TW201804107A - 流體控制裝置 - Google Patents
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Abstract
提供一種不需要減少流體的供給流量,被更小型化、集成化,組裝工時被大幅地削減,維修性能也改善的流體控制裝置。接頭塊體(20)的流體流路(23),是包含垂直流路(23a)及水平流路(23c),接頭塊體(20),是朝長度方向(G1、G2)可移動地被拘束在軌道構件(50)上,流體控制機器(110),是透過接頭塊體(20)被支撐於軌道構件(50),具有螺紋孔(25a),貫通流體控制機器(110A)的殼體(113)的結合螺栓(BT)是螺合於該螺紋孔(25a),藉由結合螺栓(BT)的旋緊力,使接頭塊體(20)及殼體(113)之間的密封墊(120),是在殼體(113)及接頭塊體(20)之間被壓縮,螺紋孔(25a),其先端部是在水平流路(23c)的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與水平流路(23c)疊合。
Description
本發明,是有關於流體機器被集成化的流體控制裝置、使用其的接頭塊體、流體機器、及利用此流體控制裝置的半導體裝置等的製造方法。
例如,為了朝半導體製造裝置等的腔室供給各種的加工氣體所使用的流體控制裝置,已知如下述的引用文獻1、2等。
專利文獻1:日本特開2002-206700號公報
專利文獻2:日本特開2015-175502號公報
在如上述的流體控制裝置的領域中,在加工氣體的供給控制被要求較高的反應性,因此有必要將流體控制裝置儘可能小型化、集成化,更接近流體的供給目的
地也就是腔室地設置。
且隨著半導體晶圓的大口徑化等的處理對象物的大型化,也有必要配合此而增加從流體控制裝置朝腔室內供給的流體的供給流量。
因為只是將流體控制裝置小型化,所以流體流路的剖面積也變小,供給流量也減少。
進一步,將流體控制裝置小型化、集成化的話,組裝成為困難,組裝工時會增大。且,裝置的維修性也下降。
本發明的一目的,是提供一種不需要減少流體的供給流量,被更小型化、集成化的流體控制裝置。
本發明的其他目的,是提供一種組裝工時被大幅地削減,維修性能也改善的流體控制裝置。
本發明的流體控制裝置,是具有:接頭塊體,是將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,並且將流體流路劃界,在前述底面側具有卡合部;及支撐構件,是具有前述接頭塊體的卡合部可卡合的朝長度方向呈直線狀延伸的導引部;及流體機器,是透過前述接頭塊體被支撐於前述支撐構件;前述接頭塊體的流體流路,是包含:具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向呈直線狀延伸與前述第1流路連接的第2流路,前述導引部,是容許朝前述接頭塊體
的長度方向的移動且將該接頭塊體拘束在前述支撐構件上,前述流體機器,是具有將流體流路劃界的殼體,該殼體是具有在其底面側開口的至少2個流路口,前述接頭塊體,是具有在前述上面開口且朝向前述底面側延伸的螺紋孔,貫通前述殼體的結合螺栓是螺合於該螺紋孔,藉由前述結合螺栓的旋緊力,被配置於彼此對接的前述接頭塊體的流路口及前述殼體的一個流路口的周圍的密封構件,是在前述殼體及前述接頭塊體之間被按壓,前述螺紋孔,其先端部是在前述第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與前述第2流路疊合。
本發明的接頭塊體,是將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,並且將流體流路劃界的接頭塊體,前述接頭塊體的流體流路,是包含;在長度方向隔離的位置具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的2個第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向呈直線狀延伸與前述2個第1流路連接的第2流路,在前述底面側,具有可與其他的構件卡合的卡合部,各別可與其他的構件的連結的2個螺紋孔是從前述上面朝向底面側形成,該2個螺紋孔,是在長度方向,被配置於前述2個流路口之間,前述2個螺紋孔,其先端部是在前述第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與前述第2流路疊合。
本發明的流體機器,是包含開閉閥、調節器、壓力測定器及質量流動控制器的至少其中任一的流體
機器,具有將流體流路劃界的殼體,該殼體是具有在其底面側開口的至少2個流路口,進一步具有將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,並且將流體流路劃界的接頭塊體,前述接頭塊體的流體流路,是包含:在長度方向隔離的位置,具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向呈直線狀延伸與前述垂直流路連接的第2流路,前述接頭塊體,是在前述底面側,具有可與其他的構件卡合的卡合部,前述接頭塊體,是具有在前述上面側開口且朝向前述底面側延伸的螺紋孔,貫通前述殼體的結合螺栓是螺合於該螺紋孔,藉由前述結合螺栓的旋緊力,被配置於彼此對接的前述接頭塊體的流路口及前述殼體的一個流路口的周圍的密封構件,是在前述殼體及前述接頭塊體之間被壓縮,前述螺紋孔,其先端部是在前述第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與前述第2流路疊合。
依據本發明的話,藉由將接頭塊體的卡合部卡合於支撐構件的導引部使拘束在支撐構件上,就不需要使用接頭塊體及支撐構件之間的螺栓的連結作業,可以將組裝工時大幅地削減。且,將複數流體機器的間由各別個別獨立的接頭塊體連結,接頭塊體的底面側是在支撐構件因為不固定,所以流體流路的變更是成為容易,維修性也
在更提高。
依據本發明的話,藉由不是將讓在接頭塊體形成的結合螺栓螺入的螺紋孔,配置於密封構件的四方側和兩側,而是對於密封構件只有在一方側設置,就可以將結合螺栓的數量及佔有面積大幅地削減。
依據本發明的話,因為將在接頭塊體形成的螺紋孔,從俯視看,配置於與水平流路疊合的位置,所以可以將旋緊螺栓的佔有面積進一步縮小,尤其是,可以將接頭塊體的寬度大幅地窄小化。
依據本發明的話,因為藉由將接頭塊體的水平流路的配置朝底面側偏倚,可以確保流路剖面積,所以不會減少流體的供給流量。
依據本發明的話,流體機器和接頭塊體故障的情況時,因為只有將故障的流體機器和接頭塊體交換即可,所以維修性是大幅地改善。
依據本發明的話,因為可以將流體控制裝置整體大幅地小型化、集成化,所以可以將流體控制裝置儘可能地接近處理腔室的附近,此結果,可以提高流體控制的反應性。
1‧‧‧流體控制裝置
10‧‧‧基座托板
20A-20E‧‧‧接頭塊體
20a‧‧‧上面
20b‧‧‧底面
21a~21d‧‧‧側面
22‧‧‧卡合部
22b‧‧‧底面
22f‧‧‧卡合面(整列機構)
23‧‧‧流體流路
23a、23b‧‧‧垂直流路
23c‧‧‧水平流路
24a、24b‧‧‧流路口
25a、25b‧‧‧螺紋孔
26‧‧‧保持凹部
30‧‧‧接頭塊體
50‧‧‧軌道構件
55‧‧‧導引部
55f‧‧‧承接面(整列機構)
110A‧‧‧開閉閥(雙向閥)(流體機器)
110B‧‧‧調節器(流體機器)
110C‧‧‧壓力測定器(流體機器)
110D‧‧‧開閉閥(三向閥)(流體機器)
110E‧‧‧質量流動控制器(流體機器)
111‧‧‧致動器內藏部
112‧‧‧閥內藏部
113‧‧‧殼體
113a‧‧‧上面
113b‧‧‧底面
114‧‧‧貫通孔
300‧‧‧接頭構件
310‧‧‧導入管
320‧‧‧連通管
330‧‧‧連通管
340‧‧‧供給管
400‧‧‧止動器
BT‧‧‧結合螺栓
BT2‧‧‧結合螺栓
GP、GP1、GP2、GP3‧‧‧間隙
[第1A圖]本發明的一實施例的流體控制裝置的外觀立體圖。
[第1B圖]第1A圖的流體控制裝置的俯視圖。
[第1C圖]第1A圖的流體控制裝置的後視圖。
[第2A圖]將第1A圖的流體控制裝置的一部分抽出的組裝體的外觀立體圖。
[第2B圖]第2A圖的組裝體的側面圖。
[第2C圖]沿著第2B圖的IIC-IIC線的部分剖面圖。
[第3A圖]軌道構件的外觀立體圖。
[第3B圖]第3A圖的軌道構件的俯視圖。
[第3C圖]第3A圖的軌道構件的前視圖。
[第3D圖]第3A圖的軌道構件的側面圖。
[第4A圖]接頭塊體的外觀立體圖。
[第4B圖]第4A圖的接頭塊體的俯視圖。
[第4C圖]沿著第4B圖的假想中央平面CP2的剖面圖。
[第4D圖]第4B圖的接頭塊體的左側視圖。
[第4E圖]第4B圖的接頭塊體的右側視圖。
[第5A圖]開閉閥的立體圖。
[第5B圖]第5A圖的開閉閥的殼體的底面圖。
[第5C圖]第5A圖的開閉閥的殼體的部分剖面圖。
[第6A圖]密封墊的外觀立體圖。
[第6B圖]密封墊的俯視圖。
[第6C圖]密封墊的剖面圖。
[第7A圖]結合螺栓的立體圖。
[第7B圖]顯示結合螺栓的頭部的俯視圖。
[第8A圖]不使用軌道構件地配置於基準面上的旋緊前的狀態的組裝體的示意圖。
[第8B圖]顯示將第8A圖的組裝體由結合螺栓旋緊時的狀態的示意圖。
[第8C圖]使用軌道構件將組裝體由結合螺栓顯示旋緊的狀態的示意圖。
[第9A圖]顯示在結合螺栓的旋緊前可能發生的接頭塊體的位置偏離的一例的示意圖。
[第9B圖]顯示在結合螺栓的旋緊前可能發生的接頭塊體的位置偏離的其他例的示意圖。
[第10圖]說明由結合螺栓的旋緊所產生的整列機構的動作用的示意圖。
[第11A圖]顯示卡合部及導引部的變形例的一例的示意圖。
[第11B圖]顯示卡合部及導引部的變形例的其他例的示意圖。
[第11C圖]顯示卡合部及導引部的變形例的進一步其他例的示意圖。
[第12A圖]顯示卡合部及導引部的變形例的進一步其他例的示意圖。
[第12B圖]顯示卡合部及導引部的變形例的進一步其他例的示意圖。
以下,參照圖面說明本發明的實施例。
參照第1A圖~第10圖詳細說明本發明的一實施例的流體控制裝置。
如第1A圖~第1C圖所示,在流體控制裝置1,在金屬製的基座托板10上,設有沿著寬度方向W1、W2配列且朝長度方向G1、G2延伸的5條軌道構件50。又,W1是顯示正面側的方向,W2是顯示背面側的方向、G1是顯示上游側的方向,G2是顯示下游側的方向。在5條軌道構件50之中只有在兩端部及中央部的軌道構件50設置各種構件,在2號及4號的軌道構件50中皆不設置,成為空出狀態,但是這些2條軌道構件50可追加設置各種構件,不需要的情況時,從基座托板10取下將兩端部及中央部的3條軌道構件50相鄰配列也可以。
在本發明中,被附設在基座托板10的軌道構件50不限定於複數,1條也可以,但是條數愈多的話,本發明的效果愈顯著。
如第1A圖所示,在被配置於正面側及中央部的2條軌道構件50中,透過複數接頭塊體20、30設置各種流體機器110A~110E,藉由複數接頭塊體20、30,各別形成從上游側朝向下游側使流體流通的流路。在背面側的軌道構件50中,透過複數接頭塊體20、30設置除了流體機器110E以外的流體機器110A~110D及連通管330,形成使流體從上游側朝向下游側流通的流路。
在此,本發明的「流體機器」,是指將流體的流動控
制的流體控制裝置所使用的機器,具備將流體流路劃界的殼體,在此殼體的底面開口的至少2個流路口的機器。具體而言,包含開閉閥(雙向閥)110A、調節器110B、壓力測定器110C、開閉閥(三向閥)110D、質量流動控制器110E等,但是不是被限定於這些。
導入管310,是藉由接頭構件300,與形成於接頭塊體30的無圖示的2個流路口的上游側的流路口連接。無圖示的密封構件是位於接頭構件300及接頭塊體30之間。密封構件可以舉例金屬製或是樹脂製等的密封墊。
密封墊,可舉例軟質密封墊、半金屬密封墊、金屬密封墊等。具體而言,以下者是最佳被使用。
(1)軟質密封墊
‧橡膠O形環
‧橡膠薄片(全面座用)
‧接頭薄片
‧膨脹黑鉛薄片
‧PTFE薄片
‧PTFE套形
(2)半金屬密封墊
‧渦捲形密封墊(Spiral-wound gaskets)
‧金屬套密封墊
(3)金屬密封墊
‧金屬平形密封墊
‧金屬中空O形環
‧環接頭
從上述無圖示的密封墊的兩側將2條結合螺栓BT2藉由旋緊密封墊被按壓使接頭構件300及接頭塊體30之間被密封。形成於接頭塊體30的流體流路的構成,因為是與後述的接頭塊體20同樣,所以在此省略說明。接頭塊體30的無圖示的下游側的流路口,是與開閉閥110A連接。此部分的連接構造,因為是與後述的接頭塊體20及流體機器110A~110E的後述的連接構造同樣所以省略詳細說明。
在流體控制裝置1的3系統的流路中,例如,通過正面側的導入管310使氨氣體等的加工氣體被導入,通過中央部的導入管310,使例如氫氣體等的加工氣體被導入,通過背面側的導入管310使氮氣體等的淨化氣體被導入。
3個開閉閥(三向閥)110D,是由連通管320彼此連接,可以將淨化氣體朝加工氣體的流路導入。
因為在淨化氣體的流路系統中不需要質量流動控制器110E,所以連通管330,可取代質量流動控制器110E而設於流路的中途處。
供給管340,是將被配置於下游側的3個接頭構件300之間連接,並且與無圖示的處理腔室連接。
在正面側、中央部及背面側的上游側及下游側的端部中,止動器400是各別由結合螺栓BT2被固定於導引部55的底面,限制在各流路系統彼此連結的流體機器110A
~110E的朝長度方向G1、G2的移動。止動器400,可以對應流體機器的數量等將固定位置適宜地變更調整。
第2A圖~第2C圖,是構成流體控制裝置1的一系統的流路的部分的組裝體200,第2A圖是立體圖,第2B圖是側面圖,第2C圖是第2B圖的IIC-IIC線剖面圖。
組裝體200,是具有:軌道構件50、被配置於此軌道構件50上的上游側及下游側接頭塊體20、20、被配置於上游側及下游側接頭塊體20、20上的作為流體機器的開閉閥110A。且,開閉閥110A的殼體113及上游側及下游側接頭塊體20、20之間,是設有作為密封構件的密封墊120、120。進一步,組裝體200,是具有將開閉閥110A的殼體113與上游側及下游側接頭塊體20、20連結用的2根結合螺栓BT。
第3A圖~第3D圖,是顯示軌道構件50的圖,第3A圖是外觀立體圖,第3B圖是俯視圖,第3C圖是前視圖,第3D圖是側面圖。
軌道構件50,是例如,不鏽鋼合金等的金屬製的長條的構件,剖面是形成矩形狀,將上面51、與其垂直交叉的2個側面52、與上面51平行且與側面52垂直交叉的底面53及長度方向的兩端面54劃界。在長度方向形成溝狀的導引部55是在上面51延伸。此導引部55,是如第3D圖所示,通過軌道構件50的上面51及底面53的中央位置在朝長度方向延伸的假想中央平面CP對稱形成,
導引部55是具有:底面55b、及朝向底面55b呈末端漸廣狀傾斜的2個承接面55f。2個承接面55f是反向傾斜。承接面55f,雖是對於底面55b由57度程度的角度傾斜,但是不限定於此。軌道構件50的上面51,是作為可將接頭塊體20、30、止動器400支撐的支撐面的功能。在導引部55的底面55b的長度方向的兩端部中,形成有將軌道構件50固定於基座托板10用的結合螺栓用的貫通孔56。軌道構件50的尺寸,寬度及高度是10mm程度,全長是300mm程度,但是不限定於此。止動器400,是在導引部55的長度方向的任意的位置由結合螺栓BT2可固定,但是對於固定構造因為可以採用周知者所以省略詳細說明。
第4A圖~第4E圖,是顯示接頭塊體20的圖,第4A圖是外觀立體圖,第4B圖是俯視圖,第4C圖是第4B圖的假想中央平面CP2的剖面圖,第4D圖是長度方向的一端面圖,第4E圖是長度方向的另一端面圖。
接頭塊體20,是不鏽鋼合金等的金屬製的構件,對於由彼此相面對的平面所構成的上面20a及由平面所構成的底面20b、上面20a,各別具有垂直交叉的4個側面21a、21b、21c、21d。4個側面21a、21b、21c、21d之中,相鄰接的2個側面是彼此垂直交叉。側面21a、21b,是位於長度方向的兩端的平面,側面21c、21d是朝長度方向延伸的平面。又,接頭塊體20皆是舉例長方體形狀的情況的例,但是採用其他的形狀也可以。
底面20b,雖是作為藉由軌道構件50的上面51而被支撐的被支撐面的功能,但是在此底面20b中使卡合部22突出的方式一體形成。卡合部22,是從底面20b朝向下方形成末端漸廣狀,具有彼此反向傾斜的卡合面22f。卡合部22,是在假想中央平面CP2對稱形成,對於卡合面22f的底面22b的傾斜角度,是與軌道構件50的承接面55f大致相同角度,但是不限定於此。卡合部22是具有與軌道構件50的導引部55嵌合的形狀,各別可從軌道構件50的長度方向的兩端部插入。導引部55,是容許朝卡合部22的長度方向的移動且將接頭塊體20拘束在軌道構件50上。在卡合部22及導引部55之間,若從加工及組裝的觀點,被設定的公差範圍的遊動是存在,但是此遊動是設定成後述的整列機構可確實地作動的範圍內。
接頭塊體20的劃界的流體流路23,是包含:具有從上面20a朝向底面20b側延伸並且在上面20a開口的流路口24a的第1垂直流路23a、及在長度方向彼此隔離的位置具有從上面20a朝向底面20b側延伸並且在上面20a開口的流路口24b的第2垂直流路23b、及在接頭塊體20的內部朝長度方向呈直線狀延伸並與第1及第2垂直流路23a、23b連接的水平流路23c。又,第1及第2垂直流路23a、23b,是對於上面20a垂直形成,水平流路23c是對於上面20a平行形成,但是不限定於此,不垂直、不水平也可以。
第1及第2垂直流路23a、23b的加工方法,是例
如,朝與接頭塊體20的上面20a垂直的方向由鑽頭將孔貫穿,形成盲孔即可。水平流路23c,是朝與接頭塊體20的側面21a垂直的方向由鑽頭將孔貫穿,形成盲孔即可。此時,在與第1及第2垂直流路23a、23b的先端部連接的高度將水平流路23c加工。將形成水平流路23c用的孔從接頭塊體20的側面21a開口的話,在側面21a形成開口。因此,在側面21a的開口的周圍形成保持凹部28,在此保持凹部28將金屬製的圓盤狀的閉塞構件150嵌入藉由將閉塞構件150的外周緣部由焊接密封,將開口塞住。由此,形成由第1及第2垂直流路23a、23b及水平流路23c所構成的U狀流路。
在接頭塊體20的上面20a側開口的流路口24a、24b的周圍中,各別形成有將密封墊120保持用的保持凹部26、26。在保持凹部26、26的底面的流路口24a、24b的外周中,雖無圖示,但是為了將密封墊120壓潰而形成將硬度比密封墊120更充分高的硬化處理的圓環狀的突起也可以。
在接頭塊體20中,在長度方向,形成有上面20a開口且朝向底面20b側延伸的2個螺紋孔25a、25b。螺紋孔25a、25b,是位於在上面20a開口的2個流路口24a、24b之間。螺紋孔25a、25b,是例如M5,具有至少3個螺峯,深度是3mm程度,但不限定於此。且,中心軸是位於假想中央平面CP2上,但是不限定於此,朝寬度方向的一方偏離也可以,且,螺紋孔25a、25b是一方靠近側
面21c側,另一方靠近側面21d側也可以。且,接頭塊體20的尺寸規格,是例如,寬度是10mm程度,長度是30mm程度,流體流路23的直徑是2.6mm程度。高度是13mm程度,但是不限定於此。接頭塊體20及軌道構件50的寬度,是約10mm大致一致。
螺紋孔25a是位於水平流路23c的上方,從第4B圖所示的俯視看,螺紋孔25a及水平流路23c是疊合。進一步,螺紋孔25a,是對於流路口24a,不是側面21b側而是位於側面21a側,此外,在接頭塊體20的長度方向對於流路口24a只有形成於一方側。藉由這種構成,除了可以確保流體流路23的剖面積以外,由1條結合螺栓BT的結合力,可以壓潰將流路口24a的周圍密封的密封墊120,並且可以將接頭塊體20及開閉閥110A的殼體113連結。此結果,成為可將接頭塊體20的寬度大幅地窄小化。同樣地,螺紋孔25b是位於水平流路23c的上方,從第4B圖所示的從俯視看,螺紋孔25b及水平流路23c是疊合。
進一步,螺紋孔25b,是對於流路口24b,不是側面21b側而是位於側面21a側,對於流路口24b只有形成於一方側。藉由這種構成,除了可以確保流體流路23的剖面積以外,可以由1條結合螺栓BT,壓潰將流路口24b的周圍密封的密封墊120,並且將接頭塊體20及其他的流體機器的殼體113連結。
進一步,從第4C圖及第4E圖明顯可知,水平流路
23c是在上面20a及底面20b之間,朝底面20b側偏倚。藉由採用這種構成,可以充分地確保結合螺栓BT螺合的螺紋孔25a、25b的深度。
第5A圖~第5C圖,是顯示開閉閥(流體機器)110A的圖,第5A圖是立體圖,第5B圖是底面圖,第5C圖是第5B圖的VC-VC線方向的部分剖面圖。
開閉閥110A,是具有致動器內藏部111、閥內藏部112及殼體113,透過接頭塊體20被支撐於軌道構件50。
殼體113的寬度,是與接頭塊體20的寬度整合,例如,10mm程度,但是不限定於此。
殼體113,是將流體流路117劃界,並且此流體流路117,是具有在底面113b側開口的2個流路口117a,在2個流路口117a中形成有各別將密封墊120保持的保持用凹部116。在保持用凹部116中,雖無圖示,為了將密封墊120壓潰而形成將硬度比密封墊120更充分高的硬化處理的圓環狀的突起也可以。
在殼體113的長度方向的兩端部中,各別形成從上面113a朝向底面113b,將結合螺栓BT插通用的貫通孔114。
第6A圖~第6C圖,是密封墊120的立體圖、俯視圖及剖面圖。
密封墊,可以由與不鏽鋼合金等的殼體113相同材料形成,但是有必要使硬度比殼體113更充分地低的方式進
行熱處理。除了金屬材料以外,使用樹脂製的密封墊也可以。
第7A圖及第7B圖,是結合螺栓BT的立體圖及頭部的俯視圖。結合螺栓BT,因為是將殼體113及接頭塊體20連結,並且將密封墊120壓潰的力是由一條擔任,所以使用比在其他的場所所使用的結合螺栓BT2(例如M4)直徑大者(例如M5),但是將全部的結合螺栓成為共通的尺寸也可以。
在此,說明本發明的軌道構件50的角色及整列機構。
在上述實施例中,整列機構,是包含:軌道構件50的導引部55的2個承接面55f、及接頭塊體20的卡合部22的2個卡合面22f。
第8A圖是顯示,不是軌道構件50上,而是在基準面BS上放置2個接頭塊體20、20,將密封墊120配置於規定處,在此上放置作為流體機器的開閉閥110A的殼體113的狀態。
在此狀態中,因為密封墊120未被按壓,所以在殼體113的底面113b及2個接頭塊體20的上面20a之間,是形成幾乎一定的間隙GP。
接著,如第8B圖所示,在上游側及下游側接頭塊體20、20的螺紋孔25a、25a通過殼體113的貫通孔114將結合螺栓BT螺入旋緊的話,在上游側及下游側接頭塊體20、20中,由箭頭F1A、F2A顯示的方向的拉起力是作用
在螺紋孔25a、25a,並且由箭頭F1B、F2B顯示的向下的力是從密封墊120、120作用。因此,上游側接頭塊體20的上游側端部是對於基準面BS朝D1方向浮起,下游側接頭塊體20的下游側端部也對於基準面BS朝D2方向浮起。
密封墊,因為是藉由結合螺栓BT的旋緊力被按壓,所以遠離密封墊120的位置的間隙GP2,是比第8A圖的間隙GP更小,比密封墊120的附近的間隙GP1更小。因此,將上游側接頭塊體20及下游側接頭塊體20彼此反向傾斜的彎曲力是作用在彼此連結的上游側及下游側接頭塊體20、20及殼體113。
如第8C圖所示,在軌道構件50的導引部55將上游側及下游側接頭塊體20、20的卡合部22、22插入,與第8B圖同樣地將結合螺栓BT旋緊的話,上游側及下游側接頭塊體20、20,是從抵抗上述的彎曲力的軌道構件50的導引部55的承接面55f將由箭頭F1C、F2C顯示的向下的方向的反力承接,上游側及下游側接頭塊體20、20不會傾斜。使結合螺栓BT成為所需的軸力的方式旋緊的話,殼體113的底面113b及2個接頭塊體20的上面20a的間隙GP3是成為零或是幾乎成為零,殼體113的底面113b及2個接頭塊體20的上面20a是實質上接觸。
在此,如上述,在軌道構件50的導引部55及上游側及下游側接頭塊體20、20的卡合部22、22之間存在若干遊動的話,在未將結合螺栓BT旋緊的狀態下,
例如具有,如第9A圖所示,卡合部22的假想中央平面CP2是對於軌道構件50的導引部55的假想中央平面CP朝左側方向L位置偏離,或是如第9B圖所示,朝右側方向R位置偏離的可能性。
例如,若有如第9A圖和第9B圖的橫方向(與長度方向垂直交叉的方向)的位置偏離的話,具有在軌道構件50上複數流體機器110A~110E會蛇行,或是朝左右的一方側傾斜可能性,且具有密封墊120的密封性能下降的可能性。
在本實施例中,如上述,在導引部55及卡合部22之間設置整列機構。整列機構,是利用抵抗藉由結合螺栓BT的旋緊力而在彼此連結的上游側及下游側接頭塊體20、20及殼體113所發生的彎曲力的反力的一部分,將與導引部50的長度方向垂直交叉的橫方向的上游側及下游側接頭塊體20、20的位置朝導引部50的中央位置整列的方式作用。由此,在組裝中,上述的橫偏離被自動修正(從最初位置朝正規位置自動地移動)。
具體而言,如第10圖所示,藉由彎曲力使拉起力F朝接頭塊體20作用的話,導引部55的2個承接面55f,是將反力R1、R2作用於卡合部22的2個卡合面22f。導引部55及卡合部22,因為是在假想中央平面CP、CP2對稱形成,所以反力R1、R2是成為相同大小。且,反力R1、R2的水平方向分力R1x、R2x,因為是彼此反向的相同大小,所以此分力R1x、R2x,是使卡合部22的假想中
央平面CP2,與導引部55的假想中央平面CP一致的方式作用。
且反力R1、R2的垂直方向分力R1y、R2y是彼此相同大小,抵抗拉起力F,將接頭塊體20拘束在軌道構件50上(軌道構件是作為支撐構件功能,將接頭塊體20在正規位置被支撐固定)的方式作用。
如此,依據本實施例,將接頭塊體20插入軌道構件50的導引部55,將流體機器的殼體113及接頭塊體20由結合螺栓BT連結的話,因為接頭塊體20是自動地朝導引部55的中央位置整列,所以組裝作業成為更容易,組裝的自動化也進一步容易。
在上述實施例中,將卡合部22的卡合面22f及導引部55的承接面55f只有由斜面形成,但是如第11A圖所示,將卡合部22_1、導引部55_1由傾斜面及垂直面所構成也可以。且,如第11B圖、第11C圖所示,在卡合部22_2、22_3、導引部55_2、55_3使用彎曲面也可以。進一步,如第12A、12B圖所示,將卡合部22_4、22_5形成凹狀,將導引部55_4、55_5形成凸狀也可以。
在上述實施例中雖說明了,將接頭塊體20及殼體113由1條結合螺栓BT連結的情況,但是對於流路口24a若螺紋孔是存在於水平流路23c側的話,使用複數結合螺栓BT也可以。
在上述實施例中雖未使用,但是在接頭塊體20及殼體113之間使用定位銷也可以。
在上述實施例中,雖將水平流路23c朝接頭塊體20的底面20b側偏倚,但是不限定於此,在中心部形成也可以。
在上述實施例中,支撐構件雖使用形成有一條導引部55的軌道構件50,但是不限定於此,將在一枚托板形成了複數條的導引部55者作為支撐構件也可以。此情況,作成不使用基座托板10的構成也可以。
在上述實施例中,在接頭塊體20形成2個流路口24a、24b,並且這些之間形成了2個螺紋孔25a、25b,但是本發明不限定於此。流路口是3個的情況時也可以適用本發明,一個流路口24a是在接頭塊體20的上面20a開口,其他的流路口是在接頭塊體20的側面21b開口的情況也可以適用本發明。
在上述實施例中,本發明的第1流路及第2流路,雖舉例垂直流路及水平流路的例,但是不限定於此,第1及第2流路是對於垂直方向或是水平方向傾斜也可以。
50‧‧‧軌道構件
51‧‧‧上面
52‧‧‧側面
54‧‧‧兩端面
55‧‧‧導引部
56‧‧‧貫通孔
Claims (14)
- 一種流體控制裝置,具有:接頭塊體,是將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,將流體流路劃界,在前述底面側具有卡合部;及支撐構件,是具有前述接頭塊體的卡合部可卡合的朝長度方向呈直線狀延伸的導引部;及流體機器,是透過前述接頭塊體被支撐於前述支撐構件;其特徵為:前述接頭塊體的流體流路,是包含:具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向延伸與前述第1流路連接的第2流路,前述導引部,是容許前述接頭塊體的朝長度方向的移動且將該接頭塊體拘束在前述支撐構件上,前述流體機器,是具有將流體流路劃界的殼體,該殼體是具有在其底面側開口的至少2個流路口,前述接頭塊體,是具有在前述上面開口且朝向前述底面側延伸的螺紋孔,貫通前述殼體的結合螺栓是螺合於該螺紋孔,藉由前述結合螺栓的旋緊力,被配置於彼此對接的前述接頭塊體的流路口及前述殼體的一個流路口的周圍的密封構件,是在前述殼體及前述接頭塊體之間被按壓, 前述螺紋孔,其先端部是在前述第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與前述第2流路疊合。
- 如申請專利範圍第1項的流體控制裝置,其中,前述第2流路,是在前述接頭塊體的上面及底面之間,形成於朝底面側偏倚的位置。
- 如申請專利範圍第1項的流體控制裝置,其中,前述第1流路,是對於前述接頭塊體的上面垂直形成。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項的流體控制裝置,其中,前述接頭塊體,是具有對於前述上面垂直交叉的4個側面,該4個側面之中相鄰接的2個側面是彼此垂直交叉,前述第2流路,是由與前述4個側面之中在長度方向相面對的2個側面的一方的側面垂直形成的孔所構成,該孔的開口,是由閉塞構件被密封。
- 如申請專利範圍第4項的流體控制裝置,其中,前述支撐構件,是具有一條前述導引部,與長度方向垂直交叉的方向的寬度尺寸,是和與前述接頭塊體的長度方向垂直交叉的方向的寬度整合。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項的流體控制裝置,其中,前述接頭塊體,是由單一的前述結合螺栓與前述殼體連結。
- 如申請專利範圍第1至6項中任一項的流體控制裝置,其中,前述第1流路,是包含:分別與前述第2流路連接,形成於在長度方向彼此隔離的位置的2個第1流路,前述螺紋孔,是在長度方向,位於在前述上面開口的2個第1流路的2個流路口之間。
- 如申請專利範圍第7項的流體控制裝置,其中,前述接頭塊體,是具有與其他的流體機器的殼體連結用的進一步其他的螺紋孔,前述進一步其他的螺紋孔,是位於在前述上面開口的2個第1流路的2個流路口之間。
- 一種接頭塊體,係將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,並且將流體流路劃界的接頭塊體,其特徵為:前述接頭塊體的流體流路,是包含;在長度方向隔離 的位置具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的2個第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向呈直線狀延伸與前述2個第1流路連接的第2流路,在前述底面側,具有可與其他的構件卡合的卡合部,各別可與其他的構件的連結的2個螺紋孔是從前述上面朝向底面側形成,該2個螺紋孔,是在長度方向,被配置於前述2個流路口之間,前述2個螺紋孔,其先端部是在前述第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與前述第2流路疊合。
- 一種流體機器,是包含開閉閥、調節器、壓力測定器及質量流動控制器的至少其中任一的流體機器,其特徵為:具有將流體流路劃界的殼體,該殼體是具有在其底面側開口的至少2個流路口,進一步具有將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,並且將流體流路劃界的接頭塊體,前述接頭塊體的流體流路,是包含:在長度方向隔離的位置具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向延伸與前述垂直流路連接的第2流路, 前述接頭塊體,是在前述底面側,具有可與其他的構件卡合的卡合部,前述接頭塊體,是具有在前述上面側開口且朝向前述底面側延伸的螺紋孔,貫通前述殼體的結合螺栓是螺合於該螺紋孔,藉由前述結合螺栓的旋緊力,被配置於彼此對接的前述接頭塊體的流路口及前述殼體的一個流路口的周圍的密封構件,是在前述殼體及前述接頭塊體之間被壓縮,前述螺紋孔,其先端部是在前述第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與前述第2流路疊合。
- 一種半導體製造方法,其特徵為:在半導體製造程序所使用的流體的控制,是使用如申請專利範圍第1至8項中任一項的流體控制裝置。
- 一種平面顯示器的製造方法,其特徵為:在平面顯示器的製造程序所使用的流體的控制,是使用如申請專利範圍第1至8項中任一項的流體控制裝置。
- 一種太陽能面板的製造方法,其特徵為:在太陽能面板的製造程序所使用的流體的控制,是使用如申請專利範圍第1至8項中任一項的流體控制裝置。
- 一種流體控制裝置,具有: 第1及第2接頭塊體,是將彼此相面對的上面及底面、從前述上面朝向前述底面側延伸的側面劃界,將流體流路劃界,在前述底面側具有卡合部;及支撐構件,是具有前述第1及第2接頭塊體的卡合部可卡合的朝長度方向呈直線狀延伸的導引部;及透過前述第1及第2接頭塊體被支撐於前述支撐構件的流體機器;其特徵為:前述接頭塊體的流體流路,是包含:具有從前述上面朝向底面側延伸並且在前述上面開口的流路口的第1流路、及在前述接頭塊體的內部朝長度方向延伸與前述第1流路連接的第2流路,前述導引部,是容許前述接頭塊體的朝長度方向的移動且將該接頭塊體拘束在前述支撐構件上,前述流體機器,是具有將流體流路劃界的殼體,該殼體是具有在其底面側開口的至少2個流路口,前述第1接頭塊體,是具有在前述上面開口且朝向前述底面側延伸的螺紋孔,貫通前述流體機器的殼體的結合螺栓是螺合於該螺紋孔,前述第2接頭塊體,是具有在前述上面開口且朝向前述底面側延伸的螺紋孔,貫通前述流體機器的殼體的結合螺栓是螺合於該螺紋孔,藉由貫通前述流體機器的殼體的2個前述結合螺栓的旋緊力,被配置於彼此對接的前述第1接頭塊體的流路口及前述殼體的一個流路口的周圍及第2接頭塊體的流路口 及前述殼體的其他的流路口的周圍的密封構件,是在前述殼體及前述第1及第2接頭塊體之間各別被按壓,前述第1及第2接頭塊體的螺紋孔,其先端部是各別在該第1及第2接頭塊體的第2流路的上方閉塞,並且從俯視看,至少一部分是與該第1及第2接頭塊體的第2流路疊合。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016123007 | 2016-06-21 | ||
JP2016-123007 | 2016-06-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201804107A true TW201804107A (zh) | 2018-02-01 |
TWI688722B TWI688722B (zh) | 2020-03-21 |
Family
ID=60784310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106120614A TWI688722B (zh) | 2016-06-21 | 2017-06-20 | 流體控制裝置、接頭塊體、半導體製造方法、平面顯示器的製造方法及太陽能面板的製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10830367B2 (zh) |
JP (2) | JP6694618B2 (zh) |
KR (1) | KR102152822B1 (zh) |
CN (1) | CN109312874B (zh) |
TW (1) | TWI688722B (zh) |
WO (1) | WO2017221893A1 (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102149689B1 (ko) * | 2016-06-21 | 2020-08-31 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유체제어장치 |
WO2018079288A1 (ja) * | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 株式会社フジキン | 流体制御装置およびこの流体制御装置を用いた製品製造方法 |
KR102543591B1 (ko) * | 2018-10-31 | 2023-06-13 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유체 제어 장치 및 유체 제어 장치의 제조 방법 |
WO2020137572A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 株式会社フジキン | 流体制御装置、継手ブロック及び流体制御装置の製造方法 |
US11492701B2 (en) * | 2019-03-19 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor manifolds |
JP7553468B2 (ja) * | 2019-04-15 | 2024-09-18 | ラム リサーチ コーポレーション | ガス送給用のモジュール式構成要素システム |
KR20210048408A (ko) | 2019-10-22 | 2021-05-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 증착 반응기 매니폴드 |
JP7389461B2 (ja) | 2019-10-31 | 2023-11-30 | 株式会社フジキン | バルブ装置および流体制御装置 |
JP7425462B2 (ja) * | 2019-10-31 | 2024-01-31 | 株式会社フジキン | 流体制御装置および半導体製造装置 |
KR20230068306A (ko) | 2021-11-10 | 2023-05-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 밸브 어셈블리용 시스템 및 장치 |
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-
2017
- 2017-06-19 JP JP2018524085A patent/JP6694618B2/ja active Active
- 2017-06-19 WO PCT/JP2017/022537 patent/WO2017221893A1/ja active Application Filing
- 2017-06-19 KR KR1020187036340A patent/KR102152822B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-19 CN CN201780039076.7A patent/CN109312874B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2017-06-19 US US16/312,015 patent/US10830367B2/en active Active
- 2017-06-20 TW TW106120614A patent/TWI688722B/zh active
-
2020
- 2020-04-06 JP JP2020068024A patent/JP7015071B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7015071B2 (ja) | 2022-02-02 |
JPWO2017221893A1 (ja) | 2019-04-11 |
KR102152822B1 (ko) | 2020-09-07 |
JP2020115040A (ja) | 2020-07-30 |
CN109312874A (zh) | 2019-02-05 |
CN109312874B (zh) | 2020-11-03 |
KR20190005227A (ko) | 2019-01-15 |
US20190195378A1 (en) | 2019-06-27 |
WO2017221893A1 (ja) | 2017-12-28 |
US10830367B2 (en) | 2020-11-10 |
TWI688722B (zh) | 2020-03-21 |
JP6694618B2 (ja) | 2020-05-20 |
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