TW201607688A - 珠擊處理裝置及拋射機 - Google Patents

Abstract

本發明的目的係提供可抑制拋射材料的拋射量之珠擊處理裝置及拋射機。依據本發明，提供一種珠擊處理裝置1，具備離心式的拋射機20以及支撐機構，該離心式的拋射機20係將拋射材料對於被加工物拋射，該支撐機構係在可進行前述拋射機的表面加工之加工位置支撐被加工物，該拋射機係具備：控制罩92，具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，且在側壁形成有成為前述拋射材料的排出口之開口；以及葉輪100，係具備在前述控制罩的外方朝前述控制罩的徑向外方延伸之方式而配置之複數片葉片104，且以前述控制罩的中心軸線為中心旋轉，前述葉片係於旋轉方向前方側的表面設置有後傾部110，該後傾部110係朝旋轉方向後方側傾斜。

Description

珠擊處理裝置及拋射機

本發明係有關珠擊處理裝置及拋射機。

將拋射材料拋射到被加工物來進行表面處理加工之珠擊處理裝置為人所熟知。就此種珠擊處理裝置而言，從離心式的拋射機將拋射材料朝向製品拋射之珠擊處理裝置為人所熟知(例如，參照專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本實開昭59-116153號公報

在此種珠擊處理裝置中，拋射材料的使用量較多。

因此而有將拋射材料對被加工物有效地拋射而使拋射材料的使用量減少之需求。

本發明係考慮上述需求，其目的係提供一種可抑制拋射材料的使用量之珠擊處理裝置、拋射機。

依據本發明，係提供一種珠擊處理裝置，具備有離心式的拋射機以及支撐機構，其中該離心式的拋射機係將拋射材料對被加工物拋射，該支撐機構係在可利用前述拋射機進行表面加工之加工位置支撐被加工物，該拋射機具備：控制罩，係具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，且在側壁形成有成為前述拋射材料的排出口之開口；以及葉輪，係具備在前述控制罩的外方朝前述控制罩的徑向外方延伸之方式而配置之複數片葉片，且以前述控制罩的中心軸線為中心旋轉，前述葉片係於旋轉方向前方側的表面設置有後傾部，該後傾部係朝旋轉方向後方側傾斜。

依據此種構成，於葉輪的葉片之表面，形成有朝葉輪的旋轉方向後方側傾斜之後傾部。

因此，從控制罩的開口先排出之拋射材料在接觸葉片的表面之前，從控制罩的開口後排出之拋射材料接觸葉片的表面且朝葉片的前端側被加速。

藉此，在先排出之拋射材料接觸葉片的表面之時點，後排出之拋射材料與先排出之拋射材料被聚集到葉片的表面之鄰接的位置。然後，將被聚集在葉片的表面之鄰接的位置之拋射材料予以拋射，故可使拋射分布集中，而可抑制對被加工物之無效的拋射。

依據本發明之其他理想態樣，前述開口係具備有二邊與前述控制罩的圓筒軸心平行之矩形形狀。

依據此種構成，可將拋射材料集中地拋射向被加工物。

依據本發明之其他理想態樣，以前述葉輪之轉軸方向來看，設為前述拋射機之拋射材料的投出位置與配置在前述加工位置之被加工物的朝向前述拋射機之面的兩端所形成之角度成為30°以內之被加工物的表面加工用，前述後傾部係對前述葉輪之徑向朝旋轉方向後方側傾斜30°至50°。

依據本發明之其他的理想態樣，前述後傾部係形成在前述葉片的基端部側，前述葉片之前端部側係形成有從前述後傾部朝旋轉方向後方側之傾斜角小的非後傾部。

依據此種構成，後傾部係形成在葉片的基端部側，且在葉片的前端部側形成有非後傾部，故可將在後傾部被集中之拋射材料在非後傾部予以加速而拋射。

此外，在本說明書中，所謂「從後傾部朝旋轉方向後方側之傾斜角小」，除了該傾斜角比朝後傾部的旋轉方向後方側之傾斜角更小的情況之外，亦包含朝徑向延伸之構成以及朝旋轉方向前方側傾斜之構成」。

依據本發明之其他的理想態樣，前述葉輪係經由輪轂安裝在驅動馬達的轉軸。

依據此種構成，葉輪係經由輪轂安裝在驅動馬達的轉軸，故比起經由皮帶連接在驅動馬達之情況，可將整個裝置小型化。

依據本發明之其他的理想態樣，前述後傾部的徑向長度設定為比前述非後傾部之徑向長度更長。

依據此種構成，能夠以葉片之後傾部充分地聚集拋射材料之後，以非後傾部將拋射材料予以加速而拋射。

依據本發明之其他的理想態樣，設置有平滑地連繫前述後傾部與前述非後傾部之彎曲部。

依據此種構成，能夠以葉片之後傾部聚集拋射材料之後，以彎曲部及非後傾部使拋射材料的速度漸漸地增加而拋射。

依據本發明之其他的理想態樣，更具備分配器，配置在前述控制罩的內側，且以與前述葉輪的旋轉方向相同的方向旋轉，藉由前述分配器旋轉，被供應到前述控制罩的內側之拋射材料係沿著前述分配器的內周面移動於前述分配器與控制罩之間的間隙中，且前述控制罩的開口起之前述拋射材料的排出方向係對於前述葉輪的旋轉中心起之徑向，朝前述葉輪的旋轉方向前方側傾斜。

依據此種構成，前述控制罩的開口起之前述拋射材料的排出方向係對於前述葉輪的旋轉中心起之徑向，朝前述葉輪的旋轉方向前方側傾斜，故使從控制罩的開口先排出的拋射材料與葉片的表面接觸之時機延遲，而使拋射材料集中於葉片的表面之後傾部。

依據本發明之其他的理想態樣，前述葉片之前述葉輪的旋轉方向後方側之表面係在基端部具備有傾 斜部，該傾斜部係對於徑向較該後傾部大幅地朝旋轉方向後方側傾斜。

依據此種構成，從開口排出之拋射材料接觸葉片的背面之基端部而反射時，可抑制朝向鄰接的葉片之拋射材料的量。因此，可抑制葉片彼此間之拋射材料之流動的混亂。

依據本發明之其他的理想態樣，具備有：機櫃，分別於內部的上方位置具有搬出搬入前述被加工物之搬出入區域，於內部的下方位置具有透過前述拋射機拋射之拋射材料施加前述被加工物的表面加工之加工區域；以及升降旋轉機構，構成前述支撐機構，一邊支撐前述被加工物，一邊使前述被加工物在前述搬出入區域與前述加工區域之間升降，且能夠以該升降方向為中心旋轉。

依據此種構成，若將複數個被加工物堆疊且使之支撐於被升降旋轉機構，則可將複數個被加工物的全周予以加工。

依據本發明之其他的理想態樣，具備有：內蓋，係可在位於前述搬出入區域的上端側之第一位置以及位於前述搬出入區域與前述加工區域之間的第二位置之間升降；以及升降機構，使前述內蓋升降，以於前述被加工物搬出搬入於前述搬出入區域時，將前述內蓋配置在前述第一位置，而於前述被加工物配置在前述加工區域時，將前述內蓋配置在前述第二位置。

依據此種構成，即使在被加工物配置在加 工區域之狀態下，拋射機將拋射材料朝被加工物之側拋射，亦可利用內蓋阻止朝搬出入區域之側的拋射材料之漏出。

依據本發明之其他的理想態樣，前述升降旋轉機構係具有按押部，該按押部可貫穿前述內蓋而從上方側按押前述被加工物，且可與該被加工物一起以前述升降方向為中心旋轉。

依據上述構成，即使將被加工物堆疊複數個時，亦可使被加工物穩定地繞著升降的方向之軸周圍旋轉。

依據本發明之其他的理想態樣，在前述搬出入區域之側面側的側壁側更具備被加工物檢査裝置，該被加工物檢査裝置係以可在退避位置與檢査位置之間移動之方式受到支撐，該退避位置係指前述內蓋及前述按押部分離於裝置上方側而配置時，對於前述升降旋轉機構所支撐的被加工物，可從側面側插入於前述被加工物與前述內蓋及按押部之間之位置，而該檢査位置係指前述退避位置之側面側的位置，且為包圍前述被加工物的側面之位置。

依據此種構成，在將拋射材料對被加工物拋射之後，且在將被加工物從機櫃搬出之前，可對被加工物之側部的狀態進行非破壞檢測。

依據本發明之其他的理想態樣，前述拋射機係在前述加工區域之側面側上，配置在前述機櫃的側壁部。

依據此種構成，即使將拋射材料供應部等配置在較拋射機更上方側，亦可抑制整個裝置的高度。

依據本發明之其他的理想態樣，從葉輪的旋轉中心線之方向來看，前述拋射機係以前述葉輪的葉片按照裝置上方側、前述加工區域之側、裝置下方側之順序移動之方式設定葉輪的旋轉方向。

依據此種構成，可抑制朝上方側之拋射材料的漏出。

依據本發明之其他的理想態樣，更具備循環機構，使透過前述拋射機拋射之拋射材料朝前述拋射機循環，前述循環機構係具備：分離器，係在上部具有入口，從該入口所供應之拋射材料及粉塵，將粉塵予以分離去除，且將拋射材料排出到下部側；彈丸槽，係在上部中具有與前述分離器的前述入口鄰接之彈丸供應口，將供應到該彈丸供應口之拋射材料作為朝前述拋射機之供應用材料予以儲存；以及搬送機構，具有第一列搬送部與第二列搬送部，其中該第一列搬送部係將前述拋射材料及粉塵從下部側朝上部側搬送而供給至前述分離器的入口，而該第二列搬送部係與前述第一列搬送部並列地設置，將前述分離器排出之拋射材料從下部側搬送到上部側而供給至前述彈丸槽的彈丸供應口。

依據此種構成，彈丸槽的彈丸供應口與分離器的入口鄰接而設置，在彈丸槽的上方側未配置分離器，故可抑制整個裝置的高度。

依據本發明之其他的理想態樣，前述搬送機構係具備：馬達，共通地驅動前述第一列搬送部及前述第二列搬送部；單一的環帶，透過前述馬達旋轉驅動；以及斗式升降機，具有複數個第一吊桶與複數個第二吊桶，其中該複數個第一吊桶係安裝在前述環帶而構成前述第一列搬送部，而該複數個第二吊桶係以與前述第一吊桶並列之方式安裝在前述環帶而構成前述第二列搬送部。

依據此種構成，使用有共同的馬達及單一的環帶，故可減少零件數量，並且可使裝置小型化。

依據本發明之其他的理想態樣，更具備分隔部，接近於前述環帶的下部，將前述第一列搬送部與前述第二列搬送部隔開。

依據此種構成，可防止利用分離器分離去除粉塵前之混合物(拋射材料及粉塵)與利用分離器分離去除粉塵後之拋射材料混雜在一起。

依據本發明之其他的態樣，提供一種拋射機，其係將拋射材料對被加工物拋射之離心式的拋射機，其具備：控制罩，具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，在外周壁形成開口以作為拋射材料的排出部，前述開口係具有包含與前述圓筒形狀的軸心平行的二邊之矩形形狀；以及葉輪，具備複數片葉片，該些葉片係被配置於前述控制罩的徑向外方位置，並繞著前述控制罩的周圍方向旋轉，於前述葉片之旋轉方向前方側的表面設置有後傾部，該後傾部係朝旋轉方向後方側傾斜。

依據本發明之其他的理想態樣，從前述葉輪之轉軸方向來看，被設為前述拋射機之拋射材料的投出位置以及配置在前述加工位置之被加工物的朝向前述拋射機之面的兩端所形成的角度成為30°以內之被加工物的表面加工用，前述後傾部係對於前述葉輪之徑向朝旋轉方向後方側傾斜30°至50°。

依據本發明之其他的態樣，提供一種拋射機，其係被設置在珠擊處理裝置，透過葉輪的旋轉將拋射材料予以拋射之離心式的拋射機，以前述葉輪之轉軸方向來看，被設為前述拋射機之拋射材料的投出位置以及配置在前述加工位置之被加工物的朝向前述拋射機之面的兩端所形成之角度成為50°至80°以內之被加工物的表面加工用，其具備：控制罩，具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，在外周壁形成開口以作為拋射材料的排出部，前述開口係具有包含與前述圓筒形狀的軸心平行的二邊之矩形形狀；以及葉輪，具備複數片葉片，該些葉片係被配置於前述控制罩的徑向外方位置，並繞著前述控制罩的周圍方向旋轉，於前述葉片之旋轉方向前方側的表面設置有後傾部，該後傾部係朝旋轉方向後方側傾斜，前述開口係具備：第一貫穿部，具有包含與前述控制罩的軸心平行的二邊之矩形形狀；以及第二貫穿部，具有包含與前述控制罩的軸心平行且相互相對之第二平行的二邊之矩形形狀，且對於前述第一貫穿部朝前述控制罩的周圍方向偏移，前述第一貫穿部與前述第二貫穿部係沿著前述控制罩之圓筒軸心的 方向，重疊各自的略一半。

依據此種構成，從控制罩的開口先排出之拋射材料在接觸葉片的表面之前，從控制罩的開口後排出之拋射材料接觸葉片的表面且朝葉片的前端側被加速。藉此，在先排出之拋射材料接觸葉片的表面之時點，後排出之拋射材料與先排出之拋射材料被聚集到靠近葉片的表面之位置。藉此，可集中地將拋射材料予以拋射。

此外，分別從第一貫穿部及第二貫穿部排出之拋射材料係從控制罩的周圍方向上偏離的位置排出，故整體的拋射分布成為將從第一貫穿部排出之拋射材料的拋射分布，以及從第二貫穿部排出之拋射材料的拋射分布予以合成之拋射分布。

在此，第一貫穿部與第二貫穿部係在控制罩的圓筒軸心方向上重疊略一半，故分別從第一貫穿部及第二貫穿部排出之拋射材料的各拋射分布，亦在各別的分布寬度之略一半的範圍內重疊。因此，就整體的拋射分布而言，可擴張拋射比例高的範圍(謀求拋射集中化之範圍)。

依據本發明，即提供可抑制拋射材料的拋射量之珠擊處理裝置及拋射機。

10‧‧‧珠擊裝置(珠擊處理裝置)

12‧‧‧機櫃

12A‧‧‧機櫃之側壁部

14‧‧‧搬出入口

16‧‧‧搬出入區域

18‧‧‧加工區域

18A‧‧‧第一拋射位置(加工位置)

18B‧‧‧第二拋射位置(加工位置)

18B‧‧‧第三拋射位置(加工位置)

18C‧‧‧第三拋射位置(加工位置)

20‧‧‧拋射機

21‧‧‧拋射機

22‧‧‧升降旋轉機構(支撐機構)

23‧‧‧覆罩

24‧‧‧被加工物承接部

25‧‧‧控制部

26‧‧‧驅動力傳達機構

28‧‧‧馬達

30A‧‧‧馬達保持部

30B‧‧‧連結部

32‧‧‧千斤頂

32A‧‧‧托架

32B‧‧‧導軸

32C‧‧‧滾珠螺桿

32S‧‧‧升降構件

32M‧‧‧升降伺服馬達

34‧‧‧第一壓力缸機構

34A‧‧‧壓力缸

34B‧‧‧桿

36‧‧‧內蓋

36X‧‧‧第一位置

36Y‧‧‧第二位置

38‧‧‧升降機構

40‧‧‧第二壓力缸機構

40A‧‧‧壓力缸

40B‧‧‧桿

42‧‧‧連結部

44‧‧‧軸承

46‧‧‧按押用軸

48‧‧‧按押部

50‧‧‧循環機構

52‧‧‧螺旋輸送機

52M‧‧‧馬達

54‧‧‧斗式升降機(搬送機構)

54A、54B‧‧‧滑輪

54C‧‧‧環帶

54M‧‧‧馬達

54X‧‧‧第一吊桶

54Y‧‧‧第二吊桶

55A‧‧‧第一列搬送部

55B‧‧‧第二列搬送部

56‧‧‧分離器

56A‧‧‧入口

56Z‧‧‧排出位置

57‧‧‧分隔部

58‧‧‧沉降室

60‧‧‧篩部

62‧‧‧集塵機

64‧‧‧控制盤

66‧‧‧彈丸槽

66A‧‧‧彈丸供應口

68‧‧‧流量調整裝置

70‧‧‧導入筒

72‧‧‧外殼本體

72A‧‧‧底座

72B、72C‧‧‧側部

74‧‧‧軸承單元

74A‧‧‧前端部

74B‧‧‧軸承

76‧‧‧驅動馬達

76A‧‧‧前端部

76X‧‧‧轉軸

77A‧‧‧前端部

77X‧‧‧轉軸

78‧‧‧襯墊

79‧‧‧第二滑輪

80‧‧‧蓋體

81‧‧‧帶體

82‧‧‧輪轂

82A‧‧‧圓筒部

82B‧‧‧凸緣

84‧‧‧螺栓

86‧‧‧導入筒按押部

88‧‧‧前面覆罩

90‧‧‧中央板

92‧‧‧控制罩

92A‧‧‧外周壁

92X‧‧‧開口

94‧‧‧分配器

94A‧‧‧旋翼片

96‧‧‧托架

98‧‧‧密封構件

100‧‧‧葉輪

102‧‧‧側板單元

102A‧‧‧第一側板

102B‧‧‧第二側板

102C‧‧‧連結構件

104‧‧‧葉片

106‧‧‧表面

108‧‧‧背面

110‧‧‧後傾部

112‧‧‧彎曲部

114‧‧‧非後傾部

116‧‧‧傾斜部

118‧‧‧隆起部

120‧‧‧側壁部

122‧‧‧基端側段部

124‧‧‧前端側段部

130‧‧‧珠擊裝置(珠擊處理裝置)

132‧‧‧機櫃

134‧‧‧製品裝載部(支撐機構)

136‧‧‧轉軸

138‧‧‧大機台

140‧‧‧轉軸

142‧‧‧小機台

150、152、154、156、158‧‧‧控制罩

150A、152A、154A、156A、158A‧‧‧外周壁

160‧‧‧第一貫穿部(開口)

160A、160B‧‧‧平行二邊

162‧‧‧第二貫穿部(開口)

162A、162B‧‧‧平行二邊

164‧‧‧開口

166‧‧‧第一貫穿部

166A、166B‧‧‧平行二邊

168‧‧‧第二貫穿部

168A、168B‧‧‧平行二邊

170‧‧‧開口

172‧‧‧第一貫穿部

172A、172B‧‧‧平行二邊

174‧‧‧第二貫穿部

174A、174B‧‧‧平行二邊

176‧‧‧第三貫穿部

178‧‧‧開口

180‧‧‧第一貫穿部

180A、180B‧‧‧平行二邊

182‧‧‧第二貫穿部

182A、182B‧‧‧平行二邊

184‧‧‧第三貫穿部

186‧‧‧開口

186A、186B‧‧‧平行二邊

190‧‧‧葉片

200‧‧‧被加工物檢査裝置

200A‧‧‧內周面

202‧‧‧旋轉臂

C‧‧‧旋轉中心

CL‧‧‧圓筒軸心

R‧‧‧旋轉方向

W‧‧‧被加工物

第1圖係本發明的第1實施形態之珠擊裝置的右側視圖。

第2圖係第1圖的珠擊裝置之前視圖。

第3圖係第1圖的珠擊裝置之俯視圖。

第4係第1圖之珠擊裝置的後視圖。

第5圖(A)係顯示第1圖的珠擊裝置之一部分的左側視圖，第5圖(B)係顯示從裝置正面來看第1圖的珠擊裝置之機櫃內部的示意圖。

第6圖係顯示第1圖的珠擊裝置之循環機構的右側視圖。

第7圖(A)係沿著第6圖的7A-7A線之剖面圖，第7圖(B)係沿著第6圖的7B-7B線之剖面圖，第7圖(C)係沿著第6圖的7C-7C線之剖面圖。

第8圖係沿著第7圖(A)的8-8線之剖面圖。

第9圖係示意顯示斗式升降機的構成之概略立體圖。

第10圖係顯示第1實施形態之珠擊裝置的拋射機之從前面看的剖面圖。

第11圖係第10圖的拋射機之分解側視圖。

第12圖係顯示第10圖的拋射機之控制罩的側視圖。

第13圖係構成第10圖的拋射機之葉片的立體圖。

第14圖係顯示第10圖之拋射機的葉輪之從前面看的剖面圖。

第15圖(A)係顯示使用第12圖的控制罩進行拋射時之拋射分布的圖，第15圖(B)係顯示使用第12圖的控制罩進行拋射時之拋射範圍的平面圖。

第16圖(A)至(G)係用以說明使葉片後傾之構成的作用 之示意圖。

第17圖(A)至(G)係用以說明葉片朝徑向延伸之比較例的作用之示意圖。

第18圖係比較葉片無傾斜之情況與葉片後傾的情況並顯示拋射分布之圖表。

第19圖係用以說明拋射速度之示意圖，第19圖(A)係顯示葉片無傾斜的情況，第19圖(B)係顯示葉片後傾的情況。

第20圖係比較葉片無傾斜的情況與葉片後傾的情況並顯示電力與拋射量之關係的圖表。

第21圖係說明第1圖的珠擊處理裝置進行之珠擊處理之圖，第21圖(A)顯示使內蓋降低的狀態，第21圖(B)顯示使按押部降低的狀態之圖。

第22圖係說明第1圖的珠擊處理裝置進行之珠擊處理之圖，第22圖(A)顯示第一拋射位置，第22圖(B)顯示第二拋射位置，第22圖(C)顯示第三拋射位置之圖。

第23圖係說明第1圖之珠擊處理裝置進行之珠擊處理之圖，第23圖(A)顯示第一拋射位置的拋射狀態，第23圖(B)顯示第二拋射位置之拋射狀態，第23圖(C)顯示第三拋射位置之拋射狀態的圖示。

第24圖係變化例的拋射機之從側面看的縱剖面圖。

第25圖係第24圖的拋射機之分解側視圖。

第26圖係以俯視剖面來看示意顯示本發明的第2實施形態之珠擊裝置的一部分之示意圖。

第27圖(A)係顯示控制罩的第1變化例之側視圖，第27圖(B)係顯示控制罩的第2變化例之側視圖，第27圖(C)係顯示控制罩的第3變化例之側視圖，第27圖(D)係顯示控制罩的第4變化例之側視圖，第27圖(E)係顯示控制罩的第5變化例之側視圖。

第28圖(A)係概略顯示第1、第2變化例之拋射分布及拋射範圍之圖，第28圖(B)係概略顯示第3、第4變化例之拋射分布及拋射範圍的圖，第28圖(C)係概略顯示第5變化例之拋射分布及拋射範圍的圖。

第29圖係顯示其他的形狀之葉片的立體圖。

〔第1實施形態〕

參閱第1圖至第23圖，就本發明之珠擊處理裝置的第1實施形態之珠擊裝置10加以說明。此外，在上述圖中，箭頭符號FR表示從裝置的前面看之前面側，箭頭符號UP表示裝置的上方側，箭頭符號LH表示從裝置的前面看時之左側。

第1圖係珠擊裝置10的右側視圖，第2圖係珠擊裝置10的前視圖。如第1圖所示，珠擊裝置10具備有形成為箱狀之機櫃12。如第2圖所示，於機櫃12之前面側上部，形成有搬出入口14。

第5圖(B)係從裝置前面側看珠擊裝置10之機櫃12的內部之概略構成圖。

第5圖(B)所示之機櫃12的內部空間之上部係被加工 物W搬出搬入之搬出入區域16。相對地，機櫃12的內部空間之下部係對於被加工物W施加表面加工之加工區域18。

第5圖(A)係包含機櫃12的珠擊裝置10之一部分的左側視圖。

如第5圖所示，於加工區域18(第5圖(B))的側面，在機櫃12的側壁部12A設置有離心式的拋射機20。拋射機20係可將拋射材料對第5圖(B)所示之被加工物W拋射(第23圖)，被加工物W的表面加工係利用從拋射機20所拋射的拋射材料來進行。再者，拋射機20的詳細情況如後述。

在機櫃12中設置有升降旋轉機構22。升降旋轉機構22係構成為在可利用拋射機20進行表面加工的位置之加工位置(第22圖及第23圖)支撐被加工物W的支撐機構，於支撐被加工物W的狀態下，使被加工物W在搬出入區域16與加工區域18之間升降，且構成為能夠以延伸於上下方向之軸線為中心旋轉。

升降旋轉機構22係具備有承接被加工物W之被加工物承接部24。在本實施形態中，被加工物W係由堆疊複數個(例如5個)之齒輪所構成。於上述齒輪的中心孔係以軸桿(未圖示)貫穿於上下方向，且於軸桿的上端部嵌合有覆罩23。此外，覆罩23的下端面係靠接於最上段的齒輪之上面。再者，在覆蓋23以延伸於上下方向之軸線為中心可旋轉之方式被按押之狀態下，覆蓋23與被加工物W係能夠以延伸於上下方向之軸線為中心，一體地旋轉。 被加工物承接部24係經由驅動力傳達機構26而連接於馬達28，透過馬達28的動作而能夠以延伸於上下方向之軸線為中心旋轉。

馬達28係固定於馬達保持部30A，馬達保持部30A的上端部係經由連結部30B連結在倒L字狀的托架32A。如第5圖(A)所示，托架32A係設為可沿著延伸於上下方向之一對導軸32B升降。於托架32A的裝置左側(第5圖(A)的前面側)，固定有升降構件32S。升降構件32係在一對導軸32B之間，螺合在延伸於裝置上下方向之滾珠螺桿32C。滾珠螺桿32C係連接於升降伺服馬達32M。將升降伺服馬達32M的旋轉轉換為上下方向的直線運動，亦即，按照升降伺服馬達32M的正轉逆轉而可使升降構件32S升降。

如此，升降伺服馬達32M、滾珠螺桿32C、升降構件32S、托架32A以及導軸32B構成升降用的千斤頂32。升降伺服馬達32M係連接至控制部25，藉由控制部25控制動作。亦即，控制部25係根據來自操作者的指示資訊，進行升降伺服馬達32M的正轉、逆轉及停止的控制。

如第5圖(B)所示，於托架32A固定有第一壓力缸機構34的壓力缸34A。在第一壓力缸機構34中，於壓力缸34A內配置有桿34B的上部以及未圖示之活塞。桿34B係其上端部固定在活塞，而下端部分延伸出壓力缸34A的下方。活塞及桿34B係可透過壓力缸34A內的流體壓(在本實施形態中為空氣壓)對壓力缸34A進行相對移動 (於上下方向進行往復運動)。

於桿34B的下端部，固定有內蓋36。內蓋36係構成為透過千斤頂32及第一壓力缸機構34的動作，而能夠在搬出入區域16之上端側的位置之第一位置36X(第5圖(B)所示之位置)，以及搬出入區域16與加工區域18之間的位置之第二位置36Y(第22圖)之間上下移動。亦即，藉由千斤頂32與第一壓力缸機構34彼此合作，在被加工物W搬出搬入於搬出入區域16時將內蓋36配置於第一位置36X，並且在被加工物W配置於加工區域18時將內蓋36配置於第二位置36Y(第22圖)，藉以構成使內蓋36升降之升降機構38。

再者，於托架32A固定有第二壓力缸機構40的壓力缸40A。在第二壓力缸機構40中，於壓力缸40A內配置有桿40B的下部以及未圖示之活塞。桿40B係其下端部固定在活塞，而其上部側延伸出壓力缸40A的上方側。活塞及桿40B係係可透過壓力缸40A內的流體壓(在本實施形態中為空氣壓)對壓力缸40A進行相對移動(於上下方向進行往復運動)。

桿40B的上端部係經由連結部42而連結於軸承44。軸承44係配置在第二壓力缸機構40之裝置右側。於此軸承44中係插入延伸於上下方向之按押用軸46的上端部。按押用軸46係不可對於軸承44進行上下方向之相對移動，但能夠以按押用軸46為中心對軸承44旋轉。於按押用軸46的下端部安裝有按押部48。按押部48係能夠 以延伸於上下方向的軸線為中心而與按押用軸心46一起旋轉，且可貫通內蓋36的貫穿孔。按押部48係可經由覆蓋23而從裝置上方側按押被裝載在被加工物承接部24之被加工物W，且可在按押被加工物W之狀態下，與被加工物W一起以延伸於上下方向(升降方向)的軸線為中心旋轉。

再者，第一壓力缸機構34的壓力缸34A及第二壓力缸機構40的壓力缸40A係分別經由電磁閥等之空氣方向控制機器(未圖示)而與空氣供應源連接，空氣方向控制機器係連接至控制部25。控制部25係根據來自操作者的指示資訊，控制各空氣方向控制機器，而可控制桿34B、40B的進退方向。

此外，在機櫃12中，於搬出入區域16的側壁部設置有被加工物檢査裝置200。被加工物檢査裝置200係例如具有短圓筒狀等的筒狀形狀，且配置成其貫穿方向為上下方向而收納在機殼中(未圖示)。此外，在第1圖等中，省略機殼的圖示，並且亦適當省略被加工物檢査裝置200的圖示。

如第5圖(B)所示，被加工物檢査裝置200係以包圍被升降旋轉機構22支撐之被加工物W的側面之方式而配置，亦即以被加工物檢査裝置200的內周面200A與被加工物W的側面相對向之方式而配置，藉此而可對被加工物W的側部之狀態(例如，殘留應力、表面粗度及硬度等)進行非破壞檢測。在本實施形態中，被加工物檢査裝置 200係非接觸式的檢査裝置，利用渦電流之電壓變化對被加工物W之側部的狀態進行非破壞檢測。此外，被加工物檢査裝置亦可為接觸式的檢査裝置。

被加工物檢査裝置200係固定在旋轉臂202的前端部。旋轉臂202係基端部設置在機櫃12側，且能夠以延伸於上下方向之軸線為中心而旋轉移動。被加工物檢査裝置200係藉由固定在旋轉臂202的前端部，而支撐為可在以實線表示之退避位置以及以二點鎖線表示之檢査位置之間移動。

在此，被加工物檢査裝置200之退避位置係指對於被升降旋轉機構22所支撐之被加工物W，內蓋36及按押部48配置為分離於上方時，被加工物檢査裝置200可從側面側插入被加工物W與內蓋36及按押部48之間的位置。

在本實施形態中，從第5圖(B)所示之狀態，藉由千斤頂32的動作，使被加工物W、內蓋36及按押部48不改變被加工物W與內蓋36及按押部48之相對位置關係而降低時，在退避位置的被加工物檢査裝置200可從側面側插入至被加工物W與內蓋36及按押部48之間。

並且，被加工物檢査裝置200的退避位置係設定為在透過升降旋轉機構22而使被加工物W升降時以及透過升降機構38而使內蓋36升降時，升降之其他的構件與被加工物檢査裝置200不發生干涉之位置。

相對地，被加工物檢査裝置200之檢査位置 係退避位置的側面之位置，且為升降旋轉機構22使被加工物W升降時，成為包圍被加工物W的側面的位置之位置。亦即，被加工物檢査裝置200之檢査位置係升降旋轉機構22使被加工物W升降時，為被加工物W之側面的移動軌跡之外方的位置。

另一方面，旋轉臂202連接在馬達(未圖示)，利用馬達的驅動力而旋轉移動。再者，馬達係連接至控制部25(第5圖(A))。控制部25係根據來自操作者的指示資訊，控制馬達的正轉、逆轉及停止等之動作。

第6圖係從右側看珠擊裝置10的內部中之循環機構50的側視圖。循環機構50係使利用拋射機20所拋射之拋射材料朝拋射機20循環之機構。如第6圖所示，於加工區域18的下方側設置有螺旋輸送機52。螺旋輸送機52係以延伸於裝置前後方向之方式而水平地配置，且連接在裝置後面側設置之馬達52M。螺旋輸送機52係透過馬達52M的動作而以長方向軸線為中心旋轉，將從加工區域18落下之拋射材料，沿著螺旋輸送機52的長方向朝裝置後面側搬送。

於螺旋輸送機52的搬送方向下游側，配置有作為延伸於上下方向的搬送機構之斗式升降機54的下端部。斗式升降機54係將從螺旋輸送機52所供應的拋射材料等搬送至裝置上部之裝置。關於斗式升降機54的構成如後述。

第7圖(A)係沿著第6圖的7A-7A線之剖 面圖，第7圖(B)係沿著第6圖的7B-7B線之剖面圖，第7圖(C)係沿著第6圖的7C-7C線之剖面圖。此外，第8圖係沿著第7圖(A)的8-8線之剖面圖。

如第7圖(B)及第8圖所示，於珠擊裝置10之裝置上部，對應於斗式升降機54的上部之裝置後面側(第8圖的右側)，設定有分離器56的入口56A。在本實施形態中，分離器56係風選式的分離器，其使氣流噴向從斗式升降機54拋出而從入口56A供應的拋射材料及粉塵，將被氣流攜帶之輕量物與落下之重量物予以選別，將異物從拋射材料予以區別。分離器56係將從拋射材料及粉塵分離去除粉塵後之適當的拋射材料排出到裝置下部側。如第8圖所示，分離器56之拋射材料的排出位置56Z係設定在斗式升降機54的下端部之裝置前面側(第8圖的左側)。

相對於斗式升降機54的上部之投出部，於裝置後面側設置有沉降室58。第3圖中以俯視圖表示珠擊裝置10。如第3圖所示，沉降室58連接有篩部60及集塵機62。此外，如第3圖及珠擊裝置10的背面圖之第4圖所示，於集塵機62之裝置後面側配置有控制盤64。

第3圖所示之沉降室58係將包含在從斗式升降機54的上部被拋出的拋射材料之混合物中所含的粉塵分離為微粉與粗粉。分離出之微粉與空氣一起由集塵機62所吸引，而粗粉係朝向篩部60流動。集塵機62係將含有微粉之空氣過濾而僅將空氣排出到大氣中。再者，篩部60係構成為篩選粗粉，且將篩選為可使用之拋射材料送回 到斗式升降機54的下端部之裝置前面側。

如第7圖(A)及第8圖所示，於珠擊裝置10的裝置上部，鄰接於分離器56的入口56A設置有彈丸槽66的彈丸供應口66A。彈丸供應口66A係配置在對應於斗式升降機54的上部之裝置前面側(第8圖的左側)的位置。彈丸槽66係將供應到彈丸供應口66A之拋射材料，儲存作為朝拋射機20(第6圖)之供應用拋射材料。如第6圖所示，彈丸槽66係經由流量調整裝置68及導入筒70而連接至拋射機20。此外，流量調整裝置68係用以調整拋射材料的流量之裝置，其具備有可開關拋射材料供應用的開口之彈丸閘門(未圖示)。

其次，就斗式升降機54加以說明。第9圖係示意顯示斗式升降機54的構成之概略立體圖。

如第7圖(A)、第7圖(B)及第9圖所示，斗式升降機54係具備配置於珠擊裝置10的上部及下部之滑輪54A、54B，上側的滑輪54A係連接在驅動用的馬達54M(第9圖)而可旋轉驅動。於上下一對滑輪54A、54B，係捲繞單一的環帶54C，環帶54C係構成為經由滑輪54A且透過馬達54M而旋轉。

如第9圖所示，於環帶54C的寬方向的一端側，安裝有複數個第一吊桶54X，而複數個第一吊桶54X係在環帶54C的長方向隔著一定間隔排列而配置。此外，於環帶54C的寬方向的另一端側，安裝有複數個第二吊桶54Y，而複數個第二吊桶54Y係於環帶54C的長方向 隔著一定間隔排列且與第一吊桶54X並列地配置。

如第7圖(B)所示，由複數個第一吊桶54X所構成之第一列搬送部55A，係成為將拋射材料及粉塵從裝置下部側搬送到裝置上部側且供應至分離器56的入口56A之搬送部。相對地，如第7圖(A)所示，由複數個第二吊桶54Y所構成的第二列搬送部55B，係成為將從分離器56被排出之拋射材料，從裝置下部側搬送到裝置上部側且供應至彈丸槽66的彈丸供應口66A之搬送部。並且，如第9圖所示，第一列搬送部55A及第二列搬送部55B係利用共同的馬達54M進行驅動。

再者，如第7圖(B)所示，接近環帶54C的下部設置有分隔部57。此分隔部57係將第一列搬送部55A與第二列搬送部55B(第7圖(A))予以隔開。

(拋射機的構成)

其次，參照第10圖至第20圖，就拋射機20加以詳細說明。

本實施形態之拋射機20係將拋射材料對小型的被加工物W(就一例而言，直徑100mm至200mm，高度45至50mm左右的齒輪，堆疊高度250mm左右)拋射之離心式的拋射機。

在本實施形態之拋射機20中，從葉輪100的轉軸方向來看，所拋射之拋射材料的擴張(拋射角)為30°左右。並且，在本實施形態之珠擊裝置10中，以拋射機20之拋射材料的投出位置為頂點，且以連結與配置在加工 位置之被加工物W的對向拋射機20之面的兩端時的頂點之角度(中心角)成為30°以內之方式，來設定被加工物W的尺寸、位置等，構成為利用來自拋射機20的拋射材料充分地處理被加工物W的被加工面。

本實施形態之珠擊裝置10中使用之小型的被加工物W，係與利用從噴嘴噴射包含拋射材料之壓縮空氣的裝置之氣壓式的噴射裝置進行珠擊處理之被加工物同等的尺寸大小。

第10圖係拋射機20的前視圖，第11圖係拋射機20的分解側視圖。

再者，拋射機20之從側面看的縱剖面，除了驅動馬達76的裝配部分，與顯示後述之第2實施形態的拋射機21之第24圖所示之縱剖面相同。因此，有關本實施形態的說明，亦適當地參照第24圖。

如第10圖及第11圖所示，拋射機20係具備有外殼本體72。外殼本體72係外形略成為梯形錐狀，底部側(第10圖的下方側)開放而成為拋射材料的拋射部側。如第11圖所示，底座72A係從外殼本體72的底部側朝相互分離的方向延伸，而固定於機櫃12之側壁部12A(第1圖)。

此外，於外殼本體72之一方側的側部72B，形成有插通輪轂82等之貫穿孔。另一方面，於外殼本體72之另一方側的側部72C，形成有插通導入筒70的貫穿孔。另一方面，外殼本體72的頂部係安裝有蓋體80，且於此蓋體80，形成有供襯墊78的上方部分插通之貫穿孔。 襯墊78係安裝在外殼本體72的內側。

於外殼本體72的內部之中央，配置有控制罩92。控制罩92係經由前面覆罩88而安裝在外殼本體72的側部72C。控制罩92係構成為具有圓筒形狀，且與驅動馬達76的轉軸76X同心地配置，而從導入筒70供應拋射材料到內部。於控制罩92的內周部與導入筒70的端部之間，配置有環狀的托架96與密封構件98。此外，導入筒70的一部分係利用導入筒按押部86(第11圖)予以按押。

再者，於控制罩92的外周壁92A，形成有貫穿外周壁92A而成為拋射材料的排出部之一個開口92X。如控制罩92的側視圖之第12圖所示，控制罩92的開口92X係設定為包含平行於圓筒軸心CL的二邊之矩形。

於第11圖所示之驅動馬達76的轉軸76X之外周，係透過固定件而固定有附凸緣圓筒體之輪轂82的圓筒部82A。於輪轂82係透過螺栓而固定有中央板90。再者，分配器94係經由中央板90，利用螺栓84而固定在驅動馬達76的轉軸76X之前端部76A。

如第10圖所示，圓筒狀的分配器94係於內部具備有沿徑向延伸之複數個翼片94A以及於周圍方向等間隔地配置之複數個開口，且以與控制罩92之間形成間隙之方式，配置在控制罩92的內側。

分配器94係透過驅動馬達76(參照第11圖)的動作而旋轉，且在控制罩92的內側進行旋轉。藉由分配器94的旋轉，使得從導入筒70供應到控制罩92的內側之拋射材 料在分配器94內被攪拌，從旋轉之分配器94的開口利用離心力通過分配器94的開口而供應到分配器94與控制罩92之間的間隙。供應到此間隙之拋射材料係沿著控制罩92的內周面於間隙中朝旋轉方向移動，而從控制罩92的開口92X排出到徑向外方。

此時，拋射材料從控制罩92的開口92X的排出方向係相對於從分配器94的旋轉中心(與後述之葉輪100的旋轉中心C相同)之徑向，成為朝葉輪100的旋轉方向(箭頭符號R方向)傾斜之方向。

如第11圖及第24圖所示，從輪轂82的圓筒部82A之軸方向一端部朝半徑方向外側延伸之凸緣82B係利用螺栓固定在側板單元102的圓環狀之第一側板102A。側板單元102係構成配置在控制罩92的外周側之葉輪100的一部分。葉輪100經由輪轂82安裝在驅動馬達76之轉軸76X。葉輪100係具備有第一側板102A，以及圓環狀的第二側板102B，其中圓環狀的第二側板102B係與第一側板102A隔著間隔相對向地配置。第一側板102A與第二側板102B係透過連結構件102C而被連結。

並且，葉輪100係具備有複數片葉片(旋翼片)104，該複數片葉片104係在第一側板102A與第二側板102B之間，以朝控制罩92的徑向外方延伸之方式而配置。葉輪100係透過驅動馬達76(第11圖)的動作得到旋轉力而繞控制罩92的周圍方向旋轉。葉輪100的旋轉方向與分配器94的旋轉方向係設定為相同方向。

各葉片104係相對於徑向，以徑向外端比徑向內端位於葉輪100的旋轉方向(箭頭符號R方向)後方側之型態傾斜地配置，且沿著控制罩92的外周而配置。

再者，如第23圖所示，從葉輪100之旋轉中心線的方向來看，在拋射機20中，以葉輪100的葉片104依裝置上方側、加工區域18之側、裝置下方側之順序移動之方式，設定葉輪100的旋轉方向(參照箭頭符號R方向)。

第13圖係葉片104的立體圖，第14圖係從前面看葉輪100的剖面圖。

如第14圖所示，葉片104之旋轉方向側的表面106係具備有後傾部110，該後傾部110係在徑向內方(基端部)側的部分，朝旋轉方向後方側傾斜。後傾部110較佳為對葉輪100的徑向以30°至50°的角度朝旋轉方向後方傾斜，在本實施形態中傾斜40°。

此外，於葉片104的表面106之前端側(亦即後傾部110之徑向外方側)，形成有從葉輪100的旋轉中心C略朝徑向(放射方向線L2方向)延伸之非後傾部114。後傾部110徑向長度設定為長於非後傾部114的徑向長度。於後傾部110與非後傾部114之間，形成有彎曲部112。

非後傾部114係可設定為朝旋轉方向後方之傾斜角度小於後傾部110。

再者，葉片104的表面106之相反側的背面108係具備有傾斜部116，該傾斜部116係相對於徑向，於基端部較後傾部110更大幅地朝旋轉方向後方側傾斜。於 葉片104的背面108係於徑向中間部突出形成有隆起部118。此隆起部118係以葉輪100之半徑方向外側的凹彎曲部靠接於連結構件102C。

如第13圖所示，於葉片104的表面106之兩側部，形成有從表面106朝葉片104的厚度方向外方延伸之側壁部120。於葉片104的基端之側壁部120，形成有朝側壁部120之寬方向外方突出成段狀之基端側段部122。此外，於側壁部120的前端部側，形成有於側壁部120之寬方向外方突出成段狀之前端側段部124。基端側段部122及前端側段部124係朝向從背面108側朝表面106側之方向，稍向基端部側(圖中下側)傾斜而延伸。

側壁部120係成為被嵌入到第11圖所示之第一側板102A及第二側板102B的溝部之葉片104的部位。此外，第13圖所示之側壁部120的基端側段部122及前端側段部124係成為靠接於第11圖所示之第一側板102A及第二側板102B的溝部底面之葉片104的部位。

其次，一邊參照第5圖、第21圖至第23圖等，一邊就本實施形態的珠擊裝置10進行之珠擊處理加以說明。此外，第21圖及第22圖係從與第5圖(B)相同的方向顯示珠擊裝置之珠擊處理的各步驟之剖面圖。

首先，如第5圖(B)所示，將被加工物W搬入到搬出入區域16，且設置至被加工物承接收部24。其次，如第21圖(A)所示，使第一壓力缸機構34動作以使內蓋36降低。並且，如第21圖(B)所示，使第二壓力缸機構 40動作，使按押部48降低，利用按押部48經由覆蓋23從上方側按押被加工物W。

其次，如第22圖(A)所示，使千斤頂32動作，使被加工物W及內蓋36降低。藉此，將被加工物W配置在加工區域18的第一加工位置之第一拋射位置18A，並且將內蓋36配置在第二位置36Y，隔開搬出入區域16與加工區域18。在此狀態下，藉由馬達28進行動作，使得被加工物W以上下方向軸線為中心旋轉，且藉由驅動馬達76(第11圖)進行動作，使第23圖(A)所示之葉輪100旋轉而將拋射材料予以拋射。

結果，對於被加工物W的全周進行表面加工。在第23圖(A)的狀態下，在被堆疊(堆積)之複數個被加工物W中，主要對於配置在下部之被加工物W進行珠擊處理。

再者，因藉由內蓋36將搬出入區域16與加工區域18隔開，可阻止拋射材料朝搬出入區域16之側漏出。此外，在本實施形態中，如第23圖所示，從葉輪100的旋轉中心線之方向來看，以按照裝置上方側、加工區域18之側、裝置下方側之順序移動之方式來設定葉輪100的旋轉方向(參照箭頭符號R方向)。透過此種構成，亦可抑制拋射材料朝裝置上方側漏出。

並且，在本實施形態中，設置在升降旋轉機構22之按押部48可貫穿內蓋36，且可從上方側按押被加工物W，並與被加工物W一起以上下方向軸線為中心旋轉。因此，即使將由升降旋轉機構22所支撐之被加工物W堆疊複數 個，亦可使被加工物W安定地繞著升降的方向之軸周圍旋轉。

其次，關閉流量調整裝置68(參照第6圖)之彈丸閘門，停止拋射材料的拋射。並且，一邊使被加工物W以上下方向軸線為中心旋轉，且如第22圖(B)所示，一邊透過千斤頂32的動作，使被加工物W下降，而配置於加工區域18之第二加工位置之第二拋射位置18B。

接著，打開流量調整裝置68(第6圖)之彈丸閘門，重新開始進行從拋射機20之拋射材料的拋射。在第23圖(B)之狀態中，在被堆疊之複數個被加工物W中，主要對於配置在上下方向之中間部之被加工物進行珠擊處理。

其次，關閉流量調整裝置68(第6圖)的彈丸閘門，再次停止拋射材料的拋射。並且，一邊使被加工物W以上下軸線為中心旋轉，且如第22圖(C)所示，一邊透過千斤頂32的動作，使被加工物W下降，而配置於加工區域18的第三加工位置之第三拋射位置18C。

接著，打開流量調整裝置68(第6圖)的彈丸閘門，從第23圖(C)所示之拋射機20將拋射材料予以拋射。在第23圖(C)之狀態中，在堆疊之複數個被加工物W中，主要對於配置在上部之被加工物進行珠擊處理。

如此，藉由透過升降旋轉機構22之千斤頂32的動作，使被加工物W在加工區域18中依序降低，而可對於堆疊之複數個被加工物W之全部施加珠擊處理。

在本實施形態中，係在第22圖及第23圖中使被加工物W降低時停止利用拋射機20進行拋射材料的拋射，但亦可在繼續利用拋射機20進行拋射材料的拋射之狀態下，使被加工物W降低。

其次，說明至被加工物W搬出為止之步驟。在第23圖(C)所示之狀態下，若對被加工物W進行所欲之表面加工，則流量調整裝置68(第6圖)之彈丸閘門將關閉，停止拋射材料的拋射。並且，停止拋射機20的驅動馬達76(第11圖)。

其次，使第22圖(C)所示之第二壓力缸機構40動作，使按押部48上升。其次，使第一壓力缸機構34動作，使內蓋36上升。藉此，在按押部48及內蓋36與被加工物W之間形成間隙(空間)。

其次，使千斤頂32動作，在維持按押部48及內蓋36與被加工物W之相對位置關係之狀態下，使按押部48、內蓋36及被加工物W上升。然後，在按押部48及內蓋36與被加工物W之間的間隙之高度位置成為與被加工物檢査裝置200的高度位置相同的高度位置之時點，使千斤頂32停止。

在此狀態下，使旋轉臂202動作，將位於退避位置之被加工物檢査裝置200，插入到按押部48及內蓋36與被加工物W之間的間隙，且使之移動到檢査位置(在第5圖(B)以二點鎖線表示之位置)。

其次，使千斤頂32動作，使被加工物W之最上段的齒 輪(對象物)上升到被包圍於被加工物檢査裝置200中之位置後，使千斤頂32停止。然後，被加工物檢査裝置200對被加工物W之最上段的齒輪之側部的狀態進行非破壞檢測。

於最上段之齒輪的檢査結束後，使千斤頂32動作，使自被加工物W之上起第2個齒輪上升到被被加工物檢査裝置200包圍之位置後，使千斤頂32停止。然後，被加工物檢査裝置200對自被加工物W之上起第2個齒輪的側部之狀態進行非破壞檢測。

以下相同地，依序進行各被加工物W之非破壞檢測。第5圖(B)中，顯示以二點鎖線表示之被加工物檢査裝置200包圍被加工物W的最下段之齒輪的側面之狀態。此最下段之齒輪的非破壞檢測結束之後，藉由使千斤頂32動作，不改變按押部48及內蓋36與被加工物W之相對位置關係，使被加工物W下降。然後，藉由使旋轉臂202動作，使位於檢査位置之被加工物檢査裝置200移動到退避位置。

之後，藉由千斤頂32動作，不改變按押部48及內蓋36與被加工物W之相對位置關係，使上述構件上升而配置於搬出入區域16之第5圖(B)所示的位置。然後，將設置在被加工物承接部24之被加工物W從搬出入區域16搬出。

此外，在本實施形態中，係利用拋射機20對被加工物W進行表面加工之後，利用被加工物檢査裝置 200進行被加工物W之非破壞檢測，然而，在不設置被加工物檢査裝置200之變化例中，至被加工物W搬出為止之步驟係如下所示。

亦即，在第23圖(C)所示之狀態下，在被加工物W已完成所欲的表面加工之時點，將流量調整裝置68(第6圖)之彈丸閘門關閉，停止拋射材料之拋射。此外，停止拋射機20之驅動馬達76(第11圖)。之後，藉由使千斤頂32(第21圖(B))動作，如第21圖(B)所示，使被加工物W、按押部48及內蓋36上升。然後，將被加工物W、按押部48及內蓋36配置於搬出入區域16。

其次，藉由使第二壓力缸機構40動作，如第21圖(A)所示，使按押部48上升。之後，藉由使第一壓力缸機構34動作，如第5圖(B)所示，使內蓋36上升而配置在第一位置36X。然後，將設置在被加工物承接部24之被加工物W從搬出入區域16搬出。

再者，在本實施形態中，如第23圖所示，拋射機20係在加工區域18的側面側上被設置在機櫃12的側壁部12A。亦即，拋射機20被配置在機櫃12的下部側(裝置下部側)，故即使將第6圖所示之彈丸槽66等配置在較拋射機20更於裝置上方側，亦可抑制整個裝置的高度。

其次，一邊參照第6圖至第9圖，一邊就使所拋射之拋射材料循環之循環機構50的動作加以說明。

由拋射機20拋射而落下之拋射材料係透過螺旋輸送機52搬送到斗式升降機54的下端部側。此時， 螺旋輸送機52除了搬送可再利用之拋射材料外，亦搬送因拋射材料破碎等所產生的粉塵。然後，第7圖(B)及第9圖所示之斗式升降機54的第一列搬送部55A係將拋射材料及粉塵從裝置下部側搬送到裝置上部側，供應到第7圖(B)及第8圖所示之分離器56的入口56A。

分離器56係將粉塵從自入口56A供應之拋射材料及粉塵分離去除，且將拋射材料排出到斗式升降機54之第二列搬送部55B的下端部側。斗式升降機54的第二列搬送部55B係將從分離器56(第7圖(B))所排出的拋射材料，從裝置下部側搬送到裝置上部側，且供應到第7圖(A)所示之彈丸槽66的彈丸供應口66A。

彈丸槽66係將供應到彈丸供應口66A之拋射材料儲存以供應給拋射機20使用。然後，彈丸槽66係經由流量調整裝置68及導入筒70，將拋射材料供應到拋射機20。

(作用‧效果)

其次，就上述實施形態之珠擊裝置10的作用及效果加以說明。

依據上述實施形態的珠擊裝置10，如第12圖所示，控制罩92之開口92X係設定為包含與控制罩92的圓筒軸心CL平行的二邊之矩形。因此，拋射材料係從控制罩92的周圍方向之相同的位置集中地被排出。

此外，如第10圖所示，配置在控制罩92的外周側之葉輪100係複數片葉片104繞於控制罩92的周圍方向旋轉，故從控制罩92的開口92X被排出之拋射材 料係透過葉片104被加速且朝被加工物W被拋射。

第15圖(A)係顯示使用第12圖的控制罩92進行拋射時之拋射分布。如第15圖(A)所示，使用第12圖的控制罩92時，拋射材料的分布成為沿著在分布寬度的中央具有1個尖峰之拋射分布曲線的分布。再者，第15圖(B)係顯示使用第12圖的控制罩92拋射時的拋射範圍之平面圖。

依據上述實施形態的珠擊裝置10，於葉輪100的葉片104之表面106形成有後傾部110，該後傾部110係對於葉輪100的徑向(放射方向線L1)朝旋轉方向(箭頭符號R方向)後方傾斜。藉此，可將拋射材料聚集在葉片104之表面106。

關於此點，一邊參照第16圖及第17圖一邊與比較例比較來加以說明。第16圖係用以說明使葉片B1後傾(從葉輪I 1的徑向朝旋轉方向(箭頭符號R方向)後方側傾斜)之葉輪I 1的作用之示意圖。

相對地，第17圖係用以說明葉片B2朝徑向延伸之比較例的葉輪I 2的作用之示意圖。此外，第16圖及第17圖中，(A)至(G)皆按時間序列順序排列。

首先，一邊參照第17圖一邊就比較例的作用加以說明。如第17圖(A)至第17圖(C)所示，首先，從控制罩C2的開口，將拋射材料A、拋射材料B、拋射材料c朝向對於徑向朝葉輪100的旋轉方向(箭頭符號R方向)傾斜之方向，隔著一定的間隔依序排出。

如第17圖(D)及第17圖(E)所示，首先，第三順位被排出之拋射材料c接觸葉片B2的表面，接著，第二順位被排出之拋射材料b接觸葉片B2的表面，最後，最先被排出之拋射材料a接觸葉片B2的表面。

拋射材料a、b、c係分別朝葉片B2的前端側被加速，惟接觸葉片B2之時機係如上述，且愈朝葉片B2的前端側，愈增加拋射材料的加速度，故如第17圖(F)所示，無法於葉片B2上聚集拋射材料a、b、c。並且，如第17圖(G)所示，最先被排出之拋射材料a被拋射。此外，雖省略圖示，然而之後，拋射材料b、拋射材料c係按照此順序錯開時序而拋射。如此，以朝徑向延伸之方式配置葉輪I 2的葉片B2時，無法使拋射材料集中來拋射。

另一方面，即使在葉片B1朝旋轉方向後方側傾斜之第16圖的構成中，如第16圖(A)至第16圖(C)所示，依序從控制罩C1的開口排出拋射材料s1、拋射材料s2、拋射材料s3。

在此構成中，如第16圖(D)所示，葉片係朝葉輪之旋轉方向後方側傾斜，拋射材料的排出方向係朝葉輪100的旋轉方向傾斜，並且，在葉片的表面設置有後傾部，故最先排出之拋射材料s1及第二順位排出之拋射材料s2在接觸葉片B1的表面之前，最後排出之拋射材料s3接觸葉片B1的表面，而朝葉片B1的前端側加速。

其次，如第16圖(E)所示，第二順位排出之拋射材料s2接觸葉片B1的表面。此時，已在葉片B1上加速之拋射 材料s3的葉片B1上之徑向位置成為與拋射材料s2之葉片B1上的徑向位置幾乎相同的位置。結果，拋射材料s3、s2幾乎成為一塊而朝葉片B1的前端側加速。

接著，如第16圖(F)所示，最先排出的拋射材料s1接觸葉片B1的表面。此時，已在葉片B1上加速的拋射材料s3、s2的葉片B1上之徑向位置成為與拋射材料s1的葉片B1上之徑向位置幾乎相同的位置。藉此，拋射材料s3、s2、s1幾乎成為一塊而朝葉片B1的前端側加速。

然後，如第16圖(G)所示，拋射材料s3、s2、s1大致成為一塊，同時地拋射。如此，使葉輪I 1的葉片B1後傾時，將聚集在葉片B1上的拋射材料s3、s2、s1予以拋射，故可使拋射分布集中。因此，可抑制對被加工物W之無效的拋射。

在上述實施形態的拋射機20中，葉輪100的旋轉方向側之表面106係具備後傾部110，該後傾部110係於徑向內方(基端部)側的部分，對於徑向朝旋轉方向後方側傾斜40°。

藉由將後傾部的朝旋轉方向後方側之傾斜角度設為30°以上，可充分確保葉片乘接拋射材料的時間差，故可提高拋射分布的集中度。並且，藉由將後傾部的朝旋轉方向後方側之傾斜角度設為50°以下，可將葉片乘接拋射材料的時間差設為使拋射材料集中到葉片上而言之更理想的時間差，並且可抑制葉片的長度。

此外，若抑制葉片的長度，則可抑制葉片的重量及零件成本，並且有利於裝配時的作業性等方面。

一邊參照第18圖，一邊就此點具體地加以說明。第18圖中顯示比較葉片從葉輪的旋轉中心沿著徑向而延伸(以下，僅簡稱「葉片無傾斜」。)之情況；以及葉片對於葉輪的徑向朝旋轉方向(箭頭符號R方向)後方側傾斜(以下，僅簡稱「葉片後傾」。)之情況之拋射分布的圖表。

在第18圖中，縱軸係表示拋射比例，横軸係以將拋射機之拋射材料的投出位置起沿著拋射中心之直線設為0°時的角度，表示平面的加工位置及該延長位置之拋射範圍。在第18圖中，以實線表示之線圖係表示本實施形態的情況，以虛線表示之線圖係表示葉片無傾斜之比較例的情況。此外，在第18圖中以二點鎖線表示之線圖係為別的實施形態而於後述之。

如第18圖所示，本實施形態的情況(參照實線)，與比較例的情況(參照虛線)比較，可知拋射分布集中在0°附近。在-15°至+15°的範圍內，本實施形態的情況(參照實線)係拋射比例較比較例的情況(參照虛線)更高。因此，從葉輪的轉軸方向來看，將拋射機之拋射材料的投出位置與朝向配置在加工位置之被加工物的拋射機之側的面之兩端位置連結的角度成為30°以內時，本實施形態的情況(實線參照)與比較例的情況(參照虛線)比較，可知對於表面加工可提高有效的拋射之比例。

然而，第18圖之比較例的情況(參照虛線)， 不僅拋射材料未擊中被加工物之所謂無效拋射多，且因未擊中被加工物之拋射材料擊中機櫃與襯墊等，亦縮短上述製品壽命。相對地，本實施形態的情況(參照實線)，由於抑制直接擊中機櫃與襯墊等之拋射材料的量，故可達成零件消耗費用的削減，結果，整體的運轉費用亦可大幅削減。

在此，更從其他的觀點加以補充說明。就拋射分布集中在狹窄的範圍之裝置而言，從噴嘴噴射包含拋射材料之壓縮空氣的氣壓式之噴射裝置為人所熟知。但是，氣壓式的噴射裝置中，相較於用以形成壓縮空氣之消耗電力，使拋射材料加速而可拋射之量極少，用以進行拋射之電力效率不佳。亦即，氣壓式的噴射裝置的情況，消耗電力增加。

相對地，本實施形態的拋射機20為離心式的拋射機，故比較消耗電力，可有效地將拋射材料予以拋射。因此，若適用本實施形態之拋射機20取代氣壓式的噴射裝置，則可大幅削減消耗電力，進而大幅削減運轉費用。

在本實施形態中，於葉片104的表面106之前端側，形成有非後傾部114，該非後傾部114係從葉輪100的旋轉中心C略朝徑向(放射方向線L2方向)延伸。透過此非後傾部，可將集中於後傾部110之拋射材料的速度增加而拋射。

關於此點，使用第19圖及第20圖加以詳細說明。第19圖係用以說明拋射速度的示意圖。第19圖(A)係表示葉片B3無傾斜之情況，而第19圖(B)係表示葉片 B1後傾40°之情況。

在第19圖(A)中，f4係離心加速之方向的速度，f5係葉片B3之前端的切線方向之速度，f6係f4與f5之合成速度。此外，在第19圖(B)中，f1係離心加速之方向的速度，f2係葉片B1的前端之切線方向的速度，而f3為f1與f2之合成速度。再者，在第19圖(A)及第19圖(B)中，葉片之旋轉外徑及轉速設為相同。如第19圖(A)及第19圖(B)所示，葉片B1後傾的情況之合成速度f3比葉片B3無傾斜的情況之合成速度f6更小。因此，將葉片的傾斜以外的條件設為相同時，若使葉片B1後傾，相較於不使葉片B3傾斜的情況，拋射速度變慢。

另一方面，為了提高拋射速度，利用驅動馬達使葉輪更高速旋轉時，雜音將增加並且消耗電力亦增加。附帶地，提高驅動馬達的旋轉數時，無載電力亦增加。

第20圖中，就拋射速度相當於70m/s時的消耗電力，顯示比較葉片無傾斜之情況與葉片後傾的情況之圖表。在第20圖中，將縱軸設為消耗電力，將横軸設為每單位時間之拋射量。此外，以實線表示之線圖表示葉片後傾的情況，而以一點鎖線表示之線圖表示葉片無傾斜之情況。如此圖所示，若單純地使葉片後傾，則不利於消耗電力之方面。

但是，在本實施形態中，由於以第14圖所示之後傾部110集中之拋射材料透過非後傾部114增加速度後拋射，故能夠以與不使葉片傾斜的情況相同的拋射電 力效率來進行拋射。

此外，在本實施形態中，如第11圖所示，葉輪100係經由輪轂82安裝在驅動馬達76的轉軸76X。因此，例如，相較於經由皮帶連接在驅動馬達之情況，整個裝置小型化。

此外，在本實施形態中，拋射材料係透過非後傾部114增加速度後拋射，故可抑制葉輪100之每單位時間的旋轉數的增加，而可抑制消耗電力的增加。

再者，在本實施形態中，以葉輪100之轉軸方向來看，後傾部110的長度設定為比非後傾部114的長度更長。因此，可透過非後傾部114充分地增加拋射材料的速度。

此外，在本實施形態中，於葉片104的表面106，形成有平滑地連繫後傾部110與非後傾部114之彎曲部112。因此，透過葉片104的後傾部110聚集拋射材料後，可漸漸地使拋射材料的速度增大。

此外，在本實施形態中，從控制罩92的開口92X之拋射材料的排出方向，成為朝葉輪100的旋轉方向前方側之方向傾斜。

因此，可使從控制罩92的開口92X先排出之拋射材料接觸葉片104的表面106之時機延遲，且可透過葉片104的表面106之後傾部110更有效地使拋射材料集中。

再者，在本實施形態中，於葉片104之背面108設置有傾斜部116。從開口92X排出之拋射材料觸及 葉片104的背面108之基端部而反射時，透過傾斜部116使拋射材料的反射方向偏向，而可抑制朝葉片104彼此間的反射量。因此，可抑制在葉片104彼此間之拋射材料的流動之混亂。

在本實施形態之珠擊裝置中，如第8圖所示，彈丸槽66的彈丸供應口66A係與分離器56的入口56A相鄰而設定，在彈丸槽66的上方側並未配置分離器56，故可抑制整個裝置的高度。此外，如第9圖所示，斗式升降機54使用有共同的馬達54M及單一的環帶54C，故可減少零件數，並且可使裝置小型化。

再者，在本實施形態之珠擊裝置中，如第7圖(B)所示，設置有分隔部，該分隔部係對於環帶54C僅接近於其下部，將第一列搬送部55A與第二列搬送部55B(參照第7圖(A))予以隔開。因此，可防止利用分離器56分離去除粉塵之前的混合物(拋射材料及粉塵)以及利用分離器56分離去除粉塵之後的拋射材料混雜在一起。再者，若將第一列搬送部55A與第二列搬送部55B(第7圖(A))之隔開部設置在斗式升降機54的全高部分時，斗式升降機54的構造會變得複雜，但在本實施形態的情況無此種現象。此外，在斗式升降機54的中間部中，因拋射材料分別進入到第一吊桶54X及第二吊桶54Y之中，故不需隔開部。

如以上，依據本實施形態的珠擊裝置10，可削減拋射量。

再者，就上述第1實施形態的變化例而言， 可使用第24圖及第25圖所示之拋射機21取代第10圖及第11圖所示之拋射機20。

第24圖係變化例的拋射機21之從側面看的縱剖面圖，第25圖係拋射機21的分解側視圖。

如上述圖所示，拋射機21係在驅動馬達的轉軸未直接固定在輪轂82之點，與第1實施形態的構成不同。其他的構成為與第1實施形態相同的構成。因此，有關與第1實施形態相同的構成部，標示相同符號而省略說明。

於外殼本體72的圖中右側之側部72B，形成有插通軸承單元74等的前端部之貫穿孔，且於外殼本體72的圖中右側之內側中央部，配置有軸承單元74的前端部74A。軸承單元74的前端部74A係安裝在外殼本體72的圖中右側之側部72B。軸承單元74係具備軸承74B而旋轉自如地支撐轉軸77X。

於轉軸77X的基端側，固定有第二滑輪79。此第二滑輪79與未圖示之第一滑輪係捲繞帶體81。第一滑輪係固定在未圖示之驅動馬達的轉軸。藉此，將驅動馬達的旋轉力傳達到轉軸77X。

於轉軸77X的前端部77A之外周側，配置有附凸緣圓筒體的輪轂82之圓筒部82A。於輪轂82，利用螺栓固定有中央板90。輪轂82係利用固定件固定於轉軸77X的前端部77A定件。

在此種變化例之珠擊裝置中，亦可削減拋 射量。再者，此種變化例的情況，整個裝置的大小雖變大，但有利於抑制消耗電力之點。

〔第2實施形態〕

其次，就本發明的第2實施形態之珠擊處理裝置的珠擊裝置130，依照第26圖加以說明。第26圖係本實施形態的珠擊裝置130之俯視的概略構成圖。

此外，關於與第1實施形態實質上相同的構成部，標示相同符號而省略說明。此外，就本實施形態的珠擊處理之被加工物W而言，例如，可舉例如齒輪等的製品。透過珠擊處理以謀求減低被加工物W的表面粗度並提高疲勞強度。

如第26圖所示，珠擊裝置130係具備有機櫃132。於機櫃132內的側部，設置有與第1實施形態的珠擊裝置相同的離心式之拋射機20。在本實施形態中，葉輪100之旋轉中心C延伸於上下方向。

於機櫃132的內部，在可利用拋射機20進行表面加工之加工位置，設置有作為支撐被加工物W的支撐機構之製品裝載部134。製品裝載部134具備有大機台138，於大機台138上，在大機台138之同心圓上的位置，等間隔地在圓周方向配置複數個小機台142。

大機台138係能夠以上下方向的轉軸136為中心旋轉(公轉)，而配置在包含透過離心式的拋射機20將拋射材料予以拋射的拋射範圍之位置。

此外，小機台142係直徑比大機台138小，其具備與 大機台138的轉軸136平行的轉軸140而可旋轉(自轉)，且搭載被加工物W。

再者，於對應從拋射機20起的拋射範圍之大機台138上的位置，設置有用以按押被加工物W之機構。此機構係具備從上方側按押小機台142上之被加工物W而可與被加工物W一起旋轉之按押部。

依據本實施形態的構成，可抑制拋射材料之無效的拋射，而可削減拋射量。

〔其他實施形態〕

其次，就與在上述實施形態所使用之拋射機不同之其他的拋射機，使用第27圖及第28圖加以說明。此外，此拋射機係除了控制罩的開口之形狀不同之點外，與在第1實施形態之珠擊裝置所使用之拋射機20(第10圖及第11圖)為相同的構成。

第27圖(A)至第27圖(E)所示之控制罩150、152、154、156、158係形成為圓筒狀，且將拋射材料供應到內部。具備有上述控制罩150、152、154、156，158之離心式的拋射機，係設置在珠擊處理裝置而用以拋射拋射材料之拋射機。

此外，具備有第27圖(A)至第27圖(D)所示之控制罩150、152、154、156之拋射機係本發明的實施形態之拋射機，而具備第27圖(E)所示之控制罩158的拋射機係未包含在本發明的參考例之拋射機。

在具備第27圖(A)至第27圖(D)所示之控制 罩150、152、154、156之拋射機中，以葉輪之轉軸方向來看，以拋射機之拋射材料的投出位置作為頂點，且以連結與配置在加工位置之被加工物W的拋射機相對向之面的兩端時之頂點的角度(頂角)成為50°至80°之方式，設定被加工物W之尺寸、位置等。

於第27圖(A)所示之控制罩150的外周壁150A，貫穿形成有作為拋射材料的排出部之第一貫穿部160及第二貫穿部162。

第一貫穿部160及第二貫穿部162皆構成控制罩150的開口。第一貫穿部160係設定為在與控制罩150的圓筒軸心CL平行且相互相對向之平行二邊160A、160B之間。

再者，第二貫穿部162係設定為相對於第一貫穿部160，在偏移於控制罩150的外周壁150A之周圍方向及圓筒軸心CL的方向之第二平行二邊162A、162B之間。

第一貫穿部160與第二貫穿部162係於控制罩150的圓筒軸心CL之方向分離，而從控制罩150的圓筒軸心CL之方向來看，各自的略一半係重疊著。

此外，於第27圖(B)所示之控制罩152的外周壁152A，貫穿形成有開口164以作為拋射材料的排出部。

開口164係具備有第一貫穿部166及第二貫穿部168。第一貫穿部166係設定為平行於與控制罩的圓筒軸心CL垂直之方向，且於相互相對向之第一平行二邊166A、166B之間。

再者，第二貫穿部168係設定為相對於第一貫穿部 166，在偏移於控制罩152的外周壁152A之周圍方向及控制罩152的圓筒軸心CL之方向之平行且相互相對向之第二平行二邊168A、168B之間。

第一貫穿部166與第二貫穿部168係相連通，並且，從控制罩152的圓筒軸心CL之方向來看，各自的略一半係重疊著。

此外，於第27圖(C)所示之控制罩154的外周壁154A，貫穿形成有開口170以作為拋射材料的排出部。

開口170係具備有第一貫穿部172及第二貫穿部174。第一貫穿部172係設定為在與控制罩的圓筒軸心CL平行且相互相對向之第一平行二邊172A、172B之間。

此外，第二貫穿部174係設定為相對於第一貫穿部172，在偏移於控制罩154的外周壁154A之周圍方向及控制罩154之圓筒軸心CL的方向之平行且相互相對向之第二平行二邊174A、174B之間。

第一貫穿部172與第二貫穿部174係透過第三貫穿部176而相連通。第三貫穿部176係將第一貫穿部172之邊172A的終端與第二貫穿部174之邊174A的終端連結成直線狀，並且，將第一貫穿部172之邊172B的終端與第二貫穿部174之邊174B的終端連結成直線狀。

第一貫穿部172與第二貫穿部174係從控制罩154的圓筒軸心CL之方向來看，各自的略一半係重疊著。

此外，於第27圖(D)所示之控制罩156的外 周壁156A係貫穿形成有開口178以作為拋射材料之排出部。

開口178係具備有第一貫穿部180及第二貫穿部182。第一貫穿部180係設定為在與控制罩的圓筒軸心CL平行且相互相對向之第一平行二邊180A、180B之間。

此外，第二貫穿部182係設定為相對於第一貫穿部180，在偏移於控制罩156的外周壁156A之周圍方向及控制罩156的圓筒軸心CL之方向之平行且相互相對向之第二平行二邊182A、182B之間。

從與控制罩156的圓筒軸心CL垂直之方向來看(從第27圖(D)之方向來看)，第一貫穿部180與第二貫穿部182係於圓筒軸心CL之方向稍微分離，且從控制罩156之圓筒軸心CL的方向來看，各自的略一半係重疊著。

此外，第一貫穿部180與第二貫穿部182係透過第三貫穿部184而相連通。第三貫穿部184係將第一貫穿部180之邊180A的終端與第二貫穿部182之邊182A的終端連結成階梯狀，並且，將第一貫穿部180之邊180B的終端與第二貫穿部182之邊182B的終端連結成階梯狀。

在具備有第27圖(A)至第27圖(D)所示之控制罩150、152、154、156之拋射機中，分別從第一貫穿部160、166、172、180及第二貫穿部162、168、174、182排出之拋射材料係從控制罩150、152、154、156之周圍方向上偏離之位置排出。因此，該等拋射機之拋射分布係包含將從第一貫穿部160、166、172、180排出之拋射材料的拋 射分布，以及從第二貫穿部162、168、174、182排出之拋射材料的拋射分布予以合成的分布。

並且，第一貫穿部160、166、172、180與第二貫穿部162、168、174、182係在控制罩150、152、154、156之圓筒軸心CL的方向上重疊略一半，故分別從第一貫穿部160、166、172、180及第二貫穿部162、168、174、182排出之拋射材料的各拋射分布，亦在各別的分布寬度之略一半的範圍內重疊。因此，就整體的拋射分布而言，可擴張拋射量多的範圍(謀求拋射集中化之範圍)。

於第28圖(A)中概略地顯示具備有控制罩150、152(第27圖(A)、(B))的拋射機之拋射分布(圖中的上段)及拋射範圍(圖中的下段)。

此外，於第28圖(B)中概略地顯示具備有控制罩154、156(第27圖(C)、(D))的拋射機之拋射分布(圖中的上段)及拋射範圍(圖中的下段)。從上述圖亦可知擴張了拋射量多的範圍。

再者，具備有第27圖(A)至第27圖(D)所示之控制罩150、152、154、156之拋射機，透過上述之類的構成，而能夠以50°至80°之廣域的角度，將拋射材料拋射到被加工物。

一邊參照第18圖之拋射分布的圖表一邊具體地加以說明。在第18圖中，以二點鎖線表示之線圖係顯示具備有第27圖(B)所示之控制罩152之拋射機的情況(以下，簡稱「本實施形態的情況」。)。

如第18圖所示，與比較例的情況(參照虛線)比較時，本實施形態的情況(二點鎖線)在0°之拋射比例雖低，但在本實施形態的情況之0°的拋射比例係顯示比在比較例的情況之-25°、+25°之拋射比例更高的值。再者，注目於比-25°更位於圖表的左側及比+25°更位於圖表的右側時，在-25°至-40°的範圍及+25°至+40°的範圍內，本實施形態的情況係較比較例的情況之拋射比例更高。

在此，被加工物之整體的處理時間若考慮拋射比例最低的部分完成所欲的珠擊處理為止的時間以及上述的分析時，從葉輪之轉軸方向來看，將拋射機之拋射材料的投出位置以及朝向被配置在加工位置之被加工物的拋射機之側的面之兩端位置予以連結的角度成為50°至80°時，與比較例的情況(虛線)比較，可知本實施形態的情況(實線)可提高對表面加工有效的拋射之比例。

欲使用從噴嘴噴射包含拋射材料之壓縮空氣的氣壓式之噴射裝置進行廣範圍的珠擊處理時，必需增加噴嘴的個數，或使噴射裝置與被加工物的相對移動量變多等。因此，消耗電力大幅上升。相對地，本實施形態的情況係使用離心式的拋射機，故可抑制消耗電力。

其次，就具備有第27圖(E)所示之控制罩158之拋射機(不包含在本發明之參考例)加以說明。

於第27圖(E)所示之控制罩158的外周壁158A係貫穿形成有開口186以作為拋射材料的排出部。

開口186係設為一平行四邊形的貫穿部，該貫穿部係 具備有延伸於與控制罩158的圓筒軸心CL垂直的方向之相互一部分相對向之平行二邊186A、186B。於第28圖(C)中概略地顯示具備有控制罩158(第27圖(E))之拋射機的拋射分布(圖中上段)及拋射範圍(圖中下段)。

就上述各實施形態的變化例而言，亦可使用第29圖所示之葉片190取代第13圖所示之葉片104。此外，在第29圖中，有關與第13圖之葉片104實質性地相同的構成部，標示相同符號。

此外，在上述實施形態中，第14圖所示之後傾部110係對於從葉輪100的旋轉中心C起之徑向朝旋轉方向後方側傾斜40°，後傾部之傾斜角度係以30°至50°為理想，但後傾部的傾斜角度，亦可設為例如25°與55°等之其他的角度。

此外，形成在葉片的表面之前端部側的非後傾部，只要從後傾部朝旋轉方向後方側之傾斜角為小的傾斜角，則可為任意者。在本說明書中，所謂「從後傾部朝旋轉方向後方側之傾斜角為小」，除了該傾斜角比朝後傾部的旋轉方向後方側之傾斜角更小的情況之外，亦包含朝徑向延伸之構成以及朝旋轉方向前方側傾斜之構成，故非後傾部亦可為對於從葉輪的旋轉中心起之徑向延伸者，或對於徑向朝旋轉方向前方側傾斜者。此外，亦可為不設置非後傾部之構成。

此外，後傾部之徑向長度與非後傾部之徑向長度亦可設定為相等。

並且，亦可為後傾部與非後傾部不經由彎曲部而直接被連結之構成。

並且，亦可為不形成傾斜部之構成。

再者，可於搬出入區域與加工區域之間設定中間區域時，亦可為不設置內蓋之構成。

此外，可於搬出入區域與加工區域之間設定中間區域時，拋射機亦可在中間區域的側面側上，設置在機櫃的側壁部。

再者，亦可將拋射機20之葉輪的旋轉方向，與上述實施形態相反地設定。

此外，在上述第1實施形態中，第5圖所示之按押部48係經由覆罩23按押被加工物W，但按押部48亦可採用直接按押被加工物之類的形態。再者，例如，被加工物的高度低且為單品等時，亦可不設置按押部48而在被加工物承接部24之側設置保持被加工物之機構。

再者，在具備有第一列搬送部與第二列搬送部之搬送機構中，亦可設置分別對應第一列搬送部與第二列搬送部之螺旋輸送機。

此外，亦可為將構成第一列搬送部之環帶與構成第二列搬送部之環帶各別設置，且利用各自的驅動用馬達來驅動各別的環帶之構成。

再者，亦可為不設置第7圖(B)所示的分隔部57之構成。

再者，亦可適當地組合上述實施形態及上 述複數個變化例。

以上，依照實施形態說明了本發明，但本發明不限定於上述實施形態等，而可在申請專利範圍之範圍內進行種種變更、替代。

20‧‧‧拋射機

72‧‧‧外殼本體

92‧‧‧控制罩

92X‧‧‧開口

94‧‧‧分配器

94A‧‧‧旋翼片

100‧‧‧葉輪

102C‧‧‧連結構件

104‧‧‧葉片

106‧‧‧表面

108‧‧‧背面

110‧‧‧後傾部

112‧‧‧彎曲部

114‧‧‧非後傾部

116‧‧‧傾斜部

C‧‧‧旋轉中心

R‧‧‧旋轉方向

Claims (21)

1. 一種珠擊處理裝置，具備有離心式的拋射機以及支撐機構，其中該離心式的拋射機係將拋射材料對被加工物拋射，該支撐機構係在可利用前述拋射機進行表面加工之加工位置支撐被加工物，該拋射機具備：控制罩，係具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，且在側壁形成有成為前述拋射材料的排出口之開口；以及葉輪，係具備在前述控制罩的外方朝前述控制罩的徑向外方延伸之方式而配置之複數片葉片，且以前述控制罩的中心軸線為中心旋轉，前述葉片係於旋轉方向前方側的表面設置有後傾部，該後傾部係朝旋轉方向後方側傾斜。
2. 如申請專利範圍第1項所述之珠擊處理裝置，其中，前述開口係具備有二邊與前述控制罩的圓筒軸心平行之矩形形狀。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之珠擊處理裝置，其中，以前述葉輪之轉軸方向來看，設為前述拋射機之拋射材料的投出位置與配置在前述加工位置之被加工物的朝向前述拋射機之面的兩端所形成之角度成為30°以內之被加工物的表面加工用，前述後傾部係對前述葉輪之徑向朝旋轉方向後方側傾斜30°至50°。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之珠擊處理裝置，其中，前述後傾部係形成在前述葉片的基端部側，前述葉片之前端部側係形成有從前述後傾部朝旋轉方向後方側之傾斜角小的非後傾部。
5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之珠擊處理裝置，其中，前述葉輪係經由輪轂安裝在驅動馬達的轉軸。
6. 如申請專利範圍第4項或第5項所述之珠擊處理裝置，其中，前述後傾部的徑向長度設定為比前述非後傾部之徑向長度更長。
7. 如申請專利範圍第4項至第6項中任一項所述之珠擊處理裝置，其中，設置有平滑地連繫前述後傾部與前述非後傾部之彎曲部。
8. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之珠擊處理裝置，其中，更具備分配器，配置在前述控制罩的內側，且以與前述葉輪的旋轉方向相同的方向旋轉，藉由前述分配器旋轉，被供應到前述控制罩的內側之拋射材料係沿著前述分配器的內周面移動於前述分配器與控制罩之間的間隙中，且前述控制罩的開口起之前述拋射材料的排出方向係對於前述葉輪的旋轉 中心起之徑向，朝前述葉輪的旋轉方向前方側傾斜。
9. 如申請專利範圍第8項所述之珠擊處理裝置，其中，前述葉片之前述葉輪的旋轉方向後方側之表面係在基端部具備有傾斜部，該傾斜部係對於徑向較該後傾部大幅地朝旋轉方向後方側傾斜。
10. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之珠擊處理裝置，其具備有：機櫃，分別於內部的上方位置具有搬出搬入前述被加工物之搬出入區域，於內部的下方位置具有透過前述拋射機拋射之拋射材料施加前述被加工物的表面加工之加工區域；以及升降旋轉機構，構成前述支撐機構，一邊支撐前述被加工物，一邊使前述被加工物在前述搬出入區域與前述加工區域之間升降，且能夠以該升降方向為中心旋轉。
11. 如申請專利範圍第10項所述之珠擊處理裝置，其具備有：內蓋，係可在位於前述搬出入區域的上端側之第一位置以及位於前述搬出入區域與前述加工區域之間的第二位置之間升降；以及升降機構，使前述內蓋升降，以於前述被加工物搬出搬入於前述搬出入區域時，將前述內蓋配置在前述第一位置，而於前述被加工物配置在前述加工區域時，將前述內蓋配置在前述第二位置。
12. 如申請專利範圍第11項所述之珠擊處理裝置，其中，前述升降旋轉機構係具有按押部，該按押部可貫穿前述內蓋而從上方側按押前述被加工物，且可與該被加工物一起以前述升降方向為中心旋轉。
13. 如申請專利範圍第12項所述之珠擊處理裝置，其中，在前述搬出入區域之側面側的側壁側更具備被加工物檢査裝置，該被加工物檢査裝置係以可在退避位置與檢査位置之間移動之方式受到支撐，該退避位置係指前述內蓋及前述按押部分離於裝置上方側而配置時，對於前述升降旋轉機構所支撐的被加工物，可從側面側插入於前述被加工物與前述內蓋及按押部之間之位置，而該檢査位置係指前述退避位置之側面側的位置，且為包圍前述被加工物的側面之位置。
14. 如申請專利範圍第10項至13項中任一項所述之珠擊處理裝置，其中，前述拋射機係在前述加工區域之側面側上，配置在前述機櫃的側壁部。
15. 如申請專利範圍第14項所述之珠擊處理裝置，其中，從葉輪的旋轉中心線之方向來看，前述拋射機係以前述葉輪的葉片按照裝置上方側、前述加工區域之側、裝置下方側之順序移動之方式設定葉輪的旋轉方向。
16. 如申請專利範圍第1項至第15項中任一項所述之珠擊處理裝置，其中，更具備循環機構，使透過前述拋射機拋射之拋射材料朝前述拋射機循環，前述循環機構係具備：分離器，係在上部具有入口，從該入口所供應之拋射材料及粉塵，將粉塵予以分離去除，且將拋射材料排出到下部側；彈丸槽，係在上部中具有與前述分離器的前述入口鄰接之彈丸供應口，將供應到該彈丸供應口之拋射材料作為朝前述拋射機之供應用材料予以儲存；以及搬送機構，具有第一列搬送部與第二列搬送部，其中該第一列搬送部係將前述拋射材料及粉塵從下部側朝上部側搬送而供給至前述分離器的入口，而該第二列搬送部係與前述第一列搬送部並列地設置，將前述分離器排出之拋射材料從下部側搬送到上部側而供給至前述彈丸槽的彈丸供應口。
17. 如申請專利範圍第16項所述之珠擊處理裝置，其中，前述搬送機構係具備：馬達，共通地驅動前述第一列搬送部及前述第二列搬送部；單一的環帶，透過前述馬達旋轉驅動；以及斗式升降機，具有複數個第一吊桶與複數個第二吊桶，其中該複數個第一吊桶係安裝在前述環帶而構 成前述第一列搬送部，而該複數個第二吊桶係以與前述第一吊桶並列之方式安裝在前述環帶而構成前述第二列搬送部。
18. 如申請專利範圍第17項所述之珠擊處理裝置，其中，更具備分隔部，接近於前述環帶的下部，將前述第一列搬送部與前述第二列搬送部隔開。
19. 一種拋射機，其係將拋射材料對被加工物拋射之離心式的拋射機，其具備：控制罩，具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，在外周壁形成開口以作為拋射材料的排出部，前述開口係具有包含與前述圓筒形狀的軸心平行的二邊之矩形形狀；以及葉輪，具備複數片葉片，該些葉片係配置於前述控制罩的徑向外方位置，並繞著前述控制罩的周圍方向旋轉，於前述葉片之旋轉方向前方側的表面設置有後傾部，該後傾部係朝旋轉方向後方側傾斜。
20. 如申請專利範圍第19項所述之拋射機，其中，從前述葉輪之轉軸方向來看，被設為前述拋射機之拋射材料的投出位置以及配置在前述加工位置之被加工物的朝向前述拋射機之面的兩端所形成的角度成為30°以內之被加工物的表面加工用，前述後傾部係對於前述葉輪之徑向朝旋轉方向後方側傾斜30°至50°。
21. 一種拋射機，其係被設置在珠擊處理裝置，透過葉輪 的旋轉將拋射材料予以拋射之離心式的拋射機，以前述葉輪之轉軸方向來看，被設為前述拋射機之拋射材料的投出位置以及配置在前述加工位置之被加工物的朝向前述拋射機之面的兩端所形成之角度成為50°至80°以內之被加工物的表面加工用，其具備：控制罩，具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，在外周壁形成開口以作為拋射材料的排出部，前述開口係具有包含與前述圓筒形狀的軸心平行的二邊之矩形形狀；以及葉輪，具備複數片葉片，該些葉片係配置於前述控制罩的徑向外方位置，並繞著前述控制罩的周圍方向旋轉，於前述葉片之旋轉方向前方側的表面設置有後傾部，該後傾部係朝旋轉方向後方側傾斜，前述開口係具備：第一貫穿部，具有包含與前述控制罩的軸心平行的二邊之矩形形狀；以及第二貫穿部，具有包含與前述控制罩的軸心平行且相互相對之第二平行的二邊之矩形形狀，且對於前述第一貫穿部朝前述控制罩的周圍方向偏移，前述第一貫穿部與前述第二貫穿部係沿著前述控制罩之圓筒軸心的方向，重疊各自的略一半。