TW201632978A - 投影機用螢光輪及投影機用發光裝置 - Google Patents

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安東民雄
古山忠仁
藤田俊輔
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日本電氣硝子股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種即便使螢光體層變薄，亦不易破損之投影機用螢光輪。 投影機用螢光輪1具備：環狀之螢光體層2，其具有作為激發光6之入射面之第1主面2a及與第1主面2a對向之第2主面2b，且藉由激發光6之入射而激發並出射螢光7；及環狀之第1補強基板5，其設置於螢光體層2之第1及第2主面2a、2b中之至少一個主面側；且第1補強基板5之外周緣5a於徑向上配置於較螢光體層2之外徑之1/2更外側且較激發光6之照射區域更內側。

Description

投影機用螢光輪及投影機用發光裝置
本發明係關於一種投影機用螢光輪及投影機用發光裝置。
近年來，為了使投影機小型化而提出使用LED(Light Emitting Diode，發光二級體)及螢光體之發光裝置。例如，於專利文獻1中，揭示有使用具備發出紫外線光之光源、及將來自光源之紫外線光轉換為可見光之螢光體層之發光裝置的投影機。於專利文獻1中，使用在環狀之可旋轉之透明基板上設置有環狀之螢光體層之螢光輪。螢光體層例如具有將螢光體分散於分散介質中而成之構造。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2004-341105號公報
先前，已知螢光體層中之螢光體濃度較高更能夠提高發光效率。因此，於使用之螢光體之量為相同之情形時，減小分散介質之量，使螢光體層變薄更能夠提高發光效率。然而，若使螢光體層變薄，則存在螢光體層之機械強度下降，發生破損之問題。
本發明之目的在於提供一種即便使螢光體層變薄，亦不易破損之投影機用螢光輪及投影機用發光裝置。
本發明之投影機用螢光輪具備：環狀之螢光體層，其具有作為激發光之入射面之第1主面及與該第1主面對向之第2主面，且藉由激發光之入射而激發並出射螢光；及環狀之第1補強基板，其設置於上述螢光體層之第1及第2主面中之至少一個主面側；且上述第1補強基板之外周緣於徑向上配置於較上述螢光體層之外徑之1/2更外側且較上述激發光之照射區域更內側。
本發明之投影機用螢光輪較佳為上述第1補強基板之外周緣於徑向上配置於較上述螢光體層之外徑之2/3更外側。
本發明之投影機用螢光輪亦可於上述螢光體層之第1主面側設置有上述第1補強基板。
本發明之投影機用螢光輪較佳為於上述螢光體層之第1主面上設置有第1玻璃層，且於上述第1玻璃層之與上述第1主面側為相反側之主面上設置有上述第1補強基板。亦可於上述螢光體層之第2主面上設置有第2玻璃層。
上述第1及第2玻璃層之厚度分別較佳處於10μm~150μm之範圍。
本發明之投影機用螢光輪較佳為上述第1補強基板包含選自金屬、玻璃及陶瓷中之至少1種。更佳為上述第1補強基板包含金屬。
本發明之投影機用螢光輪亦可進而具備第2補強基板，其於徑向上配置於較上述激發光之照射區域更外側。
較佳為上述第1補強基板與上述第2補強基板之徑向上之間隔為上述激發光的點徑之2倍以上且6倍以下。
本發明之投影機用螢光輪亦可於上述螢光體層之第1主面上設置有透過激發光而反射螢光之第1濾光片層。
本發明之投影機用螢光輪亦可於上述螢光體層之第2主面上設置有透過螢光而反射激發光之第2濾光片層。
本發明之投影機用發光裝置具備根據本發明而構成之投影機用螢光輪、及將激發光照射至上述投影機用螢光輪之上述螢光體層之光源。
根據本發明，能夠提供一種即便使螢光體層變薄，亦不易破損之投影機用螢光輪及投影機用發光裝置。
1‧‧‧螢光輪
2‧‧‧螢光體層
2a‧‧‧第1主面
2b‧‧‧第2主面
3‧‧‧第1玻璃層
3a‧‧‧主面
4‧‧‧第2玻璃層
4a‧‧‧主面
5‧‧‧第1補強基板
5a‧‧‧外周緣
5b‧‧‧主面
5c‧‧‧凹部
6‧‧‧激發光
7‧‧‧螢光
8‧‧‧螢光體
9‧‧‧玻璃基質
10‧‧‧第2補強基板
10a‧‧‧內周緣
11‧‧‧空腔
12‧‧‧插入層
13‧‧‧第1濾光片層
14‧‧‧第2濾光片層
21‧‧‧螢光輪
31‧‧‧螢光輪
41‧‧‧螢光輪
51‧‧‧螢光輪
61‧‧‧螢光輪
71‧‧‧螢光輪
81‧‧‧螢光輪
91‧‧‧螢光輪
101‧‧‧投影機用發光裝置
102‧‧‧光源
103‧‧‧馬達
104‧‧‧旋轉軸
C‧‧‧中心軸
D‧‧‧螢光體層之外徑
圖1係表示本發明之第1實施形態之投影機用螢光輪的示意性立體圖。
圖2係沿圖1之A-A線之示意性剖視圖。
圖3係放大本發明之第1實施形態之投影機用螢光輪中的螢光體層之附近而示出之示意性部分剖視圖。
圖4係表示本發明之第2實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖5係表示本發明之第3實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖6係表示本發明之第4實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖7係表示本發明之第5實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖8係表示本發明之第6實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖9係表示本發明之第7實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖10係表示本發明之第7實施形態之投影機用螢光輪的變化例之示意性剖視圖。
圖11係表示本發明之第8實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖12係表示本發明之第9實施形態之投影機用螢光輪的示意性剖視圖。
圖13係表示使用本發明之第1實施形態之螢光輪的投影機用發光裝置之示意性側視圖。
以下，對較佳之實施形態進行說明。但是，以下之實施形態僅為例示，本發明並非限定於以下之實施形態。又，於各圖式中，有時實質上具有相同之功能之構件以相同的符號進行參照。
〔投影機用螢光輪〕
(第1實施形態)
圖1係表示本發明之第1實施形態之投影機用螢光輪的示意性立體圖。圖2係沿圖1所示之A-A線之示意性剖視圖。
螢光輪1為投影機用螢光輪。如圖1及圖2所示，螢光輪1為環狀之形狀。使螢光輪1以中心軸C為中心旋轉而使用。螢光輪1具備螢光體層2、第1及第2玻璃層3、4、及第1補強基板5。
螢光體層2為環狀之形狀。螢光體層2具有第1及第2主面2a、2b。第1主面2a為激發光6之入射面。第2主面2b與第1主面2a對向。藉由自第1主面2a入射之激發光6而激發螢光體層2內之螢光體8(圖3所示)，作為螢光7自第2主面2b出射。
圖3係放大本發明之第1實施形態之投影機用螢光輪中的螢光體層之附近而示出之示意性部分剖視圖。如圖3所示，螢光體層2具備玻璃基質9、及螢光體8。螢光體8分散於玻璃基質9中。於本實施形態中，使用無機螢光體之粒子作為螢光體8。
作為玻璃基質9，只要為可用作螢光體8之分散介質，則並無特 別限定。例如可使用硼矽酸鹽系玻璃、磷酸鹽系玻璃等。玻璃基質9之軟化點並無特別限定，較佳為250℃~1000℃，更佳為300℃~850℃。若玻璃基質9之軟化點過低，則存在螢光體層2之機械強度下降之情況。另一方面，若玻璃基質9之軟化點過高，則存在於製造時之焙燒步驟中螢光體8發生劣化而螢光體層2之發光強度下降的情況。
螢光體8只要為藉由激發光6之入射而出射螢光7者，則並無特別限定。作為螢光體8，例如可列舉：氧化物螢光體、氮化物螢光體、氮氧化物螢光體、氯化物螢光體、氧氯化物螢光體、硫化物螢光體、氧硫化物螢光體、鹵化物螢光體、硫族元素化物螢光體、鋁酸鹽螢光體、鹵磷酸鹽化物螢光體或石榴石系化合物螢光體等。該等可單獨使用，亦可併用複數個。
於使用藍色光作為激發光6之情形時，例如可使用出射綠色光、黃色光或紅色光作為螢光之螢光體。
螢光體8之平均粒徑較佳為1μm~50μm之範圍內，更佳為5μm~25μm之範圍內。若螢光體8之平均粒徑過小，則存在發光強度下降之情況。另一方面，若螢光體8之平均粒徑過大，則存在發光色變得不均勻之情況。
螢光體層2中之螢光體8之含量並無特別限定，較佳為5~80體積%之範圍內，更佳為10~75體積%之範圍內，進而較佳為20~70體積%之範圍內。若螢光體8之含量過少，則存在螢光體層2之發光強度變得不充分之情況。另一方面，若螢光體8之含量過多，則存在螢光體層2之機械強度下降之情況。
再者，作為螢光體層2，亦可為包含陶瓷螢光體者。
螢光體層2之厚度於如為激發光6確實地被螢光體8吸收般之厚度的範圍中，較薄更佳。若螢光體層2過厚，則存在螢光體層2中之光之散射或吸收變得過大，螢光7之出射效率變低之情況。
因此，螢光體層2之厚度較佳為1mm以下，更佳為0.5mm以下，進而較佳為0.3mm以下。再者，螢光體層2之厚度之下限值為0.03mm左右。
如圖2所示，於螢光體層2之第1主面2a上設置有第1玻璃層3。另一方面，於螢光體層2之第2主面2b上設置有第2玻璃層4。因此，螢光體層2夾於第1及第2玻璃層3、4。再者，於本實施形態中，第1玻璃層3之內徑與第2玻璃層4之內徑相等。
於本實施形態中，如上述般，以夾於第1及第2玻璃層3、4之間之方式設置有螢光體層2。因此，可使螢光體層2變薄。又，由於在螢光體層2之第1及第2主面2a、2b設置有第1及第2玻璃層3、4，故可於第1及第2主面2a、2b中取得應力之平衡。藉此，可抑制於螢光輪1產生翹曲等。
第1及第2玻璃層3、4具有環狀之形狀。第1及第2玻璃層3、4包含玻璃。作為構成第1及第2玻璃層3、4之玻璃並無特別限定，較佳為使用與玻璃基質9相同之材料。若如此，則可更進一步抑制第1及第2玻璃層3、4與玻璃基質9之界面中之光反射損失。
作為構成第1及第2玻璃層3、4之玻璃，例如可列舉：SiO2-B2O3-RO(R為Mg、Ca、Sr或Ba)系玻璃、SiO2-B2O3-R'2O(R'為Li、Na或Ka)系玻璃、SiO2-B2O3-RO-R'2O系玻璃、SnO-P2O5系玻璃、TeO2系玻璃或Bi2O3系玻璃等。
第1及第2玻璃層3、4之厚度分別較佳為10~150μm之範圍內，較佳為12~120μm之範圍內，更佳為15~100μm之範圍內，進而較佳為15~50μm之範圍內。
若第1及第2玻璃層3、4之厚度過薄，則存在易於破損，故而不易製造螢光輪1之情況。若第1及第2玻璃層3、4之厚度過厚，則自螢光體層2出射之螢光於第1或第2玻璃層3、4之內部傳播，而容易自第1 或第2玻璃層3、4之端面向外部漏出。
由螢光體層2與第1及第2玻璃層3、4所形成之積層體例如可藉由製作積層坯片後之坯片積層體，並培燒該坯片積層體而製造。即，該製造方法具備如下步驟：製作將成為螢光體層2之第2坯片積層於成為第1玻璃層3之第1坯片上，並將成為第2玻璃層4之第3坯片積層於第2坯片上之坯片積層體；及培燒坯片積層體，由第1坯片、第2坯片及第3坯片分別形成第1玻璃層3、螢光體層2及第2玻璃層4。
於第1玻璃層3之主面3a上設置有第1補強基板5。因此，於本實施形態中，第1補強基板5設置於螢光體層2之第1主面2a側。藉由設置第1補強基板5，能夠提高使螢光輪1旋轉而使用時之機械強度。
第1補強基板5具有環狀之形狀。第1補強基板5之外周緣5a於徑向上配置於較螢光體層2之外徑D之1/2更外側。另一方面，第1補強基板5之外周緣5a於徑向上配置於較激發光6之照射區域更內側。
就更進一步提高螢光輪1之機械強度之觀點而言，較佳為第1補強基板5之外周緣5a於徑向上配置於較螢光體層2之外徑D之2/3更外側。
第1補強基板5包含金屬。第1補強基板5亦可包含陶瓷或玻璃。然而，就提高螢光輪1之散熱性之觀點而言，作為構成第1補強基板5之材料，較佳為金屬或陶瓷，更佳為金屬。藉由提高螢光輪1之散熱性，可更進一步抑制因螢光體8之溫度消光而引起之螢光體層2的發光強度下降。
作為用作第1補強基板5之金屬板並無特別限定。例如較佳地使用導熱性較高之鋁基板或銅基板。再者，作為金屬板，亦可為包含2種以上之金屬之合金(例如，鋁與矽之合金)者。
作為構成用作第1補強基板5之陶瓷基板之陶瓷，並無特別限定，例如，可使用高導熱性陶瓷。作為高導熱性陶瓷，可列舉：氧化 鋁系陶瓷、氮化鋁系陶瓷、碳化矽系陶瓷、氮化硼系陶瓷、氧化鎂系陶瓷、氧化鈦系陶瓷、氧化鈮系陶瓷、氧化鋅系陶瓷、氧化釔系陶瓷等。
作為用作第1補強基板5之玻璃，並無特別限定，較佳為使用與第1及第2玻璃層3、4熱膨脹係數接近、尤其是熱膨脹係數相同之玻璃。藉由如此，能夠於對第1及第2玻璃層3、4與第1補強基板5進行熱熔合接合之情形時，有效地抑制因熱膨脹係數差而引起之破損。
再者，第1補強基板5亦可包含金屬與陶瓷之複合材料(例如，鋁與碳化矽之複合材料、矽與碳化矽之複合材料)或玻璃與陶瓷之複合材料等。
作為第1補強基板5與第1玻璃層3之接合方法，並無特別限定，例如，於第1補強基板5為金屬之情形時，可使用接著劑進行接合。又，於第1補強基板5為玻璃之情形時，可藉由熱熔合進行接合。然而，於不使第1補強基板5與第1玻璃層3接合而組裝下述投影機用發光裝置時，亦可使用固定件等使第1補強基板5與第1玻璃層3接觸。
作為第1補強基板5之厚度，並無特別限定，較佳為0.1mm以上，更佳為0.2mm以上，較佳為1.2mm以下，更佳為1mm以下。於第1補強基板5之厚度為上述下限值以上之情形時，可更進一步提高螢光輪1之機械強度。另一方面，於第1補強基板5之厚度為上述上限值以下之情形時，可使螢光輪1薄型化及輕量化，可更進一步抑制使用時之破損。
(第2及第3實施形態)
圖4係本發明之第2實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖4所示，於螢光輪21中，第2玻璃層4之主面4a上設置有第1補強基板5。即，螢光體層2之第2主面2b側設置有第1補強基板5。其他方面與第1實施形態相同。
圖5係本發明之第3實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖5所示，於螢光輪31中，於第1及第2玻璃層3、4之兩者之主面3a、4a上設置有第1補強基板5。即，螢光體層2之第1主面2a側及第2主面2b側之兩者設置有第1補強基板5。再者，於本實施形態中，使用較第1實施形態薄之金屬板作為第1補強基板5。其他方面與第1實施形態相同。
於第2及第3實施形態中，亦設置有第1補強基板5而提高螢光輪21、31之機械強度。
如第2及第3實施形態所示，於本發明中，第1補強基板5可設置於螢光體層2之第2主面2b側，亦可設置於螢光體層2之第1主面2a側及第2主面2b側之兩者。
(第4實施形態)
圖6係本發明之第4實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖6所示，螢光輪41進而具備第2補強基板10。第2補強基板10具有環狀之形狀。第2補強基板10於徑向上配置於較激發光6之照射區域更外側。其他方面與第1實施形態相同。
第1補強基板5之外周緣5a與第2補強基板10之內周緣10a的徑向上之間隔較佳為激發光6之點徑的2倍以上且6倍以下，更佳為4倍以上且5倍以下。藉由如此，可一面防止第1補強基板5或第2補強基板10遮斷激發光6，一面更進一步有效地提高螢光輪41之機械強度。
第2補強基板10包含金屬。第2補強基板10亦可包含陶瓷或玻璃。然而，就提高螢光輪41之散熱性之觀點而言，作為構成第2補強基板10之材料，較佳為金屬或陶瓷，更佳為金屬。如此，作為構成第2補強基板10之材料可使用與第1補強基板5相同之材料。
作為第2補強基板10與第1玻璃層3之接合方法，並無特別限定，例如，於第2補強基板10為金屬之情形時，可使用接著劑進行接著。又，於第2補強基板10為玻璃之情形時，可藉由熱熔合進行接著。然 而，於不使第2補強基板10與第1玻璃層3接合而組裝下述投影機用發光裝置時，亦可使用固定件等使第2補強基板10與第1玻璃層3接觸。
作為第2補強基板10之厚度，並無特別限定，較佳為0.1mm以上，更佳為0.2mm以上，較佳為1.2mm以下，更佳為1mm以下。
於第2補強基板10之厚度為上述下限值以上之情形時，可更進一步提高螢光輪41之機械強度。另一方面，於第2補強基板10之厚度為上述上限值以下之情形時，可使螢光輪41薄型化及輕量化，可更進一步抑制使用時之破損。
於本實施形態中，因設置有第1及第2補強基板5、10，而更進一步提高螢光輪41之機械強度。
(第5實施形態)
圖7係本發明之第5實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖7所示，於螢光輪51中，於第1補強基板5之主面5b上設置有凹部5c。凹部5c形成以第1玻璃層3之主面3a與第1補強基板5包圍之空腔11。其他方面與第1實施形態相同。
於本實施形態中，亦設置有第1補強基板5而提高螢光輪51之機械強度。又，於在第1補強基板5之主面5b上形成有凹部5c之狀態下，可使螢光輪51輕量化，可抑制使用時之破損。
(第6實施形態)
圖8係本發明之第6實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖8所示，於螢光輪61中，螢光體層2之內徑大於第1及第2玻璃層3、4之內徑。又，於徑向上，在螢光體層2之內側設置有插入層12。插入層12與螢光體層2同樣地夾於第1及第2玻璃層3、4。再者，於本實施形態中，插入層12包含與第1及第2玻璃層3、4相同之材料。其他方面與第1實施形態相同。
如本實施形態所示，螢光體層2亦可至少僅設置於激發光6所照 射之區域。又，於本實施形態中，亦因設置有第1補強基板5，故提高螢光輪61之機械強度。
(第7實施形態)
圖9係本發明之第7實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖9所示，於螢光輪71中，在第1玻璃層3之主面3a上設置有第1濾光片層13。另一方面，於第2玻璃層4之主面4a上設置有第2濾光片層14。其他方面與第1實施形態相同。
第1濾光片層13係透過激發光6而反射螢光7之介電體多層膜。又，第2濾光片層14係透過螢光6而反射激發光7之介電體多層膜。藉由第1濾光片層13及第2濾光片層14，可高螢光體層2之發光強度。作為構成第1濾光片層13及第2濾光片層14之介電體多層膜，例如可列舉包含氧化鈮、氧化鈦、氧化鑭、氧化鉭、氧化釔、氧化釓、氧化鎢、氧化鉿、氧化鋁、氮化矽等之高折射率膜、及包含氧化矽等之低折射率膜交替地積層而成之膜。
圖10係表示本發明之第7實施形態之螢光輪的變化例之示意性剖視圖。如圖10中以變化例所示，第1及第2濾光片層13、14亦可分別以覆蓋第1玻璃層3之主面3a及第2玻璃層4之主面4a的整個面之方式設置。
又，於本發明中，在圖9及圖10中，亦可設置有用以減少螢光7之反射率之抗反射膜代替第2濾光片層14。藉由設置上述抗反射膜，可出射更多之螢光7作為出射光。
再者，於本實施形態中，亦因設置有第1補強基板5而提高螢光輪71之機械強度。
(第8及第9實施形態)
圖11係本發明之第8實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖11所示，於螢光輪81中，未設置第2玻璃層4。其他方面與第1實施形態 相同。
圖12係本發明之第9實施形態之螢光輪的示意性剖視圖。如圖12所示，於螢光輪91中，未設置第1及第2玻璃層3、4。其他方面與第1實施形態相同。
於第8及第9實施形態，亦因設置有第1補強基板5，故提高螢光輪81、91之機械強度。
〔投影機用發光裝置〕
圖13係表示使用本發明之第1實施形態之螢光輪的投影機用發光裝置之示意性側視圖。如圖13所示，投影機用發光裝置101具備螢光輪1、光源102、及用以使螢光輪1旋轉之馬達103。環狀之螢光輪1係以將旋轉軸104之中心軸作為旋轉中心而於圓周方向上旋轉之方式安裝於馬達103之旋轉軸104。
自光源102出射之激發光6穿過螢光輪1之第1玻璃層3入射至螢光體層2。入射至螢光體層2之激發光6激發螢光體8，自螢光體8穿過第2玻璃層4出射螢光7。作為光源102之具體例，可列舉LED光源或雷射光源等。
於使用發光藍色光作為激發光6之光源作為光源102之情形時，例如，可使用藉由藍色光激發而發出黃色光、綠色光或紅色光之螢光體作為螢光體層2之螢光體8。
自螢光體層2出射之光可視需要藉由濾光片僅擷取具有所需波長之光。亦可將環狀之濾光片安裝於旋轉軸104，使之與螢光輪1同步旋轉而對出射光進行濾色。
於本實施形態中，螢光輪1於圓周方向上旋轉。因此，自光源102接收激發光6之區域一直移動，即便接收激發光6而加熱，亦立即散熱。因此，可抑制螢光輪1之溫度上升。
又，螢光輪1因如上述般具備第1補強基板5而提高機械強度。因 此，於本實施形態之投影機用發光裝置101中，在使螢光輪1旋轉之情形時，亦不易產生螢光輪1之破損。
如此，本發明係為了解決先前不充分之旋轉使用螢光輪1時之機械強度的問題而成者。
於本實施形態之螢光輪1中，遍及螢光體層2之整個面而含有相同種類之螢光體8。然而，本發明並無限定於此種態樣。亦可將螢光體層2沿圓周方向分割為複數個區域，各區域中含有相互不同種類之螢光體8。
1‧‧‧螢光輪
2‧‧‧螢光體層
3‧‧‧第1玻璃層
4‧‧‧第2玻璃層
5‧‧‧第1補強基板
C‧‧‧中心軸

Claims (13)

  1. 一種投影機用螢光輪，其具備：環狀之螢光體層，其具有作為激發光之入射面之第1主面及與該第1主面對向之第2主面，且藉由激發光之入射而激發並出射螢光；及環狀之第1補強基板，其設置於上述螢光體層之第1及第2主面中之至少一個主面側；且上述第1補強基板之外周緣於徑向上配置於較上述螢光體層之外徑之1/2更外側且較上述激發光之照射區域更內側。
  2. 如請求項1之投影機用螢光輪，其中上述第1補強基板之外周緣於徑向上配置於較上述螢光體層之外徑之2/3更外側。
  3. 如請求項1或2之投影機用螢光輪，其中上述第1補強基板設置於上述螢光體層之第1主面側。
  4. 如請求項1至3中任一項之投影機用螢光輪，其中於上述螢光體層之第1主面上設置有第1玻璃層，且於上述第1玻璃層之與上述第1主面側為相反側之主面上設置有上述第1補強基板。
  5. 如請求項4之投影機用螢光輪，其中於上述螢光體層之第2主面上設置有第2玻璃層。
  6. 如請求項4或5之投影機用螢光輪，其中上述第1及第2玻璃層之厚度分別處於10μm~150μm之範圍。
  7. 如請求項1至6中任一項之投影機用螢光輪，其中上述第1補強基板包含選自金屬、玻璃及陶瓷中之至少1種。
  8. 如請求項7之投影機用螢光輪，其中上述第1補強基板包含金屬。
  9. 如請求項1至8中任一項之投影機用螢光輪，其進而具備第2補強 基板，該第2補強基板於徑向上配置於較上述激發光之照射區域更外側。
  10. 如請求項9之投影機用螢光輪，其中上述第1補強基板與上述第2補強基板之徑向上之間隔為上述激發光的點徑之2倍以上且6倍以下。
  11. 如請求項1至10中任一項之投影機用螢光輪，其中於上述螢光體層之第1主面上設置有透過激發光而反射螢光之第1濾光片層。
  12. 如請求項1至11中任一項之投影機用螢光輪，其中於上述螢光體層之第2主面上設置有透過螢光而反射激發光之第2濾光片層。
  13. 一種投影機用發光裝置，其具備：如請求項1至12中任一項之投影機用螢光輪；及光源，將激發光照射至上述螢光輪之上述螢光體層。
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