TW201704007A

TW201704007A - 積層體

Info

Publication number: TW201704007A
Application number: TW105112749A
Authority: TW
Inventors: Kensuke Yahiro; Tadahiko Iwaya; Yasuyuki Ishida
Original assignee: Toray Industries
Priority date: 2015-04-28
Filing date: 2016-04-25
Publication date: 2017-02-01
Also published as: JP6686884B2; JPWO2016175064A1; WO2016175064A1

Abstract

本發明提供一種積層體，其為在支持基材之至少單面具有表面層的積層體，該積層體之表面層側之絶對反射率R1與在表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時之絶對反射率R2滿足以下之條件： (A)-1.0%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦0.5% (B)-1.0%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦0.5% (C)-1.0%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦0.5% R1(X)：積層體之表面層側於波長Xnm之絶對反射率R1 R2(X)：在表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時，於波長Xnm之絶對反射率R2；該積層體於低反射率時透明性高，且指紋等污垢所造成之污染少，適用於反射防止構件及硬塗層構件。

Description

積層體

本發明係關於積層體，詳細而言，係關於對反射防止構件之較佳積層體。

反射防止構件，一般係在如陰極管顯示裝置(CRT)、電漿顯示面板(PDP)或液晶顯示裝置(LCD)之影像顯示裝置中，為了防止外光反射造成對比降低或影像之回映，利用光學干涉之原理配置於顯示器之最表面，以減低反射率。尤其在最近，用手指操作之電子機器增加，在例如智慧手機.觸控面板、鍵盤、家電製品之遙控器等各種顯示器中，為了見到增高之影像對比，使用透明性高之反射防止構件(抗反射膜)。又，在被稱為鋼琴黑之黑色且有光澤感之殼體用構件中，為強調其黑色之目的，有時在其表面使用反射防止構件。

就一般反射防止構件之構成而言，可列舉例如下列者。

在專利文獻1中，就具有優良之反射防止效果，且具有優良之耐摩擦性的光學物品而言，揭示由包含折射率高之物質的高折射率層及包含折射率低之物質的低折射率層之積層結構所形成的反射防止構件。

又，在專利文獻2中，就減低更廣波長區域之反射率，且減低於可見光域之著色的結構而言，記載在薄膜等之支持基材的表面，製作由高折射率層及低折射率層所形成之複數層被膜的多層積層結構。

此種反射防止構件有指紋污垢附著的問題。具體而言，藉由人指接觸物體之表面而附著指紋，失去清潔感，亦即，有識別指紋而產生如外觀污垢之不愉快印象的問題。又，有可見性變差的問題，亦即因指紋附著處與未附著處之反射率不同等，顯示影像、顯示信號或反射像等變得不鮮明。

就對於反射防止構件之指紋污垢附著之技術而言，可列舉例如以下之技術。

在專利文獻3中揭示利用藉由含氟紫外線硬化樹脂之撥水撥油性產生指紋附著量減低效果的低折射率層用樹脂組成物。

又，在專利文獻4中，揭示一種耐指紋性塗膜形成品，其目的為藉由親油性表面及凹凸形狀、以及低折射率之中空矽石，使指紋變得不易顯眼。

另一方面，在專利文獻5中，就以可見性抑制為目的，著眼於包含折射率相異之層之積層結構的技術而言，揭示一種能抑制透明電極片之電極圖案可見性的薄膜(折射率匹配薄膜)，該薄膜係由透明導電性積層薄膜產生，其特徵為具有將高折射率層、低折射率層及透明導電性薄膜層依此順序積層於包含透明塑膠薄膜之基材上的構成，其中高折射率層之折射率為1.70~ 2.50，膜厚為4~20nm之範圍；低折射率層之折射率為1.30~1.60，膜厚為20~50nm之範圍。

先前技術文獻專利文獻

專利文獻1 日本特開2006-035624號公報

專利文獻2 日本特開平7-5452號公報

專利文獻3 日本特開2014-142444號公報

專利文獻4 日本特開2011-068000號公報

專利文獻5 日本特開2010-015861號公報

[發明之概要]

專利文獻1及2所記載之技術，為利用藉由表面層之折射率及厚度之調整所設計之積層結構，而得到優良之反射防止效果的技術。關於此技術，本發明人等研討時，確認附著之指紋容易變得非常顯眼。此係由於構成指紋之皮脂在積層體表面形成新的膜，在原本之光學設計上產生偏差之故。結果，藉由有無指紋附著，在「反射率」或「反射光之色調」上產生變化，可見到指紋形狀或將其擦拭部分之變色，以致無法解決問題。專利文獻1及2所記載之技術，為特地將構件之反射率調降之技術，然而因污垢之附著，以致無法達成光學特性變化之構想。另一方面，僅藉由將污垢附著前之反射率極小化，將使與指紋附著部分之反射率差異增加，反而使指紋容易看見，因此在其構成範圍及由此類推之技術範圍中，仍無法達成指紋可見性的充分減低。

專利文獻3所記載之技術，係以在表面設置撥油性之層，使指紋附著量減低為目的之技術。關於此技術，本發明人等在研討時，確定可使附著之皮脂之量減輕，然而無法完全排除附著。又，由於斥退之皮脂在表面形成球狀之滴，確認即使少量之附著，亦容易顯眼。此外，專利文獻1所示之低折射率層用樹脂組成物，無法得到充分的透明性。專利文獻3所記載之技術，有關於撥油表面所附著之污垢量的估計，及數10nm之皮脂層存在造成光學設計之變化，均無構想，在其構成範圍及由此類推之技術範圍中，無法達成指紋可見性的充分減低。

又，專利文獻4所記載之技術，係以利用表面之親油化及凹凸形狀之賦予，使指紋變得不明顯為目的之技術。關於此技術，本發明人等研討時，確認在指紋之附著量少時，對指紋之可見性減低可發揮優良的效果。然而，此技術由於表面易與皮脂親近，皮脂之附著量容易變多。於是，確認對於此種大量污垢，效果無法充分發揮。亦即，不適於觸控面板或殼體等手指頻繁接觸之用途。專利文獻4所記載之技術，亦同樣地，對於親油表面所附著之污垢量的估計，及藉由數10nm皮脂層存在造成光學設計之變化，均無構想，在其規定之構成範圍及由此類推之技術範圍中，無法達成指紋可見性的充分減低。

另一方面，專利文獻5所記載之技術，可列舉折射率調整層，其藉由積層結構之光學設計，使得在蒸鍍有高折射率之金屬電極時，不易見到該電極。關於該折射率調整層，本發明人等研討時，確認可見光區域之反射率高，無法形成反射防止構件，而且由於指紋附著部分之反射率降低，產生反射率差異。此種折射率調整層，由於係以位於元件內部為前提來設計，所以對於如指紋附著之污染並無設計，又亦難以兼具反射防止性。專利文獻5所記載之技術，由於其目的係「抑制為高反射率之透明導電片之電極的可見性」，與本發明之目標「提供低反射率之積層體」的目的相反，無法藉由單純之組合得到本發明之積層體。

鑑於上述情況，本發明所欲解決之問題，提供一種為低反射率，高透明性，且指紋之污垢不易醒目，亦即，指紋之可見性減低的優良積層體。具體而言，提供可作為低反射率，透明性高，且指紋之污垢不顯眼之反射防止構件，或作為低反射率，透明性高，且指紋之污垢不顯眼，更佳耐擦傷性優良之硬塗構件的較佳積層體。

為了解決上述課題，本發明人等首先以如下方式研討在非為反射防止構件之構件，及反射防止構件上附著有指紋之情況，指紋之可見性的機制。

在非為反射防止構件之構件上附著有指紋時，由於表面上形成皮脂之薄膜，附著前後光學設計產生變化。構成指紋之成分主要為以油酸為代表之脂肪酸作為主成分的油性液體成分、含鹽之水分、及塵埃、角質等固體成分。本發明人等確認時，此等指紋之成分雖隨個人或環境而有多少偏差，然而概略地具有比玻璃或丙烯酸樹脂等構件之折射率略低的折射率。即使在此等構件之表面有指紋附著，若少量，比較不易被看見。然而，在指紋之附著量變多的情況，由於油滴或固體成分將光散射，指紋容易變得明顯。在此種情況，藉由以乾布等將構件表面擦拭(拭除)，可將指紋處理到不易看見之狀態。

另一方面，在反射防止構件之情況，由於折射率相異之各層的厚度設計為光之波長的約四分之一，即使有非常少量，具體而言約數10nm之皮脂附著，亦會導致光學設計異常，連帶造成變色(亦即成為最低反射率之波長變化所造成反射光之色調變化)或反射防止效果之喪失。又，假使將構件表面之折射率趨近於附著之皮脂污垢之值，亦無法避免因厚度變化所造成之設計偏差。

再者，即使拭除，亦有問題存在。本發明人等研討時，確認在藉由乾布材料拭除之實況，會將表面附著之皮脂塗抹分散成均勻的薄膜，皮脂之附著量無法削減至一定量以下。

本發明人等藉由將構件表面所形成之污垢被膜納入光學設計之中，以及設計具有「不論有無污垢層，可見光區域之光學特性皆不易變化」之光學設計的積層結構，而解決上述問題。

亦即，本發明如以下所說明。

(1)一種積層體，其為在支持基材之至少單面具有表面層的積層體，其特徵為前述積層體之表面層側的絶對反射率R1，及於表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時的絶對反射率R2，滿足以下之條件：

(A)-0.5%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦1.0%

(B)-0.5%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦1.0%

(C)-0.5%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦1.0%

R1(X)：積層體之表面層側於波長Xnm的絶對反射率R1

R2(X)：於表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時，於波長Xnm的絶對反射率R2。

(2)如(1)記載之積層體，其中前述絶對反射率R1滿足以下之條件：

(D)1.0%≦R1ave≦3.0%

(E)-0.2%≦R1slope≦0.2%

R1ave：絶對反射率R1於波長380nm至780nm的平均值

R1slope：將絶對反射率R1於波長380nm至780nm進行直線近似化時，每100nm之波長的絶對反射率R1的變化量。

(3)如(1)或(2)記載之積層體，其中該表面層包含折射率相異之2層以上之層，從該表面層之最表面算起第 ¹層之層的光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為40nm以上100nm以下。

(4)如(1)至(3)之任一項記載之積層體，其中前述表面層之最表面藉由原子力顯微鏡(AFM)觀察時，超過均方根粗度之峰數為每25μm²有500個以上1500個以下。

(5)如(1)至(4)之任一項記載之積層體，其中前述表面層包含折射率相異之2層以上之層，從前述表面層最表面算起第2層之層包含滿足以下條件(F)及(G)之無機粒子：

(F)數平均粒徑為5nm以上80nm以下

(G)以念珠狀連結及/或分枝之無機粒子。

(6)如(1)至(5)之任一項記載之積層體，其中前述表面層包含折射率相異之2層以上之層，從前述表面層之最表面算起第2層之層的折射率為1.45以上1.55以下。

(7)如(1)至(6)之任一項記載之積層體，其中前述表面層包含折射率相異之3層以上之層。

(8)如(7)所記載之積層體，其中在比從前述表面層之最表面算起第2層之層還靠支持基材側具有光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為2μm以上5μm以下之層。

若依照本發明，可提供一種低反射率，透明性高，且指紋之污垢不醒目的積層體。本發明之積層體適合作為反射防止構件或硬塗構件，尤其以作為樹脂基材上所形成之反射防止薄膜或硬塗薄膜為特佳。藉由使用本發明之積層體，尤其可提供低反射率，透明性高，且指紋之污垢不顯眼，較佳耐擦傷性優良的反射防止薄膜。

1‧‧‧積層體

2‧‧‧支持基材

3‧‧‧表面層

4‧‧‧從表面層之最表面算起第1層之層

5‧‧‧從表面層之最表面算起第2層之層

6‧‧‧比從表面層之最表面算起第2層之層還靠支持基材側之光學厚度為2μm以上5μm以下之層

7‧‧‧提高表面層與支持基材之密著性之層

8‧‧‧追加之層

9‧‧‧多層滑動模頭

10‧‧‧多層狹縫模頭

11‧‧‧單層狹縫模頭

第1圖為展示本發明之積層體之一態樣的截面模式圖。

第2圖為本發明之積層體包含其他層之情況的截面模式圖。

第3圖為多層滑動模頭塗布之模式圖。

第4圖為多層狹縫模頭塗布之模式圖。

第5圖為濕壓濕式(wet on wet)塗布之模式圖。

[用於實施發明之態樣]

以下，具體地說明本發明之實施態樣。

本發明之積層體，為在支持基材之至少單面具有表面層的積層體，前述積層體之表面層側之絶對反射率R1與表面層上進一步設置之光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時的絶對反射率R2，滿足以下之條件：

(A)-0.5%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦1.0%

(B)-0.5%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦1.0%

(C)-0.5%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦1.0%

R1(X)：積層體表面層側於波長Xnm的絶對反射率R1

R2(X)：表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時，於波長Xnm的絶對反射率R2。

再者，以下有時將「光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L」簡單稱為「光學厚度72.5nm之層L」。

<積層體之定義及光學特性、表面特性、機械特性>

首先，針對本發明之積層體之定義、光學厚度、及本發明之積層體的光學特性、表面特性、機械特性加以說明。

[積層體、表面層]

在本發明中，積層體表示支持基材之至少單側表面形成有一層以上之層的一連串構件。表面層表示於支持基材之表面所形成的一層以上之層。再者，關於支持基材，如後述。

其中，本發明中之層，係指從前述積層體之表面向厚度方向(在平面狀之情況)或內部方向(在3維形狀之情況)，與鄰接於厚度方向或內部方向之部位，可藉由元素組成、含有物(粒子等)之形狀、具有物理特性不連續之邊界面而區別，且為具有有限厚度的部位。更具體而言，將前述積層體從表面沿厚度方向，藉由各種組成/元素分析裝置(IR、XPS、XRF、EDAX、SIMS等)、電子顯微鏡 (透過型、掃描型)或光學顯微鏡進行截面觀察時，藉由前述不連續之邊界面而區別。

[光學厚度]

在本發明中，「光學厚度72.5nm之層L」，為具有與由指紋附著所形成之污垢被膜層相當的光學設計值之層。

本發明中之光學厚度，意指與一般光學距離或光路長度等所表現之物理量同義，具體而言，被定義為層的厚度乘以層的折射率所得之值。在光學干涉之計算中，考慮光之相位差時，必須在高折射率之材質較長，低折射率之材質較短下算出光路。考慮此種折射率之相異，進入之層的厚度為光學厚度，所謂光學厚度相等意指光學上等價之層。

又，在本發明中，為了絶對反射率R2之測定而設置層L之情況，其光學厚度即使非精確地為72.5nm，亦可估計積層體之效果。具體而言，在層L之光學厚度比72.5nm高之情況，由於相當於表面所形成之污垢被膜較厚，可推測得到與本發明同等之效果。相反地，在層L之光學厚度比72.5nm低之情況，由於相當於表面所形成之污垢被膜較薄，有時效果會不充分。

在本發明中，為了得到用於絶對反射率R2之測定所設置的「光學厚度72.5nm之層L」之層之折射率與層之厚度的組合，存在著無數個，不過從材料取得性及層形成之容易度之觀點而言，較佳為折射率1.45、厚度50nm的構成。關於光學厚度72.5nm之層L之具體製作方法及評價方法，如後述。

[絶對反射率R1、R2]

一般而言，從折射率相異之複數層所形成的積層體中，其之絶對反射率可藉由「層界面之反射」及「各層界面之反射光的干涉」2個物理現象來決定。關於具有折射率差之2層之界面的反射，可依據所謂「菲涅爾之式(Fresnel’s equatiion)」的關係式，從「各層之折射率」估計反射率。另一方面，關於反射光彼此之干涉，可依據從「各層之厚度」及「折射率」算出之光路差及相位差，藉由所謂「薄膜干涉」之計算模式估計。亦即可對「絶對反射率」之目標值，藉由光學模擬設計積層體之厚度及折射率。

具體而言，本發明之積層體滿足以下之條件。

(A)-0.5%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦1.0%

(B)-0.5%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦1.0%

(C)-0.5%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦1.0%

R1(X)：積層體之表面層側於波長Xnm的絶對反射率R1

R2(X)：表面層之上進一步設置光學厚度72.5nm之層L時，於波長Xnm的絶對反射率R2。

其中，絶對反射率係表示反射光強度對入射光強度之比率的值，在本發明中記載為Rn或Rn(X)。又，n為1或2之自然數，在n=1之情況表示積層體之表面層側的絶對反射率，在n=2之情況表示表面層之上進一步設置光學厚度72.5nm之層L時的絶對反射率。又，Rn(X)表示將波長Xnm之光射入時之絶對反射率。關於絶對反射率之具體測定方法如後述。

前述(A)~(C)中之435.8nm、546.1nm及700.0nm之波長，分別相當於CIE標準表色系中RGB表色系內設定之三原色的波長。因此，前述(A)~(C)意指於藍、綠、紅之任一種反射光的情況，其之R1與R2之差皆係在特定之範圍。

在前述(A)~(C)之任一項，R1-R2大於1.0%之情況，因於該波長指紋附著後的絶對反射率降低，指紋污垢如沉入般變暗而被強調，有時容易看到。相反地在小於-0.5%之情況，指紋附著後之絶對反射率上升，指紋污垢明亮度增強，有時容易見到。再者，在指紋附著後絶對反射率變低的情況，由於即使產生同等之絶對反射率差亦不醒目，所以R1-R2之值在正值具有寬廣範圍。

[平均反射率Rave]

在本發明之積層體中，R1之平均反射率R1ave以滿足以下之條件為較佳。

(D)1.0%≦R1ave≦3.0%

R1ave：絶對反射率R1於波長380nm至780nm的平均值。

其中，平均反射率意指於波長380nm至780nm之可見光區域中絶對反射率R之平均值的值，在本發明中記載為Rave。又，在區別從哪一層反射時，賦予與前述之絶對反射率同樣的自然數n。關於平均反射率之測定、及算出方法如後述。

在前述(D)中，平均反射率R1ave大於3.0%之情況，有時無法得到充分的反射防止性。另一方面，在平均反射率R1ave小於1.0%之情況，反射防止性本身雖無問題，然而可實際存在之材料的折射率範圍要滿足前述條件(A)~(C)的構成有困難，指紋污垢有時容易變得顯眼。

[反射率斜率Rslope]

在本發明之積層體中，反射率斜率R1slope以滿足以下之條件為較佳。

(E)-0.2%≦R1slope≦0.2%

R1slope：將絶對反射率R1於波長380nm至780nm進行直線近似化時每100nm之波長的絶對反射率R1的變化量。

其中，反射率斜率係意指波長380nm至780nm之可見光區域中絶對反射率R之變化率的數值，相當於線形近似中的斜度之值。本發明中將反射率斜率記載為Rslope，在區別從哪一層反射時，賦予與前述之絶對反射率同樣之自然數n。關於反射率斜率之算出方法，如後述。

在反射率斜率小於-0.2%，或大於0.2%之情況，於前述(A)~(C)之1種以上波長，使絶對反射率落入條件之範圍內將變得困難，有時指紋污垢會變得顯眼。

[積層體之透明性]

本發明之積層體為了顯示良好性質，以透明性高為較佳。若透明性低，則例如作為影像顯示裝置之情況，有由於影像彩度之降低等產生畫質降低的情形。在透明性之評價上，可使用霧度(haze)及全光線透過率。

霧度為在JIS K 7136(2000)中所規定之透明性材料之渾濁度指標。霧度越小表示透明性越高。另一方面，若霧度大，暗示積層體之表面或界面之形狀粗糙，形成易將光線散射的形狀。

本發明之積層體的霧度，以1.5%以下為較佳，以1.0%以下為更佳，以0.5%以下為進一步更佳。霧度之值越小，從透明性之觀點而言越良好，然而成為0%有困難，本發明之積層體之實際下限值為約0.01%。又，若霧度大於1.5%，則雖然絶對反射率之值明顯降低，然而由於散射光量增加，影像之可見性有時會降低。

全光線透過率係在JIS K 7361-1(1997)所規定之透明性材料之光透過性指標，越高表示透明性越高。

本發明之積層體之全光線透過率，較佳為88%以上，更佳為91%以上，進一步更佳為93%以上。全光線透過率之值越大，雖透明性提高，然而本發明之積層體的實際上限值為約96%。又，若全光線透過率小於88%，則有影像變暗的情況。

[積層體之表面特性]

本發明之積層體以在表面具有微細凹凸之層為較佳，尤其發現每單位面積存在特定範圍之凹凸的個數中有較佳範圍。其原因雖不明確，然而推測係藉由導入微細凹凸結構，將附著之指紋成分所作成的油滴微細化，而減低光散射及吸收，附著之指紋變得不易看見之故。具體而言，藉由原子力顯微鏡(AFM)觀察之超過均方根粗度的峰數較佳為每25μm²500個以上1500個以下，更佳為800個以上1200個以下。若超出此範圍，將構成指紋之油滴大小微細化的效果有時會變得不充分。

其中，前述均方根粗度，意指將從平均線至測定曲線之偏差的平方取平均所得之值的平方根，從粗度曲線所求得者，所謂峰，意指以平均線為基準，至測定曲線之距離超過前述均方根粗度者。再者，一般而言係使用根據JIS R1683(2007年版)，藉由AFM求得之算術平均粗度等作為表面形狀之指標，然而算術平均粗度係表示表面全區域的平均深度信息的數值，無法評價如本發明之積層體所具有之局部性凹凸結構的形狀及數目。

[積層體之機械特性]

本發明之積層體由於係配置於最表面之構件，在後述之藉由鉛筆硬度試驗法的表面硬度測定中，以HB以上為較佳，以H以上為更佳，以2H以上為進一步更佳。在鉛筆硬度不足HB之情況，表面容易發生凹陷等缺點，結果有影像之可見性或積層體之品質降低的情形。

又，本發明之積層體由於係配置於最表面之構件，在後述之耐擦傷性試驗中，以3點以上為較佳，以4點以上為更佳，以5點為進一步更佳。在耐擦傷性試驗不足3點之情況，表面容易發生擦傷，結果有影像之可見性或積層體之品質降低的情形。

繼而，針對本發明之積層體的各層構成，加以說明。

第1圖係展示本發明之積層體的一較佳態樣。

本態樣之積層體(1)係將表面層(3)積層於支持基材(2)之單側。表面層(3)包含折射率相異之3層。從表面層(3)之最表面算起第1層之層(4)及從最表面算起第2層之層(5)，如後述，分別存在較佳之光學設計範圍。又，從表面層(3)之最表面算起第2層之層，在支持基材側具有以後述之特定光學厚度所設計之層(6)。再者，於表面層(3)之最接近支持基材之側，包含提高表面層與支持基材之密著性的層(7)。

又，本發明之積層體之層數無特別上限，如第2圖所示，亦有包含1層以上追加之層(8)的態樣。

在本發明之積層體中，表面層以包含折射率相異之3層以上之層為較佳。在折射率相異之層之數目為2層以下之情況，要滿足前述之條件(E)變得困難，結果指紋污垢有時會變得顯眼。關於折射率相異之層之數目的上限，無特別限定，然而從生產性及成本之觀點而言，較佳為10層以下，更佳為5層以下。

在本發明之積層體中，從最表面算起第1層之層的光學厚度以40nm以上100nm以下為較佳，以60nm以上75nm以下為更佳。該層為位於積層體之最表面之層，為有助於絶對反射率之值的層。若從最表面算起第1層之層的光學厚度超過100nm，由於將前述之條件(D)中的R1ave調成1.0%以上，或滿足條件(E)變得困難，結果指紋污垢有時會變得顯眼。另一方面，在從最表面算起第1層之層之光學厚度不滿足40nm之情況，前述之條件(D)中之R1ave有時會超過3.0%，結果有時無法得到充分的反射防止性。

在本發明之積層體中，從表面層之最表面算起第2層之層之折射率以1.45以上1.55以下為較佳。其中，折射率意指光從空氣中進入某種物質中時，在其界面改變進行方向之角度的比率，可根據JIS K 7142(1996)所規定之方法測定。從最表面算起第2層之層，為位於後述之緩衝層與從最表面算起第1層之層之間的層，具有作為調整上下層之中間層的功能。在從最表面算起第2層之層之折射率小於1.45的情況，由於前述之條件(D)中的R1ave成為1.0%以上，或滿足條件(E)變得困難，結果指紋污垢有時會變得顯眼。另一方面，若從最表面算起第2層之層的折射率超過1.55，前述之條件(D)中的R1ave有時會成為3.0%以上，結果有時得不到充分之反射防止性。

本發明之積層體以在比從表面層之最表面算起第2層之層還靠支持基材側具有光學厚度為2μm以上5μm以下之層為較佳。此層之功能，係作為可將靠支持基材側之層之光學影響減輕，將光學設計簡化，同時賦予塗膜硬度、耐擦傷性等光學性、力學性的緩衝層。在前述緩衝層之光學厚度不足2μm之情況，光學設計上有時容易產生偏差，結果指紋污垢有時變得顯眼。另一方面，若前述緩衝層之光學厚度超過5μm，不僅靠表面側之設計，配合光學設計有時會變得困難，結果有時得不到充分的反射防止性。

[支持基材]

本發明之積層體具有支持基材。

就支持基材而言，可使用玻璃等無機材料、及塑膠薄膜之任一種，然而從構成表面層時之加工性的觀點而言，以塑膠薄膜為較佳。

塑膠薄膜之材料的實例，包含纖維素酯(例如，三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、二乙醯纖維素、丙醯纖維素(propionyl cellulose)、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、硝化纖維素)、聚醯胺、聚碳酸酯、聚酯(例如，聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸-1,4-環己二亞甲酯、聚伸乙基-1,2-二苯氧基乙-4,4’-二甲酸酯、聚對苯二甲酸丁二酯)、聚苯乙烯(例如，間規型聚苯乙烯)、聚烯烴(例如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚碸、聚醚碸、聚芳酯、聚醚醯亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮等。此等之中，以三乙醯纖維素、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯為較佳。

支持基材之全光線透過率，以80~100%為較佳，以86~100%為更佳。全光線透過率意指照射光時，透過試料之光的比率，如前述，可依照JIS K 7361-1(1997)測定。

支持基材之霧度以0.01~2.0%為較佳，以0.01~1.0%為更佳。霧度如前述，意指JIS K 7136(2000)所規定之透明材料之渾濁的指標。霧度越小表示透明性越高。

支持基材之折射率以1.40~1.70為較佳。折射率如前述，可依照JIS K 7142(1996)所規定之方法測定。

支持基材可含有紅外線吸收劑或紫外線吸收劑。在含有紅外線吸收劑或紫外線吸收劑之情況，其含量於支持基材之全部成分100質量%中，以0.01~20質量%為較佳，以0.05~10質量%為更佳。

支持基材可含有作為滑劑之惰性無機化合物的粒子。前述惰性無機化合物之例，包含SiO₂、TiO₂、BaSO₄、CaCO₃、滑石粉及高嶺土。

在支持基材之表面，亦可施行各種表面處理。前述表面處理之例子，包含：藥品處理、機械性處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混酸處理及臭氧氧化處理。此等之中以輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈放電處理及火焰處理為較佳，以輝光放電處理、電暈放電處理及紫外線處理為更佳。

支持基材可具有易接著層、硬塗層、防黏結層、抗靜電層、紫外線吸收層、寡聚物塊層等層(可將此等稱為功能性層)。再者，在本發明之積層體中，在此等功能性層與上下層之間具有明確界面及折射率差的情況，於製造之步驟中即使為來自支持基材之層，亦不當作支持基材之一部分，而當作表面層之一層。

<製造積層體之方法>

繼而，針對製造本發明之積層體的較佳方法加以說明。

在本發明中，就形成表面層之方法而言，可列舉如藉由蒸鍍、濺射、CVD等氣相處理；塗布、含浸、電鍍、皂化等液相處理；轉印、貼合等固相處理、及此等處理之組合而形成支持基材之表面的方法。此等之中，較佳為藉由蒸鍍之氣相處理、藉由塗布之液相處理，更佳為在藉由塗布之液相處理中，於支持基材之至少單面將後述之較佳塗料組成物，以逐次或同時藉由塗布-乾燥-硬化而形成之方法。

其中，「逐次地塗布」或「逐次塗布」，意指將1種塗料組成物進行塗布-乾燥-硬化後，繼而將種類相異之塗料組成物藉由塗布-乾燥-硬化，形成表面層。「逐次塗布」中所形成之表面層，藉由適宜選擇所用塗料組成物的種類、數量，可控制折射率之大小。藉由「逐次塗布」所形成之表面層，通常形成具有複數個界面之「多層結構」。

又，「進行同時塗布」或「同時塗布」，意指在塗布步驟中，於支持基材上塗布2種以上液膜後，進行乾燥、硬化。在「同時塗布」中所形成之表面層，有時會形成不具有明確界面之「傾斜結構」，不過亦可以光學厚度同等之方式設計，製造與「多層結構」光學上等價的結構。

在形成本發明之積層體之表面層的方法中，於將塗料組成物逐次地塗布的情況，以使用浸漬塗布法、滾輪塗布法、線棒塗布法、凹版塗布法或模頭塗布法(美國專利第2681294號說明書)等在支持基材等上塗布，形成表面層為較佳。

又，在將2種以上塗料組成物同時塗布之情況，以藉由如第3圖所示，使用多層滑動模頭(9)，以塗布前之液膜狀態依序積層後，塗布積層之液膜的「多層滑動模頭塗布」，或如第4圖所示，使用多層狹縫模頭(10)，於基材上塗布同時積層之「多層狹縫模頭塗布」，或如第5圖所示，使用複數個單層狹縫模頭(11)，於支持基材上形成1層液膜，以未乾燥之狀態再積層1層的「濕壓濕式塗布」(第5圖)等，塗布在支持基材等上，形成表面層為較佳。

繼而，將塗布於支持基材等之上的液膜乾燥。為了將溶媒從所得到之積層體中完全除去，以在乾燥步驟中伴隨液膜之加熱為較佳。

關於乾燥方法，可列舉傳熱乾燥(對高熱物體之密合)、對流傳熱(熱風)、輻射傳熱(紅外線)、其他(微波、誘導加熱)等。此等之內，在本發明中，從即使在寬方向上亦必須精密地使乾燥速度均勻來看，較佳為對流傳熱、或輻射傳熱。

再者，亦可藉由熱或照射活性能量線進一步進行硬化操作(硬化步驟)。

在硬化步驟中，使用後述之塗料組成物A及塗料組成物B，以熱硬化之情況，以室溫以上200℃以下為較佳，從硬化反應之活性化能量的觀點而言，以80℃以上200℃以下為更佳。

在藉由活性能量線硬化之情況，從泛用性之點而言，以使用電子射線(EB線)及/或紫外線(UV線)為較佳。

在藉由紫外線硬化之情況，對於最表面，為了能防止氧抑制，以氧濃度儘可能低為較佳，以在氮氣體環境下(氮沖洗)硬化為更佳。在氧濃度高之情況，會抑制最表面之硬化，表面之硬化有時會變得不充分。

就照射紫外線時所用之紫外線燈的種類而言，可列舉如放電燈方式、閃光方式、雷射方式、無電極燈方式等。在使用為放電燈方式之高壓水銀燈進行紫外線硬化的情況，以紫外線之照度為100~3,000mW/cm²，較佳為200~2,000mW/cm²，進一步更佳為300~1,500mW/cm²之條件下進行紫外線照射為較佳。又，以紫外線之累積光量為100~3,000mJ/cm²，較佳為200~2,000mJ/cm²，進一步更佳為300~1,500mJ/cm²之條件下進行紫外線照射為較佳。其中，紫外線之照度意指每單位面積所受之照射強度，係隨燈光輸出、發光光譜效率、發光燈泡之直徑、反射鏡之設計及被照射物與光源距離而變化。然而，紫外線之照度不隨運送速度而變化。又，紫外線累積光量意指每單位面積所受之照射能量，為到達其表面之光子的總量。累積光量與通過光源下之運送速度成反比例，與照射次數及燈數成正比例。

<塗料組成物中之成分>

對於製造本發明之積層體之方法中較佳可用的塗料組成物加以說明。

本發明之積層體的表面層，以藉由塗布至少1種以上塗料組成物的組合來製造為較佳，其中該等塗料組成物包含交聯性材料、低折射率材料、高折射率材料、防污性材料、耐傷性材料中之至少1種材料及有機溶劑。在此等之塗料組成物中，視需要可進一步含有適當的界面活性劑、增黏劑、均塗劑等添加劑。

[交聯性材料]

就交聯性材料而言，無特別限定，然而從製造性之觀點，以可藉由熱及/或活性能量射線等而硬化之交聯性材料為較佳。交聯性材料可只使用一種，亦可將二種以上混合使用。又，從將粒子保存於膜中之觀點而言，以在分子中具有反應性部位為較佳。就前述反應性部位之較佳例而言，可列舉選自包含烷氧基矽烷基、矽烷醇基、羧基、羥基、環氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、及甲基丙烯醯氧基之群組的基。就前述交聯性材料而言，以使用多官能(甲基)丙烯酸酯為特佳。

[低折射率材料]

本發明之從表面層之最表面算起第1層之層，與其他層比較，以包含折射率較低之材料為較佳。就折射率較低之材料之例而言，可列舉無機粒子、樹脂材料。

就前述無機粒子而言，以選自Si、Na、K、Ca、Mg及Al之半金屬元素或金屬元素的氧化物、氮化物、硼化物、氟化物、碳酸鹽、硫酸鹽為較佳，以矽石粒子(SiO₂)、鹼金屬氟化物類(NaF、KF、NaAlF₆等)、及鹼土金屬氟化物(CaF₂、MgF₂等)為更佳，從耐久性、折射率、成本等之點而言，以矽石粒子為進一步更佳。

就前述樹脂材料而言，在使用氟系樹脂之情況，以折射率低之三氟甲基、二氟甲基及醚鍵作為主骨架所構成的氟系樹脂為較佳。又，使用氟系樹脂，從後述之防污性的觀點而言，亦較佳。

[高折射率材料]

本發明之從表面層之最表面算起第2層之層，以包含與從最表面算起第1層之層相較，較高折射率之材料為較佳。就折射率高之材料之例子而言，可列舉與作為前述低折射率材料用之無機粒子、樹脂材料相比，具有較高折射率的無機粒子、樹脂材料。

就高折射率材料而言，在使用無機粒子之情況，以比前述低折射率材料之矽石粒子折射率高的無機粒子為特佳。就此種折射率高之無機粒子而言，較佳為使用折射率為1.55~2.80之無機化合物。就前述無機化合物之具體例而言，可列舉氧化銻、含銻之氧化鋅、含銻之氧化錫(ATO)、含磷之氧化錫(PTO)、含鉀之氧化鋅(GZO)、氧化鋁(Al₂O₃)、氧化鋯(ZrO₂)、及/或氧化鈦(TiO2)。此等之內，以折射率高之氧化鈦、氧化鋯為特佳。又，就高折射材料而言，在使用樹脂材料之情況，以使用折射率高，具有環烯烴、碳酸酯、茀等結構的化合物為較佳。

無機粒子之數平均粒徑以5nm以上80nm以下為較佳。若無機粒子之數平均粒徑小於5nm，則形成凹凸之能力有時不充分，若大於80nm，則光澤感有時會降低。

再者，無機粒子之形態無特別限定，然而以無機粒子為具有念珠狀連結(複數個粒子成為連鎖狀之形狀)之長鏈構造者，或連結之無機粒子分枝者或彎曲者為較佳。以下使此等成為以念珠狀連結及/或分枝之無機粒子。

前述以念珠狀連結及/或分枝之無機粒子係將一次粒子經由2價以上金屬離子進行粒子-粒子間鍵結者，亦即意指將至少3個以上，較佳為5個以上、更佳為7個以上連結而成者。前述以念珠狀連結及/或分枝之無機粒子之連結、分枝、彎曲狀態，可使用掃描型電子顯微鏡(SEM)來確認。

為了得到本發明之特佳表面形狀，前述以念珠狀連結及/或分枝之無機粒子以進行在黏合劑(binder)原料之良溶媒中安定分散所必需的表面修飾為特佳。例如，在使用丙烯酸系單體、寡聚物作為黏合劑原料之情況，就表面修飾而言，將碳數1~5以內之烷基、烯基、乙烯基、(甲基)丙烯酸基等以必要的最低限度導入表面為較佳。就滿足此項之市售品而言，例如，日產化學工業股份有限公司製有機矽溶膠、MEK-ST-UP(MEK分散體)。

[防污性材料]

在本發明之積層體中從最表面算起第1層之層使用防污性材料，因為其可使由指紋等污垢所造成的污染更為減低，所以較佳。就防污性材料而言，可列舉以氟系樹脂為代表之撥油型及以聚矽氧樹脂為代表的親油型，然而在本發明中，以使用具有使積層體表面所形成之污垢之層的厚度減低之效果的撥油型防污性材料為較佳。

就更佳之防污性材料而言，可列舉具有氟片段及聚矽氧片段共聚之構造的防污性材料。藉由此種防污性材料所形成之表面，由於能原樣維持氟材料所產生之撥油性，並容易藉由拭去附著之指紋而薄膜化，所以極容易得到本發明之效果。就具有此種構造之防污性材料的市售品之例子而言，可列舉DIC股份有限公司之氟系界面改質劑、商品名「Megafac」系列等。

[耐傷性材料]

本發明之積層體在比從最表面算起第2層之層還靠支持基材側所具有的光學厚度為2μm以上5μm以下之層，以包含耐傷性材料之層為較佳。藉此，前述層可具有硬度、耐擦傷性。形成此種層之耐傷性材料無特別限定，可適合使用市售之硬塗材料或具有傷害修復性之材料。

就市售之硬塗材料之例而言，可列舉「大成精密化學股份有限公司；(有機-無機複合塗布材料「STR-SiA」)」或「東亞合成股份有限公司；(商品名「光硬化型SQ系列」)」或「東洋油墨股份有限公司；(商品名「Lioduras」(註冊商標))」等，可適當使用此等材料。

又，就市售之具有傷害修復性之材料之例子而言，可列舉「中國塗料股份有限公司；(商品名「Pholucid」系列)」或「Aica工業股份有限公司；(商品名「Aica Aitron」系列)」等。

[有機溶劑]

有機溶劑，無特別限定，然而從塗布及乾燥時表面層之平滑性的觀點而言，常壓沸點為200℃以下之溶媒為較佳。具體而言，可列舉水、醇類、酮類、醚類、酯類、烴類、醯胺類、氟類等。此等有機溶劑，可使用1種，或將2種以上組合而使用。

<積層體之用途>

以下，針對本發明之積層體的較佳用途加以說明。

[反射防止構件]

本發明之積層體可適合使用於反射防止構件。反射防止構件意指在各種支持基材之至少單面形成具有反射防止功能之表面層的構件，在基材為塑膠薄膜之情況，一般稱為反射防止薄膜。使用本發明之積層體的反射防止構件，可進一步設置易接著層、防濕層、抗靜電層、遮蔽層、底塗層或保護層等。遮蔽層係為了將電磁波或紅外線遮蔽而設置。

[硬塗構件]

本發明之積層體可適合使用於硬塗構件。在構成硬塗構件之支持基材為塑膠薄膜的情況，一般稱為硬塗薄膜。使用本發明之積層體作為硬塗構件時，有關平均反射率之條件(D)中的R1ave為3.0%以上即可，若為6.0%以下可使用作為硬塗構件。在R1ave超過6.0%之情況，取得滿足條件(A)~(C)的構成變得困難，附著之指紋污垢有時會變得顯眼。

[實施例]

繼而，根據實施例說明本發明，然而本發明未必受此等之限定。

<塗料組成物之調製>

以下，將用於形成從表面層之最表面算起第1層之層的塗料組成物記載為塗料組成物A，將用於製成第2層之層的塗料組成物記載為塗料組成物B，同樣地將對應於第3層、第4層之塗料組成物記載為塗料組成物C、D。

[塗料組成物A1]

將下述材料混合，得到塗料組成物A1。

[塗料組成物A2]

將下述材料混合，得到塗料組成物A2。

[塗料組成物A3]

將下述材料混合，得到塗料組成物A3。

[塗料組成物A4]

將下述材料混合，得到塗料組成物A4。

[塗料組成物A5]

將下述材料混合，得到塗料組成物A5。

無粒子型低折射率塗布劑X-12-2510A(信越聚矽氧股份有限公司：固體含量3質量%) 97質量份

[塗料組成物A6]

將下述材料混合，得到塗料組成物A6。

[塗料組成物A7]

將下述材料混合，得到塗料組成物A7。

[塗料組成物A8]

將下述材料混合，得到塗料組成物A8。

[塗料組成物A9]

將下述材料混合，得到塗料組成物A9。

[塗料組成物B1]

將下述材料混合，得到塗料組成物B1。

[塗料組成物B2]

將下述材料混合，得到塗料組成物B2。

[塗料組成物B3]

將下述材料混合，得到塗料組成物B3。

[塗料組成物B4]

將下述材料混合，得到塗料組成物B4。

[塗料組成物B5]

將下述材料混合，得到塗料組成物B5。

[塗料組成物B6]

將下述材料混合，得到塗料組成物B6。

[塗料組成物B7]

將下述材料混合，得到塗料組成物B7。

[塗料組成物B8]

將下述材料混合，得到塗料組成物B8。

黏合劑原料KAYARAD DPHA(日本化藥股份有限公司：固體含量100質量%) 5.6質量份

[塗料組成物B9]

將下述材料混合，得到塗料組成物B9。

[塗料組成物B10]

將下述材料混合，得到塗料組成物B10。

[塗料組成物B11]

將下述材料混合，得到塗料組成物B11。

[塗料組成物C1]

將下述材料混合，得到塗料組成物C1。

[塗料組成物C2]

使用下述材料作為塗料組成物C2。

傷害修復性塗材Z-913-3(Aica工業股份有限公司：固體含量40質量%) 100.0質量份

[塗料組成物C3]

將下述材料混合，得到塗料組成物C3。

[塗料組成物C4]

將下述材料混合，得到塗料組成物C4。

高折射率塗布劑EA-HR034(大阪氣體化學股份有限公司：固體含量100質量%) 5.4質量份

[塗料組成物C5]

將下述材料混合，得到塗料組成物C5。

[塗料組成物D1]

將下述材料混合，得到塗料組成物D1。

[數平均粒徑(一次粒子)]

藉由掃描型電子顯微鏡(SEM)觀察、測定。觀察試料係將前述塗料組成物於分散媒(異丙醇)中稀釋成固體含量濃度0.5質量%，用超音波分散後，在導電膠帶上進行滴加、乾燥而調製。數平均粒徑係以每1視野作為一次粒子之集合體的個數成為10個以上50個以下的倍率進行觀察，從所得到之影像求取一次粒子之外接圓直徑，將其設為等價粒徑，增加觀察數，並根據JIS Z8819-2(2001年版)記載之個數基準算術平均長徑，從對100個一次粒子進行測定之值來求取數平均粒徑。

<積層體之作成方法>

以下，展示積層體之製作方法。就支持基材而言，使用在PET樹脂薄膜上以易接著性塗料塗布之「Lumilar」(註冊商標)U48(東麗股份有限公司製)及未以易接著性塗料塗布之「Lumilar」(註冊商標)T60(東麗股份有限公司製)。將各積層體之構成、及所使用之支持基材、塗料組成物之組合示於表1。依照表1所記載之條件及組成，製成實施例及比較例之積層體。亦即，在支持基材上，一面將前述之塗料組成物藉由狹縫模頭塗布機，以成為表1之厚度的條件調整塗出量，一面進行塗布後，進行下述所示之第一階段乾燥，繼而進行第二階段乾燥。

第一階段

熱風溫度 50℃

熱風風速 1.5m/s

風向平行於塗布面

乾燥時間 0.5分鐘

第二階段

熱風溫度 100℃

熱風風速 5m/s

風向垂直於塗布面

乾燥時間 1分鐘

再者，熱風之風速係從吹出部分之動壓測定值換算為風速的值。

乾燥後，除不需要UV硬化之塗料組成物A2及A9外，對於各塗料組成物，使用160W/cm²之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，以照度600W/cm²、累積光量800mJ/cm²之紫外線，於氧濃度0.1體積%下照射，使其硬化。

<層L之形成>

將以前述之方法製成之積層體切成5×10cm，將以下之塗料組成物L藉由棒塗器塗布於其表面層側後，依照上述積層體之製作方法及同樣之乾燥‧硬化方法使其硬化，製成折射率1.45、厚度50nm之樹脂層L。

[塗料組成物L]

將下述材料混合，得到塗料組成物L。

<積層體之評價>

關於所製作之積層體，實施以下所示之性能評價，將所得到之結果記載於表2至表4。除非另有特別聲明之情況，否則測定係在各實施例‧比較例中針對每1個樣本改變位置，進行3次測定，並使用其平均值。

[絶對反射率之測定]

絶對反射率之評價係使用島津製作所(股)製分光光度計UV-3100來實施。測定係從積層體之表面層側，或以前述方法在積層體上所形成之層L側，於射入光之方向上實施，為防止背面反射，於非測定面上，藉由橡膠滾輪貼附黑色塑膠膠帶。繼而關於435.8nm、546.1nm及700.0nm之絶對反射率，指定測定之波長前後1.0nm，以每0.2nm計11點，計測於各波長之絶對反射率，將其平均值分別當作Rn(438.5)、Rn(546.1)及Rn(700.0)(其中n為自然數，n=1係表示積層體之表面層側的絶對反射率，n=2係表示設置以前述方法作成之層L時的絶對反射率)。另一方面，關於後述之平均反射率及反射率斜率之計算所使用的絶對反射率，係將380nm至780nm之波長範圍以每0.5nm間隔測定而實施。

[平均反射率及反射率斜率之計算]

關於藉由上述方法所測定之波長範圍380nm至780nm，測定間隔0.5nm的絶對反射率數據，算出其平均值，並將其設為平均反射率Rave。

另一方面，關於反射率斜率，將前述之各波長的絶對反射率之數據，輸入Microsoft Excel2010，藉由最小平方法算出線形近似式，根據其斜度，算出100nm邊之絶對反射率的變化量，設為反射率斜率Rslope。

[表面層之層厚度]

藉由使用透過型電子顯微鏡(TEM)觀察截面，測定支持基材上之第1層及第2層的截面形狀及層厚度。各層之厚度係依照以下之方法測定。從將表面層之截面之超薄切片藉由TEM，以20萬倍之倍率攝影影像，藉由軟體(畫像處理軟體ImageJ/開發者：美國國立衛生研究所(NIH))讀取各層之厚度。以測定合計30點之層厚度所求得的平均值設為膜厚。

[表面層之折射率]

關於積層體之表面層之層數、及各層之厚度，使用前述之透過型電子顯微鏡(TEM)實施計測。基於此等資料，各層之折射率係針對積層體之表面層，藉由反射分光膜厚計(大塚電子製，商品名[FE-3000])，測定於300~800nm範圍之絶對反射率，並使用該裝置附屬之軟體[FE-Analysis]，依照大塚電子股份有限公司製[膜厚測定裝置綜合型錄P6(非線形最小平方法)]所記載之方法，求取於550nm之折射率。

就折射率之波長分散之近似式而言，使用Cauchy之分散式(數學式1)，藉由最小平方法(曲線擬合法)，計算光學常數(C₁、C₂、C₃)，測定於550nm之折射率。

[均方根粗度、峰數之測定]

將積層體於任何處切出後，使用原子力顯微鏡(AFM)(Digital Instruments公司製，NanoScope IIIa ver.5.31R1)，以觀察模式=DFM模式，掃描器=FS-20A、懸臂=DF-3、觀察視野=5×5μm²、分解能力1024×512像素進行表面形態觀察，得到觀察像。繼而為以均方根粗度之100%作為峰閾值，將「峰閾值(Peak Thrsh)(%rms)」設定於100%，進行解析，求取峰數。

[透明性]

積層體之透明性係藉由測定全光線透過率及霧度而判定。全光線透過率及霧度之測定係根據JIS K7136(2000)及JIS K7361-1(1997)，使用日本電色工業股份有限公司製霧度計，以使光從與積層體樣本之支持基材之相反側(表面層側)透過的方式安置裝置，並進行測定。再者，於同一樣本之相異3處測定，採用其平均值。

[藉由鉛筆硬度試驗法之表面硬度測定]

將積層薄膜於溫度20℃放置12小時後，於相同環境，依照JIS K 5600-5-4(1999)所記載之刮痕硬度(鉛筆法)，測定表面層的表面硬度。

[耐擦傷性]

在積層體之表面層側，將荷重為200g/cm²之鋼絲絨(#0000)垂直往返1cm之長度10次，記載此時目視之傷痕概算條數，進行下述之分級，將3點以上當作合格。

5點：0條

4點：1條以上小於5條

3點：5條以上小於10條

2點：10條以上小於20條

1點：20條以上。

[耐指紋性(指紋低可見性)]

指紋低可見性，係將積層體之表面層側朝上放置於黑色圖畫用紙上，將用於按壓指紋之手指(食指)及拇指擦拭3次後，在前述表面層之表面緩慢按上手指(食指)，以下述之評價基準評價所附著之指紋的可見性，將5點以上當作合格。

10點：無法見到指紋，或不知與未附著部分之差別

7點：幾乎無法見到指紋，或無法辨識為指紋

5點：雖稍可見到指紋，但不顯眼

3點：可見到指紋

1點：可明確見到指紋，且非常顯眼

以10人為對象進行上述評價，求取其平均值。關於小數點以下，採取四捨五入。

[耐指紋性(指紋拭除後之低可見性)]

依照前述之方法使指紋附著後，繼而使用折疊尺寸為12.5×12.5cm之纖維素長纖維不織布所製成之紗布(「Haize」紗布NT-4，川本產業股份有限公司製)進行擦拭。指紋拭除後之低可見性，係將以該拭除方法擦拭後之可見性，依照下述之評價基準評價，將5點以上當作合格。

10點：若擦拭3次，幾乎見不到

7點：若擦拭3次，成為不顯眼的程度

5點：只擦拭3次或4次雖仍有污垢殘留，然而若擦拭5次，則幾乎見不到

3點：若擦拭10次，成為不顯眼的程度

1點：即使擦拭10次以上，污垢仍然殘留

[耐指紋性(強制條件下之指紋低可見性)]

強制條件下之指紋低可見性，係將積層體之表面層側朝上放置於黑色圖畫用紙上，將用於按壓指紋之手指(食指)及拇指擦拭3次後，在前述表面層之表面緩慢按上手指(食指)，並於2cm之長度來回10次時，將所附著之指紋的可見性依照下述之評價基準評價，將5點以上當作合格。

10點：無法見到指紋，或不知與未附著部分之差別

7點：幾乎無法見到指紋，或無法辨識為指紋

5點：雖稍可見到指紋，但不顯眼

3點：可見到指紋

1點：可明確見到指紋，且非常顯眼

[產業上之可利用性]

本發明之積層體可利用於例如塑膠光學零件、觸控面板、薄膜型液晶元件、塑膠容器；作為建築內裝材料之地板材、壁材、人工大理石等用於防止污染的保護塗布材料；薄膜型液晶元件、觸控面板、塑膠光學零件等之反射防止膜等。具體而言，可適合使用作為智慧手機‧電視‧汽車導航‧個人電腦之液晶畫面、用於指引‧警告‧避難指示之信號顯示燈、照相機‧太陽眼鏡‧望遠鏡‧照相機之鏡片、鐘錶之文字盤的透明蓋等構件。

1‧‧‧積層體

2‧‧‧支持基材

3‧‧‧表面層

4‧‧‧從表面層之最表面算起第1層之層

5‧‧‧從表面層之最表面算起第2層之層

7‧‧‧提高表面層與支持基材之密著性之層

Claims

一種積層體，其為在支持基材之至少單面具有表面層的積層體，該積層體之表面層側之絶對反射率R1與於表面層之上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時之絶對反射率R2滿足以下之條件：(A)-0.5%≦R1(435.8)-R2(435.8)≦1.0% (B)-0.5%≦R1(546.1)-R2(546.1)≦1.0% (C)-0.5%≦R1(700.0)-R2(700.0)≦1.0% R1(X)：積層體之表面層側於波長Xnm之絶對反射率R1 R2(X)：於表面層上進一步設置光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為72.5nm之層L時，於波長Xnm之絶對反射率R2。
如請求項1之積層體，其中該絶對反射率R1滿足以下之條件：(D)1.0%≦R1ave≦3.0% (E)-0.2%≦R1slope≦0.2% R1ave：絶對反射率R1於波長380nm至780nm的平均值R1slope：將絶對反射率R1於波長380nm至780nm進行直線近似化時，每100nm之波長的絶對反射率R1的變化量。
如請求項1或2之積層體，其中該表面層包含折射率相異之2層以上之層，從該表面層之最表面算起第1 層之層的光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為40nm以上100nm以下。
如請求項1至3中任一項之積層體，其中該表面層之最表面藉由原子力顯微鏡(AFM)觀察，超過均方根粗度之峰數為每25μm²有500個以上1500個以下。
如請求項1至4中任一項之積層體，其中該表面層包含折射率相異之2層以上之層，從該表面層之最表面算起第2層之層包含滿足以下之條件(F)及(G)的無機粒子：(F)數平均粒徑為5nm以上80nm以下(G)以念珠狀連結及/或分枝之無機粒子。
如請求項1至5中任一項之積層體，其中該表面層包含折射率相異之2層以上之層，從該表面層之最表面算起第2層之層的折射率為1.45以上1.55以下。
如請求項1至6中任一項之積層體，其中該表面層包含折射率相異之3層以上之層。
如請求項7之積層體，其中在比從該表面層之最表面算起第2層之層還靠支持基材側具有光學厚度(層的厚度乘以層的折射率所得之值)為2μm以上5μm以下之層。