TW201630982A - 含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物、其硬化物及具備該硬化物之電子零件或顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物含有:(A)(R13SiO1/2)a(R22SiO)b(R3SiO3/2)c(SiO2)d{式中,取代基之10莫耳%以上為氟烷基;其他取代基為烷基等,a、b、c、d係滿足0≦a≦0.5、0≦b≦0.7、0≦c≦1、0≦d≦0.7、0.3≦c+d≦1、a+b+c+d=1之數}、(B)R43Si(OSiR42)eOSiR43(II){式中,取代基之5莫耳%以上為氟烷基;其他R4中,至少2個為烯基}、(C)有機氫聚矽氧烷、(D)有效量之矽氫化反應用觸媒、及(E)溶劑。根據本發明,可提供一種介電常數較高且透明性亦良好之硬化性組合物、作為其硬化物之感壓接著劑、及顯示裝置。

Description

含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物、其硬化物及具備該硬化物之電子零件或顯示裝置
本發明係關於一種介電常數較高且透明性亦良好之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物、包含作為其硬化物之感壓接著劑之積層體膜、及包含積層體膜之顯示裝置。
聚矽氧烷系感壓接著劑組合物與丙烯酸系或橡膠系之感壓接著劑組合物相比,電絕緣性、耐熱性、耐寒性、對於各種被黏著體之黏著性優異,因此被用於耐熱性黏著帶、電絕緣性黏著帶、熱封膠帶、電鍍遮蔽膠帶等。該等聚矽氧烷系感壓接著劑組合物根據其硬化機制而被分類為加成反應硬化型、縮合反應硬化型、過氧化物硬化型等。由於藉由室溫放置或加熱而迅速硬化,且不產生副產物,故而通用加成反應硬化型之感壓接著劑組合物。
充分利用聚矽氧烷系感壓接著劑之上述特性及較高之透明性,近年來,研究將其應用於智慧型設備等先進電子顯示元件領域。此種設備採用將包括包含電極層、顯示層之複數層之膜夾於透明基材之間之構造,為了保護電極層、顯示層及改良層間之接著性,而期待耐熱、 耐寒性、透明性較高之聚矽氧烷系感壓接著劑有效地發揮作用。
該等智慧型設備中,作為壓力感測器等感測器用途所要求之感壓接著劑之材料特性,除優異之透明性以外,可列舉高介電特性。為了提高感測器感度,必須獲得一定電壓下較高之靜電電容,因此,對於所使用之材料要求較高之相對介電常數。作為相對介電常數較高之聚合物材料,已知有聚偏二氟乙烯及聚偏二氟乙烯系共聚物,該等可用作壓電材料及熱電材料。例如,日本專利特開2010-108490號公報(專利文獻1)中,記載有包含偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之透明壓電片,且記載有將其用於觸控面板。又,日本專利特開2011-222679號公報(專利文獻2)中,記載有除偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物以外,亦將偏二氟乙烯-三氟乙烯共聚物、及聚偏二氟乙烯用作透明壓電片之透明壓電體膜之材料。另一方面,偏二氟乙烯系聚合物因其較高之結晶性而存在用以製造膜等成形品之加工性較差之問題。
另一方面,透明性及加工性優異之通用聚合物材料之相對介電常數通常為2~4之值,但可藉由適當地設計聚合物結構,而將該值提高至5~7或更高。為了提高聚矽氧烷之相對介電常數,已知導入氟烷基作為矽上之取代基之方法較為有效,本發明者等人亦揭示了:含有氟烷基之有機聚矽氧烷硬化物具有較高之相對介電常數,作為轉換器材料較為有用(國際專利公開2014-105959號公報、專利文獻3)。
另一方面,亦已對包含含有氟烷基之有機聚矽氧烷之感壓接著劑進行了研究。例如,美國專利5436303號公報(專利文獻4)中,揭示了一種感壓接著劑,其包含含有R3SiO1/2單元(式中,R為烷基)及SiO4/2單元且具有矽烷醇基之MQ樹脂及氟烷基矽酮。又,國際專利公開1994-6878號公報(專利文獻5)中,記載有包含氟烷基矽酮與乙烯基單體之共聚物、及包含其之耐溶劑性良好之感壓接著劑。該等技術中,成為感壓接著之關鍵之MQ樹脂不具氟烷基,透明性不明,實際上未記 載。另一方面,美國專利7253238號公報(專利文獻6)中,記載有結構被規定之包含R3SiO1/2單元(式中,R為烷基)、R(CH2=CH)SiO2/2單元(式中,R為烷基)、及SiO4/2單元之含有氟烷基之MQ樹脂、及包含其之感壓接著劑。又,日本專利5066078號公報(專利文獻7)中,揭示了製造方法受到限定之含有氟烷基之MQ樹脂、及包含其之感壓接著劑。進而,日本專利特開2010-502781號公報(專利文獻8)中,亦揭示了包含氟烷基矽酮感壓接著劑組合物及矽酮襯墊之積層體。然而,該等感壓接著劑組合物中,僅揭示了過氧化物硬化體系,對於硬化速度較快且幾乎無成形加工時之收縮且容易設定所需之硬化條件之加成型硬化體系,未進行研究。又,對於介電特性,亦未進行研究,既無其記載,亦無暗示。因此,對於透明性優異且相對介電常數較高之加成硬化型之含有氟烷基之有機聚矽氧烷、包含其之感壓接著劑積層體膜、及包含感壓接著劑積層體膜之顯示裝置,迄今為止仍無報告。
另一方面,光學透明之矽酮系感壓接著劑膜及使用其之觸控面板等顯示裝置之製造揭示於日本專利特表2014-522436號(專利文獻9)或日本專利特表2013-512326(專利文獻10)等中,但該等矽酮系感壓接著劑膜之性能仍有改善之餘地。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1:日本專利特開2010-108490號公報
專利文獻2:日本專利特開2011-222679號公報
專利文獻3:國際專利公開2014-105959號公報
專利文獻4:美國專利5436303號公報
專利文獻5:國際專利公開1994-6878號公報
專利文獻6:美國專利7253238號公報
專利文獻7:日本專利5066078號公報
專利文獻8:日本專利特開2010-502781號公報
專利文獻9:日本專利特表2014-522436號公報
專利文獻10:日本專利特表2013-512326號公報
本發明係為了解決上述問題而完成者,其目的在於提供一種含有氟烷基之有機聚矽氧烷組合物,其不損害含有氟烷基之有機聚矽氧烷硬化物之優異之透明性而具有作為感壓接著劑之功能,具有用以製造膜等成形品之良好之加工性,且相對介電常數較高。進而,本發明之目的在於提供一種加成硬化型之含有氟烷基之有機聚矽氧烷組合物,其幾乎無成形加工時之收縮,硬化速度較快,且容易設定所需之硬化條件。進而,本發明之目的在於提供一種該含有氟烷基之有機聚矽氧烷組合物之作為電子材料、顯示裝置用電子構件、尤其是感測器等轉換器材料之用途。
為了解決上述問題,本發明者等人進行銳意研究,結果發現:藉由含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物可解決上述問題,從而完成本發明,該含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物以含有特定量以上之氟烷基之直鏈狀之液狀之含有氟烷基之有機聚矽氧烷、及含有特定量以上之氟烷基之三維樹脂狀之含有氟烷基之有機聚矽氧烷為主成分,且可藉由使用有機氫聚矽氧烷之加成反應而硬化。該含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物之硬化物可用作透明性優異且相對介電常數較高之新穎之感壓接著劑材料。再者,本發明者等人發現:於上述氟烷基為三氟丙基時,可更佳地解決上述問題,且於上述有機氫聚矽氧烷為分子中具有三氟丙基之樹脂狀之有機氫聚矽氧烷之情形時,可進而較佳地解決上述問題,從而完成本發明。
即,本發明之第1目的係藉由[1]含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物而解決,該含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物含有: (A)平均單元式(I)所表示之有機聚矽氧烷 相對於(A)~(D)成分之和為1~80質量%;(R1 3SiO1/2)a(R2 2SiO)b(R3SiO3/2)c(SiO2)d (I)
{式中,R1、R2及R3所表示之矽原子上之全部取代基之10莫耳%以上為(CpF2p+1)-R-(R為碳原子數1~10之伸烷基,p為1以上且8以下之整數)所表示之氟烷基;R1、R2及R3所表示之取代基相同或獨立地為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數2~12之烯基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基,a、b、c、d係滿足0≦a≦0.5、0≦b≦0.7、0≦c≦1、0≦d≦0.7、0.3≦c+d≦1、a+b+c+d=1之數}
(B)平均單元式(II)所表示之有機聚矽氧烷 相對於(A)~(D)成分之和為20~99質量%;R4 3Si(OSiR4 2)eOSiR4 3 (II)
{式中,R4所表示之矽原子上之全部取代基之5莫耳%以上為(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基;R4相同或獨立地為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數2~12之烯基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基,且全部R4中,至少2個為碳數2~12之烯基,e為滿足5<e<100,000之數}
(C)分子中具有至少2個鍵結矽之氫原子之有機氫聚矽氧烷 本成分中之鍵結矽之氫原子相對於(A)成分與(B)成分之烯基之合計量1莫耳為0.1~40莫耳之量; (D)有效量之矽氫化反應用觸媒;及 (E)溶劑 相對於(A)~(D)成分之和100質量份為0~2000質量份。較佳為,本發明之第1目的係藉由下述組合物而解決。
[2]如[1]之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中於上述平均單元式(I)中,c為0<c≦1之範圍之數。
[3]如[1]或[2]之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(A)成分為不含碳數2~12之烯基之有機聚矽氧烷。
[4]如[1]至[3]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(A)成分及(B)成分中之由(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基為三氟丙基。
尤佳為,本發明之第1目的係藉由(C)成分如下之下述組合物而解決。
[5]如[1]至[4]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(C)成分為具有含氟基之有機氫聚矽氧烷。
[6]如[1]至[5]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(C)成分為分子中具有(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基之有機氫聚矽氧烷。
[7]如[1]至[6]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(C)成分為分子中具有三氟丙基之樹脂狀之有機氫聚矽氧烷。
本發明之第2目的係作為感壓接著劑之使用,藉由以下發明而達成。
[8]一種感壓接著劑組合物,其包含如[1]至[7]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物。
[9]一種硬化物,其係使如[1]至[7]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
[10]一種感壓接著劑層,其係使如[1]至[7]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
[11]如[10]之感壓接著劑層,其為膜狀,且實質上透明。
本發明之第3目的係具備包含本發明之硬化性組合物之硬化層之積層體及其用途,藉由以下發明而達成。
[12]一種積層體,其於膜狀基材上具備使如[1]至[7]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層。
[13]如[12]之積層體,其中上述硬化層為感壓接著劑層,於膜狀基材設置有針對該感壓接著劑層之剝離層。
本發明之第4目的係包含本發明之硬化性組合物之硬化物之作為電子材料或顯示裝置用構件之用途、及包含其之電子零件/顯示裝置,藉由以下發明而達成。
[14]一種電子材料或顯示裝置用構件,其係使如[1]至[7]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
[15]一種電子零件或顯示裝置,其包含如[14]之電子材料或顯示裝置用構件。
[16]一種顯示面板或顯示器,其包含如[11]之膜狀且實質上透明之感壓接著劑層。
本發明之第5目的係使用包含本發明之硬化性組合物之硬化物之觸控面板,藉由以下發明而達成。
[17]一種觸控面板,其包含:基材,其於一面形成有導電層;及硬化層,其係使附著於上述基材之導電層之如[1]至[7]中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成;且上述硬化層附著於上述導電層。
[18]如[17]之觸控面板,其中上述形成有導電層之基材係於一面形成有ITO(Indium Tin Oxides,氧化銦錫)層之樹脂膜或玻璃。
根據本發明,可提供一種硬化物之透明性優異,可用作感壓接著劑,膜狀等成形加工性良好,且相對介電常數較高之含有氟烷基之有機聚矽氧烷組合物。該含有氟烷基之有機聚矽氧烷組合物為加成硬化型,具有如下優點:幾乎無成形加工時之收縮,硬化速度較快,容易設定所需之硬化條件。使用此種含有氟烷基之有機聚矽氧烷組合物而成之感壓接著層、尤其是感壓接著膜具有如下優點:可較佳地用於作為電子材料、顯示裝置用電子構件、尤其是感測器等轉換器材料之用途,尤其可提供一種包含該感壓接著膜之觸控面板等顯示裝置。
以下,對本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物詳細地進行說明。本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物係含有以下(A)~(D)成分而成者,首先,對各成分進行說明。
[(A)成分]
(A)成分係平均單元式(I)所表示之具有一定量以上之氟烷基,且以R3SiO3/2單元(3官能性矽烷氧基單元)或SiO2單元(4官能性矽烷氧基單元)為必須組成之樹脂狀之有機聚矽氧烷。由於(A)成分具有一定量之氟烷基,故而與同樣具有氟烷基之(B)成分之親和性優異,從而提供透明性優異且具有相對較高之相對介電常數之硬化物。進而,由於(A)成分具有三維樹脂狀結構,故而可對所獲得之硬化物賦予感壓接著特性。
具體而言,平均單元式:(R1 3SiO1/2)a(R2 2SiO)b(R3SiO3/2)c(SiO2)d (I)
式中,R1、R2及R3所表示之矽原子上之全部取代基之10莫耳%以 上、較佳為20莫耳%以上、更佳為40莫耳%以上為(CpF2p+1)-R-(R為碳原子數1~10之伸烷基,p為1以上且8以下之整數)所表示之氟烷基。若氟烷基之含量未達上述下限,則與下述(B)成分之親和性降低,使硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而獲得之硬化物之透明性及相對介電常數降低,故而欠佳。再者,於(CpF2p+1)-R-所表示之氟烷基中之氟原子之含量較高、即p之值較大、例如p≧4,且作為R之伸烷基之碳原子數較少之情形時,即便上述氟烷基之含量為接近上述範圍之下限之值,亦可達成本發明之技術效果。尤其,若考慮與(B)成分之親和性及相對介電常數,則(A)成分中之氟原子之含有率較佳為10質量%以上。再者,於選擇三氟丙基作為氟烷基之情形時,設為上述R1、R2及R3所表示之矽原子上之全部取代基之40莫耳%以上、尤其是50莫耳%以上係本發明之最佳之形態之一。
(CpF2p+1)-R-所表示之氟烷基係本發明之(A)成分、(B)成分中之必需之官能基,且於(C)成分中亦為較佳之官能基。該氟烷基提供相對介電常數優異之硬化物,且藉由各成分具有氟原子而改善各成分之相溶性,提供透明性優異之硬化物。作為此種氟烷基之具體例,為三氟丙基、五氟丁基、七氟戊基、九氟己基、十一氟庚基、十三氟辛基、十五氟壬基、十七氟癸基。其中,就感壓接著性、經濟性、製造容易性、所獲得之硬化性有機聚矽氧烷組合物之成形加工性之觀點而言,p=1之基、即三氟丙基為較佳之基。
R1、R2及R3所表示之取代基相同或獨立地為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數2~12之烯基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基。作為碳數1~12之烷基,若考慮經濟性、耐熱性,則較佳為甲基。作為碳數2~12之烯基,就經濟性、反應性之觀點而言,較佳為乙烯基、烯丙基、己烯基、辛烯基,可更佳地使用乙烯基及己烯基。又,作為碳數6~20之芳基,就經濟性之觀點而 言,較佳為苯基、甲基苯基(甲苯基)基、萘基。作為碳數7~20之芳烷基,可較佳地使用苄基、苯乙基。進而,作為碳數1~6之烷氧基,較佳為甲氧基、乙氧基、正丙氧基。再者,較佳為,R1、R2及R3所表示之矽原子上之全部取代基之一定量以上為上述氟烷基,其以外為甲基、苯基或羥基。
就控制硬化物之感壓接著性之觀點而言,本發明之(A)成分較佳為實質上不含碳數2~12之烯基之有機聚矽氧烷。具體而言,R1、R2及R3所表示之取代基為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基,較佳為碳數2~12之烯基為全部取代基之1莫耳%以下、0.5莫耳%以下或0.1莫耳%以下,更佳為完全不含碳數2~12之烯基。其原因在於:不含該等官能基之有機聚矽氧烷中,容易控制硬化後作為感壓接著劑之功能。
本發明之(A)成分係以R3SiO3/2單元(3官能性矽烷氧基單元)或SiO2單元(4官能性矽烷氧基單元)為必須組成之樹脂狀之有機聚矽氧烷,平均單元式(I)中,a、b、c、d係滿足0≦a≦0.5、0≦b≦0.7、0≦c≦1、0≦d≦0.7、0.3≦c+d≦1、a+b+c+d=1之數。尤其,3官能性矽烷氧基單元及4官能性矽烷氧基單元之合計相對於全部矽烷氧基單元之比率、即c+d之範圍必須為0.30以上,較佳為0.40以上、0.50以上或0.60以上,尤佳為0.65~0.99之範圍。進而,本發明之(A)成分較佳為一併具有3官能性矽烷氧基單元及4官能性矽烷氧基單元,且0<c≦1且0<d≦0.7,尤佳為具有一定量之3官能性矽烷氧基單元(0.1≦c≦1)。
即,a、b、c、d更佳為滿足0≦a≦0.50、0≦b≦0.50、0.10≦c≦0.95、0.05≦d≦0.50、0.65≦c+d≦0.99、a+b+c+d=1之數。尤其,可為b=0,且可為0.01≦a≦0.50。
關於本發明之(A)成分之分子量,並無特別限制,但較佳為藉由凝膠滲透層析法所測得之重量平均分子量為500以上、更佳為800以上、 或1,000以上。其原因在於:於該分子量小於上述下限之情形時,有使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而獲得之硬化物之黏著性或接著性變得不充分,而無法作為感壓接著劑發揮功能之情形。
本發明之(A)成分可為滿足上述要件之1種有機聚矽氧烷,又,亦可為至少2種有機聚矽氧烷之混合物。於為至少2種有機聚矽氧烷之情形時,只要其混合物為上述平均單元式所表示者即可,更佳為各有機聚矽氧烷為滿足上述要件之平均單元式(I)所表示之有機聚矽氧烷。
作為本發明之(A)成分之具體例,可列舉:包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2ViSiO1/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2ViSiO1/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2ViSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2ViSiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO//2)單元、(TfpSiO3/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2ViSiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單 元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2PhSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(Me3SiO1/2)單元、(Me2SiO2/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(Me3SiO1/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(Me3SiO1/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(TfpSiO3/2)單 元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MePhSiO2/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(MeSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(PhSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(Me2SiO2/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(MePhSiO2/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(TfpMe2SiO1/2)單元、(MeTfpSiO2/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷等。此處,Me表示甲基,Ph表示苯基,Vi表示乙烯基,Tfp表示三氟丙基。再者,就控制感壓接著性之觀點而言,較佳為不含乙烯基等烯基之聚矽氧烷。
本發明之(A)成分較佳為包含該等矽烷氧基單元之1種以上之有機聚矽氧烷或其混合物,作為尤佳之例,可列舉:(Me3SiO1/2)a(TfpSiO3/2)c(SiO4/2)d
所表示之有機聚矽氧烷。此處,a、c、d為與上述相同之數,尤佳為滿足0.01≦a≦0.50、0.10≦c≦0.95、0.05≦d≦0.50、0.65≦c+d≦0.99、a+c+d=1之數。再者,關於其較佳之分子量,藉由凝膠滲透 層析法所測得之重量平均分子量為500以上,更佳為800以上、或1,000以上。
本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物中之(A)成分之使用量(調配量)相對於(A)~(D)成分之和(將整體設為100質量%)為1~80質量%之範圍,就作為感壓接著劑之性能之觀點而言,較佳為10~75質量%,較佳為20~70質量%,更佳為25~65質量%之範圍。其原因在於:若(A)成分之使用量為上述範圍內,則使本組合物硬化而成之硬化物之力學強度足夠高,且該硬化物作為感壓接著劑發揮功能。
本發明之(A)成分係可形成(R1 3SiO1/2)單元之前驅物化合物、可形成(R2 2SiO)單元之前驅物化合物、可形成(R3SiO3/2)單元之前驅物化合物、及可形成(SiO2)單元之前驅物化合物之混合物,於酸性或鹼性化合物之存在下、或該兩者之存在下、或非存在下,藉由至少包括水解及縮合反應之公知之反應而製造。
作為可形成(R1 3SiO1/2)單元之前驅物化合物,可例示R1 3SiCl、(R1 3Si)2O、及R1 3SiOMe。此處,Me表示甲基。作為可形成(R2 2SiO)單元之前驅物化合物,可例示R2 2SiCl2、R2 2Si(OMe)2、HO(R2 2SiO)nH、及(R2 2SiO)x[x為3~8之整數]。又,作為可形成(R3SiO3/2)單元之前驅物化合物,可例示R3SiCl3及R3Si(OMe)3。進而,作為可形成(SiO2)單元之前驅物化合物,可例示SiCl4、Si(OMe)4、Si(OEt)4、及該等四烷氧基矽烷之部分水解縮合物。此處,Et表示乙基。
水解反應例如可於鹽酸、硫酸、三氟乙酸、對甲苯磺酸、或三氟甲磺酸等強酸觸媒存在下進行。水解之反應溫度較佳為-10~100℃,更佳為20~80℃。此時,通常亦同時進行縮合反應。為了使該縮合反應順利地進行,亦可一面將藉由上述水解而生成之副產物(醇、鹵化氫等)去除至反應系外,一面進行反應。又,亦可於縮合反應之中途向該反應混合物中添加鹼性化合物而使反應系內成為鹼性,藉此進一步進 行縮合反應。作為此時之鹼性化合物,可例示氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銫等。
縮合反應結束後,為了對反應系內進行中和,推薦添加鹼性化合物或酸性化合物。於反應系內為酸性之情形時,例如可使用氫氧化鉀、碳酸氫鈉、碳酸鈉、及碳酸鉀等鹼性無機鹽;以及三乙胺、三丁胺、氨、及吡啶等有機鹼。該等鹼性化合物之使用量較佳為中和當量以上。另一方面,於反應系內為鹼性之情形時,例如可使用乙酸、甲酸、檸檬酸、磷酸、草酸、二氧化碳、乾冰等對反應系內進行中和。藉由中和之步驟而生成之鹽類可藉由有機相與水相之間之萃取操作或濾取操作而容易地去除。
[(B)成分]
(B)成分係平均單元式(II)所表示之具有一定量以上之氟烷基,具有至少2個烯基,且具有特定之分子鏈長之直鏈狀之有機聚矽氧烷。由於(B)成分具有一定量之氟烷基,故而與同樣具有氟烷基之(A)成分之親和性優異,從而提供透明性優異且具有相對較高之相對介電常數之硬化物。進而,由於(B)成分於分子中具有至少2個烯基,故而藉由與(C)成分之加成反應(矽氫化反應)進行交聯,從而提供成形性及反應控制性及透明性優異之硬化物。
具體而言,平均單元式:R4 3Si(OSiR4 2)eOSiR4 3 (II)
式中,R4所表示之矽原子上之全部取代基之5莫耳%以上、較佳為10莫耳%以上、更佳為15莫耳%以上為(CpF2p+1)-R-(R為碳原子數1~10之伸烷基,p為1以上且8以下之整數)所表示之氟烷基。此處,氟烷基之種類及較佳之例示與(A)成分中之氟烷基相同,最佳為三氟丙基。若氟烷基之含量未達上述下限,則與上述(A)成分之親和性降低,使硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而獲得之硬化物之透明性及相對介電常數 降低,故而欠佳。
R4所表示之取代基相同或獨立地為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數2~12之烯基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基,可例示與上述相同之基。此處,為了對使本發明之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而獲得之硬化物賦予實用之力學強度,R4所表示之取代基中,至少2個為碳數2~12之烯基,就經濟性、反應性之觀點而言,較佳為乙烯基、烯丙基、己烯基、辛烯基,可更佳地使用乙烯基及己烯基。即,R4所表示之矽原子上之全部取代基之一定量以上為上述氟烷基,至少2個為碳數2~12之烯基,其以外之基為上述之烷基等。較佳為,(B)成分中之碳數2~12之烯基之含量可為0.01~1.00質量%、0.02~0.25質量%,上述氟烷基及碳數2~12之烯基以外之基較佳為甲基、苯基或羥基。
式中,e之值為滿足5<e<100,000之數,較佳為20<e<10,000,更佳為25<e<5,000。若e之值不處於該範圍內,則有所獲得之硬化性有機聚矽氧烷組合物之成形加工性變差,或所獲得之硬化物之力學強度變得不充分之情形。作為(B)成分之有機聚矽氧烷之聚合度可由使用29Si-NMR所得之峰值強度之積分比決定。
本發明之(B)成分可為滿足上述要件之1種有機聚矽氧烷,又,亦可為至少2種有機聚矽氧烷之混合物。於為至少2種有機聚矽氧烷之情形時,只要其混合物為上述平均單元式所表示者即可,更佳為各有機聚矽氧烷為滿足上述要件之平均單元式(II)所表示之有機聚矽氧烷。
作為本發明之(B)成分之具體例,可列舉:兩封端三甲基矽烷基-聚二甲基甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端三甲基矽烷基-聚甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基乙烯基矽烷基-聚二甲基甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基乙烯基矽烷基-聚二甲基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲 基矽烷基-聚甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚二甲基甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基苯基矽烷基-聚甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基苯基矽烷基-聚二甲基甲基乙烯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基乙烯基矽烷基-聚二甲基甲基乙烯基甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基乙烯基矽烷基-聚甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基乙烯基矽烷基-聚二甲基甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚甲基乙烯基甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚二甲基甲基乙烯基甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基乙烯基矽烷基-聚甲基三氟丙基矽氧烷等。
本發明之(B)成分係可形成(R1 3SiO1/2)單元之前驅物化合物及可形成(R1 2SiO)單元之前驅物化合物之混合物,於酸性或鹼性化合物之存在下、或該兩者之存在下、或非存在下,藉由通常公知之反應、即包括水解及縮合反應之反應、或包括開環及聚合末端封端之反應、或組合該等之反應而製造。
作為可形成(R1 3SiO1/2)單元之前驅物化合物,可例示R1 3SiCl、(R1 3Si)2O、及R1 3SiOMe。此處,Me表示甲基。作為可形成(R1 2SiO)單元之前驅物化合物,可例示R1 2SiCl2、R1 2Si(OMe)2、HO(R1 2SiO)nH、及(R1 2SiO)x[x為3~8之整數]。
本發明之組合物中之(B)成分係硬化性組合物之主劑,其使用量相對於(A)~(D)成分之和(將整體設為100質量%)為20~99質量%之量,較佳為30~80質量%,更佳為40~70質量%。其原因在於:若為上述範圍之上限以下,則使本組合物硬化而成之硬化物之力學強度足夠高,另一方面,若為上述範圍之下限以上,則該硬化物作為感壓接著劑發揮功能。
[(C)成分]
(C)成分係本發明組合物之交聯劑,為分子中具有至少2個鍵結矽之氫原子之有機氫聚矽氧烷。該有機氫聚矽氧烷可具有氟原子亦可不具有,較佳為具有含氟基之有機氫聚矽氧烷。
作為(C)成分之有機氫聚矽氧烷之分子結構並無特別限定,可為直鏈狀、環狀、樹脂狀、及局部具有支鏈之直鏈狀中之任一者,可為具有T單元(即YSiO3/2,Y為鍵結矽之氫原子、一價有機基(包含含有氟原子之有機基)、羥基或烷氧基)或Q單元(即SiO4/2)者。又,黏度亦無特別限定,就操作之容易性而言,於依據JIS K7117-1使用B型黏度計進行測定之情形時,25℃下之黏度較佳為1~100,000mPa‧s之範圍。就與(A)成分及(B)成分之混合容易性之觀點而言,較佳為於常溫下為液狀,尤佳為矽原子數2~300之有機氫聚矽氧烷。
對於具有鍵結矽之氫原子之矽氧烷單元,亦無限制,可為(R2HSiO1/2)單元、(RHSiO2/2)單元及(HSiO3/2)單元中之任一單元,但分子中必須具有至少2個鍵結矽之氫原子。此處,R為於有機聚矽氧烷(A)中可使用之相同或不同之碳數1~12之烷基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、碳數1~6之烷氧基、及(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基。
就提高與(A)成分及(B)成分之親和性及使本發明之硬化性組合物硬化而獲得之硬化物之相對介電常數之觀點而言,作為(C)成分之有機氫聚矽氧烷較佳為於分子中具有含氟基、較佳為上述氟烷基、尤其是三氟丙基。氟烷基之含量並無特別限定,可於1分子中具有全部有機基中之較佳為5~75莫耳%、更佳為10~70莫耳%、進而較佳為20~60莫耳%之含有氟原子之有機基。
作為較佳之(C)成分,可列舉:包含M單元(即R6 3SiO1/2)及T單元(R6SiO3/2)之樹脂狀有機聚矽氧烷、包含M單元及D單元(R6 2SiO2/2)之線 性有機聚矽氧烷、以及包含M單元、D單元及T單元或Q單元之樹脂狀有機聚矽氧烷。作為包含M單元及T單元之有機聚矽氧烷,例如可列舉M單元之R6之一部分或全部為氫原子,T單元之R6之一部分或全部具有含有氟原子之有機基、例如3,3,3-三氟丙基者。作為包含M單元及D單元之有機聚矽氧烷,例如可列舉M單元之R6之至少一部分為氫原子,D單元之R6之一部分或全部具有上述氟烷基、尤其是3,3,3-三氟丙基者。作為包含M單元、D單元及T單元之有機聚矽氧烷,可列舉M單元之R6之一部分或全部為氫原子,D單元及T單元之R1之一部分或全部為上述氟烷基、例如3,3,3-三氟丙基者。
作為具體例,可列舉:兩封端三甲基矽烷基-聚二甲基甲基氫矽氧烷共聚物、兩封端三甲基矽烷基-聚甲基氫矽氧烷、兩封端三甲基矽烷基-聚二甲基甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端三甲基矽烷基-聚甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚二甲基甲基氫矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚二甲基矽氧烷、兩封端二甲基氫矽烷基-聚二甲基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚二甲基甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚甲基三氟丙基矽氧烷、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚甲基氫矽氧烷、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚二甲基甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基苯基矽烷基-聚甲基氫矽氧烷、兩封端二甲基苯基矽烷基-聚甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基苯基矽烷基-聚二甲基甲基氫甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚二甲基甲基苯基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚二甲基甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基氫矽烷基-聚甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲基矽烷基- 聚甲基氫甲基苯基矽氧烷共聚物、兩封端羥基二甲基矽烷基-聚甲基氫甲基苯基甲基三氟丙基矽氧烷共聚物、兩封端二甲基三氟丙基矽烷基-聚二甲基甲基氫矽氧烷共聚物、兩封端二甲基三氟丙基矽烷基-聚甲基氫矽氧烷、二甲基甲基氫環狀聚矽氧烷、甲基氫環狀聚矽氧烷、甲基氫甲基三氟丙基環狀聚矽氧烷、二甲基甲基氫甲基三氟丙基環狀聚矽氧烷、甲基苯基甲基氫甲基三氟丙基環狀聚矽氧烷、1,1,3,5,5-五甲基-3-三氟丙基三矽氧烷、三(二甲基矽烷氧基矽烷基)三氟丙基矽烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2HSiO1/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(Me2HSiO1/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me3SiO1/2)單元、(MeHSiO2/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元、(MeHSiO2/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(MeSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元及(PhSiO3/2)單元之聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元、(TfpSiO3/2)單元及(SiO4/2)單元之聚矽氧烷等。該等既可單獨使用1種,又,亦可為至少2種有機聚矽氧烷之混合物。此處,Me表示甲基,Ph表示苯基,Tfp表示三氟丙基。
較佳之(C)成分係樹脂狀之有機氫聚矽氧烷,可例示包含(Me2HSiO1/2)單元及(TfpSiO3/2)單元之樹脂狀之有機氫聚矽氧烷、包含(Me2HSiO1/2)單元及(SiO4/2)單元之樹脂狀之有機氫聚矽氧烷。(Me2HSiO1/2)單元相對於(TfpSiO3/2)單元或(SiO4/2)單元之莫耳比尤佳為1.0~2.0之範圍。
本發明之(C)成分可藉由公知之製造方法進行製造,例如使用具有含有或不含氟原子之有機基及/或反應性官能基之烷氧基矽烷類、氯矽 烷類、或矽氧烷類,於酸性或鹼性化合物之存在下、或該兩者之存在下、或非存在下,藉由至少包括水解及縮合反應之反應、或包括開環聚合之反應進行製造。尤其,具有氟烷基之(C)成分可藉由使用具有氟烷基之烷氧基矽烷類作為原料之至少包括水解及縮合反應之方法、或包括開環聚合反應之方法進行製造。
本發明之組合物中之(C)成分之使用量係相對於(A)成分與(B)成分之烯基之合計量1莫耳,本成分中之鍵結矽之氫原子成為0.1~40莫耳之量。若(C)成分之使用量為上述範圍外,則有本組合物之硬化變得不充分或硬化後之硬化物之力學強度降低之情形。較佳之(C)成分之使用量取決於(B)成分之分子量,為相對於(A)成分與(B)成分之烯基之合計量1莫耳,本成分中之鍵結矽之氫原子成為0.5~20莫耳之量。有(B)成分之分子量越大,(C)成分之較佳之使用量越大之傾向。於(A)成分不含烯基,(B)成分之聚合度e為100~1000之範圍之情形時,(C)成分較佳為相對於(B)成分之烯基之合計量1莫耳,本成分中之鍵結矽之氫原子處於0.5~5.0莫耳之範圍,尤佳為0.5~3.0莫耳之範圍。
[(D)成分]
作為(D)成分之矽氫化反應用觸媒只要可促進矽氫化反應,則不限定於特定者。作為矽氫化反應觸媒,至今已知多種金屬及化合物,可自其等中適當選擇而用於本發明。作為矽氫化反應觸媒之例,具體而言,可列舉吸附於二氧化矽細粉末或碳粉末載體上之微粒子狀鉑、氯鉑酸、醇改性氯鉑酸、氯鉑酸之烯烴錯合物、氯鉑酸與乙烯基矽氧烷之配位化合物、鉑黑、鈀、及銠觸媒。
矽氫化反應用觸媒之使用量係有效量,只要為促進本發明之硬化性有機聚矽氧烷組合物之硬化之量,則無特別限定。具體而言,為相對於(A)~(D)成分之和(將整體設為100質量%),該觸媒中之金屬原子以質量單位計成為0.01~1,000ppm、較佳為(D)成分中之鉑金屬原子成 為0.1~500ppm之範圍內之量。其原因在於:若(D)成分之含量未達上述範圍之下限,則有硬化變得不充分之情形,若超過上述範圍之上限,則有不經濟且所獲得之硬化物之著色等對透明性產生不良影響之情形。
[(E)溶劑]
本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物可直接供於硬化反應,但另一方面,於該組合物為固形狀或黏稠液狀之情形時,為了提高其混和性及操作性,視需要亦可使用有機溶劑。尤其,於將本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物塗佈成膜狀之情形時,較佳為使用溶劑將黏度調整為整體黏度成為100~10,000mPa‧s之範圍,於利用溶劑進行稀釋之情形時,能夠以相對於上述(A)~(D)成分之和(100質量份)為0~2000質量份之範圍使用。即,於本發明組合物中,(E)溶劑亦可為0質量份。
作為此處使用之有機溶劑,只要為可使組合物中之全部構成成分或一部分構成成分溶解之化合物,則其種類無特別限定,可較佳地使用沸點為80℃以上且未達200℃者。例如,可列舉:異丙醇、第三丁醇、環己醇、環己酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲苯、二甲苯、均三甲苯、1,4-二烷、二丁醚、苯甲醚、4-甲基苯甲醚、乙基苯、乙氧基苯、乙二醇、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、2-甲氧基乙醇(乙二醇單甲醚)、二乙二醇二甲醚、二乙二醇單甲醚、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、乙酸1-乙氧基-2-丙酯、八甲基環四矽氧烷、及六甲基二矽氧烷等非鹵素系溶劑、三氟甲基苯、1,2-雙(三氟甲基)苯、1,3-雙(三氟甲基)苯、1,4-雙(三氟甲基)苯、三氟甲基氯苯、三氟甲基氟苯、氫氟醚等鹵素系溶劑。該等有機溶劑既可單獨使用,亦可混合兩種以上而使用。硬化性組合物中之氟烷基含量越高,越需提高上述鹵素系溶劑之使用比率。
關於此處使用之有機溶劑之量,於將上述(A)~(D)成分之和設為 100質量份時,較佳為0~2,000質量份之範圍,更佳為5~500質量份、10~300質量份。
本組合物之25℃下之黏度並無特別限定,較佳為100~100,000mPa‧s之範圍內,進而較佳為300~10,000mPa‧s,尤佳為1,000~8,000mPa‧s之範圍內。亦能夠以設定為較佳之黏度範圍為目的而調整上述有機溶劑之使用量。
本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物中,除上述成分以外,可於不損害本發明之目的之範圍內視需要添加調配該等以外之成分。作為其他成分,可例示矽氫化反應抑制劑、接著性提高劑、耐熱性提高劑、填充劑、顏料及其他先前公知之各種添加劑。例如,亦能夠以調整整體之黏度或提高介電性等功能性改善為目的而調配無機填充劑。
矽氫化反應抑制劑係為了抑制(A)、(B)及(C)成分之間發生之交聯反應,延長常溫下之使用壽命,提高保存穩定性而調配者。因此,對於本發明之硬化性組合物而言,為於實用上必然調配之成分。
作為矽氫化反應抑制劑,可例示乙炔系化合物、烯炔化合物、有機氮化合物、有機磷化合物、肟化合物。具體而言,可例示:3-甲基-1-丁炔-3-醇、3,5-二甲基-1-己炔-3-醇、3-甲基-1-戊炔-3-醇、1-乙炔基-1-環己醇、苯基丁炔醇等炔醇;3-甲基-3-戊烯-1-炔、3,5-二甲基-1-己炔-3-炔等烯炔化合物;1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四乙烯基環四矽氧烷、1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四己烯基環四矽氧烷等甲基烯基環矽氧烷;苯并三唑。
矽氫化反應抑制劑之調配量係對於延長本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物之常溫下之使用壽命且提高保存穩定性有效之量。通常,每100質量%成分(A)為0.001~5質量%之範圍內,較佳為0.01~2質量%之範圍內,只要根據本成分之種類、鉑系觸媒之性能 與含量、(A)成分與(B)成分中之烯基量、(C)成分中之鍵結矽之氫原子量等適當選定即可。
接著性提高劑係用以提高與本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物於硬化途中接觸之基材之接著性者。於不將具有作為該組合物之硬化物之感壓接著劑層之感壓接著帶或片再剝離之情形時,為有效之添加劑。作為接著性提高劑,可例示乙烯基三乙氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等有機官能性烷氧基矽烷化合物、其矽氧烷衍生物。
作為其他任意成分,於不損害本發明之技術效果之範圍內可例示:酚系、醌系、胺系、磷系、亞磷酸酯系、硫系、硫醚系等抗氧化劑;三唑系、二苯甲酮系等光穩定劑;磷酸酯系、鹵素系、磷系、銻系等難燃劑;包含陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑等之1種以上之抗靜電劑;染料、顏料等。
本發明之組合物中,視需要可使用填充劑,亦可不使用。於使用填充劑之情形時,可使用無機填充劑及有機填充劑之任一者或兩者。所使用之填充劑之種類並無特別限定,例如可列舉高介電性填充劑、導電性填充劑、絕緣性填充劑及補強性填充劑,可使用該等中之1種以上。尤其,本發明之組合物中,可於不損害其透明性、塗佈性及處理作業性之範圍內以黏度之調整或功能性之賦予為目的而含有選自由高介電性填充劑、導電性填充劑、絕緣性填充劑及補強性填充劑所組成之群中之1種以上之填充劑。亦可藉由1種以上之表面處理劑對填充劑之一部分或全部進行表面處理。
填充劑可為1種或2種以上,其形狀無特別限定,可使用粒子狀、板狀、針狀、纖維狀等任意之形狀。於填料之形狀為粒子之情形時,填料之粒徑並無特別限定,例如於藉由雷射光繞射法進行測定之情形 時,其體積平均粒徑例如可設為0.001~500μm之範圍。又,根據填料之使用目的,填料之體積平均粒徑可設為300μm以下、200μm以下、100μm以下、10μm以下、或0.01μm以上、0.1μm以上、1μm以上。於填料之形狀為板狀、針狀、纖維狀等各向異性之情形時,填料之縱橫比可為1.5以上、5以上、或10以上。若使用體積平均粒徑為0.01μm以下且最大粒子之粒徑為0.02μm以下之微粒子,則可製造實質上透明性較高之硬化物、尤其是感壓接著膜。
本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物可藉由如下方式製備:將上述(A)~(D)成分均勻地混合,又,視需要添加其他任意之成分,並均勻地混合。使用各種攪拌機或混練機於常溫下混合即可,但若為於混合中不硬化之成分之組合,則亦可於加熱下進行混合。
只要於混合中不硬化,則各成分之調配順序無特別限制。於混合後不立即使用時,較佳為以(C)成分與(D)成分不存在於同一容器內之方式分為複數個容器進行保管,於即將使用之前將全部容器內之成分混合。
本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物之硬化反應通常藉由將該組合物加熱或曝於活性能量線下而達成。利用熱之硬化反應溫度無特別限定,較佳為50℃以上且200℃以下,更佳為60℃以上且200℃以下,進而較佳為80℃以上且180℃以下。又,硬化反應所花費之時間取決於上述(A)、(B)、(C)成分之結構,通常為1秒以上且3小時以下。通常,可藉由於90~180℃之範圍內保持10秒~30分鐘而獲得硬化物。
作為可用於硬化反應之活性能量線,可列舉紫外線、電子束、及放射線等,就實用性方面而言,較佳為紫外線。於利用紫外線進行硬化反應之情形時,較理想為添加對於所使用之紫外線具有較高之活性之矽氫化反應用觸媒、例如雙(2,4-戊二酸基)鉑錯合物、(甲基環戊二 烯基)三甲基鉑錯合物。作為紫外線產生源,較佳為高壓水銀燈、中壓水銀燈、氙汞燈、及深UV(ultraviolet,紫外線)燈等,此時之照射量較佳為100~8,000mJ/cm2
本發明之硬化物之特徵在於使上述含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。硬化物之形狀無特別限定,例如可列舉片狀、膜狀、帶狀。
[作為感壓接著劑層之使用]
本發明之硬化物尤其可用作實質上透明之感壓接著劑層。此處,所謂實質上透明,意指於形成厚度10~1000μm之膜狀之硬化物之情形時,目視時為透明,大體而言,於將空氣之值設為100%之情形時,波長450nm之光之透過率為80%以上。
本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物可於塗佈於膜狀基材、帶狀基材、或片狀基材(以下,稱作「膜狀基材」)之後,於上述溫度條件下進行加熱而使其硬化,藉此於上述基材之表面形成感壓接著劑層。於該等膜狀基材上具備使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層、尤其是膜狀之感壓接著劑層的積層體亦可用於黏著帶、絆創膏、低溫支持體、轉印膜、標籤、徽章及裝飾或說明用之標示。進而,使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層亦可用於汽車零件、玩具、電子電路、或鍵盤之組裝。或者,使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層、尤其是膜狀之感壓接著劑層亦可用於積層觸控屏幕或平板顯示器之構建及利用。
作為基材之種類,可例示紙板、瓦楞紙、黏土塗層紙、聚烯烴層壓紙、尤其是聚乙烯層壓紙、合成樹脂膜、片、天然纖維布、合成纖維布、人工皮革布、金屬箔。尤佳為合成樹脂膜、片,作為合成樹脂,可例示聚醯亞胺、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯 乙烯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、尼龍。尤其於要求耐熱性之情形時,較佳為聚醯亞胺、聚醚醚酮、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、液晶聚芳酯、聚醯胺醯亞胺、聚醚碸等耐熱性合成樹脂之膜。另一方面,於顯示裝置等要求視認性之用途中,較佳為透明基材、具體而言為聚丙烯、聚苯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、PEN等透明材料。
上述基材較佳為膜狀或片狀。其厚度並無特別限制,通常為5~300μm左右。進而,為了提高支持膜與感壓接著層之密接性,亦可使用經底塗處理、電暈處理、蝕刻處理、電漿處理之支持膜。又,亦可為對膜狀基材之感壓接著層面與相反面進行了防損傷、防污、防指紋附著、防眩、抗反射、抗靜電等處理等表面處理者。
作為向基材塗佈之方法,可無限制地使用凹版塗佈、平版塗佈、凹版膠印(offset gravure)、使用平版轉印輥式塗佈機等之輥式塗佈、逆輥式塗佈、氣刀塗佈、使用簾幕式平面塗佈機等之簾幕式塗佈、缺角輪塗佈、邁耶棒式塗佈、其他公知之以形成硬化層為目的而使用之方法。
塗佈量係根據用途而設定,尤其於用作介電層及透明之感壓接著層之情形時,作為硬化後之感壓接著層之厚度,為1~1,000μm,可為20~900μm,且可為100~800μm。
於使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層為感壓接著劑層、尤其是實質上透明之感壓接著劑膜之情形時,該硬化層較佳為以可剝離之狀態黏著於具備具有剝離塗佈能力之剝離層之膜基材上製成積層體膜而進行操作。
使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化物可用作電子材料、顯示裝置用構件或轉換器用構件(包括感測器、揚聲器、致動器、及發生器用),該硬化物之較佳之用途係電子零 件或顯示裝置之構件。尤其,膜形狀之硬化物、尤其是實質上透明之感壓接著劑膜可較佳地用作顯示面板或顯示器用之構件,尤其於可藉由利用指尖等接觸畫面而操作設備、尤其是電子設備之所謂之觸控面板用途中尤其有用。
[顯示面板或顯示器用之構件]
使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化物可用於積層觸控屏幕或平板顯示器之構建及利用,其具體之使用方法可無特別限制地使用感壓接著劑層(尤其是矽酮PSA(Pressure Sensitive Adhesive,感壓接著劑))之公知之使用方法。
例如,使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化物可作為上述日本專利特表2014-522436號(專利文獻9)或日本專利特表2013-512326(專利文獻10)等中所揭示之光學透明之矽酮系感壓接著劑膜或黏著劑層而用於觸控面板等顯示裝置之製造。例如,使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化物可無特別限制地用作專利文獻10中所記載之黏著層或黏著膜。
作為一例,本發明之觸控面板可為包含於一面形成有導電層之傳導性塑膠膜等基材、及附著於形成有該導電層之側或其相反側之面之使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層者。該基材較佳為片狀或膜狀基材,可例示樹脂膜或玻璃板。又,上述傳導性塑膠膜可為於一面形成有ITO層之樹脂膜或玻璃板、尤其是聚對苯二甲酸乙二酯膜。該等揭示於上述日本專利特表2013-512326(專利文獻10)等中。
此外,使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化物亦可用作觸控面板等顯示裝置之製造中所使用之偏光板用接著膜,亦可用作日本專利特開2013-065009號公報中所記載之觸控面板與顯示器模組間之貼合所使用之感壓接著層。
[產業上之可利用性]
作為本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物、使其硬化而成之硬化物之用途,除上述所揭示之用途以外,無任何限制,具備使本發明之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化物而成之感壓接著膜可用於電視接收機、電腦用監視器、攜帶型資訊終端用監視器、監視用監視器、攝錄影機、數位相機、行動電話、攜帶型資訊終端、汽車等之儀表盤用顯示器、各種設備、裝置、機器之儀表盤用顯示器、自動售票機、自動櫃員機等用以顯示文字或記號、圖像之各種平板顯示器(FPD)。作為裝置,可應用於CRT(Cathode Ray Tube,陰極射線管)顯示器、液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL(Electroluminescence,電致發光)顯示器、無機EL顯示器、LED(Light Emitting Diode,發光二極體)顯示器、表面電解顯示器(SED)、場發射型顯示器(FED)等顯示裝置、或利用該等之觸控面板。本發明之膜亦可出於該等顯示器表面之防損傷、防污、防指紋附著、抗靜電、抗反射、防偷窺等目的而使用。
[實施例]
以下,列舉實施例對本發明進行說明,但本發明不由該等實施例限定。
以下所示之實施例中,使用下述化合物。
<(A)成分>
成分(A1):M0.13TTfp 0.78Q0.09(Mw=1.85×103)
成分(A2):M0.05TTfp 0.73Q0.22(Mw=1.09×103)
成分(A3):M0.14TTfp 0.55Q0.31(Mw=1.09×103)
成分(A4):M0.13TTfp 0.66Q0.21(Mw=1.88×103)
成分(A5):M0.10TTfp 0.69Q0.21(Mw=1.52×103)
成分(A6):M0.13TTfp 0.54Q0.33(Mw=3.82×103)
成分(A7):M0.35TTfp 0.19Q0.46(Mw=3.60×103)
成分(A8):M0.21TTfp 0.68Q0.11(Mw=6.90×102)
上式中,TTfp表示(3,3,3-三氟丙基)SiO3/2基,M表示三甲基矽烷基,Q表示SiO4/2基。
Mw係各成分之重量平均分子量,為使用四氫呋喃(THF)作為溶劑而藉由GPC(凝膠滲透層析法)所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量。
有機聚矽氧烷之結構係藉由29Si-核磁共振譜分析(日本電子股份有限公司製造之JNM-ECA500)進行確認。
[上述(A1)~(A8)成分之合成]
藉由以下方法合成上述(A1)~(A8)成分,並藉由使用凝膠滲透層析法之分析求出重量平均分子量。再者,有機聚矽氧烷之結構係藉由29Si-核磁共振譜分析(日本電子股份有限公司製造之JNM-ECA500)進行確認。
[合成例1:(A1)]
向安裝有滴液漏斗、溫度計及Dean-Stark管與回流冷卻管之200ml之燒瓶中投入3.15g之六甲基二矽氧烷、12.96g之水及0.04g之三氟甲磺酸,於室溫下滴加5.39g之四乙氧基矽烷及45.24g之三氟丙基三甲氧基矽烷之混合物。滴加後攪拌1小時,其後進行4小時加熱回流。將生成之甲醇及乙醇去除後,添加32.98g之1,3-雙(三氟甲基)苯及0.17g之氫氧化鉀。一面加熱一面將生成之水蒸餾去除,進而,進行6小時加熱回流。冷卻後,向該系中投入0.08g之乙酸而進行中和處理。繼而,將生成之鹽過濾,以固形物成分成為70.9重量%之方式將1,3-雙(三氟甲基)苯蒸餾去除,獲得生成物。
根據使用凝膠滲透層析法之分析,重量平均分子量為1.85×103。又,藉由29Si-核磁共振譜分析確認係結構式
(Me3SiO0.5)0.13(CF3C2H4SiO1.5)0.78(SiO2)0.09所表示之含有三氟丙基之矽氧烷化合物。
[合成例2~10:(A2)~(A10)之合成]
於上述合成例1中,使各成分之質量(g)如表1所示,除此以外,以與合成例1相同之方式合成(A2)~(A10)成分。
將所合成之各成分之結構、重量平均分子量及氟烷基之含量示於表2。
<(B)成分>
成分(B1):兩末端由乙烯基二甲基矽烷氧基封阻、3,3,3-三氟丙基甲基矽氧烷聚合物(矽氧烷聚合度(e1):250、氟烷基之含量:50莫耳%)
成分(B2):兩末端由乙烯基二甲基矽烷氧基封阻、3,3,3-三氟丙基甲基二甲基矽氧烷共聚物(矽氧烷聚合度(e2):390、氟烷基之含量:20莫耳%)
<(C)成分>
成分(C1):MH 1.3TTfp(Mw=1.11×103)
成分(C2):MH 1.7Q(Mw=1.00×103)
成分(C3):MHDTfp 13MH(鍵結矽之氫原子0.092重量%)
式中,MH表示(CH3)2(H)SiO1/2基,TTfp表示(3,3,3-三氟丙基)SiO3/2基,Q表示SiO4/2基。Mw係各成分之重量平均分子量,為使用四氫呋喃(THF)作為溶劑而藉由GPC(凝膠滲透層析法)所測得之聚苯乙烯換算之重量平均分子量。各成分係藉由公知之方法合成。
<(D)成分>
成分(D):鉑-二乙烯基四甲基二矽氧烷錯合物(以鉑濃度計約0.6重量%)
<(E)成分>
成分(E):1,3-雙(三氟甲基)苯
<矽氫化反應抑制劑>
成分(I):1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四乙烯基環四矽氧烷
[所獲得之材料之物性之測定方法]
本發明之硬化物之物理特性係藉由以下方法進行測定。
1.動態黏彈性測定
對於以下實施例1、4、5、8~12、16及17,於動態黏彈性測定中使用Anton Paar公司製造之MCR301。將本發明之硬化性有機聚矽氧烷組合物於室溫下放置一晚,其後使其於150℃下硬化15分鐘。其後,製作厚度約1mm、直徑8mm之圓盤狀試樣,使用平行板法,於應變0.1%及頻率1Hz下,自-60℃以每分鐘3℃之速度升溫至150℃而進行測定。
2.光透過率之測定
使用Konica Minolta公司製造之Spectrophotometer CM-5,測定全光線透過率。
將本發明之硬化性有機聚矽氧烷組合物以硬化後之厚度成為約300μm之方式塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯(PET、厚度50μm;Toray製造之Lumirror S10)上。將其於室溫下放置一晚,其後使其於150℃下硬化15分鐘,將所獲得之膜狀之試樣供於測定。包含以下實施例12中所記載之樣品之試驗體之全光線透過率為89%,於使用其他實施例中所記載之樣品之情形時,亦相同。若考慮所使用之PET之全光線透過率,則實施例中所記載之樣品具有於使用上充分之透明性。
3.介電常數之測定
使用Wayne kerr公司製造之LCR6530P測定介電常數。測定時,使用除使用PET(JE Technology公司製造、FL50-3)作為基材以外,以與上述2相同之方法所製作之厚度1mm之膜狀之試樣進行測定。
4.黏著力之測定
使用自動塗佈機(TESTER SANGYO公司製造、PI-1210),於PET基材(厚度50μm)上以硬化後之厚度成為約100μm之方式塗佈本發明 之硬化性有機聚矽氧烷組合物。於70℃下放置約60分鐘,其後使其於150℃下硬化15分鐘。於該硬化膜狀試樣上貼合PET基材(厚度50μm;Toray製造之Lumirror S10)而製作試驗片。測定係於23℃、濕度50%之環境下進行,且於速度300mm/min、180°剝離下進行(Orientec公司製造、RTC-1210)。
5.剝離力之測定
對於以下實施例5~17,使用PET(JE Technology公司製造、FL50-3)作為塗佈側基材,除此以外,以與黏著力測定相同之方法進行。
[實施例1]
於玻璃小瓶中,將成分(A1)(其中,(E)1,3-雙(三氟甲基)苯之70質量%溶液9.87g)6.91g、成分(E)2.96g、成分(B1)6.90g、成分(C1)0.09g、成分(D)0.01g及成分(I)0.01g混合,藉此製作實施例1之樣品溶液。表3中示出試驗中所使用之成分之組成及各種物性。
[實施例2~17]
以表3~表4中所記載之量使用各成分,除此以外,以與實施例1相同之方式製作樣品溶液,並進行上述各種測定。
[比較例1]
以表5中所記載之量使用成分(B1)、(C1)、(D)及(I),除此以外,以與實施例1相同之方式製作樣品。
[比較例2]
以表5中所記載之量使用成分(A7)、(B1)、(C1)、(D)、(E)及(I),除此以外,以與實施例1相同之方式製作樣品溶液。
[比較例3]
以表5中所記載之量使用成分(A6)、(B2)、(C2)、(D)、(E)及(I),除此以外,以與實施例1相同之方式製作樣品溶液。
[表3]

Claims (18)

  1. 一種含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其含有:(A)平均單元式(I)所表示之有機聚矽氧烷 相對於(A)~(D)成分之和為1~80質量%;(R1 3SiO1/2)a(R2 2SiO)b(R3SiO3/2)c(SiO2)d (I){式中,R1、R2及R3所表示之矽原子上之全部取代基之10莫耳%以上為(CpF2p+1)-R-(R為碳原子數1~10之伸烷基,p為1以上且8以下之整數)所表示之氟烷基;R1、R2及R3所表示之取代基相同或獨立地為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數2~12之烯基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基,a、b、c、d係滿足0≦a≦0.5、0≦b≦0.7、0≦c≦1、0≦d≦0.7、0.3≦c+d≦1、a+b+c+d=1之數}(B)平均單元式(II)所表示之有機聚矽氧烷 相對於(A)~(D)成分之和為20~99質量%;R4 3Si(OSiR4 2)eOSiR4 3 (II){式中,R4所表示之矽原子上之全部取代基之5莫耳%以上為(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基;R4相同或獨立地為上述氟烷基、碳數1~12之烷基、碳數2~12之烯基、碳數6~20之芳基、碳數7~20之芳烷基、羥基、或碳數1~6之烷氧基,且全部R4中,至少2個為碳數2~12之烯基,e為滿足5<e<100,000之數}(C)分子中具有至少2個鍵結矽之氫原子之有機氫聚矽氧烷 本成分中之鍵結矽之氫原子相對於(A)成分與(B)成分之烯基之合計量1莫耳為0.1~40莫耳之量;(D)有效量之矽氫化反應用觸媒;及(E)溶劑 相對於(A)~(D)成分之和100質量份為0~2000質量份。
  2. 如請求項1之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中於上述平均單元式(I)中,c為0<c≦1之範圍之數。
  3. 如請求項1或2之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(A)成分為不含碳數2~12之烯基之有機聚矽氧烷。
  4. 如請求項1或2之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(A)成分及(B)成分中之由(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基為三氟丙基。
  5. 如請求項1或2之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(C)成分為具有含氟基之有機氫聚矽氧烷。
  6. 如請求項1或2之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(C)成分為分子中具有(CpF2p+1)-R-(R為與上述相同之基,p為與上述相同之數)所表示之氟烷基之有機氫聚矽氧烷。
  7. 如請求項1或2之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物,其中上述(C)成分為分子中具有三氟丙基之樹脂狀之有機氫聚矽氧烷。
  8. 一種感壓接著劑組合物,其包含如請求項1至7中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物。
  9. 一種硬化物,其係使如請求項1至7中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
  10. 一種感壓接著劑層,其係使如請求項1至7中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
  11. 如請求項10之感壓接著劑層,其為膜狀,且實質上透明。
  12. 一種積層體,其於膜狀基材上具備使如請求項1至7中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成之硬化層。
  13. 如請求項12之積層體,其中上述硬化層為感壓接著劑層,於膜狀基材設置有針對該感壓接著劑層之剝離層。
  14. 一種電子材料或顯示裝置用構件,其係使如請求項1至7中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
  15. 一種電子零件或顯示裝置,其包含如請求項14之電子材料或顯示裝置用構件。
  16. 一種顯示面板或顯示器,其包含如請求項11之膜狀且實質上透明之感壓接著劑層。
  17. 一種觸控面板,其包含:基材,其於一面形成有導電層;及硬化層,其係使附著於上述基材之導電層或其相反側之面之如請求項1至7中任一項之含有氟烷基之硬化性有機聚矽氧烷組合物硬化而成。
  18. 如請求項17之觸控面板,其中上述形成有導電層之基材係於一面形成有ITO層之樹脂膜或玻璃板。
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