TW201821400A - 含氮化合物之製造方法 - Google Patents

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TW201821400A
TW201821400A TW106135340A TW106135340A TW201821400A TW 201821400 A TW201821400 A TW 201821400A TW 106135340 A TW106135340 A TW 106135340A TW 106135340 A TW106135340 A TW 106135340A TW 201821400 A TW201821400 A TW 201821400A
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山崎祐輔
澤口正紀
石橋雄一郎
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日商旭硝子股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種效率佳且經濟之含氮化合物之製造方法。一種式R3C(O)CH=CHNR1R2所示化合物之製造方法，係相對於下式(4)所示化合物使式NR1R2C(O)H所示化合物以超過6倍莫耳進行反應，而獲得該式(4)所示化合物及該式NR1R2C(O)H所示化合物之反應混合物，將該反應混合物與式R3C(O)CH3所示化合物使用鹼性化合物反應(式中，X表示鹵原子，R1、R2及R3分別獨立地表示碳數1至6之烷基)。

Description

含氮化合物之製造方法
本發明係關於可作為光學材料或醫農藥原料使用之含氮化合物之製造方法。
具有-C(O)CH=CHN<結構之含氮化合物可使用為光學材料或醫農藥原料之化合物。例如CH3C(O)CH=CHN(CH3)2可使用為吡唑基甲醯苯胺系殺菌劑所使用之3-二氟甲基-1-甲基-1H-吡唑-4-羧酸之原料(參照專利文獻1)。
作為CH3C(O)CH=CHN(CH3)2之製造方法，非專利文獻1中記載將[N(CH3)2CH=NCHN(CH3)2]+．Cl-與甲氧化鈉之甲醇溶液反應獲得N(CH3)2CH=NCH(OCH3)(N(CH3)2)，並使該N(CH3)2CH=NCH(OCH3)(N(CH3)2)與CH3C(O)CH3反應之方法。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：國際公開2016/152886號手冊。
[非專利文獻]
非專利文獻1：Bull. Soc. Chim. Belg, 1994, 697頁至703頁。
但在非專利文獻1所記載方法及條件下只能以低產率獲得CH3C(O)CH=CHN(CH3)2。
本發明的課題係提供含氮化合物之製造方法，係可由取得容易且便宜之化合物以工業上有效率之方式製造可使用作為光學材料或醫農藥原料之含氮化合物。
本發明人等努力檢討有關於有效率且經濟地製造含氮化合物之方法，結果發現：將後述式(4)所示化合物、烷基酮(後述式(2)所示化合物)、N,N-二烷基甲醯胺(後述式(3)所示化合物)等皆為易獲得且便宜之化合物在特定條件反應時，可有效率且經濟地製造含氮化合物。又發現：將反應物以特定條件精製時，可有效率且經濟地製造高純度含氮化合物。
亦即，本發明人等發現使用易獲得且便宜之化合物之有效率且經濟之含氮化合物之製造方法。
亦即，本發明包括下述發明。
[1]一種下式(1)所示化合物之製造方法，係相對於下式(4)所示化合物使下式(3)所示化合物以超過6倍莫耳進行反應，獲得下式(4)所示化合物及下式(3)所示化合物之反應混合物，將該反應混合物與下式(2)所示化合物使用鹼性化 合物反應，而得下式(1)所示化合物。
式(3)NR1R2C(O)H
式(2)R3C(O)CH3
式(1)R3C(O)CH=CHNR1R2
式中，X表示鹵原子，R1、R2及R3分別獨立地表示碳數1至6之烷基。
[2]如[1]所記載之製造方法，其中相對於上述式(4)所示化合物使上述式(3)所示化合物以8至40倍莫耳進行反應，而得上述反應混合物。
[3]如[1]或[2]所記載之製造方法，其中混合上述反應混合物與鹼性化合物而得混合物，將該混合物與上述式(2)所示化合物混合並使上述反應混合物與上述式(2)所示化合物反應。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載之製造方法，其中在醚存在下獲得上述式(4)所示化合物與上述式(3)所示化合物之反應混合物。
[5]如[1]至[4]中任一項所記載之製造方法，其中上述鹼性化合物為鹼金屬之烷氧化物。
[6]如[5]所記載之製造方法，其中上述鹼金屬之烷氧化物為固體狀之鹼金屬之烷氧化物。
[7]如[5]或[6]所記載之製造方法，其中上述式(2)所示化合物之使用量相對於上述式(4)所示化合物為超過3倍莫耳且20倍莫耳以下，將上述反應混合物與上述式(2)所示化合物使用鹼性化合物反應時之反應溫度超過40℃。
[8]如[5]或[6]所記載之製造方法，其中上述式(2)所示化合物之使用量相對於上述式(4)所示化合物為超過12倍莫耳，將上述反應混合物與上述式(2)所示化合物使用鹼性化合物反應時之反應溫度為上述式(2)所示化合物之沸點以下。
[9]一種上述式(1)所示化合物之製造方法，係藉由[1]至[8]中任一項所記載之製造方法而得含有上述式(1)所示化合物之反應物，接著藉由餾除操作從該反應物降低或去除該反應物所含之低沸點化合物，而得粗精製物，接著蒸餾該粗精製物，而得經精製之上述式(1)所示化合物。
[10]如[9]所記載之製造方法，其中藉由未達70℃之餾除操作從上述反應物降低或去除上述反應物所含之低沸點化合物，而得粗精製物。
[11]一種下式(8)所示化合物之製造方法，係藉由[1]至[10]中任一項所記載之製造方法而得上述式(1)所示化合物，將該式(1)所示化合物與下式(5)所示化合物反應，而得下式(6)所示化合物，使該式(6)所示化合物與下式(7)所示化合物反應。
式(5)RFC(O)Z
式(7)R4NHNH2
式中，Z表示氟原子或氯原子，RF表示碳數1至3之鹵烷基，R1、R2及R3分別獨立地表示碳數1至6之烷基，R4表示碳數1至3之烷基。
根據本發明之製造方法可由易獲得且便宜之化合物以工業上有效率之方式製造含氮化合物，該含氮化合物可使用作為光學材料或醫農藥原料。
本說明書中將式(x)所示化合物稱為化合物(x)。本說明書中使用「至」所示數值範圍係表示以「至」前後所記載數值分別為最小值及最大值之範圍。
以下詳細地說明本發明之實施形態。
本發明提供下述化合物(1)之製造方法，係相對於下述化合物(4)使下述化合物(3)以超過6倍莫耳進行反應，而得下述化合物(4)與下述化合物(3)之反應混合物，將該反應混合物與下述化合物(2)使用鹼性化合物反應。本說明書中，化合物(1)係「含氮化合物」且亦稱為酮基烯胺(ketoenamine)之化合物。
式(3)NR1R2C(O)H
式(2)R3C(O)CH3
式(1)R3C(O)CH=CHNR1R2
X表示鹵原子，較佳為氯原子、溴原子或碘原子，更佳為氯原子。
3個X可相同或相異，較佳為相同，更佳為 相同且為氯原子。亦即化合物(4)較佳為三聚氯化氰。
R1及R2分別獨立地表示碳數1至6之烷基。
R1及R2中碳數1至6之烷基可為直鏈狀或分支狀，較佳為碳數1至3之烷基，更佳為甲基。
R1及R2可相同或相異，較佳為相同，更佳為相同且為甲基。亦即化合物(3)較佳為二甲基甲醯胺。
R3表示碳數1至6之烷基。
R3中之碳數1至6之烷基可為直鏈狀或分支狀，較佳為正丙基、異丙基、乙基或甲基，更佳為甲基。亦即化合物(2)較佳為丙酮。
此外，化合物(1)中，鍵結於-CH=CH-之R3C(O)-及NR1R2-之立體配置可為順式(cis)或反式(trans)。
接著詳細地說明本發明中化合物(4)與化合物(3)之反應混合物(以下稱為「反應混合物」)。
反應混合物推測為含有式[NR1R2CH=NCH=NR1R2]+．X-所示鹽(但R1、R2及X-係與上述同義，以下亦同)，該鹽是藉由伴隨脫碳酸之化合物(4)與化合物(3)之反應而形成者。鹽形成反應中化學計量係相對於化合物(4)，化合物(3)為6倍莫耳。
本發明中，相對於化合物(4)使用超過6倍莫耳之化合物(3)，亦即使用超過化學計量的量之化合物(3)而調製反應混合物。因此，本發明中，反應混合物中含有超過化學計量份量之化合物(3)。本發明人等發現以下兩點：將超過化 學計量份量之化合物(3)作為溶劑會促進上述鹽之溶液化(較佳為均勻地溶液化)之點；以及於該溶液狀態反應混合物及化合物(2)之反應中，可有效率地獲得化合物(1)，該化合物(1)係稱為酮基烯胺之氮化合物之點。
本發明中，反應混合物較佳為相對於化合物(4)使化合物(3)以8至40倍莫耳進行反應而得，更佳為使化合物(3)以10至30倍莫耳進行反應而得。在該範圍中，化合物(1)尤其易有效率且高產率地獲得。
又，以調整反應混合物之溶液狀態之觀點而言，較佳為在醚存在下獲得化合物(4)與化合物(3)之反應混合物。醚係作為溶劑使用。醚較佳為非質子性且飽和化合物之醚。醚可為環狀醚亦可為鏈狀醚。醚之具體例可舉出：二乙基醚、第三丁基甲基醚、二噁烷、四氫呋喃、環戊基甲基醚。在醚存在下調製反應混合物時，以化合物(4)之容積為基準，醚使用量較佳為1倍容積以上。其上限並無特別限定，較佳為10倍容積以下，以容積效率之觀點來看更佳為2倍容積以下。
調製反應混合物中的溫度較佳為0至200℃，更佳為30至100℃。調製反應混合物中的壓力並無特別限定，通常在大氣壓下進行。
接詳細地說明本發明中使用鹼性化合物之反應混合物與化合物(2)之反應。
反應中，以調製反應混合物所使用化合物(4)之物質量為基準，化合物(2)之使用量較佳為3倍莫耳以上，更佳為 超過3倍莫耳。使用量上限並無特別限定，較佳為100倍莫耳以下，更佳為20倍莫耳以下。該範圍中可容易有效率且高產率地獲得化合物(1)。
鹼性化合物只要為可使化合物(3)之R1及R2活性化之化合物，則無特別限定，較佳為鹼金屬之烷氧化物、3級胺、或鹼金屬氫化物，更佳為鹼金屬之烷氧化物。
鹼金屬之烷氧化物中，鹼金屬較佳為鈉或鉀，烷氧化物較佳為甲氧化物、乙氧化或物異丙氧化物。鹼金屬之烷氧化物較佳為甲氧化鈉。又，鹼金屬之烷氧化物之使用形態並無特別限定，可將鹼金屬之烷氧化物直接使用(僅限於固體狀之鹼金屬之烷氧化物)，也可作為鹼金屬之烷氧化物之醇溶液使用，較佳為直接使用鹼金屬之烷氧化物。
3級胺可舉出例如：具有碳數1至4之烷基之三烷基胺，咪唑、吡啶、2,6-二甲吡啶、s-柯林鹼、N-甲基吡咯啶、N-甲基哌啶。具有碳數1至4之烷基之三烷基胺更佳為三乙基胺、三丁基胺或乙基二異丙基胺，又更佳為三乙基胺。
鹼金屬氫化物較佳為LiAlH4、NaBH4、NaH、或LiN(CH(CH3)2)2。
以調製反應混合物所使用化合物(4)為基準，反應中鹼性化合物之使用量較佳為3倍莫耳以上，更佳為超過3倍莫耳。使用量之上限並無特別限定，較佳為6倍莫耳以下。該範圍中可有效率且高產率地獲得化合物(1)。
反應中係如上述，在調製反應混合物中，所使用超過化學計量份量之化合物(3)係作為溶劑而存在，但也可進一步在其他有機溶劑存在下進行。其他有機溶劑並無特別限定，可因應鹼性化合物種類適當地決定，鹼性化合物為鹼金屬之烷氧化物時，可舉出上述醚或醇。醇之具體例可舉出：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇。又，鹼性化合物為3級胺或鹼金屬氫化物時，較佳為芳香族烴或飽和脂肪族烴。芳香族烴之具體例可舉出甲苯、二甲苯。飽和脂肪族烴之具體例可舉出庚烷、己烷。
以調製反應混合物所使用之化合物(4)為基準，反應中溶劑總使用量較佳為1倍容積以上。上限並無特別限定，較佳為20倍容積以下。該範圍中可容易有效率且高產率地獲得化合物(1)。此外，上述溶劑總使用量係包括超過化學計量份量之化合物(3)及其他有機溶劑的總量。
反應中的溫度較佳為-78至+200℃，更佳為-60至+100℃，又更佳為-30℃以上未達60℃，特佳為-30至+40℃。調製反應物中壓力並無特別限定，通常在大氣壓下進行。又，反應時間並無特別限定，只要在到達反應終點之時間點結束反應即可。
本發明之製造方法之具體態樣可舉出：相對於化合物(4)使化合物(3)以超過6倍莫耳進行反應，而得化合物(4)與化合物(3)之反應混合物，且本質上不去除該反應混合物所含之化合物(3)，將該反應混合物與化合物(2)使用鹼性化合物反應。該態樣中，鹼性化合物係式RA-OH所示 醇(但RA為甲基、乙基或異丙基)之鹼金屬之烷氧化物，較佳為由反應混合物形成式NR1R2CH=NCH(ORA)(N(R1R2))所示胺基縮醛。
又，較佳為以下態樣：在反應混合物與化合物(2)之反應中，於反應混合物加入鹼性化合物，接著加入化合物(2)使該反應混合物與化合物(2)反應。亦即較佳為以下態樣：混合反應混合物與鹼性化合物而得混合物，混合該混合物與化合物(2)，使該反應混合物與化合物(2)反應。
該態樣中，鹼性化合物較佳為上述鹼金屬之烷氧化物。
如上述，反應混合物與化合物(2)之反應可選擇各種較佳條件而實施。
鹼性化合物為鹼金屬之烷氧化物時，以調製反應混合物所使用化合物(4)之物質量為基準，化合物(2)之使用量為超過3倍莫耳且20倍莫耳以下(較佳為4至12倍莫耳)，或較佳為超過12倍莫耳(較佳為16至100倍莫耳，更佳為24至72倍莫耳)。
化合物(2)之使用量為前者範圍時，相對於由反應混合物所含上述化合物(4)與化合物(3)之反應所形成的鹽，化合物(2)為過剩，且上述鹽、化合物(2)及烷氧化物高度相溶，故會提高反應活性，可容易有效率且高產率地獲得化合物(1)。為該範圍時，反應混合物與化合物(2)之反應中的反應溫度較佳為超過40℃，更佳為60℃以上。上述反應溫度較佳為200℃以下，更佳為100℃以下。
化合物(2)之使用量為後者範圍時，以大量過剩被含有之化合物(2)係作為極性溶劑而促進上述鹽與鹼金屬之烷氧化物的相溶，會提高反應活性，故可容易有效率且高產率地獲得化合物(1)。反應混合物與化合物(2)之反應中的反應溫度較佳為化合物(2)之沸點以下，更佳為-30℃以上未達60℃，又更佳為-30至+40℃。
此外，如上述，鹼金屬之烷氧化物較佳為使用固體狀之鹼金屬之烷氧化物本身。其理由仍不明確但推測如下：使用為固體狀之鹼金屬之烷氧化物本身時，與使用其醇溶液時相比，可抑制因醇存在所引發之上述胺基縮醛之分解，該胺基縮醛係由反應混合物與鹼金屬之烷氧化物所形成。
本發明中的反應混合物與化合物(2)之反應中，會與化合物(1)同時生成式NR1R2CH=NH所示化合物(以下稱為「醛亞胺(aldimine)」，式中之R1及R2與上述同義)，故以本發明之製造方法所獲得反應物中並存有化合物(1)及醛亞胺。本發明中的醛亞胺相較於化合物(1)為低沸點之化合物。
此外，醛亞胺可與本製造方法中作為副產物生成之水反應而轉換為化合物(3)。
較佳為藉由餾除操作從以本發明之製造方法所得含有化合物(1)之反應物降低或去除該反應物所含之醛亞胺、溶劑等相較於化合物(1)為低沸點之化合物(以下稱為「低沸點化合物」)，而製造高純度之化合物(1)。
餾除操作中的溫度較佳為未達70℃，更佳為 未達60℃，又更佳為30℃以下。在該溫度上限範圍中容易有效率且高產率地實施化合物(1)之高純度化。其理由仍不明確但推測如下：在上述溫度上限範圍中，可抑制於反應物並存之醛亞胺、及化合物(1)之副反應物的產生。上述副反應物之具體例可舉出下式(py)或下式(ap)所示化合物。
餾除操作中的溫度下限並無特別限定，通常為0℃以上，若為0至30℃之範圍則容易有效率且高產率地實施化合物(1)之高純度化。
餾除操作中的壓力並無特別限定，以有效率地進行餾除之觀點而言，通常在減壓條件實施。
又，較佳為將以反應物之餾除操作所得之降低或去除低沸點化合物之粗精製物進一步藉由蒸餾而精製，而得作為其蒸餾份之經精製之高純度化合物(1)。
蒸餾操作中的溫度並無特別限定，較佳為180℃以下，更佳為140℃以下。其下限並無特別限定，通常為40℃以上。蒸餾操作中的壓力並無特別限定，以效率之觀點來看通常在減壓條件實施。
使用本發明之製造方法所得化合物(1)，而可製造可用作為光學材料或醫農藥中間物之化合物。
具體而言係以本發明之製造方法獲得化合物(1)，將該化合物(1)與下述化合物(5)反應而得下述化合物(6)，將該化合物(6)與下述化合物(7)反應，藉此可製造下述化合物(8)。
式(5)RFC(O)Z
式(7)R4NHNH2
Z表示氟原子或氯原子，較佳為氟原子。
RF表示碳數1至3之鹵烷基，較佳為二氟甲基、氯二氟甲基、二氯甲基、三氟甲基或三氯甲基，更佳為二氟甲基。
R1至R3與前述同義，其較佳範圍亦同。
R4表示碳數1至3之烷基，較佳為正丙基、異丙基、乙基或甲基，更佳為甲基。
藉由氧化化合物(8)而可容易地製造可用作為醫農藥原料之高純度的3-鹵烷基-1-烷基-1H-吡唑-4-羧酸(尤其是3-二氟甲基-1-甲基-1H-吡唑-4-羧酸)。
如上所述，根據本發明之製造方法可以易獲得且便宜之化合物為原料，有效率且高產率地製造含氮化合物。亦即，本發明之製造方法係較經濟之含氮化合物之製造方法，該含氮化合物可用作為光學材料或醫農藥原料。
(實施例)
以下以實施例說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。
[例1]
在空氣環境下於燒瓶加入三聚氯化氰(38.4g)、二甲基甲醯胺(198g)，於燒瓶內溫60℃將燒瓶內攪拌2小時，而得反應混合物。接著將燒瓶內溫保持於40℃，一邊攪拌燒瓶內一邊於燒瓶加入混合有甲氧化鈉(33.8g)與甲醇(276g)之甲氧化鈉之甲醇溶液，直接保持1小時。接著將燒瓶內溫保持於25℃，一邊攪拌燒瓶內一邊於燒瓶加入丙酮(36.3g)，直接反應18小時。
分析燒瓶內容物，結果可確認以三聚氯化氰為基準CH3C(O)CH=CHN(CH3)2(以下稱為化合物(11))係以產率 68%生成。過濾燒瓶內容物並回收濾液，可獲得含有CH3C(O)CH=CHN(CH3)2之反應液。
[例2至5]
除了變更各成分加入量及有無使用其他有機溶劑以外，以與例1相同順序合成化合物(11)，結果整理於表1。表1中之其他有機溶劑在例3及4使用四氫呋喃，在例5使用異丙醇。
[例6]
由例1所得之反應液以溫度20至30℃、壓力10至30Pa之條件藉由減壓餾除操作去除反應液中的低沸點化合物，而得粗精製物。進一步減壓蒸餾粗精製物，作為蒸餾份而得純度超過99%之化合物(11)，其蒸餾產率為93%，以三聚氯化氰為基準之產率為63%。
[例7]
由例1所得反應液以溫度70至90℃、壓力12000至20000Pa之條件藉由減壓餾除操作去除反應液中的低沸點化合物，而得粗精製物。進一步減壓蒸餾粗精製物，作為蒸餾份而得純度超過99%之化合物(11)，其蒸餾產率為74%，以三聚氯化氰為基準的產率為產率50%。
由例1至3與例4至5之對比可知，相對於化合物(4)一態樣之三聚氯化氰，使化合物(3)一態樣之二甲基甲醯胺以超過6倍莫耳進行反應而得反應混合物，使用該反應混合物時，可以高產率獲得化合物(1)。又，由例6與例7之對比可知，相較於將所得反應物以高溫(70至90℃)進行餾除操作之情形，以低溫(20至30℃)進行餾除操作時可以高產率獲得化合物(1)。
[例9]
在空氣環境下於燒瓶加入三聚氯化氰(12.8g)、二甲基甲醯胺(182g)，於燒瓶內溫60℃攪拌燒瓶內2小時，而得反應混合物。接著將燒瓶內溫保持於25℃，一邊攪拌燒瓶 內一邊於燒瓶加入甲氧化鈉(11.4g)，直接保持2小時。接著將燒瓶內溫保持於25℃，一邊攪拌燒瓶內一邊於燒瓶加入丙酮(150g)，直接於25℃反應5小時。
分析燒瓶內容物，結果確認以三聚氯化氰為基準化合物(11)係以產率99%生成。過濾燒瓶內容物並回收濾液，而得含有化合物(11)之反應液。
[例10至14]
除了變更甲氧化鈉之使用態樣(單體或甲醇溶液)、丙酮使用量、及加入丙酮後之反應溫度以外。以與例9相同順序合成化合物(11)，結果整理於表2。
此外，表中「單體」是指將固體狀之甲氧化鈉直接添加於燒瓶。
[例15]
於氮環境下之反應器加入例9所得之化合物(11)、三乙基胺、及二氯甲烷，而調製溶液。接著於室溫一邊攪拌反應器內一邊於反應器將CHF2C(O)F以氣體狀導入並反應。反應後，一邊將反應器冰冷一邊於反應器加入水，而回收含有下述化合物(61)之第1有機相。
接著於氮環境下之反應器加入40%甲基肼水溶液及二氯甲烷，而調製溶液。接於-20℃一邊攪拌反應器內一邊於反應器導入第1有機相並反應。反應後，於反應器加入水並回收第2有機相。以硫酸鈉乾燥第2有機相後，減壓餾除而得下述化合物(81)。
[產業利用性]
本發明可提供含氮化合物的製造方法，係可由易獲得且便宜之化合物以工業上有效率之方式製造含氮化合物，該含氮化合物可用作為光學材料或醫農藥原料。
本申請係以於日本申請之日本特願2016-205020及日本特願2017-61391為基礎，本說明書係包括該等所有內容。

Claims (11)

  1. 一種下式(1)所示化合物之製造方法，係相對於下式(4)所示化合物使下式(3)所示化合物以超過6倍莫耳進行反應，而得下式(4)所示化合物及下式(3)所示化合物之反應混合物，將該反應混合物與下式(2)所示化合物使用鹼性化合物反應，而得下式(1)所示化合物； 式(3)NR 1R 2C(O)H 式(2)R 3C(O)CH 3 式(1)R 3C(O)CH=CHNR 1R 2式中，X表示鹵原子，R 1、R 2及R 3分別獨立地表示碳數1至6之烷基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中，相對於前述式(4)所示化合物使前述式(3)所示化合物以8至40倍莫耳進行反應，而得前述反應混合物。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之製造方法，其中，混合前述反應混合物與鹼性化合物而得混合物，混合該混合物與前述式(2)所示化合物，並使前述反應混合物與前述式(2)所示化合物反應。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之製造方法，其中，在醚存在下獲得前述式(4)所示化合物與前述式 (3)所示化合物之反應混合物。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所記載之製造方法，其中，前述鹼性化合物為鹼金屬之烷氧化物。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之製造方法，其中，前述鹼金屬之烷氧化物為固體狀之鹼金屬之烷氧化物。
  7. 如申請專利範圍第5或6項所述之製造方法，其中，前述式(2)所示化合物之使用量相對於前述式(4)所示化合物為超過3倍莫耳且20倍莫耳以下，將前述反應混合物與前述式(2)所示化合物使用鹼性化合物反應時之反應溫度超過40℃。
  8. 如申請專利範圍第5或6項所述之製造方法，其中，前述式(2)所示化合物之使用量相對於前述式(4)所示化合物係超過12倍莫耳，將前述反應混合物與前述式(2)所示化合物使用鹼性化合物反應時之反應溫度係前述式(2)所示化合物之沸點以下。
  9. 一種前述式(1)所示化合物之製造方法，係藉由申請專利範圍第1至8項中任一項所述之製造方法而得含有前述式(1)所示化合物之反應物，接著藉由餾除操作從該反應物降低或去除該反應物所含之低沸點化合物而得粗精製物，接著蒸餾該粗精製物而得經精製之前述式(1)所示化合物。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之製造方法，其中，藉由未達70℃之餾除操作從前述反應物降低或去除前述反應物所含之低沸點化合物而得粗精製物。
  11. 一種下式(8)所示化合物之製造方法，係藉由申請專利範圍第1至10項中任一項所述之製造方法而得前述式(1)所示化合物，使該式(1)所示化合物與下式(5)所示化合物反應而得下式(6)所示化合物，並使該式(6)所示化合物與下式(7)所示化合物反應；式(5)R FC(O)Z 式(7)R 4NHNH 2 式中，Z表示氟原子或氯原子，R F表示碳數1至3之鹵烷基，R 1、R 2及R 3分別獨立地表示碳數1至6之烷基，R 4表示碳數1至3之烷基。
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WO1998030549A1 (de) * 1997-01-13 1998-07-16 Lonza Ag Verfahren zur herstellung von substituierten pyrimidinderivaten
WO2001090036A2 (de) * 2000-05-19 2001-11-29 Lonza Ag Verfahren zur herstellung von dicarbonyl-verbindungen
CN101550106A (zh) * 2008-04-03 2009-10-07 上海药明康德新药开发有限公司 一种n-烷基取代-咪唑-5-羧酸/酯类化合物的工业化制备方法
CN101781222A (zh) * 2010-01-26 2010-07-21 广东药学院 一种制备烯胺酮类化合物的方法
EP2628722A1 (en) * 2012-02-16 2013-08-21 Bayer CropScience AG CF3O-containing enaminoketones and their utilization for the preparation of CF3O-containing pyrazoles
CN105541716B (zh) * 2015-03-26 2024-02-23 Ａｇｃ株式会社 吡唑衍生物的制造方法

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