TW201605638A - 偏光板的製造方法 - Google Patents

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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Abstract

本發明係提供一種偏光板的製造方法，其包括：於基材膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之步驟；將積層膜延伸之步驟；將聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色而形成偏光片層之步驟；於與基材膜側之面為相反側的面貼合保護膜而得到多層膜之步驟；以及自多層膜剝離基材膜而得到偏光板之步驟，其中，剝離基材膜之步驟係在將多層膜以其基材膜之相反側捲繞於滾筒的狀態下，以基材膜自前述多層膜剝離時於其剝離點中以保持著多層膜之與基材膜為相反側之面接觸滾筒的狀態之方式來進行。

Description

偏光板的製造方法
本發明係關於至少於偏光片層的單面貼合有保護膜之偏光板的製造方法。
偏光板係廣泛使用於以液晶顯示裝置為代表的圖像顯示裝置等。偏光板一般係於由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光片層的單面或雙面貼合有保護膜之構成。近年來，伴隨著往圖像顯示裝置的行動裝置或薄型電視等的發展，而愈來愈要求偏光板甚至於偏光片層的薄膜化。
就具備薄膜的偏光片層之偏光板的製造方法而言，一般所知有將藉由於基材膜上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂的塗佈液而形成有聚乙烯醇系樹脂層之積層膜延伸後，施以使二色性色素吸附於聚乙烯醇系樹脂層之染色處理，製造出於基材膜上形成有偏光片層之偏光性積層膜，其次，於偏光片層之與基材膜為相反側之面貼合保護膜而形成多層膜之後，剝離除去基材膜之方法(例如，日本特開2000-338329號公報(專利文獻1)及國際公開第2013/018845號(專利文獻2))。
根據上述方法，由於藉由塗佈而形成聚乙 烯醇系樹脂層，故相較於由聚乙烯醇系樹脂所構成之單層(單獨)膜的薄膜化，聚乙烯醇系樹脂層的薄膜化較為容易，因此偏光片層的薄膜化也變得容易。又，薄膜的聚乙烯醇系樹脂層及偏光片層係在製造步驟中常常被任一薄膜所支撐，故在製造步驟中的薄膜處理性亦優異。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2000-338329號公報
[專利文獻2]國際公開第2013/018845號
以上述方法製造偏光板之時，為了防止在延伸步驟或染色步驟中，聚乙烯醇系樹脂層自基材膜剝離、或產生浮起(產生部分剝落，而於基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之間產生隙間之現象)，而需要先將基材膜與聚乙烯醇系樹脂層牢固地密合。然而在該情況下，在剝離除去基材膜之步驟中剝離基材膜時，容易發生有於偏光片層產生內聚破壞、或偏光片層的剝離面泛白之缺陷。
藉由將基材膜的剝離方向與偏光片層的配向方向所構成之角度設定在特定的角度，較佳則是進一步於基材膜的剝離點中，使多層膜與偏光板所成之角度小於多層膜與基材膜所成之角度即專利文獻2所記載的方法，可有效地抑制如上述之缺陷。然而，維持著該等角度的相 關條件，同時連續地剝離基材膜，尤其是在偏光片層或保護膜薄的情況時，未必會容易。
所以，本發明之目的在於提供一種新穎之偏光板的製造方法，即便將基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之密合力提高至可承受延伸步驟及染色步驟的程度時，仍可抑制上述缺陷而能漂亮地剝離除去基材膜。
本發明係提供下列所示之偏光板的製造方法。
[1]一種偏光板的製造方法，係包括：於基材膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之樹脂層形成步驟；將前述積層膜延伸而得到延伸膜之延伸步驟；將前述延伸膜的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色而形成偏光片層，藉此得到偏光性積層膜之染色步驟；於前述偏光性積層膜之與基材膜側的面為相反側之面貼合保護膜而得到多層膜之貼合步驟；以及自前述多層膜剝離除去基材膜而得到偏光板之剝離步驟；其中，前述剝離步驟係在將前述多層膜以其基材膜之相反側捲繞於滾筒的狀態下，以前述基材膜自前述多層膜剝離時於其剝離點中以保持著前述多層膜之與基材膜為相反側之面接觸前述滾筒的狀態之方式來進行。
[2]如[1]所述之製造方法，其中，在將剝離後的前述 基材膜之張力設為A、剝離基材膜前的前述多層膜之張力設為B時，係在滿足B≧10×A的條件下剝離基材膜。
[3]如[1]所述之製造方法，其中，前述滾筒為吸取輥(suction roll)，且在將捲繞於滾筒的多層膜藉由吸取輥進行吸引的同時剝離基材膜。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之製造方法，其中，前述滾筒之直徑為200mm以上。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之製造方法，其中，前述偏光片層之厚度為10μm以下。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之製造方法，其中，前述保護膜之厚度為35μm以下。
根據本發明，即可抑制如基材膜在剝離除去步驟中可能發生的偏光片層之內聚破壞或偏光片層剝離面之泛白之缺陷，並提高所得之偏光板的外觀品質。
5‧‧‧偏光片層
6‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層
6’‧‧‧經延伸的聚乙烯醇系樹脂層
10‧‧‧第1保護膜
15‧‧‧第1接著劑層
20‧‧‧第2保護膜
25‧‧‧第2接著劑層
30‧‧‧基材膜
30’‧‧‧經延伸的基材膜
40‧‧‧滾筒
50、60、70‧‧‧軋輥
100‧‧‧積層膜
200‧‧‧延伸膜
300‧‧‧偏光性積層膜
400‧‧‧多層膜
500‧‧‧單面附有保護膜的偏光板
600‧‧‧雙面附有保護膜的偏光板
H‧‧‧剝離點
k‧‧‧傾斜角度
p‧‧‧傾斜角度
第1圖表示本發明之偏光板的製造方法之流程圖。
第2圖表示由樹脂層形成步驟所得之積層膜的層構成之一例之示意剖面圖。
第3圖表示由延伸步驟所得之延伸膜的層構成之一例之示意剖面圖。
第4圖表示由染色步驟所得之偏光性積層膜的層構成之一例之示意剖面圖。
第5圖表示由第1貼合步驟所得之多層膜的層構成之一例之示意剖面圖。
第6圖表示由剝離步驟所得之單面附有保護膜的偏光板的層構成之一例之示意剖面圖。
第7圖表示本發明之基材膜的剝離方法之示意側視圖。
第8圖表示由第2貼合步驟所得之雙面附有保護膜的偏光板的層構成之一例之示意剖面圖。
如第1圖所示，本發明之偏光板的製造方法係依序包括下列步驟：於基材膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之樹脂層形成步驟S10；將積層膜延伸而得到延伸膜之延伸步驟S20；將延伸膜的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色而形成偏光片層，藉此得到偏光性積層膜之染色步驟S30；於前述偏光性積層膜之與基材膜側的面為相反側之面貼合第1保護膜而得到多層膜之第1貼合步驟S40；以及自前述多層膜剝離除去基材膜而得到偏光板(單面附有保護膜的偏光板)之剝離步驟S50。
如後所述，本發明之偏光板的製造方法亦可包括於單面附有保護膜的偏光板中之偏光片層上貼合第2保護膜而得到雙面附有保護膜的偏光板之第2貼合步驟S60。以下，一面參照圖式一面詳細地說明各步驟。
[1]樹脂層形成步驟S10
參照第2圖，本步驟係於基材膜30的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層6而得到積層膜100之步驟。該聚乙烯醇系樹脂層6係經過延伸及染色而成為偏光片層5(第4圖)之層。聚乙烯醇系樹脂層6可藉由將含有聚乙烯醇系樹脂的塗佈液塗佈於基材膜30的單面或雙面並進行乾燥而形成。藉由此種塗佈來形成聚乙烯醇系樹脂層6之方法，就容易得到薄膜的偏光片層5之觀點而言為有利之方法。典型的樹脂層形成步驟S10係從長條狀的基材膜30之捲繞品即薄膜滾筒連續地捲出基材膜30，並在搬運此膜的同時連續地進行。薄膜的搬運可使用導輥等來進行。
(基材膜)
基材膜30可由熱塑性樹脂所構成，其中，較佳係由透明性、機械強度、熱穩定性、延伸性等優異的熱塑性樹脂所構成。此種熱塑性樹脂的具體例例如包括：如鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之纖維素酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚亞醯胺系樹脂；以及該等的混合物、共聚合物等。
於本說明書中「(甲基)丙烯酸」係意指由丙烯酸及甲基丙烯酸所選出之至少一者。於記載為「(甲基)丙烯醯基」等之時亦相同。
基材膜30可為包含由1種或2種以上的熱塑性樹脂所構成之1個樹脂層之單層結構，或者將由1種或2種以上的熱塑性樹脂所構成之樹脂層積層複數個而成之多層結構。基材膜30較佳係以在由後述的延伸步驟S20而延伸積層膜100時，可在適合延伸聚乙烯醇系樹脂層6的延伸溫度下進行延伸之樹脂來構成。
鏈狀聚烯烴系樹脂除了如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂之鏈狀烯烴的均聚物以外，還可列舉由2種以上的鏈狀烯烴所構成之共聚物。就容易穩定地高倍率延伸而言，以由鏈狀聚烯烴系樹脂所構成之基材膜30為較佳。其中，基材膜30更佳係包含聚丙烯系樹脂(丙烯的均聚物即聚丙烯樹脂、或以丙烯為主體的共聚物)、聚乙烯系樹脂(乙烯的均聚物即聚乙烯樹脂、或以乙烯為主體的共聚物)等者。
適合使用作為構成基材膜30的熱塑性樹脂之一例即以丙烯為主體的共聚物，係丙烯及可與其共聚合的其他單體之共聚物。
可與丙烯共聚合的其他單體係例如可列舉：乙烯、α-烯烴。α-烯烴較佳可使用碳數4以上的α-烯烴，更佳為碳數4至10的α-烯烴。碳數4至10的α-烯烴之具體例例如包括：如1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯之直鏈狀單烯烴類；3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯之支鏈狀單烯烴類；乙烯基環己烷等。丙烯及可與其共聚合的其他單體之共聚物可為 隨機共聚物或嵌段共聚物。
上述其他單體的含量在共聚物中為例如0.1至20重量%，較佳為0.5至10重量%。共聚物中其他單體的含量，可依據「高分子分析手冊」(1995年、紀伊國屋書店發行)的第616頁所記載之方法，藉由進行紅外線(IR)光譜測定而求出。
上述之中，聚丙烯系樹脂較佳可使用丙烯的均聚物、丙烯-乙烯隨機共聚物、丙烯-1-丁烯隨機共聚物或丙烯-乙烯-1-丁烯隨機共聚物。
聚丙烯系樹脂的立體規則性較佳係實質上為同排(isotactic)或對排(syndiotactic)。由具有實質上為同排或對排的立體規則性之聚丙烯系樹脂所構成之基材膜30，其處理性較良好，且在高溫環境下之機械強度優異。
環狀聚烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元所聚合的樹脂之總稱，例如可列舉：日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。若列舉環狀聚烯烴系樹脂的具體例，係有：環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯之鏈狀烯烴之共聚物(代表性為隨機共聚物)、及使該等以不飽和羧酸或其衍生物改質過的接枝聚合物、以及該等的氫化物。其中，較佳可使用：使用如降莰烯或多環降莰烯系單體之降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂。
聚酯系樹脂係具有酯鍵的樹脂，一般係由 多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物所構成者。多元羧酸或其衍生物係可使用2元的二羧酸或其衍生物，例如可列舉：對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯。多元醇可使用2元的二醇，例如可列舉：乙二醇、丙二醇、丁二醇、新成二醇、環己烷二甲醇。
聚酯系樹脂的代表例可列舉對苯二甲酸與乙二醇之聚縮合物即聚對苯二甲酸乙二酯。聚對苯二甲酸乙二酯為結晶性的樹脂，惟結晶化處理前的狀態者容易施以延伸等的處理。若有需要，可藉由延伸時或延伸後的熱處理等進行結晶化處理。又，藉由於聚對苯二甲酸乙二酯的骨架進一步共聚合其他類的單體，而降低結晶性(或者形成非晶性)的共聚合聚酯也適合使用。此種樹脂之例，例如可列舉：使環己烷二甲醇、間苯二甲酸共聚合而成者。該等樹脂亦延伸性優異，故可適合使用。
若列舉除了聚對苯二甲酸乙二酯及其共聚物以外的聚酯系樹脂之具體例，則例如可列舉：聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基的化合物為主要的構成單體之樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，例如包括：如聚甲基丙烯酸甲酯之聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸 酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基的化合物之共聚物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳係使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯之聚(甲基)丙烯酸C1-6的烷基酯為主成分的聚合物，更佳係使用以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%，較佳為70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
纖維素酯系樹脂為纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂的具體例係包括：三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、三丙酸纖維素、二丙酸纖維素。又，亦可列舉該等的共聚物、或羥基的一部分被其他取代基修飾者。該等之中，特佳為三乙酸纖維素(三乙醯基纖維素)。就市售有許多製品，且取得容易性及成本而言，三乙酸纖維素為有利。
聚碳酸酯系樹脂係由透過碳酸酯基而鍵結有單體單元的聚合物所構成之工程塑膠，為具有高耐衝擊性、耐熱性、阻燃性、透明性之樹脂。構成基材膜30的聚碳酸酯系樹脂可以是為了降低光彈性係數而修飾聚合物骨架而成之被稱為改質聚碳酸酯的樹脂、或已改良波長相依性之共聚合聚碳酸酯。
以上之中，由延伸性及耐熱性等的觀點來看，較佳可使用聚丙烯系樹脂。
基材膜30中，除了上述的熱塑性樹脂以 外，可包含任意而適當的添加劑。添加劑係例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。基材膜30中之熱塑性樹脂的含量，較佳為50至100重量%，更佳為50至99重量%，又更佳為60至98重量%，特佳為70至97重量%。
基材膜30的厚度由強度及處理性等的觀點來看，通常為1至500μm，較佳為1至300μm，更佳為5至200μm，又更佳為5至150μm。
(聚乙烯醇系樹脂層的形成)
塗佈於基材膜30的塗佈液，較佳係使聚乙烯醇系樹脂的粉末溶解於良溶劑(例如水)中而得之聚乙烯醇系樹脂溶液。聚乙烯醇系樹脂係可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化而成者。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除了乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯以外，還可列舉乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體之共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體係例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度可為80.0至100.0莫耳%的範圍，惟較佳為90.0至99.5莫耳%的範圍，更佳為94.0至99.0莫耳%的範圍。當皂化度未達80.0莫耳%時，偏光板的耐水性及耐濕熱性會降低。當使用皂化度大於99.5莫耳%的聚乙烯醇系樹脂時，二色性色素的染色速度會變慢、生產性降低，並且有無法得到具有充分的偏光性 能之偏光板之情形。
皂化度係指於聚乙烯醇系樹脂的原料即聚乙酸乙烯酯系樹脂中所包含的乙酸基(乙醯氧基：-OCOCH3)藉由皂化步驟而轉變為羥基的比率，以單位比(莫耳%)表示者，如下式所定義：皂化度(莫耳%)=100×(羥基數)÷(羥基數+乙酸基數)皂化度可依據JIS K 6726-1994而求取。皂化度愈高，則表示羥基的比率愈高，所以也表示抑制結晶化的乙酸基之比率愈低。
聚乙烯醇系樹脂可為一部分經改質的改質聚乙烯醇。例如可列舉：將聚乙烯醇系樹脂以乙烯、丙烯等烯烴；丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸；不飽和羧酸的烷基酯、(甲基)丙烯醯胺等改質者。改質的比率較佳係未達30莫耳%，更佳係未達10%。當進行大於30莫耳%的改質時，會難以吸附二色性色素，而有難以得到具有充分的偏光性能之偏光板的傾向。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，較佳為100至10000，更佳為1500至8000，又更佳為2000至5000。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度亦可依據JIS K 6726-1994而求取。
將上述塗佈液塗佈於基材膜30之方法，係可由線棒塗佈法(wire bar coating)；如逆向式塗佈法、凹版塗佈法之滾筒式塗佈法；模具塗佈法；缺角輪塗佈法(comma coating)；唇口塗佈法；旋轉塗佈法；網版塗佈法； 噴注式塗佈法(fountain coating)；含浸塗佈法；噴霧法等方法中適當選擇。
塗佈層(乾燥前的聚乙烯醇系樹脂層)的乾燥溫度及乾燥時間係因應塗佈液中所包含的溶劑之種類來設定。乾燥溫度為例如50至200℃，較佳為60至150℃。當溶劑包含水時，乾燥溫度較佳為80℃以上。
聚乙烯醇系樹脂層6可只於基材膜30的一面形成、或於兩面形成。於兩面形成時，可抑制偏光性積層膜300(參照第4圖)之製造時可能會發生的薄膜捲曲，並且可從1片偏光性積層膜300中得到2片偏光板，故就偏光板的生產效率而言為有利。
積層膜100中之聚乙烯醇系樹脂層6的厚度，較佳為3至30μm，更佳為5至20μm。若是具有此範圍內的厚度之聚乙烯醇系樹脂層6，在經過後述的延伸步驟S20及染色步驟S30後，則可得到二色性色素的染色性良好且偏光性能優異，並且充分薄(例如厚度10μm以下)的偏光片層5。
在塗佈液的塗佈之前，為了使基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層6之密合性提升，可至少對形成聚乙烯醇系樹脂層6之側的基材膜30之表面施以電暈處理、電漿處理、火焰處理等。並且就同樣的理由，亦可於基材膜30上隔著底塗層等而形成聚乙烯醇系樹脂層6。
底塗層可藉由將底塗層形成用塗佈液塗佈於基材膜30的表面後，進行乾燥而形成。該塗佈液係含有 對於基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層6兩者發揮某種程度的強力密合力之成分，通常係含有賦予如此密合力之樹脂成分與溶劑。就樹脂成分而言，較佳可使用透明性、熱穩定性、延伸性等優異的熱塑性樹脂，例如可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。其中，較佳可使用賦予良好密合力之聚乙烯醇系樹脂。更佳為聚乙烯醇樹脂。就溶劑而言，通常可使用能溶解上述樹脂成分之一般的有機溶劑或水性溶劑，惟較佳係由以水為溶劑的塗佈液來形成底塗層。
為了提升底塗層的強度，可於底塗層形成用塗佈液中添加交聯劑。交聯劑的具體例包括：環氧系、異氰酸酯系、二醛系、金屬系(例如金屬鹽、金屬氧化物、金屬氫氧化物、有機金屬化合物)、高分子系的交聯劑。當使用聚乙烯醇系樹脂作為形成底塗層的樹脂成分時，適合使用聚醯胺環氧樹脂、羥甲基化三聚氰胺樹脂、二醛系交聯劑、金屬螯合物化合物系交聯劑等。
底塗層的厚度較佳為0.05至1μm左右，更佳為0.1至0.4μm。當較0.05μm薄時，基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層6之密合力提升的效果會減小。
將底塗層形成用塗佈液塗佈於基材膜30之方法，可與聚乙烯醇系樹脂層形成用的塗佈液相同。由底塗層形成用塗佈液所構成之塗佈層的乾燥溫度為例如50至200℃，較佳為60至150℃。當溶劑包含水時，乾燥溫度較佳為80℃以上。
[2]延伸步驟S20
參照第3圖，本步驟係將積層膜100延伸而得到由經延伸的基材膜30’及聚乙烯醇系樹脂層6’所構成之延伸膜200之步驟。通常延伸為單軸延伸。典型的延伸步驟S20係在搬運長條狀的積層膜100的同時連續地進行；或者從長條狀的積層膜100之捲繞品即薄膜滾筒連續地捲出積層膜100，並在搬運此膜的同時連續地進行。薄膜搬運可使用導輥等來進行。
積層膜100的延伸倍率可因應所期望的偏光特性而適當選擇，惟相對於積層膜100的原長度，較佳為大於5倍且17倍以下，更佳為大於5倍且8倍以下。延伸倍率為5倍以下時，由於聚乙烯醇系樹脂層6’未充分配向，而有偏光片層5的偏光度無法充分變高之情形。另一方面，延伸倍率大於17倍時，延伸時容易產生薄膜斷裂，並且延伸膜200的厚度會過薄，恐有後續步驟的加工性及處理性降低之虞。
延伸處理並不限於一階段的延伸，亦可多階段進行。此時，可使全部的多階段延伸處理在染色步驟S30之前連續地進行，亦可使第二階段以後的延伸處理與染色步驟S30中之染色處理及/或交聯處理同時進行。如此，當以多階段進行延伸處理時，較佳係以延伸處理的全部階段合計成為大於5倍的延伸倍率之方式來進行延伸處理。
延伸處理係除了可以是往薄膜的長度方向 (薄膜的搬運方向)延伸之縱向延伸，亦可以是往薄膜的寬度方向延伸之橫向延伸或斜向延伸等。縱向延伸的方式可列舉使用滾筒延伸的輥間延伸、壓縮延伸、使用夾盤(chuck)(夾子)的延伸等，橫向延伸的方式可列舉拉幅法等。延伸處理亦可採用濕潤式延伸法、乾式延伸法中任一者，惟使用乾式延伸法者，其延伸溫度可由廣泛的範圍中選擇，因而較佳。
延伸溫度係設定為以聚乙烯醇系樹脂層6及基材膜30整體可延伸的程度顯示流動性的溫度以上，較佳為基材膜30的相轉移溫度(熔點或玻璃轉移溫度)之-30℃至+30℃的範圍，更佳為-30℃至+5℃的範圍，又更佳為-25℃至+0℃的範圍。當基材膜30係由複數個樹脂層所構成時，則上述相轉移溫度意指該複數個樹脂層所顯示之相轉移溫度中最高的相轉移溫度。
將延伸溫度設為較相轉移溫度的-30℃還低時，會難以達成大於5倍的高倍率延伸，或者基材膜30的流動性過低而有延伸處理變難之傾向。延伸溫度大於相轉移溫度的+30℃時，基材膜30的流動性過大而有延伸變難之傾向。由更容易達成大於5倍的高延伸倍率來看，延伸溫度宜為上述範圍內，更佳為120℃以上。
延伸處理中之積層膜100的加熱方法係有：區域加熱法(例如在吹入熱風並調整至指定的溫度之加熱爐般之延伸區域內進行加熱之方法)；在使用滾筒進行延伸時，有將滾筒本身加熱之方法；加熱器加熱法(將紅外線 加熱器、鹵素加熱器、平板加熱器等設置於積層膜100的上下側並以輻射熱進行加熱之方法)等。輥間延伸方式中，由延伸溫度的均勻性之觀點來看，較佳為區域加熱法。
在延伸步驟S20之前，可設置將積層膜100預熱之預熱處理步驟。預熱方法可使用與延伸處理中之加熱方法同樣的方法。預熱溫度較佳為延伸溫度之-50℃至±0℃的範圍，更佳為延伸溫度之-40℃至-10℃的範圍。
並且在延伸步驟S20中之延伸處理後，亦可設置熱固定處理步驟。熱固定處理係在以夾子握持延伸膜200的端部之狀態下維持緊繃狀態，並在聚乙烯醇系樹脂的結晶化溫度以上進行熱處理之處理。藉由該熱固定處理，而促進聚乙烯醇系樹脂層6’的結晶化。熱固定處理的溫度較佳為延伸溫度之-0℃至-80℃的範圍，更佳為延伸溫度之-0℃至-50℃的範圍。
[3]染色步驟S30
參照第4圖，本步驟係將延伸膜200的聚乙烯醇系樹脂層6’以二色性色素染色而使其吸附配向，形成偏光片層5之步驟。經過本步驟可得到於基材膜30’的單面或雙面積層有偏光片層5之偏光性積層膜300。典型的染色步驟S30係在搬運長條狀的延伸膜200的同時連續地進行；或者從長條狀的延伸膜200之捲繞品即薄膜滾筒連續地捲出延伸膜200，並在搬運此膜的同時連續地進行。薄膜的搬運可使用導輥等來進行。
就二色性色素而言，具體上可列舉碘或二 色性有機染料。二色性有機染料的具體例例如包括：Red BR、Red LR、Red R、Pink LB、Rubin BL、Bordeaux GS、Sky Blue LG、Lemon Yellow、Blue BR、Blue 2R、Navy RY、Green LG、Violet LB、Violet B、Black H、Black B、Black GSP、Yellow 3G、Yellow R、Orange LR、Orange 3R、Scarlet GL、Scarlet KGL、Congo Red、Brilliant Violet BK、Sulphur Blue G、Sulphur Blue GL、Sulphur Orange GL、Direct Sky Blue、Direct Fast Orange S、Fast Black。二色性色素可單獨僅使用1種或併用2種以上。
染色步驟S30可藉由於含有二色性色素的液體(染色浴)中浸漬延伸膜200而進行。染色浴可使用將上述二色性色素溶解於溶劑中而成的溶液。染色溶液的溶劑一般係使用水，亦可進一步添加對水具有相溶性之有機溶劑。染色浴中之二色性色素的濃度較佳為0.01至10重量%，更佳為0.02至7重量%。
當使用碘作為二色性色素時，由可提升染色效率來看，較佳係於含有碘的染色浴中進一步添加碘化物。碘化物係例如可列舉：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色浴中之碘化物的濃度，較佳為0.01至20重量%。碘化物之中，較佳係添加碘化鉀。當添加碘化鉀時，碘與碘化鉀的比例以重量比表示，較佳為1：5至1：100，更佳為1：6至1：80。染色浴的溫度較佳為10至60℃，更佳為20至40℃。
此外，亦可在染色步驟S30中對延伸膜200進一步施以追加的延伸處理。此時的實施態樣，可列舉下列態樣：1)在上述延伸步驟S20中，以較目標還低的倍率進行延伸處理後，在染色步驟S30之染色處理中，以使總延伸倍率成為目標倍率之方式進行延伸處理之態樣；或如後所述，當在染色處理後進行交聯處理時，2)在上述延伸步驟S20中，以較目標還低的倍率進行延伸處理後，在染色步驟S30之染色處理中，以總延伸倍率未達到目標倍率之程度進行延伸處理，接著以使最終的總延伸倍率成為目標倍率之方式在交聯處理中進行延伸處理之態樣等。
染色步驟S30可包括延續染色處理所實施的交聯處理步驟。交聯處理步驟可藉由於含有交聯劑的液體(交聯浴)中浸漬經染色處理後的延伸膜而進行。交聯劑係例如可列舉：如硼酸、硼砂之硼化合物；乙二醛、戊二醛等。交聯劑可僅使用1種或併用2種以上。交聯浴可使用將交聯劑溶解於溶劑中而成的溶液。溶劑可使用水，亦可進一步包含對水具有相溶性的有機溶劑。交聯浴中之交聯劑的濃度，較佳為1至20重量%，更佳為6至15重量%。
交聯浴可進一步包含碘化物。藉由碘化物的添加，可使偏光片層5的面內之偏光特性更均勻化。碘化物的具體例係與上述相同。交聯浴中之碘化物的濃度，較佳為0.05至15重量%，更佳為0.5至8重量%。交聯浴的溫度較佳為10至90℃。
此外，交聯處理亦可藉由將交聯劑調配於 染色浴中，而與染色處理同時進行。又，可使用組成相異的2種以上之交聯浴進行2次以上浸漬於交聯浴中之處理。在交聯處理中亦可進行延伸處理。在交聯處理中實施延伸處理之具體的態樣係如上所述。
染色步驟S30後，較佳係在後述的第1貼合步驟S40之前進行洗淨步驟及乾燥步驟。洗淨步驟通常包括水洗淨步驟。水洗淨處理可藉由於如離子交換水、蒸餾水之純水中浸漬經染色處理後或交聯處理後的薄膜而進行。水洗淨溫度通常為3至50℃，較佳為4至20℃。洗淨步驟可為水洗淨步驟與以碘化物溶液所進行之洗淨步驟之組合。在洗淨步驟之後所進行的乾燥步驟，可採用自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥等之任意適當的方法。例如當加熱乾燥時，乾燥溫度通常為20至95℃。
偏光性積層膜300所具有的偏光片層5之厚度，較佳為10μm以下，更佳為7μm以下。藉由將偏光片層5的厚度設為10μm以下，可得到薄型偏光板。偏光片層5的厚度通常為2μm以上。根據本發明，即使偏光片層5的厚度薄至10μm以下，且由偏光片層5及第1保護膜所構成之偏光板不具韌性時，仍可抑制於偏光片層5產生內聚破壞、或偏光片層5的剝離面泛白之缺陷，從而漂亮地剝離基材膜30’。
[4]第1貼合步驟S40
參照第5圖，本步驟係於偏光性積層膜300之與基材膜30’側之面為相反側的面(亦即偏光片層5之上)貼合第1 保護膜10而得到多層膜400之步驟。典型的第1貼合步驟S40係在搬運長條狀的偏光性積層膜300的同時連續地進行；或者從長條狀的偏光性積層膜300之捲繞品即薄膜滾筒連續地捲出偏光性積層膜300，並在搬運此膜的同時連續地進行。薄膜的搬運可使用導輥等來進行。
當偏光性積層膜300於基材膜30’的兩面具有偏光片層5時，通常會於兩面偏光片層5上分別貼合第1保護膜10。此時，該等第1保護膜10可為同種類的保護膜或不同種類的保護膜。
第1保護膜10可隔著第1接著劑層15而貼合於偏光片層5上。形成第1接著劑層15的接著劑可為含有藉由如紫外線、可見光、電子束、X射線之活性能量線的照射而硬化之硬化性化合物之活性能量線硬化性接著劑(較佳為紫外線硬化性接著劑)；或者由將如聚乙烯醇系樹脂之接著劑成分溶解或分散於水中而成的水性接著劑。
使用活性能量線硬化性接著劑而貼合第1保護膜10時，隔著成為第1接著劑層15的活性能量線硬化性接著劑而將第1保護膜10積層於偏光片層5上之後，照射如紫外線、可見光、電子束、X射線之活性能量線而使接著劑層硬化。其中，以紫外線為合適，此時的光源可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。當使用水性接著劑時，只要在隔著水性接著劑將第1保護膜10積層於偏光片層5上之後，進行加熱乾燥即可。
於偏光片層5貼合第1保護膜10之時，為了使與偏光片層5的接著性提升，對於第1保護膜10及/或偏光片層5的貼合面，可進行如電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理之表面處理(易接著處理)，其中，較佳係進行電漿處理、電暈處理或皂化處理。
第1保護膜10例如可為由如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之纖維素酯系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等所構成之薄膜。
第1保護膜10亦可為如相位差膜、亮度增進膜之兼具光學功能的保護膜。例如藉由將由上述熱塑性樹脂所構成之薄膜進行延伸(單軸延伸或雙軸延伸等)、或於該薄膜上形成液晶層等，則可形成已賦予任意的相位差值之相位差膜。
對於第1保護膜10之與偏光片層5為相反側之表面，亦可形成如硬化塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層之表面處理層(塗佈層)。表面處理層可在第1貼合步驟S40的實施之前，預先於第1保護膜10上形成，亦可在第1貼合步驟S40實施後或後述的剝離步驟S50實施後才形成。並且第1保護膜10可含有1種或2種以上的如潤滑劑、塑化劑、分散劑、熱穩定劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑之添加劑。
由偏光板的薄型化之觀點來看，第1保護膜10的厚度較佳為90μm以下，更佳為50μm以下，又更佳為35μm以下，特佳為30μm以下。由強度及處理性之觀點來看，第1保護膜10的厚度通常為5μm以上。根據本發明，即使第1保護膜10的厚度薄至35μm以下，且由偏光片層5及第1保護膜10所構成之偏光板不具韌性時，仍可抑制於偏光片層5產生內聚破壞、或偏光片層5的剝離面泛白之缺陷，進而漂亮地剝離基材膜30’。
[5]剝離步驟S50
參照第6圖，本步驟係自多層膜400剝離除去基材膜30’而得到偏光板(單面附有保護膜的偏光板500)之步驟。當偏光性積層膜300於基材膜30’的雙面具有偏光片層5，且於該等兩個偏光片層5貼合有第1保護膜10時，藉由該剝離步驟S50，則可由1片偏光性積層膜300得到2片單面附有保護膜的偏光板500。典型的剝離步驟S50係在搬運長條狀的多層膜400的同時連續地進行；或者自長條狀的多層膜400之捲繞品即薄膜滾筒連續地捲出多層膜400，並在搬運此膜的同時連續地進行。薄膜的搬運可使用導輥等來進行。
如第7圖所示，本發明係在多層膜400的搬運路徑上預先設置滾筒40，並沿著該搬運路徑連續地搬運多層膜400，而在通過滾筒40時，使多層膜400成為以與其基材膜30’為相反側(在第7圖的例中，為第1保護膜10側，亦即，以使多層膜400的第1保護膜10成為滾筒40 側之方式)捲繞於滾筒40的狀態，並自該捲繞狀態的多層膜400剝離基材膜30’。滾筒40可使用用來支撐被搬運的薄膜之自由旋轉的一般滾筒。
以成為與自多層膜400剝離基材膜30’後的單面附有保護膜的偏光板500之搬運方向相異的搬運方向之方式，來設定剝離後的基材膜30’之搬運路徑，藉此自位於滾筒40上的多層膜400連續地剝離基材膜30’，惟此時，於基材膜30’的剝離點H中，在維持多層膜400之與基材膜30’為相反側之面(在第7圖的例中，為第1保護膜10側的表面)與滾筒40接觸的狀態的同時剝離基材膜30’。亦即，藉由賦與某種程度的張力A於剝離後的基材膜30’，以拉開基材膜30’的方式自多層膜400持續剝離基材膜30’，惟此時，以避免在剝離點H的多層膜400因該張力A而自滾筒40的表面浮起之狀態的方式進行控制，同時連續地剝離基材膜30’。
使多層膜400捲繞於滾筒40的狀態，係指在通過滾筒40時，多層膜400之與基材膜30’為相反側之面(在第7圖的例中，為第1保護膜10側的表面)呈現以面來接觸滾筒40的表面之狀態。參照第7圖，此狀態係在以剝離基材膜30’前的多層膜400之搬運方向的外插線為基準時，剝離基材膜30’後的多層膜400(亦即，單面附有保護膜的偏光板500)之搬運方向之往滾筒40側的剝離點H中之傾斜角度 p設為大於0°(未達90°)，藉此而達成。傾斜角度 p較佳為20°以上。
根據上述方法，不依據基材膜30’的剝離方向與偏光片層5的配向方向所構成之角度，並且不依據剝離點H中之多層膜400與單面附有保護膜的偏光板500所構成之角度(亦即，上述傾斜角度 p)和多層膜400與基材膜30’所構成之角度(第7圖所示之傾斜角度 k)之間的關連性，可自多層膜400平順地剝離基材膜30’，可有效地抑制如因基材膜30’的剝離所造成的偏光片層5之內聚破壞或偏光片層5之剝離面的泛白之缺陷。 k係以上述外插線為基準時，剝離後的基材膜30’之搬運方向之往與滾筒40側為相反側的剝離點H中之傾斜角度。
在基材膜30’的剝離時，用以於剝離點H中維持多層膜400之與基材膜30’為相反側之面(在第7圖的例中，為第1保護膜10側的表面)和滾筒40接觸的狀態之一種有效的方法，係使剝離基材膜30’前的多層膜400之張力(線張力)B充分大於剝離後的基材膜30’之張力A。張力A及B較佳為滿足B≧10×A的關係，更佳為滿足B≧12×A的關係。藉由使張力B充分大於張力A，可以維持使多層膜400捲繞於滾筒40的狀態、以及於剝離點H中多層膜400之與基材膜30’為相反側之面和滾筒40接觸的狀態，同時進行在剝離點H的基材膜30’之剝離。此外，剝離基材膜30’而得之單面附有保護膜的偏光板500之張力，係與剝離基材膜30’前的多層膜400之張力B相同。
參照第7圖，張力A例如可藉由利用調整配置於剝離後的基材膜30’之搬運路徑上且滾筒40的下游 測之軋輥60的旋轉速度來調整剝離後的基材膜30’之搬運速度而控制。張力B例如可藉由調整多層膜400及單面附有保護膜的偏光板500之搬運路徑上之配置於滾筒40前後之軋輥50的旋轉速度與軋輥70的旋轉速度之比而控制。
用以維持使多層膜400捲繞於滾筒40的狀態、以及於剝離點H中多層膜400之與基材膜30’為相反側之面和滾筒40接觸的狀態之其他有效的方法，係於滾筒40使用吸取輥。若使用吸取輥，藉由其產生的吸引可使捲繞該滾筒的多層膜400(及單面附有保護膜的偏光板500)密合於滾筒表面，故易於維持上述狀態。吸取輥係指於滾筒表面(圓周面)具有許多個吸氣孔，且利用由該吸氣孔產生的吸氣使搬運物吸附於滾筒表面，進而保持搬運物並使滾筒旋轉以搬運搬運物之滾筒。當使用吸取輥時，張力A及B未必需要滿足B≧10×A的關係。
用以維持使多層膜400捲繞於滾筒40的狀態、以及於剝離點H中多層膜400之與基材膜30’為相反側之面和滾筒40接觸的狀態之進一步其他有效的方法，係在多層膜400通過滾筒40之前，於第1保護膜10側進一步貼合樹脂膜而進行薄膜補強。利用薄膜補強使多層膜400的韌性變強並難以變形，故可抑制在以拉開基材膜30’的方式自多層膜400進行剝離時，在剝離點H多層膜400呈現自滾筒40的表面浮起之狀態。即使在使用該方法的情況，張力A及B仍未必需要滿足B≧10×A的關係。當使用該方法時，為了補強而貼合於第1保護膜10側之樹脂膜， 係於剝離點H中保持著接觸於滾筒40的狀態。
滾筒40的直徑較佳為200mm 以上，更佳為250mm 以上。當滾筒40的直徑位於該範圍時，自多層膜400剝離基材膜30’時，容易於剝離點H中維持多層膜400之與基材膜30’為相反側之面和滾筒40接觸的狀態。
為了於剝離點H中維持多層膜400之與基材膜30’為相反側之面和滾筒40接觸的狀態，並穩定地進行基材膜30’之剝離，較佳係設置用以檢測剝離點H的位置之感測器。藉由感測器的設置，可防止在多層膜400捲繞於滾筒40之前自滾筒40的表面浮起的狀態下基材膜30’被剝離，或者在解除多層膜400於滾筒40之捲繞後，可防止在自滾筒40的表面浮起的狀態下基材膜30’被剝離。例如，只要以預先設定剝離點的基準位置，並於自該基準位置離開指定距離之上游側設置一個感測器，並且於自基準位置離開指定距離之下游側設置另一個感測器，當上游側的感測器檢測到剝離點時剝離點就會往下游側移動，並且當下流側的感測器檢測到剝離點時剝離點就會往上游側移動的方式來進行設定，則作業條件以剝離點總是回到基準位置的附近的方式自動調整。作業條件係可列舉多層膜400及單面附有保護膜的偏光板500之搬運速度、剝離後的基材膜30’之搬運速度、張力A、張力B。
剝離後的基材膜30’之搬運方向的剝離點H中之傾斜角度 k通常為大於0°，較佳為20°以上，更佳為40°以上。藉由將傾斜角度 k設定為20°以上，就不會使張 力A過度增大，而變得容易平順地剝離基材膜30’。傾斜角度 k通常未達90°。
如上所述，由第1貼合步驟S40所得之多層膜400係於基材膜30’的雙面分別積層有偏光片層5及第1保護膜10之薄膜，亦即，可為具有第1保護膜10/偏光片層5/基材膜30’/偏光片層5/第1保護膜10(第1接著劑層15係省略記載)的層構成之薄膜。此時，經過2階段的剝離步驟而由1片多層膜400得到2片單面附有保護膜的偏光板500。在第1階段的剝離步驟中，自上述構成的多層膜400剝離具有「第1保護膜10/偏光片層5/基材膜30’」的層構成之薄膜，而得到單面附有保護膜的偏光板500(在第1階段的剝離步驟中，第7圖中之基材膜30’係被置換成第1保護膜10/偏光片層5/基材膜30’)。在第2階段的剝離步驟中，自經剝離的具有「第1保護膜10/偏光片層5/基材膜30’」的層構成之薄膜剝離基材膜30’，再得到單面附有保護膜的偏光板500。
在第1階段及第2階段的剝離步驟之任一者之中，藉由使用依照本發明的上述方法而將第1保護膜10/偏光片層5/基材膜30’或基材膜30’剝離，可有效地抑制如偏光片層5的內聚破壞或偏光片層5的剝離面之泛白之缺陷。
[6]第2貼合步驟S60
參照第8圖，本步驟係於單面附有保護膜的偏光板500中之偏光片層5上貼合第2保護膜20而得到雙面附有保護 膜的偏光板600之任意的步驟。典型的第2貼合步驟S60係在搬運長條狀的單面附有保護膜的偏光板500的同時連續地進行；或者自長條狀的單面附有保護膜的偏光板500之捲繞品即薄膜滾筒連續地捲出單面附有保護膜的偏光板500，並在搬運此偏光板的同時連續地進行。薄膜的搬運可使用導輥等來進行。
第2保護膜20可隔著第2接著劑層25而貼合於偏光片層5上。關於第2保護膜20及第2接著劑層25的構成或材質、以及第2保護膜20的貼合方法，係分別援用關於第1保護膜10及第1接著劑層15、以及第1保護膜10的貼合方法之記載。
(實施例)
以下，列舉實施例及比較例更具體地說明本發明，惟本發明並不限定於該等之例。
<實施例1>
(1)底塗層形成步驟
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業(股)製的「Z-200」、平均聚合度1100、皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃的熱水中，調製成濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中將交聯劑(田岡化學工業(股)製的「Sumirez resin 650」)以相對於聚乙烯醇粉末6重量份為5重量份的比例進行混合，而得到底塗層形成用塗佈液。
其次，連續地搬運厚度90μm的基材膜(未延伸聚丙烯膜、熔點：163℃)，同時於其單面施以電暈處 理後，於該電暈處理面使用小孔徑的凹版塗佈機而連續地塗佈上述底塗層形成用塗佈液，並在80℃乾燥10分鐘，藉此形成厚度0.2μm的底塗層。
(2)積層膜的製作(樹脂層形成步驟)
將聚乙烯醇粉末(KURARAY(股)製的「PVA124」、平均聚合度2400、皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃的熱水中，調製成濃度8重量%的聚乙烯醇水溶液，將此作為聚乙烯醇系樹脂層形成用塗佈液。
連續地搬運上述(1)所製作的具有底塗層之基材膜，同時於該底塗層表面使用唇口塗佈器而連續地塗佈上述聚乙烯醇系樹脂層形成用塗佈液後，在80℃乾燥20分鐘，藉此於底塗層上形成聚乙烯醇系樹脂層，而得到由基材膜/底塗層/聚乙烯醇系樹脂層所構成之積層膜。
(3)延伸膜的製作(第1延伸步驟)
對於上述(2)所製作的積層膜，在連續地搬運的同時使用浮動式縱向單軸延伸裝置在160℃實施5.8倍的自由端單軸延伸，而得到延伸膜。延伸後的聚乙烯醇系樹脂層之厚度為5.0μm。
(4)偏光性積層膜的製作(染色步驟)
連續地搬運上述(3)所製作的延伸膜，同時連續地浸漬於包含碘與碘化鉀之26℃的染色浴(每100重量份的水中，包含碘0.35重量份、碘化鉀10重量份)中，以進行聚乙烯醇系樹脂層的染色處理。
其次，以滯留時間成為300秒的方式連續地 浸漬於包含硼酸與碘化鉀之78℃的交聯浴(每100重量份的水中，包含硼酸9.5重量份、碘化鉀5重量份)中，以進行交聯處理。然後，以8℃的純水洗淨10秒，並在40至50℃乾燥200秒，藉此得到於基材膜上具有偏光片層之偏光性積層膜。
(5)多層膜的製作(貼合步驟)
連續地搬運厚度15μm的環狀聚烯烴系樹脂膜(日本ZEON(股)製的「ZF14」)，同時使用小孔徑凹版塗佈機以硬化後的接著劑層之厚度成為1.0μm的方式，於其單面連續地塗佈包含陽離子聚合性環氧系化合物即硬化性化合物與陽離子光聚合起始劑之紫外線硬化性接著劑(ADEKA(股)製的「KR-70T」)，然後使用貼合輥，於該塗佈過的接著劑層上連續地貼合上述(4)所製作的偏光性積層膜之偏光片層側。然後，自基材膜側以150mJ/cm2的累積光量照射紫外線，藉此使接著劑層硬化而得到多層膜。
(6)偏光板的製作(剝離步驟)
參照第7圖，連續地搬運上述(5)所製作的多層膜400，同時通過滾筒40時，在使多層膜400成為以其第1保護膜10側(以使多層膜400的第1保護膜10成為滾筒40側的方式)捲繞於滾筒40的狀態，自該捲繞狀態的多層膜400，於剝離點H中維持第1保護膜10與滾筒40接觸的狀態，同時連續地剝離基材膜30’，而得到單面附有保護膜的偏光板500。此時，將剝離後的基材膜30’之張力A、以及多層膜400及單面附有保護膜的偏光板500之張力B設為如表 1所示。又，傾斜角度 p設為20°、傾斜角度 k設為70°、滾筒40的直徑設為250mm 。滾筒40中，係使用用來支撐被搬運的薄膜之非吸取輥的自由旋轉之一般滾筒(在表1中之「滾筒的種類」之欄中，記載為「一般」)。在連續地剝離基材膜30’時，以目視觀察剝離點H，惟看見保持著第1保護膜10與滾筒40接觸的狀態。此情形也由剝離點H的放大照片確認到。
<實施例2至3、比較例1至2>
除了將張力A及張力B設為如表1所示以外，其餘與實施例1同樣地製作單面附有保護膜的偏光板500。惟於實施例3中，於滾筒40使用吸取輥，並藉由其產生的吸引，使捲繞於該滾筒的多層膜400及單面附有保護膜的偏光板500密合於滾筒表面，同時剝離基材膜30’。
在比較例1及2中，於剝離點H中第1保護膜10與滾筒40未接觸，並在目視可確認的程度內顯現多層膜400自滾筒表面浮起的狀態。
〔剝離性的評價〕
(1)剝離狀態的評價
對經剝離除去基材膜30’而得之單面附有保護膜的偏光板500之剝離面(偏光片層面)以目視進行觀察，並依照下列的標準評價剝離狀態。結果表示於表1。
A：未觀察到內聚破壞及泛白
B1：觀察到內聚破壞
B2：觀察到泛白
(2)剝離穩定性的評價
對基材膜30’的剝離穩定性以目視進行觀察，並依照下列的標準進行評價。結果表示於表1。
A：穩定
B：不穩定
在此，B係在剝離時剝離力細微地忽強忽弱，且剝離點H於前後變動、或剝離角度成不穩定的狀態，亦稱為拉鏈狀態(zippering)。A係不會產生此種拉鏈狀態並剝離之狀態。
30’‧‧‧經延伸的基材膜
40‧‧‧滾筒
50、60、70‧‧‧軋輥
400‧‧‧多層膜
500‧‧‧單面附有保護膜的偏光板
H‧‧‧剝離點
k‧‧‧傾斜角度
p‧‧‧傾斜角度

Claims (6)

  1. 一種偏光板的製造方法，係包括：於基材膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之樹脂層形成步驟；將前述積層膜延伸而得到延伸膜之延伸步驟；將前述延伸膜的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色而形成偏光片層，藉此得到偏光性積層膜之染色步驟；於前述偏光性積層膜之與基材膜側的面為相反側之面貼合保護膜而得到多層膜之貼合步驟；以及自前述多層膜剝離除去基材膜而得到偏光板之剝離步驟；其中，前述剝離步驟係在將前述多層膜以其基材膜之相反側捲繞於滾筒的狀態下，以當前述基材膜自前述多層膜剝離時於其剝離點中保持著前述多層膜之與基材膜為相反側之面接觸前述滾筒的狀態之方式來進行。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中，在將剝離後的前述基材膜之張力設為A、剝離基材膜前的前述多層膜之張力設為B時，係在滿足B≧10×A的條件下剝離基材膜。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中，前述滾筒為吸取輥，且在將捲繞於滾筒的多層膜藉由吸取輥進行吸引的同時剝離基材膜。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之製造 方法，其中，前述滾筒之直徑為200mm以上。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之製造方法，其中，前述偏光片層之厚度為10μm以下。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之製造方法，其中，前述保護膜之厚度為35μm以下。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016002504A1 (ja) * 2014-07-04 2016-01-07 住友化学株式会社 両面保護フィルム付偏光板の製造方法
JP6353016B2 (ja) * 2016-03-14 2018-07-04 住友化学株式会社 樹脂フィルムの製造方法および偏光フィルムの製造方法
WO2017159233A1 (ja) * 2016-03-14 2017-09-21 住友化学株式会社 樹脂フィルムの製造方法および偏光フィルムの製造方法
CN110945393B (zh) 2017-07-25 2022-03-22 日本瑞翁株式会社 偏振片及显示装置
JP6494844B1 (ja) * 2017-10-31 2019-04-03 住友化学株式会社 樹脂フィルムの製造方法および微小キズが少ない樹脂フィルム
JP7379420B2 (ja) * 2021-07-15 2023-11-14 日東電工株式会社 機能層の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4279944B2 (ja) 1999-06-01 2009-06-17 株式会社サンリッツ 偏光板の製造方法
KR101625250B1 (ko) * 2008-09-30 2016-05-27 린텍 가부시키가이샤 필름 박리 방법, 광학 필름의 제조 방법, 필름 박리 기구 및 광학 필름 제조 장치
JP2011178523A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 Toppan Printing Co Ltd フィルムと薄膜との剥離及び連続薄膜つなぎ装置
JP5185313B2 (ja) * 2010-03-25 2013-04-17 住友化学株式会社 剥離方法および剥離装置
KR101740763B1 (ko) * 2010-11-10 2017-05-26 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광성 적층 필름 및 편광판의 제조 방법
JP5754147B2 (ja) * 2011-01-31 2015-07-29 ブラザー工業株式会社 画像読取装置及び画像形成装置
JP2013033084A (ja) 2011-08-01 2013-02-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
JP5885955B2 (ja) * 2011-08-01 2016-03-16 住友化学株式会社 偏光板の製造方法
JP6154099B2 (ja) * 2012-02-03 2017-06-28 住友化学株式会社 偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP6029560B2 (ja) * 2012-11-16 2016-11-24 日東電工株式会社 偏光板の製造方法
JP6366266B2 (ja) * 2013-12-25 2018-08-01 日東電工株式会社 偏光板および偏光板の製造方法
JP2015121720A (ja) * 2013-12-25 2015-07-02 日東電工株式会社 偏光板および偏光板の製造方法

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