CN107238876B - 光学膜以及偏振板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供能够在表面保护膜剥离时抑制增亮膜发生层间剥离这样的不良情况的光学膜以及偏振板。光学膜(20)具备表面保护膜(22)和增亮膜(21)，其特征在于，在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将表面保护膜从增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，掀起力的上升率小于700％。

Description

光学膜以及偏振板
技术领域
本发明涉及光学膜以及偏振板。
背景技术
偏振板是具有如下功能的光学元件，即，吸收具有与偏振板的吸收轴方向平行的振动面的直线偏振光并使具有与该吸收轴正交的振动面的直线偏振光透过，偏振板例如被用于液晶显示装置。
在液晶显示装置中，使用两张偏振板，在液晶单元的背面侧和前面侧分别各配设一张偏振板。通过向配设于背面侧的偏振板层叠增亮膜来提高亮度，能够提高液晶显示装置的对比度。对于小型的智能手机、平板终端等便携设备，电池的搭载量受到限定，因此具有能够得到省电效果的增亮膜的偏振板的需要日益增加。
增亮膜是具有使与其反射轴方向正交的偏振光透过并将与其反射轴方向平行的偏振光反射的功能的光学元件，例如已知交替地层叠多个折射率不同的两种聚合物薄膜而形成的增亮膜。
具有增亮膜的偏振板在贴合于液晶单元之前的期间，为了保护其表面而大多在增亮膜的表面临时粘接表面保护膜。该表面保护膜在将偏振板贴合于液晶单元之后，被从偏振板剥离除去(例如参照专利文献1)。
近年来，在将偏振板与触控屏相粘贴的产品化工序中，为了实现膜间的紧贴性提高、液体糊的固化，大多实施加热、UV照射、施力等处理(例如参照专利文献2)。专利文献2记载了减小剥离力的表面保护膜，但在表面保护膜的贴附构件为前述的增亮膜的情况下，对于专利文献2所记载的表面保护膜则无法解决层间剥离的问题。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004-258393号公报
专利文献2：日本特开平8-60111号公报
如前所述，增亮膜为两种或者两种以上的层的层叠体，相邻的层彼此的紧贴性不高。
因此，存在如下问题：在将具有表面保护膜、增亮膜的偏振板切断成规定的形状的切割线等处，增亮膜的端面容易产生潜在的裂纹，在为了作为产品使用而在将偏振板贴合于液晶单元之后并剥离表面保护膜时，在增亮膜中的各膜的层间产生剥离从而增亮膜的一部分与表面保护膜一起被剥离。将该现象称作层间剥离。尤其是，表面保护膜的对贴附体的剥离力如专利文献2所记载的那样由于粘合层的因所述处理产生的变质而存在加剧的倾向。尤其是在照射了紫外线区域的活性能量射线时，剥离力显著增加。
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是考虑到以上那样的点而做出的，其目的在于，提供能够在表面保护膜剥离时抑制增亮膜发生层间剥离这样的不良情况的光学膜以及偏振板。
用于解决课题的方案
本发明的一技术方案提供一种光学膜，其具备表面保护膜和增亮膜，所述光学膜的特征在于，在被照射活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，所述掀起力的上升率小于700％。
在本发明的一技术方案中，也可以是如下光学膜：所述表面保护膜经由粘合剂层而层叠于所述增亮膜，所述粘合剂层的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
本发明的一技术方案提供一种偏振板，该偏振板具有偏振膜和上述的技术方案的光学膜。
在本说明书中，有时将具有增亮膜和表面保护膜的层叠体仅称作光学膜。
发明效果
在本发明中，能够提供可在表面保护膜剥离时抑制增亮膜发生层间剥离这样的不良情况的光学膜以及偏振板。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式的图，是偏振板50的简要的剖视图。
图2是表示将表面保护膜22从增亮膜21掀起时的距离与力的关系的图。
图3是对将偏振板50中的表面保护膜22从增亮膜剥离时的掀起力进行测定时的俯视图。
图4是对将表面保护膜22从增亮膜剥离时的掀起力进行测定时的剖视图。
图5是表示实施例、比较例、参考例的规格以及评价的图。
图6是实施例、比较例、参考例中的表面保护膜的简要的剖视图。
图7是表示掀起力与增亮膜21中的层间剥离产生率的关系的图。
附图标记说明：
10…偏振膜(吸收型偏振膜)、20…光学膜、21…增亮膜、22…表面保护膜、50…偏振板。
具体实施方式
以下，参照图1至图7来说明本发明的光学膜以及偏振板的实施方式。
<偏振板>
图1是偏振板50的简要的剖视图。偏振板50具有将偏振膜10与光学膜20层叠的结构。需要说明的是，在以下的说明中，如图1所示，将在偏振板50中设置有光学膜20的一侧称作上侧，将设置有偏振膜10的一侧称作下侧来进行说明。不过，这仅是为了方便说明而定义了上下方向，不对本发明的光学膜20以及偏振板50的使用时的朝向构成限定。
<偏振膜>
偏振膜10是吸收型的偏振膜(以下称作吸收型偏振膜10)，在下侧具有保护膜11。作为吸收型偏振膜10，通常使用使二色性色素吸附于聚乙烯醇系树脂膜并取向而成的偏振膜。构成吸收型偏振膜10的聚乙烯醇系树脂通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯以外，可例示出乙酸乙烯酯和能够与其共聚的其他单体的共聚物等。作为可与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，例如可举出不饱和羧酸、烯烃、乙烯基醚、不饱和磺酸、具有铵基的丙烯酰胺等。聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85～100摩尔％程度，优选为98摩尔％以上。该聚乙烯醇系树脂也可以进一步被改性，例如也可以使用由醛类改性后的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。另外，聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1000～10000左右，优选为1500～5000左右。作为具体的聚乙烯醇系树脂、二色性色素，例如可举出日本特开2012-159778号公报[专利文献3]所例示的聚乙烯醇系树脂、二色性色素。
对聚乙烯醇系树脂进行制膜而得到的膜被用作吸收型偏振膜10的坯料膜。对聚乙烯醇系树脂进行制膜的方法并不特别限定，可以采用公知的方法来制膜。由聚乙烯醇系树脂构成的坯料膜的厚度不特别限定，例如为150μm以下。若也考虑延伸的容易度等，则坯料膜的膜厚优选为3μm以上，另外优选为75μm以下。
吸收型偏振膜10例如可通过如下方式制造：在使聚乙烯醇系树脂膜单轴延伸的工序中将其延伸，并经由利用二色性色素对聚乙烯醇系树脂膜进行染色而吸附该二色性色素的工序、利用硼酸水溶液对吸附有二色性色素的聚乙烯醇系树脂膜进行处理的工序、以及在该硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序，最后使聚乙烯醇系树脂膜干燥。另外，吸收型偏振膜10也可以依据例如日本特开2012-159778号所记载的方法来制造。在该方法中，通过向基材膜涂敷聚乙烯醇系树脂，从而能够形成成为吸收型偏振膜10的聚乙烯醇系树脂层。吸收型偏振膜10的厚度通常为1～40μm，优选为2～30μm左右。
<保护膜>
作为保护膜11，例如可使用由热塑性树脂形成的热塑性膜。热塑性树脂膜的厚度通常为3～100μm，优选为5～50μm。热塑性树脂膜优选由透明性、均匀的光学特性、机械强度、热稳定性等优异的树脂构成。作为热塑性树脂的具体例，可举出三乙酰纤维素、二乙酰纤维素之类的纤维素系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯之类的聚酯系树脂、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯之类的(甲基)丙烯酸系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯之类的聚烯烃系树脂、聚降冰片烯系树脂。其中，优选由纤维素系树脂、聚酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚碳酸酯系树脂以及聚烯烃系树脂形成的树脂膜。在此，(甲基)丙烯酸酯是指甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯中的任一方均可，除此之外，在言及(甲基)丙烯酸等时的“(甲基)”也是同样的。
这些热塑性树脂膜可以使用合适的市售品。若例举纤维素系树脂膜的市售品的例子，则可举出商品名分别为富士胶片株式会社制的“Fujitac(注册商标)TD80”、“Fujitac(注册商标)TD80UF”以及“Fujitac(注册商标)TD80UZ”、柯尼卡美能达株式会社制的“KC2UAW”、“KC8UX2M”以及“KC8UY”等的市售品。
聚酯系树脂膜可以使用合适的市售品。若例举聚酯系树脂膜的市售品的例子，则可举出商品名分别三菱树脂株式会社制的“Diafoil(注册商标)”、东丽株式会社制的“Lumirror(注册商标)”、东洋纺株式会社制的“COSMOSHINE(注册商标)”等市售品。
(甲基)丙烯酸系树脂膜可以使用合适的市售品。若例举(甲基)丙烯酸系树脂膜的市售品的例子，则可举出商品名分别为住友化学株式会社制的“Technolloy(注册商标)”、三菱丽阳株式会社制的“ACRYPLEN(注册商标)”等的市售品。
聚碳酸酯系树脂膜可以使用合适的市售品。若例举聚碳酸酯系树脂膜的市售品的例子，则商品名分别为帝人化成株式会社制的“Panlite(注册商标)”等市售品。
作为聚烯烃系树脂的市售品的例子，存在Topas Advanced Polymers GmbH公司制且由聚合塑料(株式会社)销售的“Topas”、由JSR株式会社销售的“ARTON”(注册商标)、由日本瑞翁株式会社销售的“ZEONOR(注册商标)”以及“ZEONEX(注册商标)”、由三井化学株式会社销售的“APEL”(注册商标)(以上均为商品名)等，能够利用它们来制作膜。另外，也可以使用聚烯烃系树脂膜，例如可举出由JSR(株式会社)销售的“ARTON膜”(“ARTON”为该公司的注册商标)、由积水化学工业株式会社销售的“Escena”(注册商标)、由日本瑞翁株式会社销售的“ZEONOR膜”(注册商标)等。
需要说明的是，作为吸收型偏振膜10，除了在下侧具有保护膜11的结构以外也可以还在上侧设置有保护膜。作为上侧保护膜，可举出增亮膜、增亮膜与热塑性膜的层叠体等。
<增亮膜>
作为增亮膜21，例如可以使用如电介质的多层膜或折射率各向异性彼此不同的层的多层层叠体那样的、显示出使规定偏振轴的直线偏振光透过并反射其他光的特性的膜，如胆甾醇液晶聚合物的取向膜或将该取向液晶层支承在膜基材上而成的膜那样的、显示出将逆时针或顺时针中的任一方的圆偏振光反射并使其他光透过的特性的膜等合适的膜。构成所述多层层叠体的层的种类可以设为两种或两种以上。作为增亮膜，例如可以使用以聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯为代表的通过延伸而产生相位差的材料与以聚甲基丙烯酸甲酯为代表的丙烯酸系树脂、以JSR株式会社制的“ARTON”(注册商标)为代表的降冰片烯系树脂等相位差表达量少的树脂交替设置成为多层层叠体并且进行单轴延伸而得到的膜。作为增亮膜的具体例，3M公司制的“DBEF”(注册商标)、“APF-V4”(产品名)、“APF-V3”(产品名)以及“APF-V2”(产品名)等。增亮膜的厚度通常为5～100μm，优选为10～50μm。
<增亮膜/热塑性树脂膜的层叠体>
增亮膜以及热塑性树脂膜的层叠体可以是将这些膜经由例如粘合剂或胶粘剂而层叠得到的层叠体。粘合剂或胶粘剂选择合适的公知的粘合剂或胶粘剂即可。从粘接作业的简便性、防止光学变形的产生等的观点出发，优选使用粘合剂。作为粘合剂，例如可以采用以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醚等为基础聚合物的粘合剂。其中，优选选择使用如下粘合剂：该粘合剂如丙烯酸系粘合剂那样光学透明性优异，保持适度的润湿性、凝聚力，与增亮膜以及热塑性树脂膜的粘接性也优异，还具有良好的耐热性，在高温环境下不产生浮起剥落等剥离问题。
由粘合剂形成的粘合剂层根据需要也可以含有用于显现光散射性的微粒，也可以含有玻璃纤维、玻璃珠、树脂珠、金属粉末、其他无机粉末之类的填充剂、颜料、着色料、防氧化剂、紫外线吸收剂等。紫外线吸收剂存在水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、镍络盐系化合物等。
保护膜11以及上侧保护膜也可以是在与偏振膜贴合的贴合面的相反侧的面设置有硬涂层的膜。由此，能够防止在对偏振板进行加工时产生的划伤等。在设置硬涂层的情况下，从兼顾保护性和弯曲性的观点出发，硬涂层的厚度优选为1～8μm，更优选为1～6μm。在硬涂层的厚度超过8μm的情况下，存在弯曲性变低且在弯曲时容易生出裂纹的倾向。另一方面，在硬涂层的厚度小于1μm的情况下，虽然弯曲性良好但从面内均匀性的观点出发存在大多无法得到充分的特性的倾向。
硬涂层可以由树脂被膜层形成。对于形成树脂被膜层的树脂材料，可以无特别限制地使用使树脂被膜层形成后的被膜具有充分的强度且具有透明性的树脂材料。作为所述树脂，可举出热固化型树脂、热塑型树脂、紫外线固化型树脂以及电子射线固化型树脂等活性能量射线固化型树脂、二液混合型树脂等。
其中，紫外线固化型树脂能够因紫外线的照射而进行树脂的固化，能够通过简单的加工操作而效率良好地形成树脂被膜层，另外也能够形成防眩处理层等光扩散层，因此优选。作为紫外线固化型树脂，可举出聚酯系、丙烯酸系、聚氨酯系、酰胺系、硅酮系、环氧系等各种树脂，包括紫外线固化型的单体、低聚物、聚合物等。作为优选使用的紫外线固化型树脂，例如可举出具有紫外线聚合性的官能团的树脂，其中可举出包含具有2个以上的该官能团尤其是具有3～6个该官能团的丙烯酸系的单体或低聚物成分的树脂。另外，在紫外线固化型树脂中配入有紫外线聚合引发剂。
树脂被膜层的形成方法可以采用合适的公知的方法，例如存在将所述树脂(涂敷液)涂敷于保护膜5并干燥的方法。在使用了固化性树脂的情况下，在干燥之后进行固化处理。所述涂敷液的涂敷方法可以采用喷涂(fountain coating)、模涂、浇注、旋涂、喷射计量(fountain metering)、凹版涂敷等方法。
需要说明的是，在涂敷时，所述涂敷液可以由甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、异丙醇、乙醇等通常的溶剂稀释，也可以不稀释而直接进行涂敷。
作为将吸收型偏振膜10以及保护膜层叠的方法，通常采用由胶粘剂将这些膜粘接的方法。向吸收型偏振膜10的双面层叠保护膜的情况下，可以使用同种的胶粘剂，也可以使用不同种的胶粘剂。
作为胶粘剂，可以举出水系胶粘剂、光固化性胶粘剂等。水系胶粘剂是将胶粘剂成分溶解于水而成的胶粘剂或将胶粘剂成分分散至水中而成的胶粘剂，能够使胶粘剂层变得薄。对于水系胶粘剂，例如可举出胶粘剂(组成物)的主要成分为聚乙烯醇系树脂或聚氨酯树脂的胶粘剂来作为优选的胶粘剂。
聚乙烯醇系树脂除了可以是部分皂化聚乙烯醇或完全皂化聚乙烯醇以外，还可以是羧基改性聚乙烯醇、乙酰乙酰基改性聚乙烯醇、羟甲基改性聚乙烯醇、氨基改性聚乙烯醇等被改性了的聚乙烯醇系树脂。在作为胶粘剂成分使用聚乙烯醇系树脂的情况下，该胶粘剂大多作为聚乙烯醇系树脂的水溶液而被调制。胶粘剂中的聚乙烯醇系树脂的浓度相对于水100重量份通常为1～10重量份左右、优选为1～5重量份。
为了提高粘接性，优选在作为主要成分而包含聚乙烯醇系树脂的胶粘剂中添加乙二醛、水溶性环氧树脂等固化性成分或交联剂。作为水溶性环氧树脂，例如可以举出使表氯醇与聚酰胺多胺反应而得到的聚酰胺多胺环氧树脂，所述聚酰胺多胺通过二亚乙基三胺、三亚乙基四胺之类的聚亚烷基多胺与己二酸之类的二元羧酸反应而得到。作为这样的聚酰胺多胺环氧树脂的市售品，存在商品名分别为由田冈化学工业株式会社销售的“SumirezResin(注册商标)650(30)”以及“Sumirez Resin(注册商标)675”、由星光PMC株式会社销售的“WS-525”等的市售品，可以优选使用这些市售品。这些固化性成分或交联剂的添加量相对于聚乙烯醇系树脂100重量份而言通常为1～100重量份，优选为1～50重量份。存在如下倾向：若该添加量少，则粘接性提高效果小，另一方面，若该添加量多，则胶粘剂层变脆。
经由水系胶粘剂而接合的层叠体(吸收型偏振膜10以及保护膜)通常被实施干燥处理，并进行胶粘剂层的干燥、固化。干燥处理可以通过吹送例如热风来进行。干燥温度从40～100℃左右适当选择，优选从60～100℃的范围适当选择。干燥时间例如为20～1200秒左右。干燥后的胶粘剂层的厚度通常为0.001～5μm左右，优选为0.01μm以上，另外，优选为2μm以下，进一步优选为1μm以下。
若胶粘剂层的厚度变得过大，则容易使偏振板外观不良。
也可以在干燥处理之后，在室温以上的温度下实施至少半天、通常是一天以上的保养而得到充分的粘接强度。这样的保养典型地以卷取为卷状的状态来进行。优选的保养温度为30～50℃的范围，进一步优选为35℃以上且45℃以下。若保养温度超过50℃，则在成卷状态下容易产生所谓的“卷紧”。需要说明的是，保养时的湿度例如优选以处于相对湿度为70％以下的范围的方式适当选择。保养时间通常为1～10天左右，优选为2～7天左右。
作为光固化性胶粘剂，例如可以举出光固化性环氧树脂与光阳离子聚合引发剂的混合物等。作为光固化性环氧树脂，例如可举出脂环式环氧树脂、不具有脂环式构造的环氧树脂、以及它们的混合物等。
另外，作为光固化性胶粘剂，也可以使用向环氧树脂、丙烯酸树脂、氧杂环丁烷树脂、聚氨酯树脂、聚乙烯醇树脂等添加自由基聚合型引发剂和/或阳离子聚合型引发剂而得到的树脂。
经由光固化性胶粘剂而接合后的层叠体在层叠后通过照射活性能量射线而使光固化性胶粘剂固化。活性能量射线的光源例如优选在波长400nm以下具有发光分布的活性能量射线，具体而言优选使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。向光固化性胶粘剂照射的光照射强度根据该光固化性胶粘剂的组成而适当决定，而不特别限定，但对于聚合引发剂的活性化有效的波长区域的照射强度优选为0.1～2500mW/cm2。在该照射强度为0.1mW/cm2以上的情况下，反应时间不会过长，在该照射强度为2500mW/cm2以下的情况下，产生由从光源辐射的热量以及光固化性胶粘剂的固化时的发热引起的环氧树脂的黄变、偏振板的劣化的可能性小。
向光固化性胶粘剂照射的光照射时间按要固化的光固化性胶粘剂来进行控制，优选设定为作为上述的照射强度与照射时间之积而表示的累计光量成为10～10000mJ/cm2。在向光固化性胶粘剂照射的累计光量为10mJ/cm2以上的情况下，能够产生充分量的来自聚合引发剂的活性种而使固化反应更可靠地进行，在向光固化性胶粘剂照射的累计光量为10000mJ/cm2以下的情况下，照射时间不会过长，能够维持良好的生产率。需要说明的是，活性能量射线照射后的胶粘剂层的厚度通常为0.001～5μm左右，优选为0.01μm以上，另外优选为2μm以下，进一步优选为1μm以下。
在通过活性能量射线的照射来使光固化性胶粘剂固化的情况下，优选在偏振膜的偏振度、透射率及色调、以及丙烯酸系树脂膜及光学补偿膜、保护膜等透明膜的透明性等偏振板的各种功能不降低的条件下进行固化。
需要说明的是，能够通过所述活性能量射线的照射条件来高成品率地制造产品的情况限定于后述的实施例1～3那样的选定了合适的表面保护膜时。
<光学膜>
光学膜20通过层叠增亮膜21与表面保护膜22而构成。
<表面保护膜>
图6是表面保护膜22的简要的剖视图。表面保护膜22是以剥离自如的方式贴附于被保护构件(增亮膜21)的表面而实现该表面的保护的膜，具备基材1、设置于该基材的增亮膜21侧即下表面的粘合层2、以及设置于基材的上表面的高分子层3。
作为基材1，可以使用以聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯等为原料的合成树脂以及它们的层叠体，其中，考虑到透明性、使用时的耐热性，优选双轴延伸后的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。树脂膜也可以是无延伸、单轴延伸、双轴延伸中的任一方。
另外，也可以将树脂膜的延伸倍率、轴向的取向角度控制为特定的值。除了上述树脂膜以外，只要是具有必要的强度以及光学适应性的树脂膜即可，也可以使用由其他树脂构成的膜。另外，也可以对这些基材的表面实施电晕处理等易粘接处理。
该基材1的膜厚度为12μm～100μm左右、优选为20μm～80μm是适当的。这是因为，若基材1的膜厚度小于12μm则过于薄，从而会因异物的碰撞所产生的打痕等而难以保护所述保护构件，另外难以在不带有褶皱的状态下贴合于保护构件，因没有弹性从而也难以实现表面保护膜22的剥离作业。另外，若膜厚度超过80μm，则基材的刚度过于大，从而难以在不产生浮起的状态下均匀贴附于保护构件，另外卷曲变大，难以向触控屏进行贴合。另外，在表面保护膜22的价格构成上，基材占有大的比例，因此要求该表面保护膜22A具有的经济性降低。
粘合层2只要是能够粘接于基材1、能够在使用完毕后容易剥离、不容易污损贴附面的粘合层即可，不特别限定，考虑到高温、湿热条件下的光学耐久性，优选丙烯酸系粘合剂。另外，粘合层2与基材1的形成方法不特别限定，可以也通过公知的涂布方法、熔融挤压方法来形成。
作为向粘合层2添加的固化剂，作为使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联剂，可举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合化合物等。另外，作为增粘剂，可举出松香系、香豆酮-茚系、萜烯系、石油系、酚系等。
高分子层3设置于基材1的上侧，通过将硅酮系、氟系等的脱模剂添加至丙烯酸树脂、聚酯树脂、尼龙树脂、苯乙烯-丙烯腈树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂等一种或两种以上的高分子化合物中而得到。另外，也可以代替这些高分子化合物而使用UV固化树脂以及热固化树脂。
为了满足充分的防污功能、印字适应性，高分子层3优选为0.003μm～3μm，进一步优选为0.02μm～1μm。
另外，高分子层3在其层内具有防静电性。作为向高分子层赋予(使用、添加)防静电性能的方法，使用、添加阳离子性抗静电剂、阴离子系抗静电剂、两性抗静电剂、非离子性抗静电剂等各种界面活性剂型抗静电剂、或者聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩等导电性聚合物、导电性的填料、细须(whisker)。在本实施方式中，掀起力的上升率能够通过调制固化剂的量和抗静电剂的量来进行控制，从能够减小掀起力的上升率这点出发，优选增加抗静电剂的量、减小向粘合层2添加的固化剂的量。
高分子层3也可以通过所述的硅-丙烯酸酯系梳形接枝聚合物与其他高分子化合物即粘结剂的混合而构成，硅-丙烯酸酯系梳形接枝聚合物与其他高分子化合物即粘结剂的重量比为4∶1～1∶20，优选为1∶1～1∶12。若硅-丙烯酸酯系梳形接枝聚合物的比例过于大，则粘合带的剥离力过于轻，而对基于透明粘合膜进行的表面保护膜22的剥离作业产生障碍。相反，若比例过于小，则疏水性、防污性能不足并且有可能在增亮膜21中产生层间剥离，因此向高分子化合物添加脱模剂的添加量需要调整为适度的量。
另外，高分子层3除了是在其层内具有防静电性的结构以外，也可以是在高分子层3与基材1之间设置有防静电层的结构。防静电层可以使用阳离子性抗静电剂、阴离子系抗静电剂、两性抗静电剂、非离子性抗静电剂等各种界面活性剂型抗静电剂、或者在聚酯树脂、丙烯酸树脂等粘结剂中含有它们而成的层。另外，也可以使用将聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩等导电性聚合物、导电性的填料、细须分散于粘结剂而得到的层。而且，也可以使用丙烯酸系、聚酯系、聚氨酯系这样的高分子化合物中具有磷酸基或磷酸盐基的树脂和具有噁唑啉基的聚合物所构成的导电性化合物。在将防静电层形成于基材时，可以将所述物质溶解于有机溶剂等而形成涂敷液，并采用公知的任意的涂布方法、例如凹版涂敷法、反向涂敷法、辊涂敷法等来形成。
而且，也可以通过熔融挤压法来形成。
需要说明的是，在本实施方式的偏振板50中，在保护膜11的下表面设置有粘合剂层51。形成粘合剂层51的粘合剂只要满足光学膜所使用的各种特性(透明性、耐久性、再加工性等)即可，例如使用含有丙烯酸系树脂和交联剂的丙烯酸系粘合剂，所述丙烯酸系树脂通过以(甲基)丙烯酸酯为主要成分、而且含有少量的具有官能团的(甲基)丙烯酸单体的丙烯酸系单体组成物在聚合引发剂的存在下发生自由基聚合而形成，并且所述丙烯酸系树脂的玻化温度(Tg)为0℃以下。
这样得到的表面保护膜在照射了UVB区域(280～350nm)的累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后的掀起力为10.0N/25mm以下，优选为8.0N/25mm以下，更优选为7.0N/25mm以下，进一步优选为5.0N/25mm以下。这样得到的表面保护膜在照射了UVB区域(280～350nm)的累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后的剥离力优选为3.0N/25mm以下，更优选为1.0N/25mm以下，进一步优选为0.5N/25mm以下，尤其优选为0.2N/25mm以下，另外优选为0.01N/25mm以上。此时的照射强度可以设为500mW/cm2。通过将剥离力设为0.01N/25mm以上，由此能够防止在输送期间表面保护膜从增亮膜剥落。
另外，在照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线的前后，掀起力的上升率小于700％，优选为600％以下。从能够减小掀起力的上升率这点出发，表面保护膜的波长190nm下的透射率优选为10％以下，更优选为5％以下。
本发明的偏振板优选对其端面进行磨削加工。通过进行磨削加工，能够提高偏振板外形的尺寸精度，并进一步防止偏振片的破裂。另一方面，通过进行磨削加工，从而偏振板中的尤其是增亮膜的端面的表面的长宽比(aspect ratio)变大，在该状态下在活性能量射线照射后将表面保护膜剥离时，有时容易产生增亮膜的层间剥离。根据本发明，即使例如增亮膜的端面中的表面的长宽比Str为0.25以上，即使为0.28以上，也能够有效抑制层间剥离。即，根据本发明，能够兼顾偏振板的尺寸精度的提高、偏振片的裂纹防止以及层间剥离的抑制。
为了进行这样的磨削加工，可以使用例如国际公开2011/040636所记载的装置。该装置是具有旋转体和设置于与旋转体的旋转轴垂直的圆盘状的设置面上的多个切削刃的构件，通过一边使旋转体旋转一边使切削刃与偏振板的端面抵接来对偏振板的端面进行磨削加工。
在本实施方式中，为了将表面的长宽比Str收纳在规定的范围内，优选增多切削刃的数量且减小旋转体的旋转速度，例如切削刃的数量为3以上，优选为5以上，旋转体的旋转速度例如为10000rpm以下，优选为6000rpm以下，更优选为5000rpm以下。
另外，从能够进一步抑制层间剥离的产生这点出发，在将偏振板层叠并对其进行磨削加工时，优选使偏振板的端面与上述圆盘状的设置面中的中央部抵接。
可以在粘合剂层51上贴合有偏振板50的液晶单元(未图示)的相反侧层叠同种的偏振板或公知的偏振板。另外，设置有粘合剂层51的偏振板50优选配置于液晶显示装置中的背面侧(背光侧)，更优选以表面保护膜22侧成为背光侧的方式配置。
[实施例]
以下，示出实施例来进一步具体说明本发明，但本发明并不限定于这些例子。在例子中，以含量或使用量表示的“％”以及“份”若无特殊记载则是重量基准。
[样品制作方法]
(端面处理)
使用国际公开2011/040636所记载的装置进行了端面处理。
以多张的形式重叠多张的偏振板50，在由一对树脂制夹持构件从最外侧的两膜面的外侧夹持该层叠膜的状态下，使旋转刃的刃面面对所述层叠膜的集合体的周面，并利用所述旋转刃按所述夹持构件的周面来对所述层叠膜的集合体的周面进行了精加工切削。此时，旋转体的旋转速度为4800rpm。
(活性能量射线照射)
测定设备：[Fusion UV Systems株式会社制Fusion UV B2-006]
输送设备速度设为10m/min，高度设为50mm，光强度设为100％，阀设为D阀，从表面保护膜侧，以UVB区域(280～315nm)的累计光量成为8000mJ/cm2的方式向贴合于钠玻璃的偏振板50照射了照射强度为500mJ/cm2的活性能量射线。
[评价方法]
(掀起力)
测定设备：使用[岛津公司制Autograph AGS-50NX]，以剥离宽度为25mm、剥离角为180°、剥离速度为300mm/min而进行了从增亮膜21剥离表面保护膜22的剥离试验。图2是表示将表面保护膜22从增亮膜21掀起时的距离与力的关系的图。如图2所示，在将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的初期阶段掀起需要大的力，但在开始了剥离之后掀起力变小。在本实施方式中，将表面保护膜22从起点起剥离25mm为止的期间的最大值设为掀起力，将此后的力设为剥离力。
·掀起力的上升率…针对在以在UVB区域累计光量成为8000mJ/cm2的方式照射照射强度为500mJ/cm2的活性能量射线的前后测定得到的掀起力，使用以下的式子算出了上升率。
上升率＝[(N1-N0)/N0]×100
单位：％、N0：UV照射前的掀起力、N1：UV照射后的掀起力
图3是对将偏振板50中的表面保护膜22从增亮膜剥离时的掀起力进行测定时的俯视图。图4是对将表面保护膜22从增亮膜剥离时的掀起力进行测定时的剖视图。在剥离试验中，如图3以及图4所示，将切成条状的带增亮膜21的偏振板50的粘合剂层51贴合于玻璃70而进行剥离试验。
掀起力的测定使用10个样品来进行，并取其平均值。在向偏振板50进行的活性能量射线照射前和活性能量射线照射后分别实施了掀起力的测定。关于活性能量射线照射后，在25℃、55％RH的环境下放置并直到样品的温度冷却至23℃后测定了掀起力。
(增亮膜21的截面的长宽比)
测定设备使用[奥林巴斯株式会社制型号：OLS4100]，并在超高速模式下将倍率设为100倍而进行了面粗糙度测定。从与增亮膜的延伸方向垂直的方向上的两个端面起各切出3cm，并各自取宽度上的5点而进行了测定。长宽比越大，则截面越存在不均匀的凹凸，越是粗糙的状态。长宽比越小，则截面越均匀，认为没有产生裂纹、缺陷。
[样品制作]
按照图5所示的规格，制作了实施例1～3、比较例1～2、参考例1～5的样品。
[实施例1]
以如下的方式制作了偏振板50。首先，通过干式延伸将厚度60μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度约为2400、皂化度为99.9摩尔％以上)单轴延伸至约5倍，进一步地，在保持张紧状态的下浸渍于60℃的纯水中1分钟后，在28℃的条件下浸渍于碘/碘化钾/水的重量比为0.05/5/100的水溶液中60秒钟。然后，在72℃的条件下浸渍于碘化钾/硼酸/水的重量比为8.5/8.5/100的水溶液中300秒钟。接着，以26℃的纯水清洗20秒钟之后，在65℃的条件下进行干燥，得到了碘吸附于聚乙烯醇膜并进行了取向的厚度为23μm的偏振片。接着，向该偏振片的单侧涂布环氧系胶粘剂，并作为透明的保护膜11而贴合厚度为40μm的三乙酰纤维素膜〔柯尼卡美能达精密光学株式会社制的商品名“KC4UY”〕，使用所述胶粘剂在其相反侧贴合了厚度为26μm的增亮膜21(3M制、商品名为Advanced Polarized Film、Version 3)，所述环氧系胶粘剂是相对于水100份溶解3份羧基改性聚乙烯醇〔从株式会社可乐丽获取的商品名“KL-318”〕，并向该水溶液添加1.5份作为水溶性环氧树脂的聚酰胺环氧系添加剂〔从田冈化学工业株式会社获取的商品名为“Sumirez Resin(注册商标)650(30)”、固态成分浓度30％的水溶液〕而得到的胶粘剂。向贴合三乙酰纤维素膜(保护膜11)后的面涂敷粘合剂而制作了具有粘合剂层51的偏振板50。经由所述粘合剂向贴合有增亮膜21的面贴合了基材是厚度38μm的双轴延伸聚酯膜、粘合层的厚度为15μm且包含固化剂和抗静电剂的表面保护膜22即SAT4038T15-JSL(株式会社SunA.Kaken制)。该表面保护膜22的对于波长为190nm的所述活性能量射线的透射率是5％以下。
层叠所制作的带增亮膜21的偏振板50，并在上述条件下实施了端面磨削。该端面磨削后的增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30。向该样品照射了累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线。在向表面保护膜22贴附了用于剥离表面保护膜22的粘接封条(seal)71之后，通过将粘接封条71的一侧(图3以及图4的右侧)的端部向另一侧(图3以及图4的左侧)拉拽而掀起表面保护膜22，并测定了将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力。得知将表面保护膜22从增亮膜剥离时的掀起力为4.8N/25mm。
需要说明的是，得知活性化能量射线的照射前的掀起力为0.77N/25mm。
[实施例2]
以与实施例1同样的步骤进行样品制作并实施了同样的处理，但对APF-V3进行保护的表面保护膜22使用了基材是厚度38μm的双轴延伸聚酯膜、粘合层的厚度为22μm且包含固化剂和抗静电剂的SAT4538TF-JSL(株式会社SunA.Kaken制)。得知，增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30，将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为6.2N/25mm。得知该表面保护膜22的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
[实施例3]
以与实施例1同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但对APF-V3进行保护的表面保护膜22使用了基材是厚度38μm的双轴延伸聚酯膜、粘合层的厚度为22μm且包含固化剂和抗静电剂的SAT4238TF-JSL(株式会社SunA.Kaken制)。得知增亮膜的截面的长宽比为Str＝0.30，将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为8.2N/25mm。得知该表面保护膜22的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
[比较例1]
以与实施例1同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但对APF-V3进行保护的表面保护膜使用了基材是厚度38μm的双轴延伸聚酯膜、粘合层的厚度为20μm的AS3-304(藤森工业株式会社制)来作为图6所示的表面保护膜22。得知增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30，将表面保护膜从增亮膜21剥离时的掀起力为12.0N/25mm。该表面保护膜22的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
[比较例2]
以与实施例1同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但对APF-V3进行保护的表面保护膜使用了与比较例1所使用的表面保护膜22A结构相同且基材是厚度38μm的双轴延伸聚酯膜、粘合层的厚度为15μm的AS3-501(藤森工业株式会社制)。AS3-501与AS3-304的粘合剂的厚度及种类不同。得知增亮膜的截面的长宽比为Str＝0.30，将表面保护膜从增亮膜21剥离时的掀起力过于大而无法测定。该表面保护膜22的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
[参考例1]
以与实施例1同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但没有照射活性能量射线。得知端面磨削后的增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30。将切成条状的带增亮膜21的偏振板50的粘合剂层51贴合于玻璃70。得知将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为0.77N/25mm。
[参考例2]
以与实施例2同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但没有照射活性能量射线。得知端面磨削后的增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30。将切成条状的带增亮膜21的偏振板50的粘合剂层51贴合于玻璃70。得知将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为2.6N/25mm。
[参考例3]
以与实施例3同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但没有照射活性能量射线。得知端面磨削后的增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30。将切成条状的带增亮膜21的偏振板50的粘合剂层51贴合于玻璃70。得知将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为1.4N/25mm。
[参考例4]
以与比较例1同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但没有照射活性能量射线。端面磨削后的增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30。将切成条状的带增亮膜21的偏振板50的粘合剂层51贴合于玻璃70。得知将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为1.2N/25mm。
[参考例5]
以与比较例2同样的步骤制作样品并实施了同样的处理，但没有照射活性能量射线。端面磨削后的增亮膜21的截面的长宽比为Str＝0.30。将切成条状的带增亮膜21的偏振板50的粘合剂层51贴合于玻璃70。得知将表面保护膜22从增亮膜21剥离时的掀起力为7.0N/25mm。
图7是表示上述的掀起力与增亮膜21中的层间剥离产生率的关系的图。如图7所示，能够确认到掀起力越大则层间剥离产生率越大。在本实施方式中，如图5所示，将层间剥离产生率为0～10％以下的情况设为○，将超过10％且为20％以下的情况设为△，将超过了20％的情况设为×而进行了评价。
另一方面，能够确认到：在实施了活性能量射线照射且掀起力超过10.0N/25mm的情况下，或者掀起力的上升率为700％以上的情况下层间剥离产生率为×的结果，但若掀起力为10.0N/25mm以下且掀起力的上升率小于700％，则层间剥离产生率为○或△而为良好的结果。
以上，参照附图而说明了本发明的优选的实施方式，当然不限定于本发明的例子。上述的例子中所示的各结构构件的各种形状、组合等是一例，能够在不脱离本发明的主旨的范围内基于设计要求等实施各种变更。

Claims (10)

1.一种光学膜，其具备表面保护膜和增亮膜，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为7.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
2.一种光学膜，其具备表面保护膜和厚度为50μm以下的增亮膜，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
3.一种光学膜，其具备表面保护膜和增亮膜，该光学膜通过对端面进行磨削加工而成，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
4.一种光学膜，其具备表面保护膜和端面中的表面的长宽比Str为0.25以上的增亮膜，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的剥离力为0.11N/25mm以下。
6.根据权利要求5所述的光学膜，其中，
所述剥离力的上升率为95％以下。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，
所述表面保护膜的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
8.根据权利要求5所述的光学膜，其中，
所述表面保护膜的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
9.根据权利要求6所述的光学膜，其中，
所述表面保护膜的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
10.一种偏振板，其特征在于，
所述偏振板具有偏振膜和权利要求1～9中任一项所述的光学膜。
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