TW201811955A - 經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜 - Google Patents

Abstract

本發明之目的係提供一種附黏著劑層的光學膜，其係在加壓下之凹陷少，特別是對於在保管、輸送或搬運時因異物造成的損傷及凹痕的防止效果佳。

本發明之經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，係包含：在光學膜(A)的至少一面經由黏著劑層(B)而積層的分離膜(C)；其中，前述分離膜(C)的膜厚為45μm以上，前述光學膜(A)的膜厚為100μm以下。

Description

經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜

本發明係關於經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜。

以在偏光件的單面或兩面積層貼合透明樹脂膜而成的偏光板為代表的光學膜，係被廣泛使用作為構成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置的光學構件。如偏光板、相位差板等光學膜，於多數的情況下，是以在其一面設有黏著劑層的「附黏著劑層的光學膜」之形式來構成，大多是經由該黏著劑層而貼合於液晶胞或有機EL顯示元件等顯示元件而被使用。對於如此的附黏著劑層的光學膜，為了保護在貼合於顯示元件前的黏著劑層，通常會積層分離膜(separator film)，其係在使用黏著劑層時會被剝離除去(專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]國際公開第2009/069799號

近年，圖像顯示裝置有薄型化的傾向，所以，光學膜係被期望能有例如100μm以下之更薄者。在如此薄的光學膜上設置黏著劑層且於其上積層分離膜而製成光學膜(經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜)，於多數的情況下，是在捲繞成捲狀的狀態下保管、輸送或搬運。此時，在分離膜的外表面附著有灰塵等異物的狀態下，若將經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜加以捲繞，則會因為捲繞的膜彼此之壓力而在保管、輸送或搬運中按壓到光學膜，即使在除去壓力後，光學膜上也會殘留因異物所造成的損傷、凹痕。而且，也有將經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜裁切成配合其所貼合的顯示元件的尺寸之大小而堆積保管並輸送的情況。於該情況下，堆積的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜彼此間若存在有異物時，則在光學膜上也會殘留因異物所造成的損傷、凹痕。如此的因異物所造成的損傷、凹痕，會使光學膜的光學特性產生缺陷，故要求具有高度之「對於因異物所造成的光學膜的損傷、凹痕的防止效果」之經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜。

因此，本發明之目的係提供一種經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其係在加壓下之凹陷少，特別是對於在保管、輸送或搬運時因異物所造成的損傷、凹痕的防止效果佳。

本發明人等為了解決上述課題，深入檢討的結果，因而完成本發明。

亦即，本發明包括以下之較佳態樣[1]至[3]。

[1]一種經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其包含：在光學膜(A)的至少一面經由黏著劑層(B)而積層的分離膜(C)；其中，前述分離膜(C)的膜厚為45μm以上，前述光學膜(A)的膜厚為100μm以下。

[2]如[1]記載的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其中，前述分離膜(C)為單獨顯示表面的維氏(Vickers)硬度為15以上的分離膜。

[3]如[1]或[2]記載的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其中，前述分離膜(C)為單獨顯示彎曲剛度為1mg以上的分離膜。

[4]如[1]至[3]中任一項記載的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其中，黏著劑層(B)的在25℃的儲存彈性模數G’為0.4MPa以下。

根據本發明，可提供一種經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其係在加壓下之凹陷少，特別是對於在保管、輸送或搬運時因異物所造成的損傷、凹痕的防止效果佳。

1‧‧‧經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜

2‧‧‧偏光件

3‧‧‧(第1)樹脂膜

4‧‧‧(第2)樹脂膜

5‧‧‧保護膜

6‧‧‧硬塗層

10‧‧‧光學膜

20‧‧‧黏著劑層

30‧‧‧分離膜

第1圖係表示本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的一例之剖面示意圖。

第2圖係表示本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的一例之剖面示意圖。

〈經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜〉

本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其包含：光學膜(A)；以及於前述光學膜(A)的至少的面經由黏著劑層(B)而積層的分離膜(C)。

於本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜中，分離膜(C)的膜厚為45μm以上。分離膜(C)的膜厚未達45μm時，由附著於分離膜表面的異物等所產生的凹陷會變得容易波及到黏著劑層，難以充分確保對於光學膜的損傷、凹痕的防止效果。於本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜中，分離膜(C)的膜厚較佳為45μm以上，更佳為47μm以上，特佳為50μm以上。分離膜(C)的膜厚的上限，雖無特別限制，但通常為200μm以下，從在剝離分離膜時使剝起變得容易的觀點來看，例如較佳為150μm以下，更佳為100μm以下。

於本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜中，光學膜(A)的膜厚為100μm以下。於本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜中，光學膜(A)的膜厚較佳為80μm以下，更佳為70μm以下。光學膜(A)的膜 厚的下限，通常為5μm以上，從變得容易處理的觀點來看，例如較佳為10μm以上，更佳為15μm以上。

此處，於本發明中，所謂光學膜，係指為了圖像顯示(顯示畫面等)而發揮功能的膜(例如為了提高圖像的可視性而發揮功能的膜)，並意指可組入液晶顯示裝置等圖像顯示裝置中的具有各種光學特性的膜，例如可為單層構造(偏光件、相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜等光學功能性膜等)，亦可為多層構造(例如偏光板、相位差板等)。

於本發明中，所謂「光學膜(A)的膜厚」，當光學膜為單層構造時係指其單層的厚度，當為多層構造時係指構成該多層構造的全部的層的厚度的總和。再者，當光學膜為多層構造時，在將該光學膜組入光學積層體或顯示裝置時等，最後會被剝離除去的層(例如保護膜等)係不被視為構成光學膜(A)的層，在計算光學膜(A)的膜厚時不被考慮。所以，例如於第1圖所示的本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜中，光學膜(A)的膜厚為偏光件2、第1樹脂膜3及第2樹脂膜4的合計厚度。而且，於第2圖所示的本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜中，光學膜(A)的膜厚為偏光件2、第1樹脂膜3、第2樹脂膜4及硬塗層6的合計厚度。

於本發明中，分離膜(C)的膜厚越厚，對於因異物所造成的損傷、凹痕的防止效果會有越變高的傾向，藉由取得其與光學膜(A)的膜厚的平衡，可更有效地提 高對於因異物所造成的損傷、凹痕的防止效果。例如分離膜的膜厚T_C與光學膜的膜厚T_A的比(T_C/T_A)，較佳為0.4以上，更佳為0.5以上，又更佳為0.6以上。該比(T_C/T_A)通常為4以下。

本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，只要包含光學膜(A)以及於前述光學膜(A)的至少一面經由黏著劑層(B)而積層的分離膜(C)，並且其構成若能具有光學膜的通常有的功能，即不限制其構成。光學膜較佳為偏光板、偏光件、相位差板或相位差膜，特佳為偏光板或偏光件。

例如，在將本發明的一較佳實施態樣的構成依據第1圖及第2圖來說明時，第1圖所示的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜1，係由光學膜10以及在該光學膜的單面經由黏著劑層20而積層的分離膜30所構成。再者，光學膜10中係在偏光件20的兩側積層樹脂膜3及4，並且，在與具有黏著劑層20的樹脂膜為相反側的樹脂膜4的不與偏光件2接觸的面積層保護膜5。而且，第2圖所示的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜1，係由光學膜10以及在該光學膜的單面經由黏著劑層20而積層的分離膜30所構成，光學膜10中係在偏光件20的兩側積層樹脂膜3及4，並且，在與具有黏著劑層20的樹脂膜為相反側的樹脂膜4的不與偏光件2接觸的面積層硬塗層6。再者，於硬塗層6積層保護膜5。另外，樹脂膜3及4可經由未圖示的接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光件2。

構成本發明的「經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜」的各層(構件)，無特別限制，可配合所期望的光學膜的特性等而適當地決定。以下，關於本發明的「經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜」的各構成成分，詳細說明其較佳態樣。

[1]光學膜(A) [1-1]偏光板

於本說明書中，所謂偏光板，係指在偏光件的至少一面積層樹脂膜或樹脂層者。偏光件，係指具備會吸收具有與其吸收軸呈平行的振動面的直線偏光、且會使具有與其吸收軸(與穿透軸呈平行)呈垂直的振動面的直線偏光穿透的性質的膜，可使用例如使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成的膜。二色性色素，可舉例如碘、二色性有機染料等。

聚乙烯醇系樹脂，通常可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂予以皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂，可舉例如：屬於乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯；由可與乙酸乙烯酯共聚合的單體(例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺等)及乙酸乙烯酯所成的共聚物等。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85至100莫耳%，較佳為約98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可被改性，例如可為經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛(polyvinyl formal)或聚乙烯醇縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，通常為1000至10000，較佳為約1500至5000。再者，聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，可根據JIS K 6726求得。

通常，可使用將聚乙烯醇系樹脂予以製膜而成者作為偏光件的原料膜。聚乙烯醇系樹脂，可用習知的方法製膜。原料膜的厚度，通常為1至150μm，考慮到延伸的容易性等，較佳為10μm以上。

偏光件，係例如藉由對原料膜進行一軸延伸的步驟、用二色性色素對膜染色而使該二色性色素吸附的步驟、用硼酸水溶液處理膜的步驟、以及水洗膜的步驟、最後使其乾燥而製造之。於本發明中，偏光件的厚度通常為1至50μm，從光學膜的薄膜化的觀點來看，較佳為30μm以下，更佳為15μm以下，特佳為10μm以下。

使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成的偏光件，除了可藉由下述1)的方法而得以外，亦可藉由下述2)的方法而得：1)使用聚乙烯醇系樹脂膜的單獨膜作為原料膜，對該膜實施一軸延伸處理及二色性色素的染色處理的方法；2)於基材膜塗佈含有聚乙烯醇系樹脂的塗佈液(水溶液等)，使其乾燥，得到具有聚乙烯醇系樹脂層的基材膜後，將其與基材膜一起進行一軸延伸，對延伸後的聚乙烯醇系樹脂層，實施二色性色素的染色處理，然後剝離除去基材膜的方法。基材膜，係可使用由與後述可構成樹脂膜的熱塑性樹脂相同的熱塑性樹脂所構成的 膜。較佳為由下述樹脂等所構成的膜：聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降莰烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等。利用上述2)的方法時，能使薄膜的偏光件的製作變容易，例如厚度7μm以下的偏光件的製作也會變容易。

樹脂膜可為例如由下述樹脂等所構成的膜：具有透光性(較佳為光學透明)的熱塑性樹脂，例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；纖維系樹脂(纖維素酯系樹脂等)；聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等)；聚碳酸酯系樹脂(例如由2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷等雙酚所衍生的聚碳酸酯等)；(甲基)丙烯酸系樹脂；苯乙烯系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚碸系樹脂、或該等的混合物、共聚物等。其中，樹脂膜較佳為由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維系樹脂、聚酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂等所構成的膜，特佳為由纖維系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等所構成的膜。

鏈狀聚烯烴系樹脂，可舉例如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴的均聚物、或由2種以上的鏈狀烯烴所構成的共聚物等。

環狀聚烯烴系樹脂，係包含以降莰烯、四環十二烷(別名：二甲橋八氫萘(dimethanooctahydronaphthalene)) 或該等的衍生物為代表例的環狀烯烴作為聚合單元的樹脂的總稱。環狀聚烯烴系樹脂，可舉例如環狀烯烴的開環(共)聚合物及其氫化物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯或丙烯等鏈狀烯烴或是具有乙烯基的芳香族化合物所成的共聚物、以及將該等用不飽和羧酸或其衍生物改性的改性(共)聚合物等。該等之中，較佳係使用以降莰烯、多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂。

纖維素系樹脂，較佳為纖維素酯系樹脂，亦即纖維素的部分或完全酯化物等，可舉例如纖維素的乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、該等的混合酯等。該等之中，更佳為三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。

聚酯系樹脂，係具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外的樹脂，一般為由多元羧酸或其衍生物與多元醇的縮聚物所構成者。聚酯系樹脂，可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。

聚碳酸酯系樹脂，係由碳酸與二醇或雙酚所形成的聚酯。該等之中，從耐熱性、耐候性及耐酸性的觀點來看，較佳為分子鏈具有二苯基烷的芳香族聚碳酸酯。聚碳酸酯，可舉例如由2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(別名： 雙酚A)、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷等雙酚所衍生的聚碳酸酯。

可構成樹脂膜的(甲基)丙烯酸系樹脂，可為以來自甲基丙烯酸酯的構成單元為主體(例如包含其50重量%以上)的聚合物，較佳為與其他共聚合成分共聚合而成的共聚物。(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可包含2種以上的來自甲基丙烯酸酯的構成單元。甲基丙烯酸酯，可舉例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸的C₁至C₄烷基酯。

關於可與甲基丙烯酸酯共聚合的共聚合成分，可舉例如丙烯酸酯。丙烯酸酯較佳為丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸的C₁至C₈烷基酯。其他共聚合成分的具體例，可舉例如：(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸類；苯乙烯、鹵化苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；(甲基)丙烯腈等乙烯基氰化物；順丁烯二酸酐、甲基順丁烯二酸酐等不飽和羧酸酐；苯基順丁烯二醯亞胺、環己基順丁烯二醯亞胺等不飽和醯亞胺等分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵的丙烯酸酯以外的化合物。共聚合成分，可單獨使用或組合2種以上使用。

(甲基)丙烯酸系樹脂，在提高膜的耐久性的觀點來看，可在高分子主鏈具有環構造。環構造較佳為環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造、內酯環構造等雜環構造。 環狀酸酐構造的具體例可舉例如戊二酸酐構造、琥珀酸酐構造等，環狀醯亞胺構造的具體例可舉例如戊二醯亞胺構造、琥珀醯亞胺構造等，內酯環構造的具體例可舉例如丁內酯環構造、戊內酯環構造等。

(甲基)丙烯酸系樹脂，從對膜的製膜性、膜的耐衝擊性等的觀點來看，可含有丙烯酸系橡膠粒子。所謂丙烯酸系橡膠粒子，係指將以丙烯酸酯為主體的彈性聚合物視為必要成分的粒子，可舉例如實質上只由該彈性聚合物所構成的單層構造者、或是將彈性聚合物製成1層的多層構造者。彈性聚合物的例子，可舉例如以丙烯酸烷酯為主成分且將其和可與其共聚合的其他乙烯系單體及交聯性單體共聚合的交聯彈性共聚物。就成為彈性聚合物的主成分的丙烯酸烷酯而言，可舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸的C₁至C₈烷基酯。烷基的碳數較佳為4以上。

關於可與丙烯酸酯共聚合的其他乙烯系單體，可舉例如分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵的化合物，更具體而言，可舉例如甲基丙烯酸甲酯等甲基丙烯酸酯、如苯乙烯等芳香族乙烯系化合物、如(甲基)丙烯腈等乙烯基氰化物等。交聯性單體，可舉例如分子內具有至少2個聚合性碳-碳雙鍵的交聯性化合物，更具體而言，可舉例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯等(甲基)丙烯酸烯酯、二乙烯基苯等。

丙烯酸系橡膠粒子的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，較佳為5質量份以上，更佳為10質量份以上。於丙烯酸系橡膠粒子的含量太多時，膜的表面硬度降低，而且在對於膜實施表面處理時，對表面處理劑中的有機溶劑的耐溶劑性可能會降低。所以，丙烯酸系橡膠粒子的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份，通常為80質量份以下，較佳為60質量份以下。

樹脂膜可含有本發明的技術領域通常的添加劑。添加劑可舉例如紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑、潤滑劑、分散劑、熱安定劑等。紫外線吸收劑可舉例如水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、三嗪化合物、氰基(甲基)丙烯酸酯化合物、鎳錯鹽等。

樹脂膜可為未延伸的膜、或是經一軸或二軸延伸的膜。樹脂膜，可為負責保護偏光件之保護膜，亦可為兼具如後述相位差膜般的光學功能的保護膜。再者，偏光板包含複數片樹脂膜時，該等樹脂膜可為相同或不同的膜。

而且，樹脂膜可在其外表面(與偏光件為相反側的表面)具備硬塗層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗佈層)。樹脂膜的厚度，通常為1至70μm，較佳為5至50μm，再者可為30μm以下。

樹脂膜，可經由接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光件。形成接著劑層的接著劑，可使用水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。

水系接著劑，可舉例如慣用的水系接著劑(例如由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的接著劑、水系二液型胺酯(urethane)系乳化接著劑、醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑等)。該等之中，可適合使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成的水系接著劑。再者，當使用水系接著劑時，在貼合偏光件與樹脂膜後，為了除去水系接著劑中所含的水，較佳係實施乾燥步驟。乾燥步驟後，可設置例如於20至45℃左右的溫度下進行熟成的熟成步驟。

上述活性能量線硬化性接著劑，係指藉由照射紫外線或電子線等活性能量線而硬化的接著劑，可舉例如包含聚合性化合物及光聚合起始劑的硬化性組成物、包含光反應性樹脂的硬化性組成物、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑的硬化性組成物等，較佳為紫外線硬化性接著劑。

當使用活性能量線硬化性接著劑時，在貼合偏光件與樹脂膜後，依需要進行乾燥步驟，然後進行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量線的光源，雖無特別限制，但較佳為在波長400nm以下具有發光分佈之紫外線。

貼合偏光件與樹脂膜的方法，可舉例如在該等的至少一者的貼合面實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理之方法等。於偏光件的兩面貼合樹脂膜時，貼合該等樹脂膜用的接著劑，可為同種類的接著劑，亦可為不同種類的接著劑。

對於偏光板，亦可再積層其他的膜或層。關於其具體例，除了後述相位差膜以外，亦有增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜、黏著劑層(B)以外的黏著劑層、塗佈層、保護膜等。保護膜係為了達成保護偏光板等光學膜的表面不受傷害及污染的目的而使用的膜，其通例係在將附黏著劑層的光學膜貼合於例如金屬層或基板上後再剝離除去之。

保護膜，通常係由基材膜及積層於其上的黏著劑層所構成。基材膜，可由熱塑性樹脂(例如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等)所構成。

[1-2]相位差板

於本說明書中，所謂相位差板，係指在相位差膜的至少一面積層樹脂膜或樹脂層者。相位差板中所包含的相位差膜，係顯示光學各向異性的光學膜，其可為將由下述樹脂所構成之樹脂膜延伸成1.01至6倍左右所得之延伸膜：除了以作為可使用於樹脂膜而於上文例示的熱塑性樹脂以 外，亦可舉例如聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚氟化亞乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯系樹脂等。該等之中，較佳係將聚碳酸酯系樹脂膜、環狀烯烴系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜或纖維素系樹脂膜進行一軸延伸或二軸延伸而成的延伸膜。而且，於本說明書中，零延遲膜(zero retardation film)也包含於相位差膜(惟可作為保護膜使用)。此外，被稱為一軸性相位差膜、廣視角相位差膜、低光彈性率相位差膜等的膜，也可適用作為相位差膜。

所謂零延遲膜，係指面內相位差值R_e及厚度方向相位差值R_th皆為-15至15nm的膜。該相位差膜係適合使用於IPS模式的液晶顯示裝置。面內相位差值R_e及厚度方向相位差值R_th較佳係皆為-10至10nm，更佳為-5至5nm。此處所謂面內相位差值R_e及厚度方向相位差值R_th，係指在波長590nm的值。

面內相位差值R_e及厚度方向相位差值R_th分別係由下述式所定義：R_e=(n_x-n_y)×d R_th=[(n_x+n_y)/2-n_z]×d式中，n_x為膜面內的慢軸方向(x軸方向)的折射率，n_y為膜面內的快軸方向(在面內與x軸呈垂直的y軸方向)的折射率，n_z為膜厚度方向(與膜面呈垂直的z軸方向)的折射率，d為膜的厚度。

零延遲膜，係可使用由例如纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂所構成的樹脂膜等。特別是由於容易控制相位差值且也容易取得，故較佳係使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。

而且，藉由液晶性化合物的塗佈‧配向而表現光學各向異性的膜、或藉由無機層狀化合物的塗佈而表現光學各向異性的膜，也可作為相位差膜使用。如此的相位差膜，有被稱為溫度補償型相位差膜者，而且也有由JX日礦日石能源股份有限公司以「NH FILM」的商品名販售的棒狀液晶呈傾斜配向的膜、由富士薄膜股份有限公司以「WV FILM」的商品名販售的圓盤狀液晶呈傾斜配向的膜、由住友化學股份有限公司以「VAC FILM」的商品名販售的完全二軸配向型的膜、同樣由住友化學股份有限公司以「new VAC FILM」的商品名販售的二軸配向型的膜等。再者，積層於相位差膜的至少一面之樹脂膜，例如可為上述的保護膜。

[2]黏著劑層(B)

構成「積層於本發明的光學膜(A)的至少一面之黏著劑層(B)(第1圖及第2圖中的黏著劑層20)」的黏著劑，可無特別限制地使用傳統習知的黏著劑，例如可使用例如具有丙烯酸系、橡膠系、胺酯(urethane)系、聚矽氧(silicone)系、 聚乙烯醚系等基質聚合物的黏著劑。而且，亦可為能量線硬化型黏著劑、熱硬化型黏著劑等。該等之中，適合為以透明性、黏著力、重工性、耐候性、耐熱性等佳的丙烯酸系樹脂為基質聚合物的黏著劑。於本發明的一較佳實施態樣中，黏著劑層(B)係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(a)、交聯劑(b)、矽烷化合物(c)的黏著劑組成物的反應產物所構成。

[2-1](甲基)丙烯酸系樹脂(a)

於本發明中，在構成黏著劑層(B)的黏著劑組成物中所可包含之(甲基)丙烯酸系樹脂(a)，較佳係以來自下述式(I)所示的(甲基)丙烯酸烷酯的構造單元(以下亦稱為構造單元(I))作為主成分(例如包含其50重量%以上)之聚合物(以下亦稱為「(甲基)丙烯酸酯聚合物」)：

(式中，R¹⁰表示氫原子或甲基，R²⁰表示碳數1至20的烷基，該烷基可具有直鏈狀、分支狀或環狀的任一構造，該烷基的氫原子可被碳數1至10的烷氧基取代)。

再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指丙烯酸或甲基丙烯酸，(甲基)丙烯酸酯等的「(甲基)」也是相同的意思。

式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯，可舉例如丙烯 酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正-及異-壬酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸異癸酯、丙烯酸正十二烷酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第3丁酯等。含有烷氧基的丙烯酸烷酯的例子，可舉例如丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸乙氧基甲酯等。

(甲基)丙烯酸酯聚合物，亦可包含2種以上的構造單元(I)。而且，從使黏著性及耐久性同時成立的觀點來看，較佳係包含均聚物的玻璃轉移溫度T_g為0℃以上的構造單元及均聚物的玻璃轉移溫度T_g未達0℃的構造單元的共聚物。均聚物的玻璃轉移溫度(T_g)為0℃以上的構造單元，可舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯等，從耐久性的觀點來看，較佳係包含丙烯酸甲酯或丙烯酸異莰酯。均聚物的玻璃轉移溫度T_g未達0℃的構造單元，可舉例如丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸異壬酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸異癸酯、丙烯酸正十二烷酯等，其中較佳係包含丙烯酸正丁酯或丙烯酸2-乙基己酯，特佳係包含丙烯酸正丁酯。

(甲基)丙烯酸酯聚合物，亦可包含構造單元 (I)以外的來自其他單體的構造單元。來自其他單體的構造單元，可為1種，亦可為2種以上。(甲基)丙烯酸酯聚合物可包含的其他單體的具體例係表示於以下。

1)具有極性官能基的單體

(甲基)丙烯酸酯聚合物，可包含來自具有極性官能基的單體的構造單元。具有極性官能基的單體，可舉例如具有極性官能基的(甲基)丙烯酸酯。極性官能基，可舉例如羥基、羧基、經取代之胺基、未經取代之胺基等。極性官能基，可舉例如環氧基等雜環基等。具有如此的極性官能基的(甲基)丙烯酸酯，具體上可舉例如：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-(2-羥基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等具有羥基的單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、己內酯改性丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基的單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有經取代或未經取代之胺基的單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯等具有羧基的單體。其中，較佳為具有羥基的單體，從(甲基)丙烯酸系樹脂(a)與交聯劑的反應性的觀點來看，更佳為具有羥基的 (甲基)丙烯酸酯。

(甲基)丙烯酸酯聚合物中，與具有羥基的(甲基)丙烯酸酯合計而可包含上述其他具有極性官能基的單體，但從防止可積層於黏著劑層的外表面之分離膜的剝離力亢進的觀點來看，較佳係實質上不包含具有胺基的單體。此處所謂「實質上不包含」，係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的全部構成單元100質量份中為1.0質量份以下。而且，從提高對ITO等透明電極之耐腐蝕性的觀點來看，較佳係實質上不包含具有羧基的單體。此處所謂「實質上不包含」，係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的全部構成單元100質量份中為2.0質量份以下。

(甲基)丙烯酸酯聚合物中的來自具有極性官能基的單體的構造單元的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的全部構成單元100質量份，較佳為20質量份以下，更佳為0.1質量份以上20質量份以下，又更佳為0.1質量份以上10質量份以下，特佳為0.5質量份以上10質量份以下。

2)具有芳香族基的單體

(甲基)丙烯酸酯聚合物，可包含來自具有芳香族基的單體的構造單元。具有芳香族基的單體，可舉例如分子內具有1個(甲基)丙烯醯基及1個以上的芳香環(例如苯環、萘環等)且具有苯基、苯氧基乙基或苯甲基的(甲基)丙烯酸酯。藉由包含該等構造單元，可抑制在耐久測試時的偏光 板的白斑現象。

具有苯氧基乙基的(甲基)丙烯酸酯，可舉例如(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸的環氧乙烷改性壬基酚酯、(甲基)丙烯酸2-(鄰苯基苯氧基)乙酯等。具有苯甲基的構造單元，可舉例如丙烯酸苯甲酯等。其中，從抑制白斑的觀點來看，較佳為(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯及(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯。

(甲基)丙烯酸酯聚合物中的來自具有芳香族基的單體的構造單元的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的全部構成單元100質量份，較佳為50質量份以下，更佳為4質量份以上50質量份以下，又更佳為4質量份以上25質量份以下。

3)丙烯醯胺系單體

(甲基)丙烯酸酯聚合物，可包含來自具有丙烯醯胺基的單體的構造單元。具有丙烯醯胺基的單體，可舉例如N-羥甲基丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基]丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、 N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺[別名：N-(異丁基甲基)丙烯醯胺]、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基]丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基]丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基]丙烯醯胺[別名：N-(異丁氧基乙基)丙烯醯胺]、N-(2-丁氧基乙基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基]丙烯醯胺等。藉由包含該等構造單元，可抑制抗靜電劑等添加劑的滲出。其中，較佳係使用N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。

再者，構造單元(I)以外的來自其他單體的構造單元，可舉例如來自苯乙烯系單體的構造單元、來自乙烯系單體的構造單元、來自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體的構造單元等。

苯乙烯系單體，可舉例如：苯乙烯；如甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；如氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙 烯；以及二乙烯基苯等。

乙烯系單體，可舉例如：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯化乙烯、溴化乙烯等鹵化乙烯；氯化亞乙烯等鹵化亞乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯；如丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；以及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。

分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體，可舉例如：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基的單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基的單體等。

(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的重量平均分子量(Mw)較佳為50萬至250萬。重量平均分子量為50萬以上時，可提高在高濕熱環境下之黏著劑層的耐久性。重量平均分子量為250萬以下時，在塗佈黏著劑溶液時的處理性變好。以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)的比所表示的分子量分佈(Mw/Mn)，通常為2至10。重量平均分子量，可藉由凝膠滲透層析儀(GPC)進行分析，其為換算標準聚苯乙烯的值。

(甲基)丙烯酸系樹脂(a)溶解於乙酸乙酯而 成為濃度20重量%的溶液時，其在25℃之黏度較佳為20Pa‧s以下，更佳為0.1至15Pa‧s。如此的範圍之黏度，有利於提高附黏著劑層的光學膜及包含其之光學積層體的耐久性，且有利於附黏著劑層的光學膜的重工性。上述黏度，可藉由布氏(Brookfield)黏度計進行測定。

從使黏著性及耐久性同時成立的觀點來看，(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的玻璃轉移溫度較佳為-10℃至-60℃。再者，玻璃轉移溫度，可藉由示差掃描熱量計(DSC)進行測定。

(甲基)丙烯酸系樹脂(a)，通常可藉由溶液聚合法、總體聚合法(bulk polymerization)、懸浮聚合法、乳化聚合法等習知的聚合方法製造。於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的製造中，通常是在聚合起始劑的存在下進行聚合。聚合起始劑的使用量，相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的全部單體的合計100質量份，通常為0.001至5質量份。(甲基)丙烯酸系樹脂(a)係例如亦可藉由以紫外線等活性能量線而聚合的方法來製造。

聚合起始劑可舉例如熱聚合起始劑及光聚合起始劑等。光聚合起始劑，可舉例如4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑，可舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系 化合物；如過氧化月桂基、過氧化第3丁基、過氧化苯甲醯基、過氧化苯甲酸第3丁酯、過氧化氫異丙苯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第3丁酯、過氧化新戊酸第3丁酯、過氧化(3,5,5-三甲基己醯基)等有機過氧化物；如過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物。而且，將過氧化物與還原劑併用而成的氧化還原系起始劑等，也可作為聚合起始劑使用。

(甲基)丙烯酸系樹脂(a)，較佳為藉由溶液聚合法製造。具體而言，係將所期望的單體與有機溶劑混合，在氮氣環境下於所得的溶液中添加熱聚合起始劑。將所得之混合物，藉由在40至90℃左右(較佳為60至80℃左右)攪拌3至10小時左右，可得到(甲基)丙烯酸酯聚合物。為了控制聚合反應，聚合反應中可連續地或間歇地將單體、熱聚合起始劑或該兩者添加到反應系統內，亦可在溶解於有機溶劑的狀態下添加。有機溶劑可舉例如：甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；如乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯溶劑；如丙醇、異丙醇等脂肪族醇溶劑；如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮溶劑。

(甲基)丙烯酸系樹脂(a)，可包含2種以上的(甲基)丙烯酸酯聚合物。如此的(甲基)丙烯酸酯聚合物，可舉例如以前述來自(甲基)丙烯酸酯的構造單元(I)為主成分且重量平均分子量為5萬至30萬的範圍之較低分子量的(甲基)丙烯酸酯聚合物。

[2-2]交聯劑(b)

形成黏著劑層(B)的黏著劑組成物，較佳係包含交聯劑(b)。交聯劑(b)，可舉例如慣用的交聯劑(例如異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶(aziridine)化合物、金屬鉗合物、過氧化物等)，特別是從黏著劑組成物的適用期(pot life)以及附黏著劑層的光學膜的耐久性、交聯速度等的觀點來看，較佳為異氰酸酯系化合物。

異氰酸酯系化合物，較佳為分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)的化合物，可舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛酮二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、伸萘基二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。而且，交聯劑(b)亦可為：前述異氰酸酯化合物的多元醇化合物的加成物(adduct)[例如丙三醇、三羥甲基丙烷等的加成物]、三聚異氰酸酯(isocyanurate)化合物、縮二脲(biuret)型化合物；與聚醚聚醇、聚酯聚醇、丙烯酸系聚醇、聚丁二烯聚醇、聚異戊二烯聚醇等進行加成反應而成的胺酯預聚物型異氰酸酯化合物等的衍生物。交聯劑(b)可單獨使用或組合2種以上使用。該等之中，從耐久性的觀點來看，較佳為伸甲苯基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯及該等的多元醇化合物或該等的三聚異氰酸酯化合物。

交聯劑(b)的比例，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，例如可為0.01至10質量份(例如0.05至5質量份)，較佳為0.1至3質量份(例如0.1至2質量份)，更佳為0.1至1質量份(例如0.1至0.8質量份)。當其為上限值以下時，有利於耐久性(耐剝離性)的提高，當其為下限值以上時，有利於耐發泡性及重工性的提高。

[2-3]矽烷化合物(c)

黏著劑組成物含有矽烷化合物(c)。藉此，可提高黏著劑層與玻璃基板等的密著性。亦可使用2種以上的矽烷化合物(c)。

矽烷化合物(c)，可舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。

矽烷化合物(c)，可包含聚矽氧寡聚物型者。聚矽氧寡聚物的具體例，若以單體彼此組合的形式表示時，係如以下所示者：3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3- 巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基丙基的寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基甲基的寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有3-環氧丙氧基丙基的共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基的寡聚物；3-丙烯醯氧基 丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有丙烯醯氧基丙基的寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有乙烯基的寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有胺基的共聚物等。

黏著劑組成物中之矽烷化合物(c)的含量， 相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，通常為0.01至10質量份，較佳為0.03至5質量份，更佳為0.05至2質量份，又更佳為0.1至1質量份。矽烷化合物(c)的含量為0.01質量份以上時，容易得到使黏著劑層與基板(玻璃或透明電極)的密著性提高的效果。而且，含量為10質量份以下時，可抑制的矽烷化合物(c)從黏著劑層滲出。

[2-4]抗靜電劑

形成黏著劑層(B)的黏著劑組成物，可更包含抗靜電劑。藉由包含抗靜電劑，可提高經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的抗靜電性，例如可抑制在剝離分離膜或保護膜等時所產生的靜電而造成的不良狀況等。

抗靜電劑，可舉例如慣用者，較佳為離子性抗靜電劑。構成離子性抗靜電劑的陽離子成分，可舉例如有機陽離子、無機陽離子等。有機陽離子，可舉例如吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、吡咯烷鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。無機陽離子，可舉例如：鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子；鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。構成離子性抗靜電劑的陰離子成分，可為有機陰離子及無機陰離子的任一種，但是從抗靜電功能佳的觀點來看，較佳係包含氟原子的陰離子成分。包含氟原子的陰離子成分，可舉例如六氟磷酸鹽陰離子(PF₆ ^-)、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF₃SO₂)₂N^-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離 子[(FSO₂)₂N^-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C₆F₅)₄B^-]等。該等抗靜電劑，可單獨使用或組合2種以上使用。

從黏著劑組成物的抗靜電功能的經時安定性佳的觀點來看，係以在室溫下為固體的離子性抗靜電劑為佳。抗靜電劑的比例，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份而言，例如為0.01至10質量份，較佳為0.1至5質量份，更佳為0.5至4質量份。

[2-5]其他成分

形成黏著劑層(B)的黏著劑組成物，可含有單獨1種或2種以上的溶劑、交聯觸媒、紫外線吸收劑、耐候安定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑、光散射性微粒子、防鏽劑等添加劑。而且，於黏著劑組成物調配紫外線硬化性化合物，在形成黏著劑層後，照射紫外線使其硬化，有用於成為更硬的黏著劑層。

黏著劑層的厚度，通常為2至40μm，從經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的耐久性、重工性等的觀點來看，較佳為5至30μm，更佳為10至25μm。當其為上限值以下時，經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的重工性變好，當其為下限值以上時，耐久性變好。

關於黏著劑層(B)的儲存彈性模數，其在25℃的儲存彈性模數G’較佳為0.4MPa以下，更佳為0.3MPa以下，較佳為0.01MPa以下。當其為0.4MPa以下時，黏著劑的應力緩和性變好，可緩和由偏光板收縮所伴隨之 液晶面板的向上翹曲(液晶胞彎曲)。另一方面，儲存彈性模數G’變低時(例如0.4MPa以下)，有會容易產生因異物所造成的凹痕的傾向，但只要根據控制分離膜(C)的膜厚的本發明，即使是在使用儲存彈性模數較低的黏著劑層時，亦可提供凹痕防止效果佳的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜。

黏著劑層(B)的在25℃的儲存彈性模數G’，係例如可藉由實施例記載的方法測定。

黏著劑層(B)的儲存彈性模數G’，可藉由例如構成黏著劑層(B)的黏著劑組成物的調配((甲基)丙烯酸系樹脂、交聯劑、多官能基活性能量線硬化型化合物的種類/量)來控制。

[3]分離膜(C)

構成本發明的「經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜」的分離膜(C)，較佳係具有維氏硬度15以上的表面硬度。於維氏硬度15以上時，分離膜(C)具有高表面硬度，即使在表面附著有異物的狀態下加壓，也不易產生凹陷，使對於因光學膜的異物所造成的損傷、凹痕的防止效果佳。於本發明中，分離膜(C)的表面的維氏硬度較佳為15以上，更佳為17以上，特佳為19以上。分離膜(C)的維氏硬度高時，由於分離膜(C)變得容易破裂，故通常為200以下，較佳為150以下。再者，維氏硬度，係例如可根據實施例記載的方法測定。

分離膜(C)的表面硬度，可藉由例如構成分離膜的塑膠膜的選擇而控制成所期望的範圍。具體而言，例如以提高製膜時的延伸倍率來提高膜的強度，或是在製膜時以緩慢冷卻來使結晶粒徑變大，或是將使用的樹脂的分子量增大等，藉此而可提高表面硬度。

構成本發明的「經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜」的分離膜(C)，較佳係具有1mg以上的彎曲剛度。彎曲剛度為前述值以上時，可抑制光學膜的捲曲。於本發明中，分離膜的前述彎曲剛度更佳為1.5mg以上。分離膜(C)的彎曲剛度的上限，由於在剝離分離膜時能使分離膜的剝起變得容易，故通常為100mg以下，較佳為50mg以下，更佳為30mg以下。再者，前述彎曲剛度係根據實施例記載的方法測定的值。

分離膜(C)的彎曲剛度，例如藉由構成分離膜的塑膠膜的厚度或製膜條件(特別是延伸條件)等，而可控制成所期望的範圍。具體而言，例如藉由增厚基材的厚度、或提高基材的拉伸彈性模數，可使彎曲剛度變大。

於本發明中，分離膜(C)較佳係由塑膠膜及剝離層所構成。塑膠膜，可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜及聚萘二甲酸乙二酯膜等聚酯膜、聚丙烯膜等聚烯烴膜。其中，從光學特性、品質的觀點來看，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯膜，再者，由於尺寸安定性佳，較佳為經二軸延伸的聚對苯二甲酸乙二酯膜。而且，剝離層，係例如可由剝離層形成用組成物所形成，構成剝 離層形成用組成物的主成分(樹脂)係無特別限制，可舉例如聚矽氧樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸系樹脂及長鏈烷基樹脂等。其中，較佳為聚矽氧樹脂。

聚矽氧樹脂，可舉例如具有二甲基聚矽氧烷作為基本骨架的聚矽氧樹脂。而且，聚矽氧樹脂係有加成反應型、縮合反應型、紫外線硬化型、電子線硬化型等。其中，加成反應型聚矽氧樹脂，係因「反應性高且生產性佳，並且在與縮合反應型比較時，其製造後的剝離力的變化小，無硬化收縮」等優點，故為較佳。

上述加成反應型聚矽氧樹脂的具體例，可舉例如在分子的末端及/或側鏈具備2個以上的乙烯基、烯丙基、丙烯基、己烯基等碳數2至10的烯基之有機聚矽氧烷等。使用如此的加成反應型聚矽氧樹脂時，較佳係併用交聯劑及觸媒。

上述交聯劑，可舉例如1分子中具有至少2個鍵結於矽原子的氫原子的有機聚矽氧烷，具體而言，可舉例如二甲基氫矽氧基末端封閉的二甲基矽氧烷-甲基氫矽氧烷共聚物、三甲基矽氧基末端封閉的二甲基矽氧烷-甲基氫矽氧烷共聚物、三甲基矽氧基末端封閉的甲基氫聚矽氧烷、聚(氫倍半矽氧烷)等。

上述觸媒，可舉例如微粒子狀鉑、吸附於碳粉載體上的微粒子狀鉑、氯化鉑酸、經醇改性之氯化鉑酸、氯化鉑酸的烯烴錯合物、鈀、銠等的鉑金屬系化合物等。藉由使用如此的觸媒，可更有效率地進行剝離層形成 用組成物的硬化反應。

於剝離層形成用組成物中使用聚矽氧樹脂時，較佳係添加MQ樹脂等剝離調整劑。

而且，於剝離層形成用組成物中，亦可適當地調配添加劑。添加劑，可舉例如觸媒、染料、分散劑等。再者，於剝離層形成用組成物中，為了使塗佈時的黏度成為適當的範圍，亦可適當地包含分散媒質或溶劑。

分散媒質或溶劑，可舉例如甲苯等芳香族烴、乙酸乙酯等脂肪酸酯、甲基乙基酮(MEK)等酮、己烷、庚烷等脂肪族烴等有機溶劑等。

分離膜(C)，可藉由例如於塑膠膜的一面用以下的方法塗佈經稀釋於溶劑的剝離層形成用組成物而製作。可舉例如凹版塗佈法、棒塗法、噴塗法、旋轉塗佈法、空氣刀塗佈法、滾輪塗佈法、刮刀塗佈法、閘門滾輪(gete roll)塗佈法以及模具(die)塗佈法等。該等之中，較佳為凹版塗佈法及棒塗法，更佳為凹版塗佈法。

而且，剝離層形成用組成物的加熱‧乾燥方法，可舉例如藉由熱風乾燥爐等來進行熱乾燥的方法等。乾燥溫度係例如為50℃以上150℃以下。而且，乾燥時間係例如較佳為10秒至5分鐘。

分離膜(C)的膜厚，可藉由塑膠膜的厚度及剝離層的厚度來控制。其中，塑膠膜的厚度為主要的，可藉由選擇具有目標厚度之聚酯膜來控制。塑膠膜的厚度，較佳為45μm以上，更佳為47μm以上，又更佳為50μm 以上。塑膠膜的膜厚的上限，雖無特別限制，但通常為200μm以下，從在剝離分離膜時使剝起變得容易的觀點來看，例如較佳為150μm以下，更佳為100μm以下。剝離層的厚度(乾燥時)較佳為40至300nm，更佳為50至200nm，特佳為80至150nm。藉由使剝離層的厚度為40nm以上，可抑制因塗佈量變動所致之剝離力不均勻，藉由使其成為300nm以下，可抑制結塊。

[4]經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的構成及製造方法

例如，如第1圖所示，經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜1，其包含光學膜10及積層於該光學膜10之至少一面之黏著劑層20，並且於黏著劑層20的外表面積層分離膜30。於光學膜10的單面積層黏著劑層20。在將黏著劑層20積層於光學膜10的表面時，較佳係在光學膜10的貼合面及/或黏著劑層20的貼合面形成底塗層、或實施表面活性化處理(例如電漿處理、電暈處理等)，特佳係實施電暈處理。

於光學膜10與黏著劑層20之間，可另外設置抗靜電層。就抗靜電層而言，可使用：聚矽氧烷等矽系材料；錫摻雜的氧化銦、錫摻雜的氧化銻等無機金屬系材料；聚噻吩、聚苯乙烯磺酸、聚苯胺等有機高分子系材料。

經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜1，例如可藉由下述製程而得：將構成形成黏著劑層(B)的黏著劑 組成物的各成分溶解或分散於溶劑，製成含有溶劑的黏著劑組成物，然後將其塗佈於分離膜30的脫模處理面，使其乾燥，形成黏著劑層20，並將該黏著劑層20積層(轉印)於光學膜10的表面。

本發明的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，較佳係具有維氏硬度為15以上的表面硬度。當維氏硬度為15以上時，附黏著劑層的光學膜具有高表面硬度，即使在表面附著異物的狀態下加壓，也不易產生凹陷，使對於因光學膜的異物所造成的損傷、凹痕的防止效果佳。於本發明中，經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的表面的維氏硬度，更佳為17以上，又更佳為19以上。關於經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的維氏硬度的上限，若維氏硬度高，則經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜會變得容易破裂，故通常為200以下，較佳為150以下。再者，維氏硬度，係例如可根據實施例記載的方法測定。

經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的表面硬度，可藉由例如構成分離膜的塑膠膜的選擇來控制成所期望的範圍。具體而言，例如以提高製膜時的延伸倍率來提高膜的強度，或是在製膜時以緩慢冷卻來使結晶粒徑變大，或是將使用的樹脂的分子量增大等，藉此而可提高表面硬度。

[實施例]

以下，顯示實施例及比較例而更具體地說明本發明，但本發明不限於此等例。以下，表示使用量、 含量的份及%，在無另外註明下為質量基準。

1.分離膜 (1)分離膜的製作

(i)剝離層形成用組成物的調製

將具備乙烯基的有機聚矽氧烷及具備氫矽烷基(hydrosilyl)的有機聚矽氧烷、以及含有重剝離添加劑的聚矽氧樹脂溶液(Toray道康寧公司製，商品名：BY24-571，固形份30質量%)以固形份換算為30質量份，用甲苯/MEK=1/1的溶劑稀釋混合，使固形份濃度成為1.0質量%。於該溶液中，添加鉑系觸媒(Toray道康寧公司製，商品名：SRX-212，固形份100質量%)2質量份，調製剝離層形成用組成物。

(ii)分離膜1的製作

準備厚度50μm、端部方位角8度、霧度5%的二軸延伸的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜A(三菱樹脂公司製PET50T-193)。然後，於二軸延伸的PET膜A的一面，用棒塗器塗佈上述所得之剝離層形成用組成物，使乾燥後的厚度為0.1μm，於120℃乾燥1分鐘，形成剝離層，得到分離膜1。

(iii)分離膜2的製作

準備厚度38μm、端部方位角6度、霧度10%的二軸 延伸的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜B(Toray公司製PET38R-64)。然後，於二軸延伸的PET膜B的一面，用棒塗器塗佈上述所得之剝離層形成用組成物，使乾燥後的厚度為0.1μm，於120℃乾燥1分鐘，形成剝離層，得到分離膜2。

(2)分離膜的物性測定

(i)表面硬度

將上述製作的分離膜1及分離膜2分別切成40mm×40mm大小後，將分離膜的離型處理面(剝離層面)經由膜厚20μm的黏著劑層而貼合於40mm×40mm的玻璃。然後，將貼合於玻璃的評價樣品，於23℃ 55%的環境，使用超微小硬度測試機(FISCHERSCOPE HM2000：費希爾(Fischer)儀器股份有限公司製)，以0.1N/5s的加壓速度施加負載後，在維持0.1N的負載的狀態下保持5秒，測定維氏硬度。結果表示於表1。

(ii)彎曲剛度

<測定準備>

將上述製作的分離膜1及分離膜2分別切成25.4mm×25.4mm大小的測試片後，將測試片的一端安裝於格利(Gurley)式測試機(格利剛度測試機(電動式)2094-M：熊谷理機工業製)的可動臂的夾頭。對準可動臂A的刻度1吋(25.4mm)的位置而固定夾頭，使測試片先移動到離開擺錘 B的頂點的位置。然後，在擺錘B的支點下部的負載安裝孔a(1吋)的位置安裝5g秤錘，使其成為無振動的垂直狀態。

<測定操作>

將可動臂以2次/分鐘的速度往右或左定速移動。測試片的下部接觸擺錘B，讀取離開擺錘B時的刻度R，套用下述換算式而算出彎曲剛度。結果表示於表1。

S=((aWa+bWb+cWc)/5)×(l²/b)×11.1×R (mg)

S：彎曲剛度(mg)

a,b,c：負載安裝孔與擺錘的支點間的距離(吋)

Wa,Wb,Wc：安裝於負載安裝孔的秤錘的質量

l：測試片全長-1/2"(吋)

b：測試片的寬度(吋)

R：刻度的讀值

2.光學膜及經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的製作 (1)黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂A的調製

於具備攪拌機、溫度計、回流冷卻器、滴入裝置及氮氣導入管的反應容器中，放入丙烯酸正丁酯87.5質量份、丙烯酸甲酯5質量份、丙烯酸2-苯基乙酯5質量份、丙烯酸2-羥基乙酯2.5質量份、乙酸乙酯200質量份以及2,2’-偶氮雙異丁腈0.08質量份，以氮氣取代上述反應容器內的空氣。在此氮氣環境中一邊攪拌一邊將反應溶液升溫至60℃，使其反應16小時後，冷卻至室溫。此處，所得之溶液的一部分用後述的方法測定分子量，確認已生成重量平均分子量為200萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物。

上述(甲基)丙烯酸酯聚合物的重量平均分子量(Mw)，係使用凝膠滲透層析儀(GPC)，用以下的條件測定之換算聚苯乙烯的重量平均分子量。

[測定條件]

‧GPC測定裝置：Tosoh公司製HLC-8020

‧GPC管柱(通過如以下的順序)：Tosoh公司製

TSK guard column HXL-H

TSK gel GMHXL(x2)

TSk gel G2000HXL

‧測定溶劑：四氫呋喃

‧測定溫度：40℃

(2)黏著劑層的製作

(a)黏著劑組成物(A)的調製

將上述步驟(1)所得之(甲基)丙烯酸酯聚合物100質量 份(固形份的換算值；以下相同)、作為異氰酸酯系交聯劑(B)之經三羥甲基丙烷改性的伸二甲苯基二異氰酸酯(三井武田化學公司製，商品名「TAKENATE D-110N」)0.20質量份、作為矽烷偶合劑(C)的3-巰基丙基三甲氧基矽烷與甲基三乙氧基矽烷的共縮合物(信越化學公司製，商品名「X41-1810」)0.30質量份混合並充分攪拌，用乙酸乙酯稀釋，得到黏著劑組成物(A)的塗佈溶液。

(b1)黏著劑層1(黏著劑片1)的製作

在上述所得之分離膜1的脫模處理面(剝離層面)，藉由塗敷器以使乾燥後的厚度成為20μm之方式塗佈上述(a)調製的黏著劑組成物(A)後，在100℃乾燥1分鐘，得到黏著劑層1，作為黏著劑片1。

(b2)黏著劑層2(黏著劑片2)的製作

除了使用上述所得之分離膜2取代分離膜1以外，其餘與黏著劑層1的製作同樣操作而得到黏著劑層2，作為黏著劑片2。

(3)經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的製作 (I)實施例1：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1

(i)偏光膜(偏光件)A的調製

將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度75μm的聚乙烯醇膜(「Kuraray Poval Film VF-PS#7500」，可樂麗 (Kuraray)股份有限公司製)浸漬於37℃的純水後，在30℃浸漬於包含碘及碘化鉀的水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。然後，在56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸的水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇而成的厚度約28μm的偏光膜A。延伸，主要是在碘染色及硼酸處理的步驟中進行，全部的延伸倍率為5.3倍。

(ii)光學膜A的調製

於所得之偏光膜A的單面，經由以聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成的接著劑，貼合厚度40μm的由三乙醯基纖維素膜所構成的透明保護膜(「KC4UYW」，柯尼卡美能達光學股份有限公司製)，並且於與前述透明保護膜相反的面，貼合厚度23μm的環狀烯烴系樹脂膜(「ZF14-023」，日本ZEON股份有限公司製)，製作光學膜A(偏光板)。該光學膜A的厚度為約91μm。

(iii)經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1(偏光板)的製作

對於所得之光學膜A的貼合有環狀烯烴系樹脂膜的面，藉由積層機，將上述(b1)製作的黏著劑片1的與分離膜1為相反側的面(黏著劑層面)貼合後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，得到具有表2所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1(偏光板)。該 經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1的表面硬度(維氏硬度)為20.4。

(II)比較例1：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A2

除了使用上述(b2)製作的黏著劑片2取代黏著劑片1以外，其餘與上述經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1的製作同樣操作，而得到具有表2所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A2。該經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A2的表面硬度(維氏硬度)為13.5。

(III)實施例2：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B1

(i)偏光膜(偏光件)B的調製

將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30μm的聚乙烯醇膜(「Kuraray Poval Film VF-PE#3000」，可樂麗(Kuraray)公司製)浸漬於37℃的純水後，在30℃浸漬於包含碘及碘化鉀的水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。然後，在56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸的水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇而成的厚度約12μm的偏光膜B。延伸，主要是在碘染色及硼酸處理的步驟中進行，全部的延伸倍率為5.3倍。

(ii)光學膜B的調製

於所得之偏光膜B的單面，經由以聚乙烯醇系樹脂的 水溶液所構成的接著劑，貼合對厚度25μm的三乙醯基纖維素膜賦予7μm的硬塗層所得的透明保護膜(「25KCHCN-TC」，凸版印刷股份有限公司製)，並且於與前述透明保護膜相反的面，貼合厚度23μm的環狀烯烴系樹脂膜(「ZF14-023」，日本ZEON股份有限公司製)，製作光學膜B(偏光板)。該光學膜B的厚度為約67μm。

(iii)經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B1(偏光板)的製作

對於所得之光學膜B的貼合有環狀烯烴系樹脂膜的面，藉由積層機，將上述(b)製作的黏著劑片1的與分離膜1為相反側的面(黏著劑層面)貼合後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，得到具有表2所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B1(偏光板)。該經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B1的表面硬度(維氏硬度)為18.7。

(IV)比較例2：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B2

除了使用上述(b2)製作的黏著劑片2取代黏著劑片1以外，其餘與上述經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B1的製作同樣操作，而得到具有表2所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B2。該經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜B2的表面硬度(維氏硬度)為12.7。

(V)參考例1：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜C1

(i)偏光膜(偏光件)C的調製

將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度75μm的聚乙烯醇膜(「Kuraray Poval Film VF-PS#7500」，可樂麗(Kuraray)公司製)浸漬於37℃的純水後，在30℃浸漬於包含碘及碘化鉀的水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。然後，在56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸的水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇而成的厚度約28μm的偏光膜C。延伸，主要是在碘染色及硼酸處理的步驟中進行，全部的延伸倍率為5.3倍。

(ii)光學膜C的調製

於所得之偏光膜C的單面，經由以聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成的接著劑，貼合厚度60μm的由三乙醯基纖維素膜所構成的透明保護膜(「KC6UAW」，柯尼卡美能達光學股份有限公司製)，並且於與前述透明保護膜相反的面，貼合厚度50μm的環狀烯烴系樹脂膜(「ZB12-050135」，日本ZEON股份有限公司製)，製作光學膜C(偏光板)。該光學膜C的厚度為約138μm。

(iii)經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜C1(偏光板)的製作

對於所得之光學膜C的貼合有環狀烯烴系樹脂膜的 面，藉由積層機，將上述(b)製作的黏著劑片1的與分離膜1為相反側的面(黏著劑層面)貼合後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，得到具有表2所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜C1(偏光板)。

(VI)參考例2：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜C2

除了使用上述(b2)製作的黏著劑片2取代黏著劑片1以外，其餘與上述經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜C1的製作同樣操作，而得到具有表2所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜C2。

上述製作的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1、A2、B1、B2、C1及C2的表面硬度，係「分別將各膜切成40mm×40mm大小後，將與貼合有分離膜側為相反的面，經由膜厚20μm的黏著劑層而貼合於40mm×40mm的玻璃，並將貼合於玻璃的評價樣品，於23℃ 55%的環境使用超微小硬度測試機(FISCHERSCOPE HM2000：費希爾儀器股份有限公司製)，以0.1N/5s的加壓速度施加負載後，在維持0.1N的負載狀態下保持5秒而測定的維氏硬度」。

3.經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的損傷/凹痕防止效果的評價

根據以下的方法，評價經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的損傷/凹痕防止效果。

將經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A1(實施例1)、B1(實施例2)、A2(比較例1)、B2(比較例2)、C1(參考例1)及C2(參考例2)，分別以使偏光板的延伸軸方向成為長邊之方式裁切成120mm×75mm的大小，並以使分離膜的表面朝上之方式設置於堅固平坦的平面上。於設置的「經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜」的分離膜面上，使用刮刻式硬度測試器(Erichsen公司製的硬度測試鉛筆模型318/318S)，進行抗壓陷性的測試。該測試，係在分離膜表 面的任意處(半徑約0.75mm)用規定的固定力按壓半球形碳化鎢針(tungsten tip)以確認是否有產生凹痕的測試。

將刮刻式硬度測試器用5秒0.1N的壓力按壓在分離膜表面後，使刮刻式硬度測試器離開分離膜表面。該操作分別在經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜的5處進行，在分離膜表面上給予5個凹痕。在使測試器剛離開分離膜表面後(初期)及離開24小時後，分別用目視確認殘留於分離膜表面的凹陷狀態，當有殘留凹陷時判定為「未消滅」，未殘留時則判定為「消滅」。各時間之「未消滅數」係表示於表3。

分離膜的膜厚為45μm以上且偏光板(光學膜)的膜厚為100μm以下的實施例1及2的附黏著劑層的光學膜，係在使刮刻式硬度測試器從分離膜表面離開24小時後，連1個凹痕(凹陷)都未殘留。相對於此，分離膜 的膜厚未達45μm的比較例1及2的附黏著劑層的光學膜，係在使刮刻式硬度測試器從分離膜表面離開24小時後，仍有殘留凹痕。特別是比較例2，在24小時後係殘留全部的凹痕。再者，具有超過100μm的厚度之光學膜(參考例1及2)，係由於光學膜本身的膜厚(138μm)厚，故不易產生凹陷，不論分離膜的厚度，在24小時後之凹痕皆消滅。

<儲存彈性模數的測定>

以使厚度成為0.6mm之方式積層複數層黏著劑層。從所得之黏著劑層沖切直徑8mm的圓柱體(高度0.6mm)，將其作為儲存彈性模數G’的測定用樣品。

對上述樣品，根據JIS K7244-6，使用黏彈性測定裝置(Physica公司製，MCR300)，藉由扭轉剪切法，依以下的條件，測定儲存彈性模數(MPa)。

[測定條件]

測定頻率：1Hz

測定溫度：25℃

由上述黏著劑組成物(A)形成的黏著劑層的儲存彈性模數為0.085MPa。

(VII)實施例3：經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A3 (1)黏著劑層用(甲基)丙烯酸樹脂B的調製

於具備攪拌機、溫度計、回流冷卻器、滴入裝置及氮 氣導入管的反應容器中，放入丙烯酸正丁酯94質量份、丙烯酸2-羥基乙酯5.0質量份、丙烯酸1.0質量份、乙酸乙酯200質量份以及2,2’-偶氮雙異丁腈0.08質量份，以氮氣取代上述反應容器內的空氣。在此氮氣環境中一邊攪拌一邊將反應溶液升溫至60℃，使其反應16小時後，冷卻至室溫。此處，所得之溶液的一部分用前述記載的方法測定分子量，確認已生成重量平均分子量為200萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物。

(2)黏著劑組成物(B)的調製

將上述步驟(1)所得之(甲基)丙烯酸酯聚合物100質量份(固形份的換算值；以下相同)、作為異氰酸酯系交聯劑(B)之經三羥甲基丙烷改性的伸甲苯基二異氰酸酯[總研化學公司製，商品名「L-45」]1.0質量份、作為矽烷偶合劑(C)的γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷[信越化學工業公司製「KBM403」]0.20質量份、作為多官能基活性能量線硬化型化合物之三(丙烯醯氧基乙基)三聚異氰酸酯[東亞合成公司製，商品名「M-315」]10質量份、作為光聚合起始劑的1-羥基環己基苯基酮[汽巴精化(CIBA Specialty Chemical)公司製，商品名「Irgacure 184」]1質量份混合並充分攪拌，用乙酸乙酯稀釋，得到黏著劑組成物(B)的塗佈溶液。

(3)黏著劑層(黏著劑片3)的製作

在上述所得之分離膜1的脫模處理面(剝離層面)，藉由塗敷器以使乾燥後的厚度成為20μm之方式塗佈上述(a2)調製的黏著劑組成物(B)後，在100℃乾燥1分鐘，得到黏著劑層3，作為黏著劑片3。從剝離片側用下述的條件照射紫外線(UV)，製作黏著劑片3。

<UV照射條件>

‧Fusion公司製無電極燈，使用H燈泡

‧照度600mW/cm²、光量150mJ/cm²

UV照度‧光量計係使用Eye Graphics公司製「UVPF-36」。

<儲存彈性模數的測定>

使用與黏著劑組成物(A)之上述測定方法相同的方法，測定由黏著劑組成物(B)形成的黏著劑層的在25℃之儲存彈性模數。由黏著劑組成物(B)形成的黏著劑層的在25℃之儲存彈性模數為0.55MPa。

(4)經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A3(偏光板)的製作

對於所得之光學膜B的貼合有環狀烯烴系樹脂膜的面，藉由積層機，將上述(3)製作的黏著劑片3的與分離膜1為相反側的面(黏著劑層面)貼合後，在溫度23℃、相對濕度65%的條件下熟化7天，得到具有表4所示的層構成的經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜A3(偏光板)。

使用與實施例1同樣的方法，進行經積層分 離膜之附黏著劑層的光學膜的損傷/凹痕防止效果的評價。結果表示於表4。

Claims (4)

1. 一種經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其包含：在光學膜(A)的至少一面經由黏著劑層(B)而積層的分離膜(C)；其中，前述分離膜(C)的膜厚為45μm以上，前述光學膜(A)的膜厚為100μm以下。
2. 如申請專利範圍第1項所述之經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其中，前述分離膜(C)為單獨顯示表面的維氏硬度為15以上的分離膜。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其中，前述分離膜(C)為單獨顯示彎曲剛度為1mg以上的分離膜。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之經積層分離膜之附黏著劑層的光學膜，其中，黏著劑層(B)在25℃的儲存彈性模數G’為0.4MPa以下。