻璃。較佳的是，在窗材12設置使雷射光L透過且將干擾光截止之薄膜等。 光源部2具有出射與RGB之各色之波長對應之雷射光L之複數個光源13(13A(紅色)，13B(綠色)，13C(藍色))之單元。作為光源13可使用例如LD(雷射二極體)、VCSEL(垂直共振器面發光雷射)、SLD(超冷光二極體)、及LED(發光二極體)等。光源13之驅動係基於來自控制部8之控制信號而被控制。 在光源部2中，與各光源13A至13C對應地分別配置有集光透鏡14(14A至14C)。又，在集光透鏡14A至14C之後段側分別配置有二向分色鏡15(15A至15C)。集光透鏡14係例如凸透鏡，且係相對於螢幕S使雷射光L集光之元件。雖然在本實施形態中在各光源13A至13C之附近配置有集光透鏡14A至14C，但集光透鏡14只要在光源13與投影用反射鏡6之間之光路上即可，可配置於任意之位置。 二向分色鏡15A至15C構成將自光源13A至13C輸出之雷射光L合波之合波光學系統16。自光源13A至13C輸出之雷射光L經由集光透鏡14A至14C利用二向分色鏡15A至15C成為同軸，並被導光至光路切換元件4。 導光光學系統3在本實施形態中係構成使雷射光L之亮度互不相同之低亮度用光路M1及高亮度用光路M2之2條光路的光學系統。低亮度用光路M1包含：光路切換元件4、及反射鏡(亮度衰減元件)21A、21B。另一方面，高亮度用光路M2包含：光路切換元件4、及1個反射鏡21B。光路切換元件4係配置於光源部2與投影用反射鏡6之間之光路上之元件。作為光路切換元件4可使用例如MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統)鏡、及多面鏡等。光路切換元件4基於來自控制部8之控制信號驅動，將來自光源部2之雷射光L導光至低亮度用光路M1及高亮度用光路M2中任一者。 反射鏡21A、21B任一者均係使雷射光L之一部分反射且使大部分透過的局部反射鏡。在利用光路切換元件4將雷射光L導光至低亮度用光路M1之情形下，雷射光L因在反射鏡21A及反射鏡21B分別反射而大幅度衰減。在利用光路切換元件4將雷射光L導光至高亮度用光路M2之情形下，雷射光L在基本不被衰減下透過反射鏡21B。此外，針對通過低亮度用光路M1之雷射光L中之透過反射鏡21B之成分，係利用殼體11之壁部將其截止。 較佳的是，反射鏡21B之衰減率為50%以上，低亮度用光路M1之反射鏡21B之前段之亮度衰減元件(此處為反射鏡21A)之衰減率為50%以上。在配置有複數個反射鏡21B之前段之亮度衰減元件之情形下，可利用複數個亮度衰減元件實現50%以上之衰減率。 光學構件5在本實施形態中包含上述反射鏡21B。由該反射鏡21B在低亮度用光路M1及高亮度用光路M2之後段側構成相對於雷射光L之單一光路。亦即，針對通過低亮度用光路M1及高亮度用光路M2中任一條光路之雷射光L亦然，在較反射鏡21B更後段側光軸一致而成為同一光路。又，在反射鏡21B之後段側，作為將雷射光L之光路彎曲之反射部配置有局部透過反射鏡23。局部透過反射鏡23係使雷射光L之一部分透過且使大部分反射之元件。在局部透過反射鏡23反射之雷射光L被導光至投影用反射鏡6。雖然局部透過反射鏡23藉由以特定之角度將來自反射鏡21B之雷射光L之光路彎曲而有助於裝置之小型化，但可省略局部透過反射鏡23之配置。 又，在光學構件5與投影用反射鏡6之間之光路上配置有與雷射光L之光束直徑對應之光圈22。在本實施形態中，光圈22配置於局部透過反射鏡23與投影用反射鏡6之間。假設於來自光學構件5之雷射光L產生光軸偏移之情形下，利用光圈22可將光軸偏移之部分之雷射光L之成分截止。此外，光圈22只要配置於光路切換元件4與投影用反射鏡6之間即可。光圈22可配置於反射鏡21B與局部透過反射鏡23之間，亦可配置於低亮度用光路M1及高亮度用光路M2之各者。 投影用反射鏡6係掃描通過單一光路之雷射光L並形成投影至螢幕S之投影用圖像G的元件。作為投影用反射鏡6可使用例如MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統)鏡、及多面鏡等。投影用反射鏡6基於來自控制部8之控制信號以特定之頻率擺動。藉由投影用反射鏡6擺動，而將通過窗材12輸出至殼體11之外部之雷射光L掃描至螢幕S上，並在螢幕S形成投影用圖像G。 受光元件7係監視雷射光L之光軸及光量之元件。作為受光元件7可使用例如PIN光電二極體。受光元件7配置於較光學構件5更靠後段側，針對至少通過低亮度用光路M1之雷射光L，檢測透過局部透過反射鏡23之成分。受光元件7產生表示雷射光L之檢測結果之資訊，並將其輸出至控制部8。 尤其是，在低亮度時之雷射光L之檢測中，基於避免包含干擾光之無用光之影響之觀點，較佳的是，在受光元件7之前段設置帶通濾波器等。又，也可設置分別檢測RGB各者之雷射光L之複數個受光元件7。在該情形下，只要將RGB中任一者預先設定為基準色，在調整基準色之雷射光L之輸出後，配合該輸出調整其他色之雷射光L之輸出即可。在以受光元件7檢測雷射光L之光量時，可在受光元件7之電路上將信號倍增，並將該倍增值作為檢測結果。 控制部8係物理上構成為具備以下部分之電腦，即：RAM、ROM等之記憶體、及CPU等之處理器(運算電路)、通訊介面、硬碟等之儲存部、以及顯示器等之顯示部。作為上述之電腦可例舉例如個人電腦、雲端伺服器、智慧型裝置(智慧型手機、及平板型終端等)等。電腦藉由以CPU執行儲存於記憶體之程式而執行下述之功能性處理。 控制部8係功能性地控制光源13、光路切換元件4、及投影用反射鏡6之驅動之部分。控制部8自例如裝置外部之亮度感測器等接收關於車外之亮度之檢測資訊。然後，控制部8基於該檢測資訊，組合光源部2之雷射光L之輸出之控制與光路切換元件4對雷射光L之光路之切換之控制並控制投影用圖像G之亮度，而確保投影用圖像G之視認性。亦即，控制部8藉由進行雷射光L之輸出之控制，且使雷射光L在低亮度用光路M1及高亮度用光路M2之一者通過，而使投影用圖像G之亮度變化。控制部8在例如車外亮之情形下，藉由將雷射光L之光路切換成高亮度用光路M2，而提高投影用圖像G之亮度。又，控制部8在例如車外暗且在高亮度用光路M2下未充分地獲得投影用圖像G之亮度之降低之情形下，藉由將雷射光L之光路切換成低亮度用光路M1，而充分地降低投影用圖像G之亮度。 如以上所說明般，在顯示裝置1中，利用光源部2之雷射光L之輸出之控制、及光路切換元件4對雷射光L之光路之切換之控制而控制投影用圖像G之亮度。利用如上述之控制能夠充分地提高投影用圖像G之調光比。在本實施形態中，在複數條光路中，至少低亮度用光路M1包含複數個反射鏡(亮度衰減元件)21A、21B。在該情形下，只要能夠利用複數個亮度衰減元件確保雷射光L之所期望之衰減量即可。因而，無須相對於一個亮度衰減元件負擔過量之衰減特性，能夠確保亮度之衰減之穩定性。 雖然在以1個反射鏡構成低亮度用光路M1之情形下，必須使1個反射鏡負擔高衰減特性，但在製造上難以穩定地製造衰減率99%以上(透過率99%以上或反射率1%以下)之反射鏡。又，在使用1個透過率99%以下之反射鏡構成低亮度用光路M1之情形下，若假設將雷射光L之強度控制在1 mW～100 mW內，則即便最大也是成為9900：1之調光比。相對於此，在以複數個反射鏡進行衰減之情形下，無須負擔過量之衰減特性之反射鏡，而以具有能夠穩定地製造之衰減率之反射鏡即能夠獲得10000：1以上之調光比。又，在以複數個反射鏡進行衰減之情形下，即便在各反射鏡之衰減率上產生製造誤差，與所期望之亮度值之偏差仍小。因而，能夠減輕製造上之負擔。 假設例如將自光源13A(紅色)輸出之雷射光L之強度控制在2 mW～200 mW之範圍內，將自光源13B(綠色)及光源13C(藍色)輸出之雷射光L之強度控制在1 mW～100 mW內之情形。在該情形下，若將相對於RGB之各者之雷射光L之反射鏡21A反射率設為4.0%，將反射鏡21B之反射率設為20.0%，將反射鏡21B之透過率設為80.0%，則獲得大致10000：1之調光比。又，藉由變更反射鏡21A及反射鏡21B之特性，還能夠調換低亮度用光路M1及高亮度用光路M2。在該情形下，若例如將反射鏡21A之反射率設為100.0%，將反射鏡21B之反射率設為99.0%，將反射鏡21B之透過率設為1.0%，則獲得大致9900：1之調光比。 又，在該顯示裝置1中，切換低亮度用光路M1及高亮度用光路M2之光路切換元件4配置於光源部2與投影用反射鏡6之間之光路上。藉由在投影用反射鏡6之前段配置光路切換元件4，而能夠在雷射光L被投影用反射鏡6掃描而擴展前進行利用光路切換之亮度控制。藉此，與分別設置亮度不同之光源之構成、或使光衰減機構相對於雷射光之光路進退之構成相比，能夠避免裝置之大型化。根據該構成還能夠抑制低亮度用光路M1及高亮度用光路M2所導致之光路長度之增大。藉由抑制光路長度之增大，而能夠抑制用於使雷射光L在螢幕S上集光之集光透鏡14之尺寸。 又，在顯示裝置1中，相對於螢幕S使雷射光L集光之集光透鏡14配置於光源13與投影用反射鏡6之間。藉此，可使雷射光L在螢幕S之位置集光，而能夠顯示高解析度之投影用圖像G。 又，在顯示裝置1中，光源部2具有輸出波長互不相同之雷射光L之複數個光源13A至13C。藉此，能夠利用例如與RGB之各者對應之雷射光L形成投影用圖像G。再者，在顯示裝置1中設置有將自複數個光源13A至13C輸出之雷射光L合波之合波光學系統16。藉此，即便在使用複數個光源13A至13C之情形下各條雷射光L之光路仍然共通化，而可謀求裝置之小型化。 又，在顯示裝置1中，在光路切換元件4與投影用反射鏡6之間配置有光圈22。在產生光路切換元件4之角度偏移之情形下，可考慮到的是在較光路切換元件4更靠後段側產生雷射光L之光軸偏移。若在產生光軸偏移之狀態下雷射光L入射至投影用反射鏡6，則有產生雜散光之虞。因而，藉由在光路切換元件4與投影用反射鏡6之間配置光圈22，而能夠利用該光圈22將光軸偏移之部分之雷射光L之成分截止，而能夠抑制雜散光之產生。 在本實施形態中，在光學構件5(反射鏡21B)與投影用反射鏡6之間配置有光圈22。於在光學構件5中因折射產生雷射光L之光軸偏移之情形下，若在產生光軸偏移之狀態下雷射光L入射至投影用反射鏡6，則有產生雜散光之虞。因而，藉由在光學構件5與投影用反射鏡6之間配置光圈22，而能夠利用該光圈22將光軸偏移之成分截止，而能夠抑制雜散光之產生。且，能夠防止由因光軸之偏移產生之色移引起之投影用圖像G之畫質之劣化。如上述之構成在光學構件5相對於雷射光L之光軸傾斜地配置之情形下尤其有用。 又，在顯示裝置1中，檢測至少通過低亮度用光路之雷射光L之受光元件7配置於較光學構件5更靠後段側。藉由利用受光元件7監視雷射光L之光軸位置，而能夠進一步確實地抑制雜散光之發生。又，藉由利用受光元件7監視雷射光L之光量，而能夠穩定地實施投影用圖像G之亮度之控制。尤其是，在低亮度用光路M1中，由於與高亮度用光路M2相比雷射光之衰減量為大，故利用受光元件7監視雷射光L之光量此舉有用。此外，受光元件7可僅檢測雷射光L之光量及光軸位置中任一者。 本發明並不限定於上述實施形態。例如，雖然在上述實施形態中使用反射鏡21A、21B構成低亮度用光路M1，使用反射鏡21B構成高亮度用光路M2，但構成低亮度用光路M1及高亮度用光路M2之亮度衰減元件之配置數目可設定為任意。例如，如圖2所示，可在高亮度用光路M2進而配置局部反射鏡21C。該局部反射鏡21C可配置於反射鏡21B與局部透過反射鏡23之間。根據如上述之構成，由於利用複數個反射鏡進行雷射光L之亮度之衰減，故即便在衰減率上有製造誤差，仍能夠減小與所期望之亮度值之偏差。此外，在圖2之例中，替代局部反射鏡21C，可將例如如衰減濾光器般吸收雷射光L之能量之一部分之元件作為亮度衰減元件配置。 又，例如可如圖3所示般在低亮度用光路M1進而配置局部反射鏡21D、21E，使雷射光L進一步階段性地衰減。根據如上述之構成，藉由在低亮度用光路M1中在反射鏡21B之前段設置2個以上之亮度衰減機構，而能夠減小各亮度衰減元件之衰減率。因而，能夠減輕各亮度衰減元件之製造上之負擔。又，藉由減小各亮度衰減元件之衰減率，而即便在衰減率上有製造誤差仍能夠減小與所期望之亮度值之偏差。 又，可在顯示裝置1中進而設置修正低亮度用光路M1與高亮度用光路M2之間之光路長度差之構成。在該情形下，例如可如圖4所示般在高亮度用光路M2配置光路修正用元件31，並可如圖5所示般在高亮度用光路M2配置形成延遲電路之反射鏡21F、21G。作為光路修正用元件31例如可例舉例如BK7等之光學玻璃。根據該等構成，由於可修正低亮度用光路M1與高亮度用光路M2之間之光路長度差，使低亮度顯示與高亮度顯示之焦點對焦，而能夠防止投影用圖像G之圖像劣化。 又，可在顯示裝置1中進而設置抑制因反射鏡21B所致之雷射光L之光軸偏移之構成。在該情形下，例如可如圖6所示般替代反射鏡21B，以來自低亮度用光路M1之雷射光L及來自高亮度用光路M2之雷射光L垂直地入射之方式將稜鏡32作為光學構件5配置。根據如上述之構成，由於藉由雷射光L垂直地入射至稜鏡32而不產生因折射所致之光軸偏移，故能夠防止因光軸偏移所致之雜散光或色移。此外，可使稜鏡32作為亮度衰減元件發揮功能。例如，稜鏡32可為使通過低亮度用光路M1之雷射光L衰減50%以上之稜鏡。 又，例如可如圖7所示般在高亮度用光路M2配置將在反射鏡21B之雷射光L之光軸偏移抵消之反射鏡21H。根據如上述之構成，可利用反射鏡21H之配置將在反射鏡21B之雷射光L之折射之影響抵消，而能夠實現光軸偏移之修正。 又，針對投影用反射鏡6與受光元件7之位置關係亦可變更。在圖8所示之例中，替代圖1等之局部透過反射鏡23，可使用例如使雷射光L之一部分反射且使大部分透過之局部反射鏡25。在該例中，相對於圖1所示之形態，成為投影用反射鏡6及光圈22與受光元件7之位置關係反轉之構成。根據如上述之構成，由於藉由投影用反射鏡6與受光元件7之位置關係反轉而距螢幕S之光路長度變短，故能夠抑制集光透鏡14之尺寸。 又，雖然在上述實施形態中僅在較光學構件5更靠後段側配置有受光元件7，但在因調光比之提高而對受光元件7要求寬廣之光量檢測範圍之情形下，也可配置光量檢測範圍不同之複數個受光元件7。在該情形下，可行的是，例如利用配置於較光學構件5更靠後段側之受光元件7來檢測通過低亮度用光路M1之雷射光L之光量，並利用配置於光源13側之受光元件檢測通過高亮度用光路M2之雷射光L之光量。根據如上述之構成，由於藉由相對於通過低亮度用光路M1之雷射光L及通過高亮度用光路之雷射光L分別設置受光元件而可檢測光量之範圍擴寬，故即便調光比提高仍可進行光量檢測。 此外，雖然在上述實施形態中例示了應用於車載用抬頭顯示器之顯示裝置1，但顯示裝置1亦可應用於抬頭顯示器以外之用途。在該情形下，控制部8不僅根據車外之亮度，只要根據包含車外之亮度之環境光之亮度來執行雷射光L之光路之切換之控制即可。又，受光元件7不一定要設置也屬可行。在省略受光元件7之配置之情形下，替代局部透過反射鏡23可配置高反射鏡等。

1‧‧‧顯示裝置

2‧‧‧光源部

3‧‧‧導光光學系統

4‧‧‧光路切換元件

5‧‧‧光學構件

6‧‧‧投影用反射鏡

7‧‧‧受光元件

8‧‧‧控制部

11‧‧‧殼體

13‧‧‧光源

13A‧‧‧光源

13B‧‧‧光源

13C‧‧‧光源

14‧‧‧集光透鏡

14A‧‧‧集光透鏡

14B‧‧‧集光透鏡

14C‧‧‧集光透鏡

15‧‧‧二向分色鏡

15A‧‧‧二向分色鏡

15B‧‧‧二向分色鏡

15C‧‧‧二向分色鏡

16‧‧‧合波光學系統

21A‧‧‧反射鏡/亮度衰減元件

21B‧‧‧反射鏡/亮度衰減元件

21C‧‧‧局部反射鏡

21D‧‧‧局部反射鏡

21E‧‧‧局部反射鏡

21F‧‧‧反射鏡

21G‧‧‧反射鏡

21H‧‧‧反射鏡

22‧‧‧光圈

23‧‧‧局部透過反射鏡

25‧‧‧局部反射鏡

31‧‧‧光路修正用元件

32‧‧‧稜鏡

G‧‧‧投影用圖像

L‧‧‧雷射光

M1‧‧‧低亮度用光路

M2‧‧‧高亮度用光路

S‧‧‧螢幕

圖1係顯示顯示裝置之一實施形態之概略構成圖。 圖2係顯示顯示裝置之變化例之概略構成圖。 圖3係顯示顯示裝置之另一變化例之概略構成圖。 圖4係顯示顯示裝置之另一變化例之概略構成圖。 圖5係顯示顯示裝置之另一變化例之概略構成圖。 圖6係顯示顯示裝置之另一變化例之概略構成圖。 圖7係顯示顯示裝置之另一變化例之概略構成圖。 圖8係顯示顯示裝置之另一變化例之概略構成圖。

Claims (9)

1. 一種顯示裝置，其具備： 光源部，其輸出雷射光； 導光光學系統，其構成前述雷射光之複數條光路； 光路切換元件，其將前述雷射光之光路切換成前述複數條光路中任一者； 光學構件，其在前述複數條光路之後段側構成單一光路；及 投影用反射鏡，其掃描通過前述單一光路之前述雷射光並形成投影至螢幕之投影用圖像；且 前述複數條光路包含使前述雷射光之亮度互不相同之低亮度用光路及高亮度用光路； 前述光路切換元件配置於前述光源部與前述投影用反射鏡之間之光路上；且前述顯示裝置具有： 控制部，其利用前述光源部之前述雷射光之輸出之控制、及前述光路切換元件對前述雷射光之光路之切換之控制而控制前述投影用圖像之亮度。
2. 如請求項1之顯示裝置，其中在前述複數條光路中，至少前述低亮度用光路包含複數個亮度衰減元件。
3. 如請求項1或2之顯示裝置，其中使前述雷射光相對於前述螢幕集光之集光透鏡配置於輸出前述雷射光之光源與前述投影用反射鏡之間。
4. 如請求項1至3中任一項之顯示裝置，其中前述光源部具有輸出波長互不相同之前述雷射光之複數個光源。
5. 如請求項4之顯示裝置，其中具有將自前述複數個光源輸出之前述雷射光合波之合波光學系統。
6. 如請求項1至5中任一項之顯示裝置，其中在前述光路切換元件與前述投影用反射鏡之間配置有光圈。
7. 如請求項6之顯示裝置，其中在前述光學構件與前述投影用反射鏡之間配置有光圈。
8. 如請求項1至7中任一項之顯示裝置，其中在較前述光學構件更靠後段側配置有檢測前述雷射光之受光元件。
9. 如請求項8之顯示裝置，其中前述受光元件檢測至少通過前述低亮度用光路之前述雷射光。