TW201808607A - 硬塗薄膜 - Google Patents

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Abstract

一種硬塗薄膜1，其具備基材薄膜2、層積在基材薄膜2的至少一主面側之第1硬塗層3，及層積在第1硬塗層3之與基材薄膜2側為相反的主面側之第2硬塗層4，基材薄膜2為聚醯亞胺薄膜，第1硬塗層3及第2硬塗層4係由互相不同的材料所構成，第1硬塗層3的折射率與第2硬塗層4的折射率之差係絕對值為0.04以下，第1硬塗層3的厚度及第2硬塗層4的厚度之合計為7μm以上、35μm以下。此種硬塗薄膜1係具有經得起重複彎曲之耐彎曲性，同時不容易產生卷曲，並且還不容易產生干涉條紋。

Description

硬塗薄膜
本發明係有關於一種具備基材薄膜及硬塗層之硬塗薄膜，特別是有關於一種能夠適合使用在可撓性顯示器之硬塗薄膜。
在各種電子機器，係廣泛地利用液晶顯示器(LCD)、有機EL顯示器(OELD)、更包括觸控面板等的各種顯示器。在該等各種顯示器的表面，為了防止損傷，多半設置有在基材薄膜設置有硬塗層的硬塗薄膜。
近年來，作為如上述的顯示器，係開發能夠彎曲的顯示器亦即所謂的可撓性顯示器。可撓性顯示器係在廣濶的用途被期待，例如使其彎曲而設置在圓柱狀支柱之安置型顯示器用、或折彎或弄圓而能夠搬運之移動式顯示器用。作為可撓性顯示器用硬塗薄膜，在專利文獻1及2係提案揭示一種硬塗薄膜。
在此，可撓性顯示器，不是僅進行1次曲面成形，如專利文獻3所記載，亦有使其重複彎曲(折彎)之情況。
先前技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本特許第5468167號公報
[專利文獻2]日本特開2015-69197號公報
[專利文獻3]日本特開2016-2764號公報
但是，將先前的硬塗薄膜使用在如上述用途的可撓性顯示器時，在使其重複彎曲的部分，有產生彎曲痕跡、或白化致使外觀低落，同時作為顯示器之視認性低落之問題。
又，追求如上述經得起重複彎曲之耐彎曲性時，依照所使用的基材薄膜種類等，帶黃色等著色、透明性等的光學特性係成為問題。而且，為了改善此種情形而將基材薄膜的膜厚減低時，硬塗層佔有硬塗薄膜全體之比率係相對地變大且在硬塗薄膜形成時有產生卷曲之問題。
另一方面，在硬塗薄膜，有因各種重要原因而產生干涉條紋之情形。在硬塗薄膜產生干涉條紋時，仍然有外觀低落，同時作為顯示器之視認性低落之問題。
本發明係鑒於此種實際情狀而進行，其目的係提供一種具有經得起重複彎曲之耐彎曲性，同時不容易產生干涉條紋之硬塗薄膜。
為了達成上述目的，本發明第1係提供一種硬塗薄膜，其係具備基材薄膜、層積在基材薄膜的至少一主面側之第1硬塗層，及層積在前述第1硬塗層之與前述基材薄膜側為相反的主面側之第2硬塗層之硬塗薄膜，其特徵在於：前述基材薄膜為聚醯亞胺薄膜，前述第1硬塗層及前述第2硬塗層係 由互相不同的材料所構成，前述第1硬塗層的折射率與前述第2硬塗層的折射率之差係絕對值為0.04以下，前述第1硬塗層的厚度及前述第2硬塗層的厚度之合計為7μm以上、35μm以下(發明1)。
上述發明(發明1)之硬塗薄膜，係藉由基材薄膜為聚醯亞胺薄膜，同時第1硬塗層的厚度及第2硬塗層的厚度之合計為上述範圍，而具有優異的耐彎曲性。又，藉由第1硬塗層的折射率與第2硬塗層的折射率之差為上述範圍，同時第1硬塗層的厚度及第2硬塗層的厚度之合計為上述範圍，該硬塗薄膜係成為不容易產生干涉條紋者。而且，藉由第1硬塗層及第2硬塗層係由互相不同的材料所形成，同時第1硬塗層的厚度及第2硬塗層的厚度之合計為上述範圍，該硬塗薄膜係不容易產生卷曲而且亦具有優異的耐擦傷性。
在上述發明(發明1)，較佳是前述第1硬塗層及前述第2硬塗層，係由使含有活性能量線硬化性成分的組成物硬化之材料所形成，且前述第1硬塗層係由比前述第2硬塗層更柔軟的材料所形成(發明2)。
在上述發明(發明1、2)，較佳是前述第1硬塗層係由使含有被環氧烷(alkylene oxide)改性的活性能量線硬化性成分之組成物硬化而成的材料所形成，且前述第2硬塗層係由含有未被環氧烷改性的活性能量線硬化性成分之組成物硬化而成的材料所形成(發明3)。
在上述發明(發明2、3)，較佳是前述活性能量線硬化性成分為多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體(發明4)。
在上述發明(發明1~4)，較佳是前述第1硬塗層的折射率為1.40以上、1.80以下(發明5)。
在上述發明(發明1~5)，較佳是前述第2硬塗層的折射率為1.40以上、1.80以下(發明6)。
在上述發明(發明1~6)，較佳是前述第1硬塗層的厚度為3μm以上、30μm以下(發明7)。
在上述發明(發明1~7)，較佳是前述第2硬塗層的厚度為0.75μm以上、10μm以下(發明8)。
在上述發明(發明1~8)，較佳是前述聚醯亞胺薄膜的厚度為5μm以上、300μm以下(發明9)。
在上述發明(發明1~9)之硬塗薄膜，是作為構成可撓性顯示器之可撓性構件被使用(發明10)
在上述發明(發明1~10)，較佳是在前述基材薄膜的至少一主面側層積有黏著劑層(發明11)。
本發明之硬塗薄膜係具有優異的耐擦傷性且具有經得起重複彎曲之耐彎曲性，同時不容易產生卷曲，並且還不容易產生干涉條紋。
1、1A‧‧‧硬塗薄膜
2‧‧‧基材薄膜
3‧‧‧第1硬塗層
4‧‧‧第2硬塗層
5‧‧‧黏著劑層
第1圖係本發明的一實施形態之硬塗薄膜的剖面圖。
第2圖係本發明的其它實施形態之硬塗薄膜的剖面圖。
用以實施發明之形態
以下，說明本發明的實施形態。
第1圖係本發明的一實施形態之硬塗薄膜的剖面圖。本實施形態之硬塗薄膜1係具備基材薄膜2、層積在基材薄膜2的至少一主面側(在第1圖為上側)之第1硬塗層3，及層積在第1硬塗層3之與基材薄膜2側為相反的主面側(在第1圖為上側)之第2硬塗層4而構成。又，第1硬塗層3及第2硬塗層4係由互相不同的材料所形成。
在上述硬塗薄膜1，基材薄膜2為聚醯亞胺薄膜。藉由基材薄膜2為聚醯亞胺薄膜，將該硬塗薄膜1應用在可撓性顯示器且進行重複彎曲時，能夠抑制在基材薄膜2產生彎曲痕跡、或白化且耐彎曲性優異。因而，使用本實施形態之硬塗薄膜1之可撓性顯示器，在預定部分使其重複彎曲時，能夠抑制在該彎曲部分之外觀低落、或視認性低落。
又，第1硬塗層3的折射率與第2硬塗層4的折射率之差係絕對值為0.04以下，第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計為7μm以上、35μm以下。藉由第1硬塗層3的折射率與第2硬塗層4的折射率之差係絕對值為0.04以下，能夠抑制光線在第1硬塗層3與第2硬塗層4的界面產生反射，且不容易與在第2硬塗層4的表面之反射光產生干渉。又，藉由第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計為7μm以上，相較於光線的波長，該厚度為相當地較大，在第1硬塗層3與基材薄膜2的界面所反射的光線，不容易與在第2硬塗層4的表面之反射光產生干渉。而且，因為在第1硬塗層3與基材薄膜2的界面所反射的光線之強度(反射強 度)，通過第1硬塗層3及第2的硬塗層4時變弱，從此方面而言，不容易與在第2硬塗層4的表面之反射光產生干渉。藉由該等作用，在硬塗薄膜1能夠抑制干涉條紋的產生。又，在本說明書之折射率的測定波長係設為589nm、測定溫度為25℃。詳細的折射率的測定方法，係如後述的試驗例所揭示。
從抑制產生干涉條紋之觀點而言，第1硬塗層3的折射率與第2硬塗層4的折射率之差，係絕對值以0.02以下為佳，以0.01以下為較佳。
又，藉由第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計為7μm以上，硬塗薄膜1亦成為具有優異的耐擦傷性者。從抑制產生干涉條紋及耐擦傷性的觀點而言，第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計係以9μm以上為佳，以10m以上為特佳。
另一方面，藉由第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計為35μm以下，硬塗薄膜1成為容易折彎易者，成為具有優異的耐彎曲性者。從此種的觀點而言、第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計係以30μm以下為佳，以25μm以下為特佳。
又，藉由第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之合計為上述範圍，而且第1硬塗層3及第2硬塗層4係由互相不同的材料所形成，特別是第1硬塗層3係由比第2硬塗層4更柔軟的材料所形成，在該硬塗薄膜1製造時不容產生卷曲。
(1)硬塗薄膜的構成構件
(1-1)基材薄膜
本實施形態之硬塗薄膜1的基材薄膜2為聚醯亞胺薄膜，顯示器用之情況，係以透明且帶黃色較少的聚醯亞胺薄膜為佳。藉此，能夠得到顯示透明且色再現性較高的影像之顯示器(特別是可撓性顯示器)。
具體而言，作為在本實施形態所使用的聚醯亞胺薄膜，從透明性的觀點而言，在波長550nm之透射率係以75%以上為佳，以80%以上為較佳，以85%以上為特佳。在本說明書之透射率的測定方法，係如後述的實施例所揭示。
又，作為在本實施形態所使用的聚醯亞胺薄膜，從減少帶黃色之觀點而言，使用透射測定法之L*a*b*表色系的b*之絕對值，係以10以下為佳，以5以下為較佳，以3以下為特佳。在本說明書之b*的測定方法係如後述的實施例所揭示。
在本說明書之所謂聚醯亞胺薄膜，係指含有較佳是50質量%以上、特佳是80質量%以上、更佳是90質量%以上之聚醯亞胺、亦即在主鏈具有醯亞胺鍵的聚合物之薄膜。又，因為聚(甲基)丙烯醯亞胺不是在主鏈具有醯亞胺鍵，所以不是聚醯亞胺，使此種聚(甲基)丙烯醯亞胺薄膜重複彎曲時，會產生白化。
聚醯亞胺薄膜，係通常能夠使四羧酸酐(較佳為芳香族四羧酸二酐)與二胺(較佳為芳香族二胺)在溶液中聚合而生成聚醯胺酸之後，將該聚醯胺酸成形為薄膜狀，其次，藉由將聚醯胺酸部位進行脫水閉環來得到，但是不被此限定。
在聚醯亞胺薄膜之聚醯亞胺亦可被改性。例如，在聚醯亞胺通常所含有的芳香環亦可被脂肪族烴改性，藉此，基材薄膜2係成為與第2硬塗層4具有優異的密著性者。
作為聚醯亞胺薄膜的折射率之下限值，通常1.50以上，較佳為1.55以上，更佳為1.60以上。又，作為聚醯亞胺薄膜的折射率之上限值，通常1.85以下，較佳為1.80以下，更佳為1.75以下。
在上述聚醯亞胺薄膜，為了提升與在其表面所設置的層(第2硬塗層4、或後述的黏著劑層等)的密著性之目的，能夠依照需要而藉由底漆處理、氧化法、凹凸化法等對一面或兩面施行表面處理。作為氧化法，例如可舉出電暈放電處理、鉻酸處理、火焰處理、熱風處理、臭氧．紫外線處理等，作為凹凸化法，例如可舉出噴砂處理法、溶劑處理法等。
作為上述聚醯亞胺薄膜的厚度之下限值，係以5μm以上為佳，以7.5μm以上為特佳，進而以10μm以上為佳。藉由聚醯亞胺薄膜的厚度為上述以上，硬塗薄膜1係成為可發揮預定機械強度，即便使其重複彎曲時，亦不容易產生斷裂等。另一方面，作為上述聚醯亞胺薄膜的厚度之上限值，係以300μm以下為佳，以90μm以下為特佳，進而以50μm以下為佳，以30μm以下為最佳。因為聚醯亞胺薄膜容易著色，藉由聚醯亞胺薄膜的厚度為上述以下，能夠確保透明性且能夠將上述b*值抑制成為較低，而能夠適合使用作為光學用。又，聚醯亞胺薄膜的厚度為上述以下時，硬塗薄膜1係成為可發揮預定柔可撓性且容易使其彎曲者。
(1-2)第1硬塗層
本實施形態之硬塗薄膜1的第1硬塗層3，係層積在基材薄膜2的一主面側(在第1圖為上側)，如前述，與第2硬塗層4共同發揮抑制產生干涉條紋之作用及耐擦傷性。
第1硬塗層3的材料，係與第2硬塗層4的折射率之折射率差為前述範圍，只要與第2硬塗層4共同發揮所需要的耐擦傷性者，就沒有特別限定。此種第1硬塗層3，係以由使含有活性能量線硬化性成分的組成物硬化而成之材料所形成為佳，以由比第2硬塗層4更柔軟的材料所形成為特佳。具體而言，較佳是由使含有被環氧烷改性的活性能量線硬化性成分之組成物硬化而成的材料所形成。藉由由比第2硬塗層4更柔軟的材料來構成第1硬塗層3，而成為具有優異的耐彎曲性者。而且，第1硬塗層3的硬化收縮量變小，即便第1硬塗層3與第2硬塗層4的合計厚度較厚，係能夠抑制在硬塗薄膜1的製造時產生卷曲。
(1-2-1)活性能量線硬化性成分
作為具體的活性能量線硬化性成分，可舉出多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體、(甲基)丙烯酸酯系預聚合物、活性能量線硬化性聚合物等，尤其是以多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體及/或(甲基)丙烯酸酯系預聚合物為佳，以多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體為較佳。多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體及(甲基)丙烯酸酯系預聚合物可各自單獨使用，亦可將兩者併用。又，在本說明書，所謂(甲基)丙烯酸酯，係意味著丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯之雙方。其它類似用語亦同樣。
作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體，例如可舉出1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、己內酯改性二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化二(甲基)丙烯酸環己酯、三聚異氰酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸參(丙烯醯氧基乙基)酯、丙酸改性二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、該等的環氧烷改性物等的多官能性(甲基)丙烯酸酯。該等可單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
上述之中，從所得到的硬塗薄膜之耐彎曲性及抑制卷曲的觀點而言，以被環氧烷改性的多官能(甲基)丙烯酸酯系單體為佳。例如，具體而言，可舉出以環氧烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧烷改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯及環氧烷改性二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯為佳，以環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯及環氧丙烷改性二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯為特佳，進而以環氧乙烷改性二新戊四 醇六(甲基)丙烯酸酯及環氧乙烷改性二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯為佳。被環氧烷改性的多官能性(甲基)丙烯酸酯，其交聯點之間的距離變長，在硬化後呈現較柔軟的物性，成為硬化收縮量較小者。藉由第1硬塗層3係由此種材料所構成，即便第1硬塗層3與第2硬塗層的合計厚度較厚，亦具有優異的耐彎曲性，而且能夠有效地抑制在硬塗薄膜1的製造時產生卷曲。
環氧烷相對於多官能性(甲基)丙烯酸酯之導入量，係相對於多官能性(甲基)丙烯酸酯1莫耳，以2莫耳以上為佳，以6莫耳以上為特佳，進而20莫耳以上為佳。又，該導入量係以50莫耳以下為佳，以45莫耳以下為特佳，進而以40莫耳以下為佳。藉由環氧烷的導入量為2莫耳以上，該環氧烷改性多官能性(甲基)丙烯酸酯係成為硬化收縮量較小者。又，藉由環氧烷的導入量為50莫耳以下，使該環氧烷改性多官能性(甲基)丙烯酸酯硬化時，能夠得到所需要的硬度。
又，在活性能量線硬化性成分中之環氧烷改性多官能性(甲基)丙烯酸酯的比率，從耐彎曲性及抑制卷曲之觀點而言，係以30質量%以上為佳，以50質量%以上為較佳，以80質量%以上為特佳，以90質量%以上為更佳。又，該比率係100質量%亦無妨。
另一方面，作為(甲基)丙烯酸酯系預聚合物，例如可舉出聚酯丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、胺甲酸乙酯丙烯酸酯系、多元醇丙烯酸酯系等的預聚合物。
作為聚酯丙烯酸酯系預聚合物，例如能夠將多元羧酸與多元醇藉由縮合而得到之在兩末端具有羥基之聚酯寡 聚物的羥基，藉由使用(甲基)丙烯酸進行酯化，或是將環氧烷附加在多元羧酸而得到的寡聚物的末端之羥基，藉由使用(甲基)丙烯酸進行酯化來得到。
環氧丙烯酸酯系預聚合物，係例如能夠藉由使(甲基)丙烯酸對分子量較低的雙酚型環氧樹脂、或酚醛清漆型環氧樹脂等的環氧乙烷環進行反應而酯化來得到。
胺甲酸酯丙烯酸酯系預聚合物，係例如能夠將聚醚多元醇、或聚酯多元醇等與聚異氰酸酯藉由反應而得到的聚胺酯寡聚物，藉由使用(甲基)丙烯酸進行酯化來得到。
多元醇丙烯酸酯系預聚合物，係例如能夠將聚醚多元醇的羥基，藉由使用(甲基)丙烯酸進行酯化來得到。
以上的預聚合物可單獨使用1種，亦可組合2種以上而使用。
(1-2-2)光聚合起始劑
在第1硬塗層3係由使含有活性能量線硬化性成分的組成物硬化而成之材料所形成時，使用紫外線作為活性能量線時，該組成物係以含有光聚合起始劑為佳。藉由如此地含有光聚合起始劑，能夠使活性能量線硬化性成分效率良好地聚合、又，能夠減少聚合硬化時間及紫外線的照射量。
作為此種光聚合起始劑，例如可舉出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻-正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯乙酮、二甲胺基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2- 嗎啉-丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯基酮、對苯基二苯基酮、4,4’-二乙胺基二苯基酮、二氯二苯基酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2-甲基9-氧硫、2-乙基9-氧硫、2-氯9-氧硫、2,4-二甲基9-氧硫、2,4-二乙基9-氧硫、苄基二甲縮酮、苯乙酮二甲縮酮、對二甲胺基苯甲酸酯、寡聚[2-羥基-2-甲基-1[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦等。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而使用。
在組成物中之光聚合起始劑的含量，相對於活性能量線硬化性成分100質量份，下限值係以0.01質量份以上為佳，以0.1質量份以上為特佳，進而以1質量份以上為佳。又，上限值係以20質量份以下為佳，以10質量份以下為特佳，進而以5質量份以下為佳。
(1-2-3)氧化矽奈米粒子
構成第1硬塗層3之組成物，亦可含有氧化矽奈米粒子。藉此，能夠進一步減小第1硬塗層3的硬化收縮量。
氧化矽奈米粒子的平均粒徑之下限值，係以2nm以上為佳，以6nm以上為特佳，進而以8nm以上為佳。又，上限值以300nm以下為佳，以100nm以下為特佳，進而以50nm以下為佳。氧化矽奈米粒子的平均粒徑為2nm以上時，能夠更容易得到減小第1硬塗層3的硬化收縮量之效果。又，氧化矽奈米粒子的平均粒徑為300nm以下時，在所得到的第1硬塗層3不容易產生光線的散射且第1硬塗層3的透明性變高。又，氧化矽奈米粒子的平均粒徑係藉由Z電位(Zeta-potential)測定 法而測定。
氧化矽奈米粒子係通常在表面具有矽烷醇基，依照該矽烷醇基而有在極性低的有機溶劑、或樹脂等之分散性低落之情形。為了提升分散性等之目的，該氧化矽奈米粒子亦可被有機物改性。又，氧化矽奈米粒子係以有機溶膠(膠體狀)的形態使用為佳。藉由以有機溶膠的形態使用，氧化矽奈米粒子的分散性變為良好，所得到的第1硬塗層3之均質性及光透射性提升。
藉由有機物之改性，能夠使用常用的方法進行。例如，藉由將如CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3的構造之矽烷偶合劑添加至氧化矽奈米粒子的有機溶膠，加溫至50℃左右，攪拌數小時，而能夠將氧化矽粒子的表面改性。使用的矽烷偶合劑的構造和量，係能夠按照氧化矽奈米粒子的分散性之要求程度而適當地選擇。
作為在上述有機溶膠所使用的有機溶劑，較佳是與活性能量線硬化性成分的相溶性及形成第1硬塗層3時具有優異的揮發性之甲基乙基酮、甲基異丁基酮等。
使氧化矽奈米粒子含有在本實施形態的第1硬塗層3時，其含量係在第1硬塗層3，下限值係以5質量%以上為佳，以10質量%以上為特佳，進而以30質量%以上為佳。藉由氧化矽奈米粒子的含量為5質量%以上，能夠進一步減小第1硬塗層3的硬化收縮量。另一方面，氧化矽奈米粒子的含量係在第1硬塗層3，上限值係以80質量%以下為佳，以75質量%以下為特佳，進而以70質量%以下為佳。藉由氧化矽奈 米粒子的含量為80質量%以下，容易將第1硬塗層3的折射率，設定為與第2硬塗層4的折射率接近之值，同時容易形成使用硬塗層用組成物而成之層。
又，氧化矽奈米粒子的含量，係能夠從調配比率而求取，調配比率為不清楚時，係能夠如以下地求取。亦即，將硬塗薄膜1的第1硬塗層3的一部分從基材薄膜2以斷片等的方式分離，將分離後之第1硬塗層3的斷片依據JIS 7250-1而燃燒有機成分。接著，能夠從所得到的灰分求取氧化矽奈米粒子的質量。
(1-2-4)其它成分
構成本實施形態的光學調整層3之組成物，係除了前述的成分以外，亦可含有各種添加劑。作為各種添加劑，例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、光安定劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、防止老化劑、熱聚合抑制劑、著色劑、界面活性劑、保存安定劑、可塑劑、滑劑、消泡劑、有機系填充材、濕潤性改良劑、塗面改良劑等。
(1-2-5)物性
第1硬塗層3的折射率之下限值，係以1.40以上為佳，以1.43以上為特佳，進而以1.45以上為佳。又，第1硬塗層3的折射率之上限值，係以1.80以下為佳，以1.70以下為特佳、進而1.60以下為佳。藉由第1硬塗層3的折射率為上述範圍，能夠容易地將與第2硬塗層4的折射率之折射率差設定為前述的範圍。
第1硬塗層3的厚度，係以3μm以上為佳，以4 μm以上為特佳，進而以5μm以上為佳。又，第1硬塗層3的厚度係以30μm以下為佳，以20μm以下為特佳，進而以15μm以下為佳。藉由第1硬塗層3的厚度為3μm以上，能夠容易抑制硬塗薄膜1的製造時產生卷曲，而且第1硬塗層3的耐擦傷性成為更優異者。又，第1硬塗層3的厚度為30μm以下時，硬塗薄膜1成為容易彎曲者且成為具有更優異的耐彎曲性者。
(1-3)第2硬塗層
本實施形態之硬塗薄膜1的第2硬塗層4，係能夠對硬塗薄膜1賦予較高的表面硬度，使耐擦傷性成為優異者。該第2硬塗層4係只要與第1硬塗層3的折射率滿足前述的關係且具有預定硬度者，就沒有特別限定。此種第2硬塗層4，較佳是由使含有活性能量線硬化性成分的組成物硬化而成之材料所形成，特別是從得到更優異的耐擦傷性的觀點而言，較佳是由使含有未被環氧烷改性的活性能量線硬化性成分的組成物硬化而成之材料所形成。
作為活性能量線硬化性成分，能夠使用與在第1硬塗層3所使用的前述活性能量線硬化性成分同樣物。但是，較佳是使用未被環氧烷改性的活性能量線硬化性成分。具體而言，以未被環氧烷改性的多官能性(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯丙烯酸酯系預聚合物、及該等的混合物等為佳，特別是從不會損害耐擦傷性，得到耐彎曲性的觀點而言，以二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等的脂肪族系多官能(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯丙烯酸酯系預聚合物、或 該等的混合物等為佳。
又，第2硬塗層4係由含有被環氧烷改性的多官能(甲基)丙烯酸酯之活性能量線硬化性成分形成時，從耐擦傷性的觀點而言，在第2硬塗層4所使用的活性能量線硬化性成分全體中之被環氧烷改性的多官能(甲基)丙烯酸酯之含量，係以60質量%以下為佳，以30質量%以下為較佳，以10質量%以下為特佳。又，下限值為0質量%。
使用紫外線作為用以將活性能量線硬化性成分硬化所照射之活性能量線時，上述組成物係以含有光聚合起始劑為佳。作為光聚合起始劑，能夠使用與在第1硬塗層3所使用的前述光聚合起始劑同樣物。
在本實施形態之第2硬塗層4亦可含有填料。藉此，能夠對第2硬塗層4賦予較高的表面硬度且能夠使耐擦傷性成為更優異者。
作為填料，係有機系填料、無機系填料的任一者均可，從能夠對第2硬塗層4賦予較高的表面硬度之觀點而言，係以使用無機系填料為佳，特別是以使用被有機化合物化學改性而成之無機系填料為佳，其中該有機化合物係具有藉由活性能量線照射而聚合之聚合性官能基。又，填料係能夠單獨1種或組合或2種以上而使用。
作為無機填料，例如可舉出由氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、氧化銻、氧化鈰等的金屬氧化物；氟化鎂、氟化鈉等的金屬氟化物等所形成之填料。上述之中，就對光學特性 的影響較少而言，以氧化矽及氧化鋁為佳，以氧化矽為特佳。
填料、特別是氧化矽填料表面亦可被化學改性，特別是以被有機化合物化學改性為佳，其中該有機化合物係具有藉由活性能量線照射而聚合之聚合性官能基。化學改性的具體結構係沒有限定，作為一個例子，可舉出透過矽烷偶合劑等而附加有聚合性官能基之結構。此種結構時，藉由活性能量線照射，填料與活性能量線硬化性成分係化學鍵結，而且在該等兩者間不容易產生剝離，第2硬塗層4的硬度容易成為較高。將如此地被具有聚合性官能基之有機化合物化學改性而成之填料稱為反應性填料，例如只要填料的種類為氧化矽，就能夠稱為反應性氧化矽填料。
填料的形狀可為球狀，亦可為非球狀。非球狀時，可為不定形，亦可為針狀、鱗片狀之縱橫比較高的形狀。從確保第2硬塗層4的透明性之觀點而言，填料係以球狀為佳。
填料的平均粒徑之下限值，係以1nm以上為佳，以3nm以上為特佳，進而以5nm以上為佳。藉由填料的平均粒徑為1nm以上，分散性提升。又，填料的平均粒徑之上限值，係以500nm以下為佳、以200nm以下為特佳，進而以50nm以下為佳。藉由填料的平均粒徑為500nm以下，在所得到的第2硬塗層4光線不容易產生散射且第2硬塗層4的透明性變高。又，填料的平均粒徑係設為藉由Z電位測定法測定一次粒徑。
本實施形態的第2硬塗層4係含有填料時，其含量之下限值，係以5質量%以上為佳，以20質量%以上為特佳，進而以50質量%以上為佳。藉由填料的含量為5質量%以上， 能夠有效地提升第2硬塗層4的硬度。另一方面，在第2硬塗層4，填料的含量之上限值係以90質量%以下為佳，以80質量%以下為特佳，進而以70質量%以下為佳。藉由填料的含量為90質量%以下，而容易形成層。
本實施形態的第2硬塗層4，係除了前述的成分以外，亦可含有與在第1硬塗層3所使用的各種添加劑同樣的各種添加劑。
第2硬塗層4的折射率之下限值，係以1.40以上為佳，以1.43以上為特佳，進而以1.45以上為佳。又，第2硬塗層4的折射率之上限值，係以1.80以下為佳，以1.70以下為佳、進而1.60以下為佳。藉由第2硬塗層4的折射率為上述範圍，能夠使與第1硬塗層3的折射率之折射率差容易地設定在前述範圍。
第2硬塗層4的厚度係以0.75μm以上為佳，以1μm以上為特佳，進而以1.5μm以上為佳。又，第2硬塗層4的厚度係以10μm以下為佳，以8μm以下為特佳，進而以6μm以下為佳。藉由第2硬塗層4的厚度為0.75μm以上，第2硬塗層4的耐擦傷性係成為更優異者。又，第2硬塗層4的厚度為10μm以下時，硬塗薄膜1係成為能夠進一步抑制產生卷曲者。
第1硬塗層3的厚度與第2硬塗層4的厚度之比，係以10：90~90：10為佳，以40：60~80：20為特佳，進而以50：50~80：20為特佳。藉由該比為上述範圍內，在所得到的硬塗薄膜1之耐擦傷性及耐彎曲性係成為更優異者，同時亦成 為能夠進一步抑制產生卷曲者。
(2)硬塗薄膜的製造方法
本實施形態之硬塗薄膜1，係能夠適合使用以下的方法來製造。又，在本方法，作為一個例子，係設為使用含有活性能量線硬化性成分之組成物來形成第1硬塗層3及第2硬塗層4。
首先，調製含有構成第1硬塗層3的組成物(第1硬塗層3用組成物)、以及依照需要的溶劑之第1硬塗層3用組成物的塗佈液。又，同樣地，調製含有構成第2硬塗層4的組成物(第2硬塗層4用組成物)、以及依照需要的溶劑之第2硬塗層4用組成物的塗佈液。
作為溶劑，例如可舉出己烷、庚烷等的脂肪族烴、甲苯、二甲苯等的芳香族烴、二氯甲烷、二氯乙烷等的鹵化烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙二醇一甲醚等的醇類、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、2-戊酮、異佛爾酮、環己酮等的酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等的酯、乙基賽路蘇等的賽路蘇系溶劑等。溶劑可以只使用1種類，亦可混合2種類以上而使用。塗佈液的濃度．黏度係能夠塗佈的範圍即可，而沒有特別限制，能夠按照狀況而適當地選定。
將第1硬塗層3用組成物的塗佈液塗佈在基材薄膜2的一主面，使其乾燥之後，藉由後述的條件下照射活性能量線。藉此，第1硬塗層3用組成物的塗膜硬化且形成第1硬塗層3。其次，將第2硬塗層4用組成物的塗佈液塗佈在所得到的第1硬塗層上且使其乾燥後，依照後述的條件下，照射活性能量線。藉此，第2硬塗層4用組成物塗膜硬化且形成第2 硬塗層4。又，第1硬塗層3及第2硬塗層4的形成方法，係不被前述的方法限定，亦能夠將2層的塗佈液依次塗佈．乾燥，藉由一次照射活性能量線照射，而能夠同時形成第1硬塗層3及第2硬塗層4。
塗佈液的塗佈，係使用常用方法進行即可，例如使用棒塗佈法、刮刀塗佈法、繞線棒法、輥塗佈法、刮板塗佈法、模塗佈法、凹版塗佈法而進行即可。塗膜的乾燥，係例如能夠藉由在40~180℃加熱30秒~5分鐘左右而進行。
作為活性能量線，係能夠使用紫外線、電子射線等。紫外線照射係能夠使用高壓水銀燈、光固化H燈(Fusion H lamp)、氙燈等而進行，紫外線的照射量，係以照度50~1000mW/cm2、光量50~1000mJ/cm2左右為佳。另一方面，電子射線照射係能夠使用電子射線加速器等而進行，電子射線的照射量係以10~1000krad左右為佳。
又，使用紫外線作為活性能量線時，第1硬塗層3用組成物的塗膜及第2硬塗層4用組成物的塗膜係以在從氧氣隔離的狀態下照射紫外線為佳。藉此，不會遭受氧氣引起的硬化阻礙，而能夠有效地形成具有優異的耐彎曲性且表面硬度較高的硬塗薄膜。
為了使上述第1硬塗層3用組成物的塗膜及第2硬塗層4用組成物的塗膜從氧氣隔離，較佳是將覆蓋薄片層積在上述塗膜、或保持在氧氣濃度較低的環境下、例如氮氣環境下。
(3)硬塗薄膜的物性
(3-1)最大反射率差
如前述，在本實施形態之硬塗薄膜1，係能夠抑制產生干涉條紋。該情形係除了藉由目視而進行評價以外，亦能夠藉由最大反射率差之測定值來判定。測定最大反射率差，係首先將薄膜法線方向設為0°，從入射角8°方向照射光線，藉由積分球將該反射後的光線聚光且以反射光的方式檢測。又，光的照射係使波長變化而進行，來檢測對應各自的波長之反射光。
反射光，係設為將硫酸鋇結晶所產生的反射光作為100之相對值(以下，將其稱為「反射率」)，且對應各測定波長而檢測。亦即，能夠得到橫軸為測定波長，縱軸為反射率之圖表。該圖表係通常成為具有複數個極小值及極大值之起伏的形狀。
在此，在測定波長500~600nm之反射率的圖表，隣接極大值與極小值之差之中，測定最大的差作為「最大反射率差」。該最大反射率差係以1.5以下為佳，以1.1以下為特佳，進而以0.6以下為佳。藉由反射率為1.5以下，而能夠抑制產生干涉條紋。
(3-2)影像鮮明度
本實施形態之硬塗薄膜1，其防止干涉條紋，不是添加微小等級的微粒子，而是藉由設置具有預定折射率差及厚度之第1硬塗層3及第2硬塗層4來解決。因此，相較於藉由添加微小等級的微粒子來防止干涉條紋之情況，本實施形態之硬塗薄膜1係能夠成為具有更優異的影像鮮明度之薄膜。
將具有優異的影像鮮明度之硬塗薄膜應用在顯示 器時，能夠得到顯示具有優異的對比之影像之顯示器。從此種觀點而言，影像鮮明度係以400%以上為佳，以430%以上為較佳，以450%以上為特佳。
又，影像鮮明度係能夠依據JIS K7374，設為在5種類的狹縫(狹縫寬度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及2mm)所測定的各影像鮮明度之合計值而求取。
(3-3)霧度值
應用在顯示器時，從顯示更鮮明的影像之觀點而言，以將依據JIS K7136而測定的硬塗薄膜1之霧度值設為1%以下為佳，以設為0.8%以下為較佳，以設為0.5%以下為特佳。
(3-4)60°光澤度
應用在顯示器時，從使其顯示更鮮明的影像之觀點而言，在硬塗薄膜1之硬塗層3依據JIS Z8741-1997之60°光澤度(Gloss值)以設為100%以上之值為佳，以設為120%以上之值為較佳，以設為140%以上之值為特佳。
(4)其它實施形態
在硬塗薄膜1之基材薄膜2的另一主面側(與層積有第1硬塗層3及第2硬塗層4之面為相反側的面側)，係如第2圖顯示，亦可層積有黏著劑層5(將第2圖顯示之硬塗薄膜的符號記載為「1A」)。藉由層積此種黏著劑層5，能夠將硬塗薄膜1A簡易地貼附在所需要的被黏著物。
作為構成黏著劑層5之黏著劑，係沒有特別限定，能夠使用丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等習知的黏著劑。黏著劑層5的厚度係沒有特別限定，通常5~100 μm，較佳為10~60μm的範圍。
本實施形態之硬塗薄膜1A，基本上係能夠與前述硬塗薄膜1同樣地進行而製造。黏著劑層5係使用常用的方法而形成即可。
又，在黏著劑層5的露出面(與基材薄膜2側為相反側的面)，亦可層積剝離薄片。
(5)其它實施形態-2
本實施形態之硬塗薄膜1、1A亦可層積有其它層、例如黏接著劑層、阻障層、導電層、低反射層、易印刷層、防污層等。
(6)硬塗薄膜的用途
以上的實施形態之硬塗薄膜1、1A，係例如能夠適合使用在各種電子機器、特別是可移動式電子機器之可撓性顯示器，具體而言係液晶顯示器(LCD)、有機EL顯示器(OELD)、電子紙模組(薄膜狀電子紙)等各種可撓性顯示器作為表層(保護薄膜)或中間層的可撓性構件。
又，將本實施形態之硬塗薄膜1、1A或可撓性顯示器折彎時，較佳是將硬塗薄膜1、1A之存在第1硬塗層3及第2硬塗層4之側作為內側而折彎。藉此，不容易在第1硬塗層3及第2硬塗層4產生龜裂等的不良。
以上說明的實施形態，係為了容易理解本發明而記載，不是為了限定本發明而記載。因而，在上述實施形態所揭示的各要素，其宗旨亦包含屬於本發明的技術範圍之全部的設計變更和均等物。
例如，只要不阻礙前述本實施形態的作用效果， 介於硬塗薄膜1、1A之各層之間亦可存在其它層。
[實施例]
以下，藉由實施例等而進一步具體地說明本發明，但是本發明的範圍係不被該等實施例等限定。
[製造例1](基材薄膜的製造)
在N,N-二甲基乙醯胺溶劑中，將2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯、聯苯基四羧酸二酐、及2,2-雙(3,4-二羧苯基)六氟丙酸二酐在冷卻下進行混合溶解，隨後藉由在常溫攪拌10小時，來得到聚醯胺酸溶液。
在所得到的聚醯胺酸溶液添加乙酸酐及吡啶，充分地攪拌後，塗佈在玻璃板上，慢慢地從常溫升溫至180℃為止。到達180℃後，藉由加熱一定時間，隨後進行抽真空，而將揮發分完全地除去。最後，藉由在真空下冷卻至常溫，來得到膜厚25μm的聚醯亞胺薄膜A。針對該聚醯亞胺薄膜A進行測定時，b*為0.61，折射率為1.62，在波長550nm之透射率為90%。
又，聚醯亞胺薄膜的膜厚，係依據JIS K7130且使用定壓厚度測定器(Teclock公司製、製品名「PG-02」)而測定。
針對上述b*，係依據JIS Z8722且使用同時測定方式分光式色差計(日本電色工業公司製、製品名「SQ-2000」)作為測定裝置，使用C光源2°視野(C/2)作為光源，使用透過測定法而測定L*a*b*表色系的b*。
在上述波長550nm之透射率，係使用紫外線可見近紅外分光透射率計(島津製作所製、製品名「UV3600」)而測定。
[實施例1]
將作為活性能量線硬化性成分之環氧乙烷改性二新戊四醇六丙烯酸酯(導入環氧乙烷12莫耳)100質量份(固體成分換算；以下相同)、作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮5質量份，在以1：1的質量比混合甲基異丁基酮與環己酮而成之混合溶劑中進行攪拌混合，來得到第1硬塗層用組成物的塗佈液。
又，將作為活性能量線硬化性成分之二新戊四醇六丙烯酸酯40質量份、作為填料之反應性氧化矽填料(平均粒徑：15nm)60質量份、及作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮10質量份之混合物，在以1：1的質量比混合甲基異丁基酮與環己酮而成之混合溶劑中進行攪拌混合，來得到第2硬塗層用組成物的塗佈液。
其次，使用繞線棒將上述第1硬塗層用組成物的塗佈液，塗佈在製造例1所得到之作為基材薄膜的聚醯亞胺薄膜的一面，於70℃加熱1分鐘使其乾燥而形成第1硬塗層用組成物的塗膜。而且，藉由從第1硬塗層用組成物的塗膜側在以下的條件下照射紫外線，使第1硬塗層用組成物的塗膜硬化而形成厚度5μm的第1硬塗層。
其次，將上述第2硬塗層用組成物的塗佈液，使用繞線棒塗佈在所得到的第1硬塗層上，於70℃使其加熱乾燥1分鐘而形成第2硬塗層用組成物的塗膜。而且，藉由從第2硬塗層用組成物的塗膜側，在以下的條件下照射紫外線，使第2硬塗層組成物的塗膜硬化而形成厚度5μm的第2硬塗層。 藉此，得到將第1硬塗層(厚度：5μm)及第2硬塗層(厚度：5μm)依照順序形成在作為基材薄膜聚醯亞胺薄膜(厚度25μm)上而成之硬塗薄膜。
<紫外線照射條件>
．紫外線照射裝置：GS Yuasa Corporation公司製紫外線照射裝置
．光源：高壓水銀燈
．燈電力：1.4Kw
．照度：100mW/cm2
．光量：240mJ/cm2
．輸送帶速度：1.2m/min
．在氮氣環境下，紫外線照射(氧濃度1%以下)
[實施例2~5、比較例1~6]
除了將構成第1硬塗層用組成物及第2硬塗層用組成物之各成分的種類及調配比率、第1硬塗層及第2硬塗層的厚度、以及基材薄膜的種類及厚度如表1所顯示地變更以外，係與實施例1同樣地進行而製造硬塗薄膜。
在此，計算第1硬塗層的厚度及第2硬塗層的厚度的合計厚度且顯示在表1。
又，表1記載的略號等之詳細係如以下。
A：環氧乙烷改性二新戊四醇六丙烯酸酯(導入環氧乙烷12莫耳)
B：環氧乙烷改性二新戊四醇六丙烯酸酯(導入環氧乙烷6莫耳)
C：環氧乙烷改性新戊四醇四丙烯酸酯(導入環氧乙烷35莫耳)
D：乙烯酯樹脂(日立化成公司製、製品名「Hitaloid7663」)
E：二新戊四醇六丙烯酸酯
F：氧化矽奈米粒子(氧化矽溶膠)(日產化學工業公司製、製品名「MIBK-ST」、平均粒徑：10nm)
G：1-羥基環己基苯基酮
H：二新戊四醇六丙烯酸酯40質量份、反應性氧化矽填料(平均粒徑：15nm)60質量份及I-羥基環己基苯基酮10質量份的混合物
1：6官能的胺甲酸乙酯丙烯酸酯系預聚合物50質量份、新戊四醇四丙烯酸酯50質量份及1-羥基環己基苯基酮10質量份的混合物
又，在表2所記載的略號等之詳細係如以下。
PI：聚醯亞胺薄膜
PET：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂公司製、製品名「Diafoil T-60」、厚度：50μm)
[試驗例1](折射率的測定)
(1)基材薄膜的折射率
在測定波長589nm、測定溫度25℃的條件下，使用阿貝折射率計(ATAGO公司製、製品名「多波長阿貝折射率計DR-M2」)，依據JIS K7142(2008)而測定在實施例及比較例所使用的基材薄膜之折射率。將結果顯示在表2。
(2)硬塗層的折射率
在一面經易接著處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東洋紡公司製、製品名「COSMOSHINE A4100」、厚度：50μm)之未處理面，與實施例及比較例同樣地進行而形成厚度200nm的第一硬塗層或第二硬塗層。其次，使用砂紙(sand paper)摩擦聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的易接著處理面，且使用油性筆(ZEBRA公司製、製品名「Mckee黑」)塗滿黑色
隨後，在測定波長589nm、測定溫度25℃的條件下，使用分光橢圓偏光計(J.A.WOOLLAM公司製、製品名「M-2000」」)，依據JIS K7142(2008)而測定上述第一硬塗層及第二硬塗層的折射率。將結果顯示在表2。
(3)折射率差的計算
從上述所測得之第1硬塗層的折射率減去第2硬塗層的折射率而計算折射率差。將結果顯示在表2。
[試驗例1](干涉條紋的評價)
(1)目視評價
將實施例及比較例所製造的硬塗薄膜，透過雙面黏著薄片(LINTEC公司製、製品名「OPTERIA MO-3006C」、厚度：25μm)而貼附在黑色的壓克力板(三菱Rayon公司製、製品名「Acrylight L502」)。此時，係以硬塗薄膜的基材薄膜為接觸壓克力板之方式貼附。
針對所得到的積層體，在3波長螢光燈下，從硬塗層側藉由目視而確認干涉條紋且依照以下的基準進行評價。將結果顯示在表2。
良好(◎)：幾乎無法看到干涉條紋
大致良好(○)：不容易看到干涉條紋
稍微不良(△)：能夠看到干涉條紋
不良(×)：能夠清楚地看到干涉條紋
(2)最大反射率差的測定
針對(1)所得到的積層體，在以下的條件下，使用分光光度計測定在反射率光譜的波長500~600nm間之最大反射率差。將結果顯示在表2。
<測定條件>
．分光光度計：島津製作所公司製、製品名「紫外可見近紅外分光光度計UV-3600」
．試料保持器：島津製作所公司製、製品名「大型試料室MPC-3100」
．積分球：島津製作所公司製、製品名「積分球附屬裝置 ISR-3100」
．入射角：8°
[試驗例3](耐擦傷性的評價)
針對在實施例及比較例所製造的硬塗薄膜之硬塗層表面，使用#0000的鋼絲絨，在125g重/cm2的荷重進行往復摩擦10次且將長度100mm、寬度20mm的範圍設為試驗範圍。在3波長螢光燈下藉由目視確認在該試驗範圍之傷痕條數且依照以下的基準進行評價耐擦傷性。將結果顯示在表2。
○：傷痕條數為小於20條。
×：傷痕條數為20條以上。
[試驗例4](卷曲評價)
將實施例及比較例所製造的硬塗薄膜，以各邊於MD方向(聚醯亞胺薄膜製造時之生產線的方向)或TD方向(對MD方向為正交之方向)成為平行之方式裁斷成為100×100mm後，以基材薄膜成為玻璃板側之方式將硬塗薄膜載置在平坦的玻璃板上。其次，測定從玻璃板的上面起算至硬塗薄膜的各角部頂點為止之浮起高度，基於以下的判斷基準而進行評價卷曲。將結果顯示在表2。
非常良好◎：10試樣中10試樣全部係各角部的浮起高度的總和為小於20mm
良好(○)：10試樣9~6試樣係各角部的浮起的總和為小於20mm
不良(×)：10試樣5~0試樣係各角部的浮起的總和為小於20mm
[試驗例5](耐彎曲性試驗)
針對實施例及比較例所製造的硬塗薄膜，使用耐久試驗機(YUASA SYSTEM機器公司製、製品名「面狀體無負荷U字伸縮試驗機DLDMLH-FS」)且使硬塗層成為內側，在試驗速度60mm/s且將試驗次數(往復數)及彎曲徑進行各種變更而使其重複彎曲。而且，確認有無產生硬塗層龜裂．剝落、硬塗薄膜白化．彎曲痕跡等的不良，依照以下的基準進行評價耐彎曲性。將結果顯示在表2。
◎：彎曲直徑5mm以下，且即便試驗次數2萬次以上亦不產生不良。
○：彎曲直徑10mm以下，且即便試驗次數2萬次以上亦 不產生不良。
×：未達到○的基準之水準。
[試驗例6](影像鮮明度的評價)
針對實施例及比較例所製造的硬塗薄膜，使用影像鮮明性測定器(SUGA試驗機公司製、製品名「ICM-10P」)，依據JIS K7374且以影像鮮明度(%)的方式測定5種類的狹縫(狹縫幅：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及2mm)之合計值。基於該結果，將影像鮮明度小於400%評定為×，將400%以上且小於450%評定為○，將450%以上評定為◎。將結果顯示在表2。
(試驗例7)(霧度值的評價)
針對實施例及比較例所製造的硬塗薄膜，使用霧度計量器(日本電色工業公司製、製品名「NDH5000」)，依據JIS K7136而測定霧度值(%)。基於該結果，將霧度值大於1%評定為×，將1%以下且大於0.5%評定為○，將0.5%以下評定為◎。將結果顯示在表2。
(試驗例8)(60°光澤度的評價)
針對實施例及比較例所製造的硬塗薄膜，使用光澤度計(日本電色工業公司製)，依據JIS Z8741-1997而測定60°光澤度(Gloss值)。基於該結果，將60°光澤度小於100%評定為×，將100%以上且小於140%評定為○，將140%以上評定為◎。將結果顯示在表2。
從表2能夠清楚明白，實施例所得到的硬塗薄膜，係具有優異的耐擦傷性及光學特性，同時具有優異的耐彎曲性，並且還不容易產生干涉條紋及卷曲者。
產業上之可利用性
本發明的硬塗薄膜，係能夠適合作為構成被重複彎曲的可撓性顯示器之可撓性構件，特別是位於表層之保護薄膜。
1‧‧‧硬塗薄膜
2‧‧‧基材薄膜
3‧‧‧第1硬塗層
4‧‧‧第2硬塗層

Claims (11)

  1. 一種硬塗薄膜，係具備基材薄膜、層積在前述基材薄膜的至少一主面側之第1硬塗層，及層積在前述第1硬塗層之與前述基材薄膜側為相反的主面側之第2硬塗層之硬塗薄膜，其特徵在於：前述基材薄膜為聚醯亞胺薄膜，前述第1硬塗層及前述第2硬塗層係由互相不同的材料所形成，前述第1硬塗層的折射率與前述第2硬塗層的折射率之差係絕對值為0.04以下，前述第1硬塗層的厚度及前述第2硬塗層的厚度之合計為7μm以上、35μm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述第1硬塗層及前述第2硬塗層，係由使含有活性能量線硬化性成分的組成物硬化之材料所形成，且前述第1硬塗層係由比前述第2硬塗層更柔軟的材料所形成。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述第1硬塗層係由使含有被環氧烷(alkylene oxide)改性的活性能量線硬化性成分之組成物硬化而成的材料所形成，且前述第2硬塗層係由含有未被環氧烷改性的活性能量線硬化性成分之組成物硬化而成的材料所形成。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述之硬塗薄膜，其中前述活性能量線硬化性成分為多官能性(甲基)丙烯酸酯系單體。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述第1硬 塗層的折射率為1.40以上、1.80以下。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述第2硬塗層的折射率為1.40以上、1.80以下。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述第1硬塗層的厚度為3μm以上、30μm以下。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述第2硬塗層的厚度為0.75μm以上、10μm以下。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中前述聚醯亞胺薄膜的厚度為5μm以上、300μm以下。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，係作為構成可撓性顯示器之可撓性構件被使用。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之硬塗薄膜，其中在前述基材薄膜的至少一主面側層積有黏著劑層。
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