TW201605401A - 自走式清潔裝置 - Google Patents

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xiang-rong Hong
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Uni Ring Tech Co Ltd
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Abstract

本發明自走式清潔裝置,包括:一清潔機構,可撥掃汙塵並將汙塵吸入一集塵機構內收集;一容室,凹設於自走式清潔裝置機體下方兩側,形成一罩殼,容室內設有一隔板,將該容室分隔成一第一容室與一第二容室;一驅動裝置,設於該容室內,設有包括一驅動輪與一驅動模組,該驅動模組具有一套殼,該套殼內設有包括一馬達與一齒輪組;該驅動輪設於該第一容室內而該驅動模組設於該第二容室內,且該套殼一端,馬達設置處設有一第二樞接部與該罩殼相樞接,另一端,齒輪組設置處設有一彈性件與該罩殼相抵觸。

Description

自走式清潔裝置
本發明係有關於一種自走式清潔裝置,尤指係可使自走式清潔裝置在待清潔表面行走時,行走路徑可準直且不易偏移之自走式清潔裝置。
按,一般自走式清潔裝置,其體積小又可受驅動裝置驅動而自動行走各處進行待清潔表面汙塵清潔的工作,為了保護自走式清潔裝置內部之電子零件不會因待清潔表面之顛簸所產生之震動而損壞,會在驅動裝置上加裝彈性件來緩衝自走式清潔裝置所遭遇到之震動;專利號第I220383號「自動地面清潔裝置」即揭露一種推進單元具避震效果之自動地面清潔裝置,各推進輪組主要包含一可向下脫離方式容設於殼體底部一下容室之座體,一藉螺合或其他可釋離方式結合於殼體底面而令座體固定容設於下容室之下蓋、一組設於座體之驅動構件、一樞設於座體而受驅動構件帶動旋轉之轉輪、一組設於座體上側之避震彈簧,及一組設於座體之電連接器。
習知自動地面清潔裝置之推進輪組,係直接擺放至殼體底部之容室內,藉由推進輪組座體上之避震彈簧與容室抵頂而使自動地面清潔裝置之推進輪組相對於待清潔表面具有避震之效果;惟,該推進輪組在容室內時,雖然容室之空間大致配合推 進輪組之體積,但因推進輪組並無任何與容室固定接觸之處,所以在自動地面清潔裝置於地面行走時,推進輪組除了原本垂直方向的位移以進行避震外,尚會在水平方向前、後、左、右進行不規則搖晃,使自動地面清潔裝置在地面行走時,推進輪組會有不規則抖動之情況發生,導致行走路徑不準直,易有偏移。
爰是,本發明之目的,在於提供一種在行走時,驅動裝置不易不規則抖動之自走式清潔裝置。
依據本發明目的之自走式清潔裝置,包括:一清潔機構,可撥掃汙塵並將汙塵吸入一集塵機構內收集;一容室,設於自走式清潔裝置殼體下方兩側,容室內設有一隔板,將該容室分隔成一第一容室與一第二容室;一驅動裝置,設於該容室內,設有包括一驅動輪與一驅動模組;該驅動輪設於該第一容室內而該驅動模組設於該第二容室內。
依據本發明另一目的之自走式清潔裝置,包括:一清潔機構,可撥掃汙塵並將汙塵吸入一集塵機構內收集;一容室,凹設於自走式清潔裝置機體下方兩側,形成一罩殼;一驅動裝置,設於該容室內,設有包括一驅動輪與一驅動模組,該驅動模組具有一套殼,該套殼內設有包括一馬達與一齒輪組;該套殼一端之馬達設置處,設有一第二樞接部與該罩殼相樞接,套殼另一端之齒輪組設置處,設有一彈性件與該罩殼相抵觸。
本發明實施例之自走式清潔裝置,藉由隔板將容室分隔成第一容室與第二容室及限位區間,並將驅動裝置之驅動模組一端受限於限位區間內,使驅動裝置之驅動輪與驅動模組能分別分配在第一容室與第二容室內,不會越位,使驅動裝置整體不 易有左、右搖晃抖動之情況;而在驅動模組另一端,設置可與容室罩殼之第一樞接部樞轉之第二樞接部,藉由樞接件將兩者樞接,使驅動裝置可以樞接點為旋轉軸心,在容室內以弧形路徑擺動,在自走式清潔裝置行走於待清潔表面時,驅動裝置會隨待清潔表面之高低起伏而在容室內以樞接點為旋轉軸心進行弧形路徑擺動,並以驅動裝置之驅動模組與罩殼間之彈性件作為Z軸向垂直位移之緩衝,使驅動裝置之驅動輪在待清潔表面行走時具有避震之效果,且驅動裝置之驅動模組前後兩端受限位區間及第一樞接部與第二樞接部樞接之前後兩點限位,使驅動裝置整體在運作時,不易有水平方向前、後、左、右不規則抖動之情況產生,有助於自走式清潔裝置行走路徑更為準直且不易偏移。
1‧‧‧第一殼體
11‧‧‧頂蓋
12‧‧‧作業蓋板
2‧‧‧第二殼體
21‧‧‧容室
211‧‧‧第一容室
212‧‧‧第二容室
213‧‧‧限位區間
214‧‧‧定位槽
22‧‧‧罩殼
221‧‧‧鏤空區間
222‧‧‧第一樞接部
223‧‧‧抵頂座
224‧‧‧限位部
23‧‧‧隔板
231‧‧‧通槽
24‧‧‧罩蓋
25‧‧‧樞接件
26‧‧‧鎖固件
27‧‧‧樞接點
3‧‧‧驅動裝置
31‧‧‧驅動輪
32‧‧‧驅動模組
321‧‧‧套殼
322‧‧‧馬達
323‧‧‧齒輪組
324‧‧‧第二樞接部
325‧‧‧定位座
326‧‧‧第一定位軸
327‧‧‧第二定位軸
328‧‧‧第一嚙合齒輪
33‧‧‧傳動軸
4‧‧‧清潔機構
41‧‧‧污塵吸入口
42‧‧‧側掃刷
5‧‧‧集塵機構
6‧‧‧負壓機構
7‧‧‧控制單元
8‧‧‧彈性件
F‧‧‧待清潔表面
第一圖係本發明實施例之自走式清潔裝置之立體示意圖。
第二圖係本發明實施例之第二殼體與驅動裝置立體分解示意圖。
第三圖係本發明實施例之第二殼體與驅動裝置另一角度立體分解示意圖。
第四圖係本發明實施例之驅動裝置之構造示意圖。
第五圖係本發明實施例之驅動裝置在容室內之示意圖。
第六圖係本發明實施例之驅動裝置之驅動輪離開待清潔表面之示意圖。
請參閱第一、二、三圖所示,本發明實施例之自走式清潔裝置,包括: 一第一殼體1,其上設有一可與該第一殼體1進行相對活動之頂蓋11,在該頂蓋11周緣設有一呈環狀之作業蓋板12,該作業蓋板12係提供使用者與自走式清潔裝置交換訊息之中間媒介,使用者可將遙控訊號、開關訊號…等經過作業蓋板12輸入至自走式清潔裝置,而自走式清潔裝置亦可將諸如聲音、影像…等多媒體資訊經過作業蓋板12播放出自走式清潔裝置外;一第二殼體2,設於第一殼體1下方,與第一殼體1相配合形成自走式清潔裝置之外殼;兩驅動裝置3,設於第二殼體2底部兩側之容室21中,可驅動自走式清潔裝置於待清潔表面F(如第五圖所示)上行走;一清潔機構4,具有吸塵作用之汙塵吸入口41(可在污塵吸入口41處加設具有刷毛之主掃刷)與可撥掃自走式清潔裝置周緣汙塵之側掃刷42;一集塵機構5,設於頂蓋11下方,與汙塵吸入口41相連,用於收集由汙塵吸入口41吸入之汙塵;一負壓機構6,可抽引集塵機構5內空氣,使其內部形成負壓狀態;一控制單元7,可執行各項數據運算或判斷以進行自走式清潔裝置上各項功能控制;請參閱第二、三圖所示,該容室21凹設於第二殼體2底部兩側,並在第二殼體2內部形成一罩殼22,容室21內設有一隔板23,該隔板23將容室21分隔成一第一容室211與一第二容室212,隔板23上開設有一鏤空貫通第一容室211與第二容室212之通槽231,隔板23一端與第二容室212之一側間形成一限位 區間213,而第二容室212之一側設有一定位槽214相對於通槽231,第二容室212開口處設有一罩蓋24,該罩蓋24可封閉第二容室212之開口,防止驅動裝置3脫離容室21,罩殼22之一端開設有一鏤空區間221,在該鏤空區間221周緣的罩殼22處設有一第一樞接部222,該第一樞接部222設於相對限位區間213之另一端,而在第二容室212內的罩殼22內緣設有一抵頂座223,該抵頂座223兩旁側各設有一限位部224。
請參閱第四、五圖所示,該驅動裝置3,設有包括一驅動輪31與一驅動模組32,兩者間設有一傳動軸33以將驅動模組32之動力傳遞至驅動輪31,該驅動模組32具有一套殼321,該套殼321內設有包括一馬達322與一齒輪組323,套殼321一端之馬達322設置處,設有一第二樞接部324,套殼321另一端之齒輪組323設置處設有一定位座325,可供一例如彈簧…等之彈性件8嵌卡於其上,且該第二樞接部324與嵌卡彈性件8之定位座325皆設於與馬達322之旋轉軸平行之X軸方向上,驅動模組32之兩側分別設有一第一定位軸326與一第二定位軸327,馬達322之旋轉軸與齒輪組323之一第一嚙合齒輪328旋轉軸相互垂直,且馬達322之旋轉軸與驅動輪31之旋轉軸相互垂直。
請參閱第二、三、五、六圖所示,本發明實施例在實施上,驅動裝置3容設於容室21內,使驅動裝置3之驅動輪31位處第一容室211內,部分之驅動輪31可凸出於第一容室211外與待清潔表面F接觸;而驅動裝置3之驅動模組32位處於第二容室212內,並藉由鎖固件26將罩蓋24固定於第二容室212之開口處,以封閉第二容室212之開口防止驅動裝置3整體脫離容室21; 連結於驅動輪31與驅動模組32間之傳動軸33配合對應於隔板23鏤空之通槽231內,並橫越穿經通槽231,使驅動模組32之動力傳遞至驅動輪31,且驅動模組32之一端位處限位區間213內被限位,使驅動輪31與驅動模組32能確實分別保持在第一容室211與第二容室212空間內,不會有越位之情況;驅動模組32兩側之第一定位軸326與第二定位軸327,分別配合對應隔板23之通槽231與第二容室212一側之定位槽214,通槽231之寬度可容置傳動軸33與第一定位軸326,使傳動軸33與第一定位軸326可同時位於通槽231內;驅動模組32一端之馬達322一部分可由罩殼22之鏤空區間221穿出而顯露於容室21外,且位處驅動模組32一端之第二樞接部324亦顯露於容室21外,並與罩殼22外緣之第一樞接部222藉由一樞接件25相樞接,使驅動裝置3可以第一樞接部222與第二樞接部324之樞接點27為旋轉軸心,在容室21內以弧形路徑擺動,而位處驅動模組32另一端定位座325上之彈性件8,則抵頂於罩殼22內緣之抵頂座223內,在自走式清潔裝置於待清潔表面F行走時,驅動裝置3之驅動輪31受待清潔表面F之支撐,而驅動模組32受彈性件8之抵頂而維持在容室21之適當高度上,在驅動輪31離開待清潔表面F時,驅動裝置3會因重力與彈性件8之抵撐力而以樞接點27為旋轉軸心朝下弧形擺動,驅動裝置3之弧形擺動路徑以套殼321抵觸到容室21上側之限位部224為擺動之上死點,而以套殼321抵觸到罩蓋24為擺動之下死點。
本發明實施例之自走式清潔裝置,藉由隔板23將容室21分隔成第一容室211與第二容室212及限位區間213,並將驅動裝置3之驅動模組32一端受限於限位區間213內,使驅動裝 置3之驅動輪31與驅動模組32能分別分配在第一容室211與第二容室212內,不會越位,使驅動裝置3整體不易有左、右搖晃抖動之情況;而在驅動模組32另一端,設置可與容室21罩殼22之第一樞接部222樞轉之第二樞接部324,藉由樞接件25將兩者樞接,使驅動裝置3可以樞接點27為旋轉軸心,在容室21內以弧形路徑擺動,在自走式清潔裝置行走於待清潔表面F時,驅動裝置3會隨待清潔表面F之高低起伏而在容室21內以樞接點27為旋轉軸心進行弧形路徑擺動,並以驅動裝置3之驅動模組32與罩殼22間之彈性件8作為Z軸向垂直位移之緩衝,使驅動裝置3之驅動輪31在待清潔表面F行走時具有避震之效果,且驅動裝置3之驅動模組32前後兩端受限位區間213及第一樞接部222與第二樞接部324樞接之前後兩點限位,使驅動裝置3整體在運作時,不易有水平方向前、後、左、右不規則抖動之情況產生,有助於自走式清潔裝置行走路徑更為準直且不易偏移。
惟以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,當不能以此限定本發明實施之範圍,即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
2‧‧‧第二殼體
22‧‧‧罩殼
221‧‧‧鏤空區間
222‧‧‧第一樞接部
24‧‧‧罩蓋
25‧‧‧樞接件
26‧‧‧鎖固件
3‧‧‧驅動裝置
31‧‧‧驅動輪
32‧‧‧驅動模組
324‧‧‧第二樞接部
325‧‧‧定位座
5‧‧‧集塵機構
6‧‧‧負壓機構
7‧‧‧控制單元
8‧‧‧彈性件

Claims (13)

  1. 一種自走式清潔裝置,包括:一清潔機構,可撥掃汙塵並將汙塵吸入一集塵機構內收集;一容室,設於自走式清潔裝置殼體下方兩側,容室內設有一隔板,將該容室分隔成一第一容室與一第二容室;一驅動裝置,設於該容室內,設有包括一驅動輪與一驅動模組;該驅動輪設於該第一容室內而該驅動模組設於該第二容室內。
  2. 如申請專利範圍第1項所述自走式清潔裝置,其中,該隔板開設有一鏤空之通槽。
  3. 如申請專利範圍第1項所述自走式清潔裝置,其中,該隔板與該第二容室之一側形成一限位區間,可供該驅動模組之一端受其限位。
  4. 如申請專利範圍第2項所述自走式清潔裝置,其中,該第二容室之一側設有一定位槽。
  5. 如申請專利範圍第2項所述自走式清潔裝置,其中,該驅動輪與該驅動模組間設有一傳動軸可橫越該通槽。
  6. 如申請專利範圍第4項所述自走式清潔裝置,其中,該驅動模組兩側設有一第一定位軸與一第二定位軸,分別配合對應該定位槽與該通槽。
  7. 如申請專利範圍第1項所述自走式清潔裝置,其中,該驅動模組具有一套殼,該套殼內設有包括一馬達與一齒輪組,該 馬達之旋轉軸與該齒輪組之第一嚙合齒輪旋轉軸相互垂直,且馬達之旋轉軸與驅動輪之旋轉軸相互垂直。
  8. 一種自走式清潔裝置,包括:一清潔機構,可撥掃汙塵並將汙塵吸入一集塵機構內收集;一容室,凹設於自走式清潔裝置機體下方兩側,形成一罩殼;一驅動裝置,設於該容室內,設有包括一驅動輪與一驅動模組,該驅動模組具有一套殼,該套殼內設有包括一馬達與一齒輪組;該套殼一端之馬達設置處,設有一第二樞接部與該罩殼相樞接,套殼另一端之齒輪組設置處,設有一彈性件與該罩殼相抵觸。
  9. 如申請專利範圍第8項所述自走式清潔裝置,其中,該罩殼之一端開設有一鏤空區間,該鏤空區間可供部分之驅動模組顯露於容室外。
  10. 如申請專利範圍第8項所述自走式清潔裝置,其中,該罩殼之外緣設有一第一樞接部,可供第二樞接部樞接;罩殼之內緣設有一抵頂座,可供彈性件抵頂。
  11. 如申請專利範圍第8項所述自走式清潔裝置,其中,該馬達之旋轉軸與該齒輪組之一第一嚙合齒輪之旋轉軸相互垂直,且馬達之旋轉軸與驅動輪之旋轉軸相互垂直。
  12. 如申請專利範圍第8項所述自走式清潔裝置,其中,第二樞接部與一嵌卡彈性件之定位座皆設於與馬達之旋轉軸平行之 軸向上且馬達之旋轉軸與驅動輪之旋轉軸垂直。
  13. 如申請專利範圍第10項所述自走式清潔裝置,其中,該驅動裝置以第一樞接部與第二樞接部樞接之一樞接點為旋轉中心,在容室內以弧形路徑擺動。
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