TW201608046A - 承載治具 - Google Patents
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Abstract
一種承載治具,適於供多個物件插置,這些物件包括多個板體。承載治具包括兩端板及多個連接件。兩端板彼此間隔一距離。各連接件的兩端分別連接於兩端板。當這些物件插置於承載治具時,連接件支撐這些板體的側緣,以使這些板體能夠以特定角度立起承載治具。
Description
本發明是有關於一種承載治具,且特別是有關於一種適於供物件插置且使物件以特定角度立起的承載治具。
化學氣相沉積製程及高溫熱擴散製程已被廣泛地使用在半導體工業中,上述製程的操作溫度約在攝氏400度至1200度的範圍之間,在製程過程中,部分的化合物會在設備的零件(例如是均熱片)上沉積成膜,當零件上的膜層達到一定厚度時必須將這些零件拆下進行保養。保養的方式是將這些零件直接擺入清洗槽,以酸洗的方式去除附著於這些零件上的膜層。
然而,由於目前的清洗槽無法通用適應各種形狀的零件,而發生零件的局部區域無法洗淨乾淨。目前的處理方式是以二次清洗來克服,但此方式相當浪費清洗槽的產能並且增加了洗液的損耗量。
本發明提供一種承載治具,其可使物件(例如是均熱片)
以特定角度放置於清洗槽中,以提升物件在清洗槽中能被清洗乾淨的機率,並可提高清洗槽內的空間利用率。
本發明的一種承載治具,適於供多個物件插置,這些物件包括多個板體。承載治具包括兩端板及多個連接件。兩端板彼此間隔一距離。各連接件的兩端分別連接於兩端板。當這些物件插置於承載治具時,連接件支撐這些板體的側緣,以使該些板體能夠以特定角度立起該承載治具。
在本發明的一實施例中,上述的這些連接件分別為多個可伸縮的連接件,以調整兩端板之間的距離。
在本發明的一實施例中,上述的承載治具更包括一移動件,可移動地配置於其中一個端板的內側,其中一個物件包括一個板體及凸出於板體的多個中空管體,當此物件插置於承載治具時,這些管體的至少一者適於固定至移動件,以透過移動件相對於對應的端板移動而調整這些中空管體的傾斜角度。
在本發明的一實施例中,上述的各端板包括一握持部。
在本發明的一實施例中,上述的承載治具更包括多個定位部,可調整地設置於這些連接件上,以固定這些板體之間的相對位置。
在本發明的一實施例中,上述的這些板體呈圓形,這些板體的直徑約在12吋至15吋之間,且這些連接件的長度約在60公分至80公分之間。需說明的是,板體直徑與連接件兩者的尺寸,亦可依使用者的需要而作適度變動,以符合不同的需求,並不限
於上述尺寸數值。
在本發明的一實施例中,上述的承載治具更包括一固定件,位於兩端板之間且這些連接件穿設於固定件,以固定這些連接件之間的相對位置。
在本發明的一實施例中,當這些板體插置於該承載治具時,這些板體實質上平行於兩端板。
在本發明的一實施例中,上述的這些物件分別為使用於化學氣相沉積製程或是高溫熱擴散製程的多個均熱片,且這些物件的材料包括石英或是碳化矽。
在本發明的一實施例中,上述的承載治具與這些物件適於一起被放置於一清洗槽內,且清洗槽的洗液適於沿著垂直於這些板體的法線的方向流入這些物件之間的間隙。
基於上述,本發明的承載治具透過連接於兩端板的這些連接件來支撐物件,以使物件能夠以特定角度(例如是直立)插置在承載治具上,當要清洗物件時,只要把物件連同承載治具一起放入清洗槽,便可使物件在清洗槽內維持特定角度,清洗槽的洗液便能夠沿著垂直於板體的法線的方向流入這些物件之間的間隙,而提高物件被清洗的乾淨程度。並且,由於物件是以直立的方式插置於本發明的承載治具上,而降低在清洗槽內的所佔空間,進而提升清洗槽內的空間利用率。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
10‧‧‧物件
12‧‧‧板體
14‧‧‧中空管體
20‧‧‧清洗槽
100‧‧‧承載治具
110‧‧‧端板
112‧‧‧握持部
120‧‧‧連接件
130‧‧‧定位部
140‧‧‧固定件
150‧‧‧移動件
圖1是依照本發明的一實施例的一種承載治具的示意圖。
圖2是圖1的另一視角的示意圖。
圖3是物件插入圖1的承載治具的示意圖。
圖4是圖3的另一視角的示意圖。
圖5是物件插入圖1的承載治具後一起被放入清洗槽的示意圖。
圖1是依照本發明的一實施例的一種承載治具的示意圖。圖2是圖1的另一視角的示意圖。圖3是物件插入圖1的承載治具的示意圖。圖4是圖3的另一視角的示意圖。圖5是物件插入圖1的承載治具後一起被放入清洗槽的示意圖。
請參閱圖1至圖5,本實施例的承載治具100適於供多個物件10插置,以使這些物件10能夠以特定角度立起於承載治具100,之後,當這些物件10隨著承載治具100一起被放置於一清洗槽20內時,物件10可以在清洗槽20內維持一定的角度,以使清洗槽20內的洗液能夠更全面地清洗到物件10。
在本實施例中,這些物件10例如是使用於化學氣相沉積製程或是高溫熱擴散製程的多個均熱片。物件10的材料包括石英
或是碳化矽。如圖3至圖5所示,這些物件10包括多個板體12,板體12呈圓形,板體12的直徑約在12吋至15吋之間,其中一個物件10包括一個板體12及凸出於板體12的多個中空管體14。當然,物件10的種類、材料、尺寸、形狀與板體直徑,亦可依使用者的需要而作適度變動,以符合不同的需求,並不以上述為限制。
此外,在本實施例中,清洗槽20為一酸洗槽,洗液包括硝酸、硫酸或氫氟酸等,透過酸洗的方式清除經化學氣相沉積製程或是高溫熱擴散製程之後沉積於物件10上的膜層。需說明的是,為了清楚看到承載治具100與物件10在清洗槽20內的配置,圖5特意隱藏清洗槽20的上半部,僅示意性地繪示清洗槽20的局部區域。
為了使承載治具100也能夠承受酸洗的過程,在本實施例中,承載治具100的材料包括鐵氟龍,其具有耐酸鹼環境的特質。當然,承載治具100的材料種類並不以此為限制,只要能夠承受清洗槽20內的環境的材料均可。
請回到圖1,承載治具100包括兩端板110及多個連接件120。兩端板110彼此間隔一距離。各連接件120的兩端分別連接於兩端板110。在本實施例中,端板110的形狀接近一倒置的梯形,連接件120的數量為四個,四個連接件120分別連接至端板110的邊緣靠近頂點的位置。當然,在其他的實施例中,端板110的形狀也可以是半圓形或其他形狀,連接件120的數量以及連接位
置也不以此為限制。
此外,承載治具100更包括多個定位部130,設置於這些連接件120上。製作承載治具100時,設計者可先預量所需承載的物件10的尺寸與所需間距,而使定位部130可與連接件120以一體成型的方式製作。或者,定位部130也可以是可活動地設置在連接件120上,根據實際上物件10之間的距離來調整定位部130之間的位置。
如圖3至圖5所示,在本實施例中,物件10分為三組,在其中兩組的這些物件10為四個相疊的板體12,板體12之間分別間隔有一距離,各組的這四個物件10一起被插置在兩相鄰的定位部130之間。另一組的物件10為有三個板體12以及四支凸出於其中一板體12的中空管體14,此組的這些物件10同樣地也是透過板體12被插置在兩相鄰的定位部130之間,以固定彼此之間的位置。
當這些物件10插置於承載治具100時,連接件120支撐這些板體12的側緣,以使板體12能夠以特定角度(例如是90度)立起承載治具100,而使得當這些板體12插置於承載治具100時,這些板體12能夠以實質上平行於兩端板110的角度立起。
在習知的清洗方式中,物件10是直接擺放在清洗槽20內。更詳細地說,最下方的數個物件10是以整個板體12接觸清洗槽20的下表面上,此空間配置使得一個清洗槽20中僅能放置幾片物件10,其他物件10則是再疊在與清洗槽20的下表面接觸
的板體12上,這些彼此交疊的板體12與清洗槽20的下表面平行,洗液從清洗槽20的下表面向上噴出時,部分洗液可能會被位在最下方的板體12遮住,未必能夠噴洗到位於上方的板體12。
相反地,在本實施例中,如圖5所示,由於物件10是以直立的方式(也就是接近於垂直於清洗槽20的下表面的角度)插置於承載治具100上,當物件10連同承載治具100一起放置在清洗槽20時,此配置不但能夠在清洗槽20的有限空間中,放置更多組物件10,而提升清洗槽20內的空間利用率。當物件10連同承載治具100一起放置在清洗槽20內以進行酸洗過程時,由於清洗槽20的洗液會從圖5的下表面向上流出,物件10的板體12以幾乎是90度的角度立起於清洗槽20的下方表面,而使得清洗槽20的洗液可以沿著垂直於這些板體12的法線的方向流入這些物件10之間的間隙,而能夠使洗液接觸到整個物件10,以增加物件10清洗的潔淨程度,進而提供較佳的噴洗效果。
值得一提的是,在本實施例中,為了使承載治具100能夠應用於承載更多種類的物件10,這些連接件120分別為多個可伸縮的連接件,也就是說,兩端板110之間的距離可被調整。當物件10的數量較多,或是中空管體14的長度較長時,仍能夠被放置在承載治具100中。在本實施例中,這些連接件120的長度約在60公分至80公分之間,但連接件120的長度範圍並不以此為限制。
此外,請回到圖1,在本實施例中,各端板110包括一握
持部112,兩端板110上的兩握持部112用以供操作者的雙手握持,以舉起承載治具100及位於其上的這些物件10。相較於以往未有承載治具100時,操作者需要將這些物件10以徒手搬移至清洗槽20,現在只需要將這些物件10先排列在承載治具100上,再一起搬入清洗槽20即可,操作上較為方便。
另外,為了提供這些連接件120能夠具有更佳的支撐強度,在本實施例中,承載治具100更包括一固定件140,位於兩端板110之間且這些連接件120穿設於固定件140,以固定這些連接件120之間的相對位置。
此外,由於其中一個物件10具有四支中空管體14,為了避免清洗之後洗液殘留在中空管體14內,在本實施例中,承載治具100更包括一移動件150,可上下移動地配置於其中一個端板110的內側。當具有中空管體14的物件10的板體12插置於承載治具100時,這些中空管體14的至少一者適於固定至移動件150(在本實施例中,較靠近下方的兩個中空管體14固定至移動件150),以透過移動件150相對於對應的端板110上下移動而調整這些中空管體14的傾斜角度。如此一來,這些中空管體14便能夠具有些許的傾角,而使清洗過後的洗液能夠流出,以避免中空管體14發生殘酸的問題。
綜上所述,本發明的承載治具透過連接於兩端板的這些連接件來支撐物件,以使物件能夠以特定角度(例如是直立)插置在承載治具上,當要清洗物件時,只要把物件連同承載治具一
起放入清洗槽,便可使物件在清洗槽內維持特定角度,清洗槽的洗液便能夠沿著垂直於板體的法線的方向流入這些物件之間的間隙,而提高物件被清洗的乾淨程度。並且,由於物件是以直立的方式插置於本發明的承載治具上,而降低在清洗槽內的所佔空間,進而提升清洗槽內的空間利用率。此外,本發明的承載治具的連接件可調整長度,以因應不同種類物件的尺寸。另外,為了使具有中空管體的物件能夠被清洗乾淨且避免殘酸,可透過將至少一個管體固定於移動件,透過移動件相對於對應的端板上下移動而調整這些中空管體的傾斜角度。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧承載治具
110‧‧‧端板
112‧‧‧握持部
120‧‧‧連接件
130‧‧‧定位部
140‧‧‧固定件
150‧‧‧移動件
Claims (10)
- 一種承載治具,適於供多個物件插置,該些物件包括多個板體,該承載治具包括:兩端板,彼此間隔一距離;以及多個連接件,各該連接件的兩端分別連接於該兩端板,其中當該些物件插置於該承載治具時,該些連接件支撐該些板體的側緣,以使該些板體能夠以特定角度立起該承載治具。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,其中該些連接件分別為多個可伸縮的連接件,以調整該兩端板之間的距離。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,更包括:一移動件,可移動地配置於其中一個該端板的內側,其中一個該物件包括一個該板體及凸出於該板體的多個中空管體,當該物件插置於該承載治具時,該些管體的至少一者適於固定至該移動件,以透過該移動件相對於對應的該端板移動而調整該些中空管體的傾斜角度。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,其中各該端板包括一握持部。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,更包括:多個定位部,可調整地設置於該些連接件上,以固定該些板體之間的相對位置。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,更包括:一固定件,位於該兩端板之間且該些連接件穿設於該固定 件,以固定該些連接件之間的相對位置。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,其中該些板體呈圓形,該些板體的直徑約在12吋至15吋之間,且該些連接件的長度約在60公分至80公分之間。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,其中當該些板體插置於該承載治具時,該些板體實質上平行於該兩端板。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,其中該些物件分別為使用於化學氣相沉積製程或是高溫熱擴散製程的多個均熱片,且該些物件的材料包括石英或是碳化矽。
- 如申請專利範圍第1項所述的承載治具,其中該承載治具與該些物件適於一起被放置於一清洗槽內,且該清洗槽的洗液適於沿著垂直於該些板體的法線的方向流入該些物件之間的間隙。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW103128632A TWI481737B (zh) | 2014-08-20 | 2014-08-20 | 承載治具 |
CN201410447156.4A CN105463491B (zh) | 2014-08-20 | 2014-09-04 | 承载治具 |
JP2014230930A JP5986170B2 (ja) | 2014-08-20 | 2014-11-13 | 収容治具及びこの収容治具を含む洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW103128632A TWI481737B (zh) | 2014-08-20 | 2014-08-20 | 承載治具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI481737B TWI481737B (zh) | 2015-04-21 |
TW201608046A true TW201608046A (zh) | 2016-03-01 |
Family
ID=53441555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW103128632A TWI481737B (zh) | 2014-08-20 | 2014-08-20 | 承載治具 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5986170B2 (zh) |
CN (1) | CN105463491B (zh) |
TW (1) | TWI481737B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109737142A (zh) * | 2018-12-20 | 2019-05-10 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种固体润滑轴承内圈保护装置 |
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2014
- 2014-08-20 TW TW103128632A patent/TWI481737B/zh active
- 2014-09-04 CN CN201410447156.4A patent/CN105463491B/zh active Active
- 2014-11-13 JP JP2014230930A patent/JP5986170B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016046504A (ja) | 2016-04-04 |
JP5986170B2 (ja) | 2016-09-06 |
TWI481737B (zh) | 2015-04-21 |
CN105463491A (zh) | 2016-04-06 |
CN105463491B (zh) | 2017-12-22 |
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