TW201741699A - 光學膜及偏光板 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種光學膜，其係在剝離表面保護膜時可抑制亮度增進膜之層間剝離的缺陷。上述課題之解決手段為一種光學膜20，係具備表面保護膜22及亮度增進膜21，且在照射了累積光量為8000mJ/cm2的活性能量線後，將表面保護膜從亮度增進膜剝離時所需的拉起力為10.0N/25mm以下，拉起力的上升率未達700%。

Description

光學膜及偏光板
本發明係有關於光學膜及偏光板。
偏光板係具備將具有與其吸收軸方向平行的振動面的直線偏光加以吸收，使具有與該吸收軸正交的振動面的直線偏光可穿透之功能之光學元件，例如可應用於液晶顯示裝置。
液晶顯示裝置中，係使用2片偏光板並將其各配設1片在液晶單元的背面側與前面側。於配設在背面側的偏光板積層亮度增進膜，而使亮度提升，可使液晶顯示裝置的對比提升。在小型的智慧型手機或平板電腦終端等行動裝置中，因電池的搭載量有限，故能獲得節電效果之具有亮度增進膜的偏光板的需求不斷增加。
所謂的亮度增進膜，係具備使與其反射軸方向正交的偏光穿透，將平行的偏光加以反射的功能之光學元件，例如已知一種將折射率相異之2種聚合物薄膜交互地多數積層而形成者。
具有亮度增進膜的偏光板在貼合於液晶單元之前，為了保護該亮度增進膜的表面，經常會於亮度增 進膜的表面暫時接著表面保護膜。而該表面保護膜會在將偏光板貼合於液晶單元後，從偏光板剝離去除(例如參照專利文獻1)。
近年來，在將偏光板與觸控面板貼合之製品化步驟中，為了提升薄膜間的密接性或液體糊之硬化，經常會施行加熱/照射UV/施加力等處理(例如參照專利文獻2)。專利文獻2中雖然記載剝離力經減小的表面保護膜，但在表面保護膜的被接著構件為前述亮度增進膜時，專利文獻2中所記載之表面保護膜並無法解決層間剝離的問題。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2004-258393號公報
[專利文獻2]日本特開平8-60111號公報
如前所述，亮度增進膜為2種或多於2種的層之積層體，相鄰的層彼此之間的密接性並不高。
因此，在將具有表面保護膜及亮度增進膜之偏光板切斷成既定的形狀之生產線等之中，於亮度增進膜的端面容易產生潛在性的裂痕，在將作為製品必須使用之偏光板貼合於液晶單元後將表面保護膜剝離時，在亮度增進膜中各薄膜層之間會產生剝離，有亮度增進膜的一部 分與表面保護膜一起被剝落之問題存在。此現象稱之為層間剝離。尤其，如專利文獻2所記載，對於表面保護膜的被接著物的剝離力，會因前述處理使黏著層變質而有增進之傾向。尤其是在照射紫外線區域的活性能量線時，剝離力係明顯增加。
本發明係考量如上述情況而完成者，其目的係提供一種在剝離表面保護膜時可抑制亮度增進膜之層間剝離的缺陷之光學膜及偏光板。
本發明之其中一態樣係提供一種光學膜，其具備表面保護膜及亮度增進膜，且在照射了活性能量線後，將前述表面保護膜從前述亮度增進膜剝離時所需的拉起力為10.0N/25mm以下，前述拉起力的上升率未達700%。
在本發明之其中一態樣中，前述表面保護膜係透過黏著劑層而積層於前述亮度增進膜，前述黏著劑層亦可作為對於波長190nm的前述活性能量線之穿透率為5%以下的光學膜。
本發明之其中一態樣係提供一種偏光板，其具有上述態樣的光學膜及偏光膜。
於本說明書中，有時將具有亮度增進膜及表面保護膜之積層體簡稱為光學膜。
本發明可提供一種在剝離表面保護膜時可抑制亮度增進膜之層間剝離的缺陷之光學膜及偏光板。
1‧‧‧基材
2‧‧‧黏著層
3‧‧‧高分子層
10‧‧‧偏光膜(吸收型偏光膜)
11‧‧‧保護膜
20‧‧‧光學膜
21‧‧‧亮度增進膜
22‧‧‧表面保護膜
50‧‧‧偏光板
51‧‧‧黏著劑層
70‧‧‧玻璃
71‧‧‧接著封片
第1圖係顯示本發明之實施形態之圖，其為偏光板50的概略剖面圖。
第2圖係顯示將表面保護膜22從亮度增進膜21拉起時之距離與施力之間的關係之圖。
第3圖係對於將偏光板50中之表面保護膜22從亮度增進膜剝離時的拉起力進行測定時的平面圖。
第4圖係對於將表面保護膜22從亮度增進膜剝離時的拉起力進行測定時的剖面圖。
第5圖係顯示實施例、比較例、參考例的規格及評價之圖。
第6圖係實施例、比較例、參考例中之表面保護膜的概略剖面圖。
第7圖係顯示拉起力與亮度增進膜21之層間剝離發生率之間的關係之圖。
以下參照第1圖至第7圖來說明本發明之光學膜及偏光板的實施形態。
〈偏光板〉
第1圖係偏光板50的概略剖面圖。偏光板50係具有由偏光膜10及光學膜20積層的構成。此外，在以下的說明中，如第1圖所示，將在偏光板50中設置有光學膜20 之側稱為上側，而設置有偏光膜10之側稱為下側，予以說明。但是，此稱呼只不過是為了方便說明而予以上下方向定義，並不限定本發明之光學膜20及偏光板50使用時的方位。
〈偏光膜〉
偏光膜10為吸收型的偏光膜(以下，吸收型偏光膜10)，且於下側具有保護膜11。作為吸收型偏光膜10，通常使用的是於聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向有二色性色素者。構成吸收型偏光膜10的聚乙烯醇系樹脂係藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，可列示屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯、以及乙酸乙烯酯及可與該乙酸乙烯酯共聚合的其他單體之共聚物等。作為與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體，例如可列舉不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、具有銨基的丙烯醯胺等。聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。該聚乙烯醇系樹脂可進一步經改性，例如亦可使用經醛改性之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。而聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。作為具體的聚乙烯醇系樹脂及二色性色素，例如可列舉日本特開2012-159778號公報〔專利文獻3〕中所列示之聚乙烯醇系樹脂及二色性色素。
聚乙烯醇系樹脂經製成膜者係作為吸收型 偏光膜10的胚膜使用。將聚乙烯醇系樹脂製膜的方法並無特別限定，可以公知的方法進行製膜。由聚乙烯醇系樹脂所構成之胚膜的厚度並無特別限定，例如為150μm以下。若亦考量延伸的容易度等，其膜厚較佳為3μm以上，且以75μm以下為較佳。
吸收型偏光膜10係例如將聚乙烯醇系樹脂膜以一軸延伸之步驟進行延伸，並經由：以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使其附吸該二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜之步驟、以及經該硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟，最後進行乾燥而製造。又，吸收型偏光膜10例如可依照日本特開2012-159778號中所記載之方法製造。此方法係藉由將聚乙烯醇系樹脂塗布於基材膜，可形成作為吸收型偏光膜10的聚乙烯醇系樹脂層。吸收型偏光膜10的厚度通常為1至40μm，較佳為2至30μm左右。
〈保護膜〉
作為保護膜11，例如可使用由熱可塑性樹脂形成的熱可塑性膜。熱可塑性樹脂膜的厚度通常為3至100μm，較佳為5至50μm。熱可塑性樹脂膜較佳係由透明性、均一的光學特性、機械強度、熱安定性等均表現優異的樹脂所構成。作為熱可塑性樹脂的具體例，可列舉如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等纖維素系樹脂，如聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系 樹脂，如聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯等(甲基)丙烯酸系樹脂，聚碳酸酯系樹脂，聚醚碸系樹脂，聚碸系樹脂，聚醯亞胺系樹脂，如聚乙烯、聚丙烯之聚烯烴系樹脂，聚降莰烯系樹脂。尤其以由纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及聚烯烴系樹脂形成的樹脂膜為較佳。在此，所謂的(甲基)丙烯酸酯，係指甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯之任一種，此外，論及(甲基)丙烯酸等時的「(甲基)」亦同理。
該等熱可塑性樹脂膜可使用合適的市售品。若列舉纖維素系樹脂膜的市售品之例，分別以商品名表示，可列舉Fujifilm股份有限公司製的"Fujitac(註冊商標)TD80"、"Fujitac(註冊商標)TD80UF"及"Fujitac(註冊商標)TD80UZ"，Konica Minolta股份有限公司製的"KC2UAW"、"KC8UX2M"及"KC8UY"等。
聚酯系樹脂膜可使用合適的市售品。若列舉聚酯系樹脂膜的市售品之例，分別以商品名表示，可列舉三菱樹脂股份有限公司製的"Diafoil(註冊商標)"、Toray股份有限公司製的"Lumirror(註冊商標)"、東洋紡股份有限公司製的"Cosmoshine(註冊商標)"等。
(甲基)丙烯酸系樹脂膜可使用合適的市售品。若列舉(甲基)丙烯酸系樹脂膜的市售品之例，分別以商品名表示，可列舉住友化學股份有限公司製的"Technolloy(註冊商標)"、Mitsubishi Rayon股份有限公司製的"Acryplen(註冊商標)"等。
聚碳酸酯系樹脂膜中可使用合適的市售品。若列舉聚碳酸酯系樹脂膜的市售品之例，分別以商品名表示，可列舉帝人化成股份有限公司製的"Panlite(註冊商標)"等。
作為聚烯烴系樹脂的市售品之例，係有：Topas Advanced Polymers GmbH公司製造且由Polyplastics(股)販售之"Topas"，由JSR股份有限公司販售之"ARTON"(註冊商標)，由Japan ZEON股份有限公司販售之"ZEONOR(註冊商標)"及"ZEONEX(註冊商標)"，由三井化學股份有限公司販售之"Apel"(註冊商標)(以上均為商品名)等，可由該等製作薄膜。又，亦可使用聚烯烴系樹脂膜，例如可列舉由JSR(股)販售之"Arton Film"(「Arton」為同公司的註冊商標)、由積水化學工業股份有限公司販售之"Esushina"(註冊商標)、由Japan ZEON股份有限公司販售之"ZeonorFilm"(註冊商標)等。
此外，吸收型偏光膜10是除了於下側具有保護膜11的構成以外，可亦於上側設置保護膜。作為上側保護膜，可列舉亮度增進膜、亮度增進膜與熱可塑性膜的積層體等。
〈亮度增進膜〉
作為亮度增進膜21，例如可使用：如介電體的多層膜或折射率異向性彼此為相異之層的多層積層體般，顯示使既定偏光軸的直線偏光穿透而將其他光線加以反射之特性 者；或者，如將膽固醇型液晶聚合物的配向膜或其配向液晶層支撐於薄膜基材上者般，顯示將逆時針或順時針之任一種圓偏光反射而使其他光線穿透之特性者等合適者。構成前述多層積層體的層之種類，可設為2種或多於2種。作為亮度增進膜，例如可使用：將以聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯為代表之會因延伸而產生相位差的材料，與以聚甲基丙烯酸甲酯為代表之丙烯酸系樹脂、以JSR股份有限公司製的"Arton"(註冊商標)為代表之降莰烯系樹脂等相位差顯現量較少的樹脂兩者交互地一軸延伸所得到之作為多層積層體者。作為亮度增進膜的具體例，可列舉3M公司製的"DBEF"(註冊商標)、"APF-V4"(製品名)、"APF-V3"(製品名)及"APF-V2"(製品名)等。亮度增進膜的厚度通常為5至100μm，較佳為10至50μm。
〈亮度增進膜/熱可塑性樹脂膜的積層體〉
亮度增進膜及熱可塑性樹脂膜的積層體，可為將該等薄膜透過例如黏著劑或接著劑予以積層而成者。黏著劑或接著劑只要選擇合適之公知者即可。從接著作業的簡便性或防止光學扭曲的發生等的觀點而言，較佳係使用黏著劑。作為黏著劑，例如可採用以丙烯酸系聚合體、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醚等作為基材聚合物者。尤其，較佳係選用：如丙烯酸系黏著劑般，光學上的透明性優異、保持適度的潤濕性或凝聚力、與亮度增進膜及熱可塑性樹脂膜的接著性亦優異、而且具有良好的耐熱 性、在高溫環境下不會產生翹起剝落等剝離問題者。
由黏著劑形成的黏著劑層，視需要可含有用以顯示光散射性的微粒子，亦可含有如玻璃纖維、玻璃珠粒、樹脂珠粒、金屬粉或其他無機粉末之填充劑、顏料、著色料、抗氧化劑、紫外線吸收劑等。紫外線吸收劑係有水楊酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
保護膜11及上側保護膜，可以是在與偏光膜的貼合面為相反側之面設置有硬塗層者。藉此可防止在對偏光板加工時所產生的刮傷等。設置硬塗層時，從兼具保護性與彎曲性之觀點而言，硬塗層的厚度較佳為1至8μm，更佳為1至6μm。硬塗層的厚度超過8μm時，彎曲性變低，彎曲時有容易產生裂痕之傾向。另一方面，硬塗層的厚度未達1μm時，雖然彎曲性良好，但從面內均一性的觀點而言，有經常無法得到充分的特性之傾向。
硬塗層可利用樹脂被膜層形成。形成樹脂被膜層的樹脂材料，只要使用樹脂皮膜層形成後的皮膜為具有充分的強度且具有透明性者即可，並無限制。作為前述樹脂，可列舉熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂及電子束硬化型樹脂等活性能量線硬化型樹脂、二液混合型樹脂等。
尤其，紫外線硬化型樹脂除了可藉由紫外線的照射而使樹脂硬化，且以簡單的加工操作即可有效率地形成樹脂被膜層之外，亦可形成防眩處理層等光擴散層，因而合適。 作為紫外線硬化型樹脂，可列舉聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系等各種者，其包括紫外線硬化型的單體、低聚物、聚合物等。較佳可使用的紫外線硬化型樹脂，例如可列舉具有紫外線聚合性的官能基者，其中可列舉具有2個以上該官能基、特別是具有3至6個該官能基之丙烯酸系的單體或低聚物成分者。又，紫外線硬化型樹脂中會調配紫外線聚合起始劑。
樹脂被膜層的形成方法可採用合適之公知的方法，例如將前述樹脂(塗裝液)塗裝於保護膜5並進行乾燥之方法。使用硬化性樹脂時，係在之後進行硬化處理。前述塗裝液的塗裝方法可採用噴注式(fountain)、模縫塗佈器、澆鑄、旋轉塗佈、噴注式金屬包鍍(fountain metaling)、凹版等的方法。
此外，塗裝時，前述塗裝液可經甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異丙基醇、乙基醇等一般的溶劑予以稀釋，亦可不經稀釋而直接進行塗裝。
就積層吸收型偏光膜10及保護膜的方法而言，通常採用以接著劑將該等薄膜接著之方法。於吸收型偏光膜10的兩面積層保護膜時，可使用同種類的接著劑或不同種類的接著劑。
作為接著劑，可列舉水系接著劑、光硬化性接著劑等。水系接著劑係使接著劑成分溶解於水中者或使接著劑成分分散於水中者，可使接著劑層變薄。作為水系接著劑，例如可列舉接著劑(組成物)的主成分為聚乙烯 醇系樹脂或胺基甲酸酯樹脂來作為較佳的接著劑。
聚乙烯醇系樹脂可以是部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇，以及羧基改性聚乙烯醇、乙醯乙醯基改性聚乙烯醇、羥甲基改性聚乙烯醇、胺基改性聚乙烯醇等經改性的聚乙烯醇系樹脂。使用聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分時，該接著劑經常係以聚乙烯醇系樹脂的水溶液來調製。接著劑中之聚乙烯醇系樹脂的濃度，相對於水100重量份通常為1至10重量份左右，較佳為1至5重量份。
為了使接著性提升，在含有聚乙烯醇系樹脂作為主要成分的接著劑中，較佳係添加乙二醛、水溶性環氧樹脂等的硬化性成分或交聯劑。作為水溶性環氧樹脂，例如可列舉：使如二伸乙三胺、三伸乙四胺之多伸烷基多胺與如己二酸之二羧酸反應所得之多醯胺多胺，與表氯醇反應而得之多醯胺多胺環氧樹脂。作為該多醯胺多胺環氧樹脂的市售品，分別以商品名表示，係有田岡化學工業股份有限公司販售之"Sumirez Resin(註冊商標)650(30)"及"Sumirez Resin(註冊商標)675"、星光PMC股份有限公司販售之"WS-525"等，該等可合適使用。該等硬化性成分或交聯劑的添加量，相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份通常為1至100重量份，較佳為1至50重量份。其添加量較少時，接著性提升效果變小，另一方面，其添加量較多時，接著劑層有變脆的傾向。
透過水系接著劑接合的積層體(吸收型偏光 膜10及保護膜)，通常係施行乾燥處理，以進行接著劑層的乾燥、硬化。乾燥處理例如可藉由吹送熱風來進行。乾燥溫度可由40至100℃左右，較佳為60至100℃的範圍中合適選擇。乾燥時間例如為20至1,200秒左右。乾燥後的接著劑層的厚度，通常為0.001至5μm左右，較佳為0.01μm以上，且較佳為2μm以下，更佳為1μm以下。
接著劑層的厚度變過大時，偏光板之外觀容易不良。
乾燥處理後，可在室溫以上的溫度施行至少半天、通常為1天以上的熟成而獲得充分的接著強度。典型的該熟成係在捲撓成捲筒狀的狀態下進行。較佳的熟成溫度為30至50℃的範圍，更佳為35℃以上、45℃以下。熟成溫度超過50℃時，在捲筒狀態時容易產生所謂的「捲緊」。此外，熟成時的濕度係以例如使相對濕度成為70%以下範圍之方式進行適當選擇為較佳。熟成時間通常為1至10天左右，較佳為2至7天左右。
作為光硬化性接著劑，例如可列舉光硬化性環氧樹脂與光陽離子聚合起始劑的混合物等。作為光硬化性環氧樹脂，例如可列舉脂環式環氧樹脂、不具有脂環式構造的環氧樹脂、及該等的混合物等。
又，作為光硬化性接著劑，可使用的是在環氧樹脂、丙烯酸樹脂、氧雜環丁烷樹脂、胺基甲酸酯樹脂、聚乙烯醇樹脂等之中添加自由基聚合型起始劑及/或陽離子聚合型起始劑者。
透過光硬化性接著劑而接合的積層體，在 積層後可藉由照射活性能量線而使光硬化性接著劑硬化。活性能量線的光源係以例如在波長400nm以下具有發光分布的活性能量線為較佳，具體而言，較佳可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。對光硬化性接著劑的光照射強度可依照該光硬化性接著劑的組成而適當決定，並無特別限定，惟對於聚合起始劑的活性化為有效的波長區域的照射強度較佳為0.1至2500mW/cm2。該照射強度為0.1mW/cm2以上時，反應時間不會過長，而在2500mW/cm2以下時，因從光源輻射的熱及光硬化性接著劑硬化時之發熱所造成之環氧樹脂黃變或偏光板劣化之疑虞較少。
對光硬化性接著劑的光照射時間，係依要硬化的各光硬化性接著劑加以控制，惟較佳係設定成使上述照射強度與照射時間之乘積表示之累積光量成為10至10,000mJ/cm2。對於光硬化性接著劑的累積光量為10mJ/cm2以上時，可產生充分量之源自聚合起始劑的活性種而使硬化反應更確實地進行，而在10,000mJ/cm2以下時，照射時間不會過長，可以維持良好的生產性。此外，活性能量線照射後之接著劑層的厚度，通常為0.001至5μm左右，較佳為0.01μm以上，且較佳為2μm以下，更佳為1μm以下。
藉由活性能量線的照射而使光硬化性接著劑硬化時，較佳係在不會降低偏光膜的偏光度、穿透率及 色相、以及丙烯酸系樹脂膜及光學補償膜、保護膜等透明膜的透明性等偏光板的各種功能的條件下進行硬化。
此外，可藉由前述活性能量線的照射條件而良率優良地製造製品者，僅限定於如符合後述的實施例1至3之選定適當的表面保護膜之情況。
〈光學膜〉
光學膜20係由亮度增進膜21與表面保護膜22積層而構成者。
〈表面保護膜〉
第6圖為表面保護膜22的概略的剖面圖。表面保護膜22係剝離自如地貼著於被保護構件(亮度增進膜21)的表面，以謀求保護保該表面者，該表面保護膜22係具備：基材1、設置於該基材之亮度增進膜21側之下表面的黏著層2、及設置於基材的上表面之高分子層3。
作為基材1可使用以聚乙烯或聚丙烯、聚酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯等作為原料的合成樹脂及該等的積層體，其中考量到透明性、使用時的耐熱性，較佳為經二軸延伸的聚對苯二甲酸乙二酯膜。樹脂膜可為無延伸、一軸延伸、二軸延伸中之任一種。
又，可將樹脂膜的延伸倍率、軸方法的配向角度控制在特定的值。除了上述樹脂膜以外，只要是具有必要強度及光學適性者，亦可使用由其他樹脂所構成的薄膜。又， 亦可在該等基材的表面施行電暈處理等易接著處理。
該基材1的薄膜厚度為12μm至100μm左右，較佳以20μm至80μm為適當。其在基材1的薄膜厚度未達12μm則過薄，會因異物的碰撞產生刻痕(nicks)等，而難以保護前述保護構件，且難以在不會對保護構件產生皺褶的情況下予以貼合，或因無韌性而難以進行表面保護膜22的剝離作業。又，薄膜厚度超過80μm時，則基材的剛性過大，難以對保護構件無浮起且均勻地予以貼著，且捲曲變大，對於觸控面板的貼合產生困難。又，表面保護膜22的價格構成方面，由於基材占較大的比率，故該表面保護膜22A所需的經濟性降低。
黏著層2可接著於基材1，且可在使用完畢後容易地剝離，其只要是不容易污損被接著面的黏著層即可，並無特別限定，考量到在高溫/濕熱條件下的光學耐久性，較佳為丙烯酸系黏著劑。又，黏著層2與基材1的形成方法並無特別限定，亦可藉由公知的塗布方法或熔融擠出方法而形成。
就添加於黏著層2的硬化劑而言，作為使(甲基)丙烯酸酯共聚物交聯的交聯劑，可列舉異氰酸酯化合物、環氧化合物、三聚氰胺化合物、金屬螯合物化合物等。又，作為黏著賦予劑，可列舉松脂系、香豆酮茚(coumarone-indene)系、萜烯系、石油系、酚系等。
高分子層3係設置於基材1的上側，將聚矽氧系或氟系等的脫模劑添加至丙烯酸樹脂或聚酯樹脂、耐 綸樹脂、苯乙烯/丙烯腈樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂等的一種或二種以上的高分子化合物而得者。又，替代該等高分子化合物，亦可使用UV硬化樹脂及熱硬化樹脂。
為了滿足充分的污染防止功能、可印染性，高分子層3較佳為0.003μm至3μm，更佳為0.02μm至1μm。
又，高分子層3於其層內具有抗靜電性。作為對高分子層賦予(使用、添加)抗靜電性能的方法係使用/添加陽離子性抗靜電劑或陰離子系抗靜電劑、兩性抗靜電劑、非離子性抗靜電劑等各種的界面活性劑型抗靜電劑，或聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩等導電性聚合物、導電性的填料、晶鬚。於本實施形態中，拉起力的上升率可藉由調製硬化劑的量與抗靜電劑的量而控制，但增加抗靜電劑的量，且減少添加於黏著層2之硬化劑的量可以減少拉起力的上升率，因而較佳。
高分子層3亦可藉由混合前述的矽/丙烯酸酯系梳形接枝聚合物及其他屬於高分子化合物的黏合劑而構成，矽/丙烯酸酯系梳形接枝聚合物與其他屬於高分子化合物的黏著劑之重量比為4：1至1：20，較佳為1：1至1：12。矽/丙烯酸酯系梳形接枝聚合物的比率過大時，藉由黏著膠帶產生的剝離力會過輕，對利用賽璐凡(cellophane)黏著膜進行之表面保護膜22的剝離作業亦會產生阻礙。反之，比率過小時，撥水性或污染防止性能不足，且可能在亮度增進膜21產生層間剝離，故需要適度調整對高分子化 合物之脫模劑的添加量。
又，高分子層3除了於其層內具有抗靜電性的構成以外，亦可為於高分子層3與基材1之間設置有抗靜電層之構成。抗靜電層可使用陽離子性抗靜電劑或陰離子系抗靜電劑、兩性抗靜電劑、非離子性抗靜電劑等各種的界面活性劑型抗靜電劑，或該等聚酯樹脂、丙烯酸樹脂等含於黏著劑者。又，亦可使用將聚苯胺或聚吡咯、聚噻吩等導電性聚合物、導電性填料、晶鬚分散於黏著劑者。而且，亦可在如丙烯酸系或聚酯系、聚胺基甲酸酯系之高分子化合物中使用由具有磷酸基或磷酸鹽基的樹脂與具有唑啉基的聚合物所構成之導電性化合物。於基材形成抗靜電層時，可藉由使前述物質溶解於有機溶劑等中形成塗裝液，並使用公知之任意的塗布方法，例如凹版塗佈法或逆向塗佈法、滾筒塗佈法等而形成。
而且亦可藉由熔融擠出法而形成。
此外，在本實施形態之偏光板50中，於保護膜11的下表面設置有黏著劑層51。形成黏著劑層51的黏著劑只要是滿足光學膜所使用的各種特性(透明性、耐久性、重工性等)者即可，例如可使用含有丙烯酸系樹脂及交聯劑之丙烯酸系黏著劑，該丙烯酸系樹脂係使含有作為主成分之(甲基)丙烯酸酯及少量的具有官能基的(甲基)丙烯酸單體之丙烯酸系單體組成物，在聚合起始劑的存在下進行自由基聚合而成，且玻璃轉移溫度(Tg)為0℃以下者。
依如此方式所得之表面保護膜經在UVB區 域(280至350nm)的累積光量為8000mJ/cm2的活性能量線照射後的拉起力為10.0N/25mm以下，較佳為8.0N/25mm以下，更佳為7.0N/25mm以下，又更佳為5.0N/25mm以下。依如此方式所得之表面保護膜經在UVB區域(280至350nm)的累積光量為8000mJ/cm2的活性能量線照射後的剝離力，較佳為3.0N/25mm以下，更佳為1.0N/25mm以下，又更佳為0.5N/25mm以下，特佳為0.2N/25mm以下，且較佳為0.01N/25mm以上。此時的照射強度可設為500mW/cm2。藉由將剝離力設為0.01N/25mm以上，可防止在運送中表面保護膜從亮度增進膜剝落。
又，在照射累積光量為8000mJ/cm2的活性能量線之前後，拉起力的上升率為未達700%，較佳為600%以下。就可減小拉起力的上升率而言，表面保護膜在波長190nm的穿透率較佳為10%以下，更佳為5%以下。
本發明之偏光板係以其端面經研磨加工者為較佳。藉由進行研磨加工，可提升偏光板外形的尺寸精度，並且防止偏光片的破裂。另一方面，因進行研磨加工，而使偏光板中尤其是亮度增進膜端面之表面的長寬比變大，並在此狀態照射活性能量線後將表面保護膜剝離時，有時容易產生亮度增進膜的層間剝離。藉由本發明，例如即使亮度增進膜端面之表面的長寬比Str為0.25以上或0.28以上，仍可有效地抑制層間剝離。亦即藉由本發明，可同時達成提升偏光板的尺寸精度及防止偏光片的裂痕、與抑制層間剝離。
進行如此之研磨加工時，可使用例如國際公開2011/040636中所記載之裝置。該裝置係具有旋轉體、及設置於與旋轉體之旋轉軸垂直的圓盤狀設置面之複數個切削刃者，其藉由在旋轉旋轉體的情況下使切削刃與偏光板的端面抵接，而對偏光板的端面進行研磨加工者。
於本實施形態中，為了將表面的長寬比Str控制在既定的範圍內，較佳係增加切削刃的數量，且減小旋轉體的旋轉速度，例如切削刃的數量為3以上，較佳為5以上，而旋轉體的旋轉速度例如為10000rpm以下，較佳為6000rpm以下，更佳為5000rpm以下。
又，就可更抑制層間剝離的產生而言，將偏光板積層而進行研磨加工時，較佳係使偏光板的端面與上述圓盤狀的設置面之中央部抵接。
在黏著劑層51中與偏光板50貼合的液晶單元(未圖示)的相反側，可積層同種類的偏光板或公知的偏光板。又，設置有黏著劑層51的偏光板50，較佳係配置於液晶顯示裝置之背面側(背光側)，更佳係配置成使表面保護膜22側成為背光側。
(實施例)
以下將列舉實施例來更具體地說明本發明，惟本發明並不限定於該等實施例。實施例中只要沒有特別聲明，含量或使用量所表之「%」及「份」均為重量基準。
[試樣作成方法]
(端面處理)
端面處理係使用國際公開2011/040636中所記載之裝置進行。
將複數片偏光板50複數片疊合，在由最外側的兩薄膜面之外面側以一對樹脂製夾持構件夾持該積層膜的狀態下，使旋轉刃的刃面朝向前述積層膜的集合體之周面，藉由前述旋轉刃將前述積層膜的集合體之周面連同前述夾持構件的周面一起精切削。此時旋轉體的旋轉速度為4800rpm。
(活性能量線照射)
測定機器：[Fusion UV Systems股份有限公司製Fusion UV B2-006]
設成輸送帶速度：10m/min、高度：50mm、光強度：100%、閥門：D閥門，對於貼合於鈉鈣玻璃的偏光板50從表面保護膜側起以使UVB區域(280至315nm)的累積光量成為8000mJ/cm2的方式照射照射強度為500mJ/cm2的活性能量線。
[評價方法]
(拉起力)
測定機器：使用[島津社製的萬能試驗機AGS-50NX]，以剝離寬度：25mm、剝離角度：180°、剝離速度300mm/min的方式進行將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離之剝離試驗。第2圖係顯示將表面保護膜22從 亮度增進膜21拉起時，距離與力之間的關係圖。如第2圖所示，在將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時之初期段階，拉起時需要較大的力量，但開始剝離後拉起力就變小。在本實施形態中，將表面保護膜22從起點剝離達25mm為止內的最大值設為拉起力，其後的力設為剝離力。‧拉起力的上升率…將以使UVB區域的累積光量成為8000mJ/cm2的方式照射照射強度為500mJ/cm2的活性能量線的前後所測定得到的拉起力，利用下述式算出上升率。
上升率=[(N1-N0)/N0]×100單位：%、N0：UV照射前的拉起力、N1：UV照射後的拉起力
第3圖係在對於將偏光板50中之表面保護膜22從亮度增進膜剝離時的拉起力進行測定時的平面圖。第4圖係在對於將表面保護膜22從亮度增進膜剝離時的拉起力進行測定時的剖面圖。於剝離試驗中，係將已切割為長條狀之附亮度增進膜21的偏光板50之黏著劑層51如第3圖及第4圖所示般貼合於玻璃70來進行。
拉起力的測定係使用10個試樣進行，求取其平均值。拉起力的測定係分別在向偏光板50照射活性能量線之前及照射活性能量線之後實施。在活性能量線照射後，將其放置在25℃、55%RH的環境下，待試樣的溫度冷卻至23℃後測定拉起力。
(亮度增進膜21的剖面之長寬比)
使用測定機器：[Olympus股份有限公司製型號：OLS4100]，以超高速模式將倍率設為100倍進行表面粗糙度測定。從與亮度增進膜的延伸方向垂直的方向之2個端面每次切出3cm，每次測定寬5點。長寬比愈大時，剖面會存在有不均勻的凹凸，成粒糙的的狀態。長寬比愈小時，剖面為均勻，並未產生裂痕、缺陷。
[試樣製作]
依照如第5圖所示之規格，製作實施例1至3、比較例1至2、參考例1至5的試樣。
[實施例1]
偏光板50係依照下述的方式製作。首先將厚度60μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上)以乾式延伸進行一軸延伸至約5倍，接著保持在拉張狀態的情況下，浸漬於60℃的純水1分鐘後，於碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/5/100的水溶液中以28℃浸漬60秒。然後，於碘化鉀/硼酸/水的重量比為8.5/8.5/100的水溶液中以72℃浸漬300秒。接著用26℃的純水洗淨20秒後，在65℃進行乾燥，而得到於聚乙烯醇膜吸著配向有碘之厚度23μm的偏光片。其次，於該偏光片的單側塗佈環氧系接著劑，其中該環氧系接著劑係於水100份中溶解3份的羧基改性聚乙烯醇[由Kuraray股份有限公司取得之商品名"KL-318"]，且於該水溶液中添加作為水溶性環氧樹脂的聚 醯胺環氧系添加劑[由田岡化學工業股份有限公司取得之商品名"Sumirez Resin(註冊商標)650(30)"、固形物濃度30%的水溶液]1.5份而得者，再貼合作為透明保護膜11之厚度40μm的三乙酸纖維素膜[Konica Minolta Opto股份有限公司製的商品名"KC4UY"]，並於其相反側使用前述的接著劑來貼合厚度為26μm的亮度增進膜21(3M製、商品名Advanced Polarized Film,Version 3)。在貼合有三乙酸纖維素膜(保護膜11)之面塗裝黏著劑而製作出具有黏著劑層51的偏光板50。將基材為厚度38μm的二軸延伸聚酯膜而黏著層的厚度為15μm，且含有硬化劑及抗靜電劑之作為表面保護膜22的SAT4038T15-JSL(Sun A.Kaken股份有限公司製)，透過前述黏著劑而貼合於貼合有亮度增進膜21之面。該表面保護膜22對於波長190nm的前述活性能量線之穿透率為5%以下。
將所製作之附亮度增進膜21的偏光板50積層，於上述條件下實施端面研磨。該端面研磨後的亮度增進膜21之剖面的長寬比為Str=0.30。對於此試樣照射累積光量為8000mJ/cm2的活性能量線。於表面保護膜22貼附用以剝離表面保護膜22的接著封片(adhesive seal)71後，將接著封片71的一側(第3圖及第4圖的右側)之端部拉至另一側(第3圖及第4圖的左側)，藉此將表面保護膜22拉起，測定從亮度增進膜21剝離時的拉起力。將表面保護膜22從亮度增進膜剝離時的拉起力為4.8N/25mm。
此外，活性化能量線照射前的拉起力為0.77N/25mm。
[實施例2]
以與實施例1同樣的製程作成試樣，施行同樣的處理，惟保護APF-V3的表面保護膜22則使用：基材為厚度38μm的二軸延伸聚酯膜而黏著層的厚度為22μm，且含有硬化劑及抗靜電劑之SAT4538TF-JSL(Sun A.Kaken股份有限公司製)。亮度增進膜21之剖面的長寬比為Str=0.30，將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為6.2N/25mm。該表面保護膜22對於波長190nm的前述活性能量線之穿透率為5%以下。
[實施例3]
以與實施例1同樣的製程作成試樣，施行同樣的處理，但保護APF-V3的表面保護膜22則使用：基材為厚度38μm的二軸延伸聚酯膜而黏著層的厚度為22μm，且含有硬化劑及抗靜電劑之SAT4238TF-JSL(Sun A.Kaken股份有限公司製)。亮度增進膜的剖面之長寬比為Str=0.30，將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為8.2N/25mm。該表面保護膜22對於波長190nm的前述活性能量線之穿透率為5%以下。
[比較例1]
以與實施例1同樣的製程作成試樣，施行同樣的處理，但保護APF-V3的表面保護膜則使用基材為厚度38μm 的二軸延伸聚酯膜而黏著層的厚度為20μm之AS3-304(藤森工業股份有限公司製)作為如第6圖所示之表面保護膜22。亮度增進膜21的剖面之長寬比為Str=0.30，將表面保護膜從亮度增進膜21剝離時的拉起力為12.0N/25mm。該表面保護膜22對於波長190nm的前述活性能量線之穿透率為5%以下。
[比較例2]
以與實施例1同樣的製程作成試樣，施行同樣的處理，但保護APF-V3的表面保護膜則使用與比較例1所使用的表面保護膜22A為同樣的構成，即基材為厚度38μm的二軸延伸聚酯膜而黏著層的厚度為15μm之AS3-501(藤森工業股份有限公司製)。AS3-501與AS3-304係黏著劑的厚度及種類不同者。亮度增進膜的剖面之長寬比為Str=0.30，將表面保護膜從亮度增進膜21剝離時的拉起力過大，因而無法測定。該表面保護膜22對於波長190nm的前述活性能量線之穿透率為5%以下。
[參考例1]
以與實施例1同樣的製程作成試樣，實行同樣的處理，但不照射活性能量線。端面研磨後的亮度增進膜21之剖面的長寬比為Str=0.30。將裁切成長條狀之附亮度增進膜21的偏光板50之黏著劑層51貼合於玻璃70。將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為 0.77N/25mm。
[參考例2]
以與實施例2同樣的製程作成試樣，實行同樣的處理，但不照射活性能量線。端面研磨後的亮度增進膜21的剖面之長寬比為Str=0.30。將已切割為長條狀之附亮度增進膜21的偏光板50之黏著劑層51貼合於玻璃70。將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為2.6N/25mm。
[參考例3]
以與實施例3同樣的製程作成試樣，實行同樣的處理，但不照射活性能量線。端面研磨後的亮度增進膜21之剖面的長寬比為Str=0.30。將已切割為長條狀之附亮度增進膜21的偏光板50之黏著劑層51貼合於玻璃70。將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為1.4N/25mm。
[參考例4]
以與比較例1同樣的製程作成試樣，實行同樣的處理，但不照射活性能量線。端面研磨後的亮度增進膜21之剖面的長寬比為Str=0.30。將已切割為長條狀之附亮度增進膜21的偏光板50之黏著劑層51貼合於玻璃70。將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為 1.2N/25mm。
[參考例5]
以與比較例2同樣的製程作成試樣，實行同樣的處理，但不照射活性能量線。端面研磨後的亮度增進膜21之剖面的長寬比為Str=0.30。將已切割為長條狀之附亮度增進膜21的偏光板50之黏著劑層51貼合於玻璃70。將表面保護膜22從亮度增進膜21剝離時的拉起力為7.0N/25mm。
第7圖係顯示上述的拉起力與亮度增進膜21的層間剝離發生率之間的關係圖。如第7圖所示，可確認到，拉起力愈大時，層間剝離發生率亦會變大。在本實施形態中，如第5圖所示，將層間剝離發生率為0至10%以下的情況評價為○，超過10%且20%以下的情況評價為△，超過20%的情況則評價為×。
另一方面，在實施活性能量線照射的情況下，拉起力超過1.0N/25mm或拉起力的上升率為700%以上時，層間剝離發生率的結果顯示為×，但只要拉起力為10.0N/25mm以下，拉起力的上升率為未達700%，則仍可確認到，層間剝離發生率為○或△之良好的結果。
以上內容係在參照附錄圖式的情況下說明本發明之合適的實施形態，但本發明並不限定於該等例子，自不待言。上述例子所示之各構成構件的各種形狀或組合等只為其中一例，在不超出本發明之主旨的範圍內， 均可基於設計要求等進行各種變更。
10‧‧‧偏光膜(吸收型偏光膜)
11‧‧‧保護膜
20‧‧‧光學膜
21‧‧‧亮度增進膜
22‧‧‧表面保護膜
50‧‧‧偏光板
51‧‧‧黏著劑層

Claims (3)

  1. 一種光學膜，其具備表面保護膜及亮度增進膜，而在照射了累積光量為8000mJ/cm2的活性能量線後，將前述表面保護膜從前述亮度增進膜剝離時所需的拉起力為10.0N/25mm以下，且前述拉起力的上升率未達700%。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中，前述表面保護膜對於波長190nm的前述活性能量線的穿透率為5%以下。
  3. 一種偏光板，係具有申請專利範圍第1或2項所述之光學膜、以及偏光膜。
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