TW201542780A - 研磨劑、研磨物品及其製備方法 - Google Patents

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Abstract

所提供者為一種研磨劑，其包含研磨粒子以及黏著基質，且該等研磨粒子係分佈於該黏著基質中，其中該等研磨粒子包含氫氧化鋁研磨粒子，且該黏著基質包含三丙烯酸酯、二丙烯酸酯、以及起始劑。使用本發明之研磨劑所製備的研磨物品具有適當的抗磨損性，其可用來清潔LCD面板表面，而不會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。

Description

研磨劑、研磨物品及其製備方法
本發明係關於研磨劑之領域，尤其關於一種研磨劑、一種研磨物品、以及一種用於製備一種研磨物品之方法。
於生產LCD面板的過程中，有一個步驟是清潔LCD面板表面。在這個步驟中，通常使用刮刀或研磨帶清除LCD面板表面的雜質或玻璃碎片。
然而，刮刀無法用來清潔具有ITO(透明導電之銦錫氧化物膜)塗層之LCD面板表面，因為其會刮傷ITO塗層。用來清潔LCD面板表面之ITO塗層的傳統研磨帶主要包含氧化鋁研磨粒子，其可能刮傷ITO塗層，從而影響LCD面板的良率。
因此，有需要開發一種新穎的研磨劑以及一種新穎的研磨物品，其可用來清潔LCD面板表面而不會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
本發明的目的為提供一種新穎的研磨劑以及一種抗磨損性相對低之研磨物品，該研磨物品可用來清潔LCD面板表面，而不會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
依據本發明之一態樣，所提供者為一種研磨劑，其包含研磨粒子以及黏著基質，並且該等研磨粒子係分佈於該黏著基質中，其中該等研磨粒子包含氫氧化鋁研磨粒子，並且該黏著基質包含三丙烯酸酯、二丙烯酸酯、以及起始劑。
依據本發明之一些較佳實施例，該等氫氧化鋁研磨粒子之平均粒度為0.5至10μm。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該等氫氧化鋁研磨粒子存在之量為15至30wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，該等研磨粒子進一步包含碳酸鈣研磨粒子。
依據本發明之一些較佳實施例，該等碳酸鈣研磨粒子之平均粒度為0.5至5μm。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該等碳酸鈣研磨粒子存在之量為0.5至5wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，該等研磨粒子進一步包含氧化鋁研磨粒子。
依據本發明之一些較佳實施例，該等氧化鋁研磨粒子之平均粒度為0.5至5μm。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該等氧化鋁研磨粒子存在之量為0.5至2wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該黏著基質存在之量為60至85wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，該三丙烯酸酯之平均分子量為150至500。
依據本發明之一些較佳實施例，該三丙烯酸酯係選自由三聚異氰酸酯-丙烯酸酯(isocyanurate-acrylate)與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropanetriacrylate)所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該三丙烯酸酯存在之量為10至40wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，該二丙烯酸酯之平均分子量為100至600。
依據本發明之一些較佳實施例，該二丙烯酸酯係選自由聚乙二醇(200)二丙烯酸酯(polyethylene glycol(200)diacrylate)與氧乙烯雙酚A二丙烯酸酯(oxyethylene bisphenol A diacrylate)所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該二丙烯酸酯存在之量為30至60wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該起始劑存在之量為0.1至5wt.%。
依據本發明之一些較佳實施例，該黏著基質進一步包含由界面活性劑、懸浮劑、偶合劑、或分散劑所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之另一個態樣，所提供者為一種研磨物品，其包含依據本發明所提供之經固化研磨劑。
依據本發明之一些較佳實施例，該研磨物品包含一突出構件或複數個突出構件。
依據本發明之一些較佳實施例，該突出構件在水平方向之剖面形狀包含由三角形、正方形、長方形、菱形、五邊形、六邊形、圓形、以及橢圓形所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之一些較佳實施例，該突出構件之上方表面平行於該突出構件在水平方向之剖面。
依據本發明之一些較佳實施例，該突出構件為一種角錐結構。
依據本發明之一些較佳實施例，該突出構件的高度為10至500μm。
依據本發明之一些較佳實施例，該複數個突出構件是相同的高度。
依據本發明之一些較佳實施例，該複數個突出構件為規則排列。
依據本發明之一些較佳實施例，該研磨物品進一步包含背襯層，該等突出構件係設置於其上。
依據本發明之一些較佳實施例，用於該背襯層的材料包含由聚乙烯膜、聚酯布、混紡布、棉布、以及紙所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之一些較佳實施例，底塗層係包括在該等突出構件與該背襯層之間。
依據本發明之一些較佳實施例，用於該底塗層之材料包含由聚胺甲酸酯與乙烯/丙烯酸共聚物所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之另一態樣，所提供者為一種用於製備研磨物品之方法，其包含固化依據本發明所提供之研磨劑的步驟。
依據本發明之一些較佳實施例，可藉由紫外光固化該研磨劑。
依據本發明之一些較佳實施例，該紫外光之強度為500至700瓦特/公寸，較佳為600瓦特/公寸。
依據本發明之一些較佳實施例，可於固化該研磨劑之步驟前，先將依據本發明所提供之研磨劑設置到該背襯層上。較佳地，可藉由塗布施用將依據本發明所提供之研磨劑設置在該背襯層上。
依據本發明之一些較佳實施例，用於該背襯層的材料包含由聚乙烯膜、聚酯布、混紡布、棉布、以及紙所組成之群組中的一或多者。
依據本發明之一些較佳實施例，在將該研磨劑設置於該背襯層上之步驟前，可先將底塗層設置於該背襯層上。
依據本發明之一些較佳實施例，用於該底塗層之材料包含由聚胺甲酸酯與乙烯/丙烯酸共聚物所組成之群組中的一或多者。
依據本發明所提供之研磨物品具有相對低的抗磨損性，而且可用來清潔LCD面板表面，而不會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。
上述的發明內容，用意並不在於說明本發明之每一種實作的各揭露實施例。本發明之上述以及進一步實施例的特徵以及優點，可由下述實施方式中之本發明例示性實施例的更詳細說明，再配合圖示，而變得更為明顯。
100‧‧‧研磨物品
110‧‧‧背襯層
120‧‧‧突出構件
130‧‧‧底塗層
200‧‧‧模
220‧‧‧穴
320‧‧‧托盤
330‧‧‧圓盤
340‧‧‧環
350‧‧‧水
圖1A是依據本發明之一些較佳實施例所提供之研磨物品的俯視圖；圖1B是依據本發明之一些較佳實施例所提供之研磨物品在垂直方向的剖面圖；圖2A是用於製備研磨物品之正方形模穴的俯視圖，該研磨物品係依據本發明之一些較佳實施例所提供；圖2B是用於製備研磨物品之正方形模穴在垂直方向的剖面圖，該研磨物品係依據本發明之一些較佳實施例所提供；圖3是席夫爾式試驗(Schiefer Test)之示意圖。
應了解所屬技術領域中具有通常知識者可按照本說明書之教示在不偏離本發明之範疇或精神下預想到各式其他實施例及對該等實施例進行修改。因此，以下詳細說明應不以狹義觀點視之。
除非另有所指，所有本說明書及申請專利範圍中表示特徵尺寸、量以及物理性質之數字，在所有例子中都應予以理解成以「約」一詞進行修飾。因此，除非有所矛盾，前面說明書及所附申請 專利範圍所提的該等數值參數屬於近似，其可取決於利用本文所揭露教示之所屬技術領域中具有通常知識者尋求獲得之該等期望性質而變。以首尾數字表達之數值範圍包含該範圍內涵蓋的所有數字以及該範圍內之任一範圍。舉例而言，1、2、3、4、以及5包括1、1.1、1.3、1.5、2、2.75、3、3.80、4、以及5等等。
研磨劑
本發明提供一種研磨劑，可將其固化以得到一種研磨物品，該研磨物品具有相對低的抗磨損性，而且可用來清潔LCD面板表面，又不會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
本發明所提供之研磨劑包含研磨粒子以及黏著基質，並且該等研磨粒子係分佈於該黏著基質中，其中該研磨粒子包含氫氧化鋁研磨粒子，且該黏著基質包含三丙烯酸酯、二丙烯酸酯、以及起始劑。
該等氫氧化鋁研磨粒子之平均粒度為0.5至10μm，較佳為0.5至5μm，更佳為0.5至1μm。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該等氫氧化鋁研磨粒子存在之量為15至30wt.%，較佳為25至30wt.%。
該等研磨粒子可進一步包含碳酸鈣研磨粒子。該等碳酸鈣研磨粒子之平均粒度為0.5至5μm，較佳為1至3μm。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該碳酸鈣研磨粒子存在之量為0.5至5wt.%，較佳為1至5wt.%。
該等研磨粒子可進一步包含氧化鋁研磨粒子。該等氧化鋁研磨粒子之平均粒度為0.5至5μm，較佳為1至3μm。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該等氧化鋁研磨粒子存在之量為0.5至2wt.%，較佳為1至2wt.%。
以該研磨劑總重量為100wt.%計，該黏著基質存在之量為60至85wt.%。
該三丙烯酸酯之平均分子量為150至500，較佳為200至500。該三丙烯酸酯較佳可選自由三聚異氰酸酯-丙烯酸酯與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯所組成之群組中的一或多者。例如，可選用三丙烯酸酯三聚異氰酸酯-丙烯酸酯SR368D或三羥甲基丙烷三丙烯酸酯SR351(可購自Sartomer Corp.)。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該三丙烯酸酯存在之量為10至40wt.%。該三丙烯酸酯可用來強化該黏著基質之黏著性能，使得該等研磨粒子係黏結於該黏著基質中。另外，可進一步使用該三丙烯酸酯將該研磨劑以及該背襯層黏著在一起。另外，該三丙烯酸酯有助於固化該研磨劑以形成該研磨物品(請參考本說明書之「研磨物品」一節以獲得關於「研磨物品」的說明)。若是該研磨劑缺乏該三丙烯酸酯，則該黏著基質會過於柔軟，使得該研磨劑無法固化以形成該研磨物品。
該二丙烯酸酯之平均分子量為100至600，較佳為200至600。該二丙烯酸酯可選自由聚乙二醇(200)與氧乙烯雙酚A二丙烯酸酯所組成之群組中的一或多者。例如，可選用聚乙二醇(200)二丙烯酸酯SR259或氧乙烯雙酚A二丙烯酸酯SR601(可購自Sartomer Corp.)。以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該二丙烯酸酯存在之量為30至60wt.%。該二丙烯酸酯有助於讓該研磨劑固化之後所形成的該研磨物品具有相對低的抗磨損性，使得LCD面板表面上的ITO塗層不會出現刮痕。若是該研磨劑缺乏該二丙烯酸酯，則該研磨劑基質會過硬而使固化該研磨劑後形成的研磨物品具有過高的抗磨損性，使得LCD面板表面上的ITO塗層會出現刮痕。另外，該二丙烯酸酯也有助於增加該研磨劑之親水性，使得固化該研磨劑後形成的研磨物品於水研磨的情況下具有適當的抗磨損性。此有助於更佳控制該研磨物品之磨損率，使得該研磨物品不會磨損的太快或太慢。若是該研磨物品磨損太快，其使用壽命會縮短，而若是該研磨物品磨損太慢，刮痕會於該LCD面板表面上之ITO塗層上產生。
該起始劑可促進該研磨劑之固化，如此不僅可讓該研磨粒子黏結於該黏著基質中，也可讓該研磨劑以及該背襯層黏結在一起。該起始劑較佳可選自由光起始劑、以及熱自由基起始劑所組成之群組中的一或多者。該光起始劑較佳可選自由紫外光起始劑以及光活化起始劑所組成之群組中的一或多者，更佳為紫外光起始劑。對於該紫外光起始劑，例如可選用可購自Ciba Corp.的Irgacure 819，對於該光活化起始劑，例如可選用可購自Basf Corp.的TPO-L。對於該熱自由基起始劑，，例如可選用可購自Dupont Corp.的VAZO 52或VAZO67。以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該起始劑存在之量為0.1至5wt.%。
該黏著基質可進一步包含由界面活性劑、懸浮劑、偶合劑、或分散劑所組成之群組中的一或多者。
該界面活性劑可用來改善該黏著基質以及該背襯之間的黏結強度以及親和力。該界面活性劑較佳可選自由離子界面活性劑、陽離子界面活性劑、以及非離子界面活性劑所組成之群組中的一或多者，更佳為非離子界面活性劑。該非離子界面活性劑較佳為醇醚界面活性劑(alcohol ether surfactant)。對於該醇醚界面活性劑，例如可選用可購自Dupont Corp.的Tergitol 15-S-5。以該研磨劑之總重量為100wt.%計，該界面活性劑存在之量為0.1至10wt.%。
該懸浮劑可用來減低該等研磨粒子在該黏著基質中的沉澱現象。該懸浮劑較佳可為非晶氧化矽粒子，更佳為表面積小於150m2/g之非晶氧化矽粒子。對於表面積小於150m2/g之非晶氧化矽粒子，例如可選用可購自Evonik Corp.的OX50。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該懸浮劑存在之量為1至5wt.%，較佳為1至2wt.%。
該偶合劑可在該黏著基質與該等研磨粒子之間提供締合橋接。該偶合劑較佳可選自由矽烷偶合劑、鈦酸鹽偶合劑、以及鋁酸鋯偶合劑所組成之群組中的一或多者。可視需要以不同方式加入該偶合劑。舉例而言，可將該偶合劑直接加入該黏著基質。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該偶合劑較佳之量為0.1至5wt.%，更佳為0.1至3wt.%。
該分散劑可用來降低該黏著基質的黏度，使得該等研磨粒子係均勻分佈於該黏著基質中。該分散劑較佳為錨定聚合物分散劑 (anchoring polymer dispersing agent)。對於該錨定聚合物分散劑，可選用(例如)可購自Lubrizol Corp.的Solplus D520。以該研磨劑總重量為100wt.%計，該分散劑存在之量為0.1至0.5wt.%，較佳為0.1至0.3wt.%。
本發明所提供之研磨劑具有相對低的抗磨損性，而且可用來清潔LCD面板表面，而不會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。
研磨物品
本發明進一步提供一種研磨物品。該研磨物品包含研磨劑層，其包含本發明所提供之該經固化的研磨劑。請參考本說明書之「研磨劑」一節以獲得關於該「研磨劑」的說明。
如於圖1A以及圖1B中所示，研磨物品100包含背襯層110以及設置於背襯層110上之一突出構件120或複數個突出構件120。研磨物品100可用來清潔LCD面板表面，而不會刮傷該LCD面板表面上的ITO塗層。
用於背襯層110之材料較佳可選自由聚乙烯背襯、聚酯布背襯、混紡布背襯、棉布背襯、以及紙背襯所組成之群組中的一或多者，更佳者為聚乙烯背襯。可選用(例如)可購自3M Corp.的聚乙烯背襯。
該突出構件120在水平方向之剖面形狀可較佳地選自由三角形、正方形、長方形、菱形、五邊形、六邊形、圓形、以及橢圓形所組成之群組中的一或多者，更佳為正方形、長方形、以及橢圓 形。突出構件120在水平方向之剖面面積較佳為0.25至5mm2，更佳為1至3mm2。
突出構件120之上方表面可平行於或不平行於突出構件120在水平方向之剖面。較佳地，突出構件120之上方表面平行於突出構件120在水平方向之剖面。突出構件120之上方表面形狀可相同於或不同於突出構件120在水平方向之剖面形狀。較佳地，突出構件120之上方表面形狀相同於突出構件120在水平方向之剖面形狀。突出構件120之上方表面面積可相同於或不同於突出構件120在水平方向之剖面面積。較佳地，突出構件120之上方表面面積相同於突出構件120在水平方向之剖面面積。
另外，突出構件120可為角錐結構。
以h1表示突出構件120的高度，較佳為h1=10至500μm，而更佳為h1=200至350μm。
若研磨物品100包含複數個突出構件120，這些突出構件120的高度h1可為相同或不同。較佳地，突出構件120的高度h1為相同，其有助於該研磨物品清潔LCD面板表面，而不會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。
若研磨物品100包含複數個突出構件120，這些突出構件120可規則或不規則排列。較佳地，這些突出構件120為規則排列，此有助於該研磨物品清潔LCD面板表面，而不會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。
研磨物品100可進一步包含底塗層130(圖中未示)。底塗層130可用來增加背襯層110與突出構件120之間的黏結力。用於底塗層130之材料較佳可選自由聚胺基甲酸酯、乙烯丙烯酸共聚物所組成之群組中的一或多者，更佳為乙烯丙烯酸共聚物。
用於製備研磨物品的方法
本發明提供一種用於製備研磨物品的方法，其包含固化依據本發明所提供之研磨劑的步驟。
請參考本說明書之「研磨劑」一節以獲得關於該「研磨劑」的說明。
如圖2A以及圖2B中所示，固化本發明之研磨劑的步驟可藉由將該研磨劑置入模200中來進行。
如圖2A以及圖2B中所示，模200包含一個穴220或複數個穴220。可藉由微複製技術(micro-replication technique)製成模200。穴220在水平方向之剖面形狀可較佳地選自由三角形、正方形、長方形、菱形、五邊形、六邊形、圓形、以及橢圓形所組成之群組中的一或多者，更佳為正方形、長方形、以及橢圓形。穴220之底部表面面積較佳為0.25至5mm2，更佳為1至3mm2。
較佳地，穴220之側壁垂直於該底部表面。
較佳地，穴220之底部表面平行於穴220在水平方向之剖面。較佳地，穴220之底部表面形狀相同於穴220在水平方向之剖 面形狀。較佳地，穴220之底部表面面積相同於穴220在水平方向之剖面面積。
另外，穴220可為倒立角錐結構。
以b1表示穴220之深度，較佳為b1=10至500μm，更佳為b1=200至350μm。若模200包含複數個穴220，這些穴220之深度b1可為相同或不同。較佳地，這些穴220之深度b1為相同。若模200包含複數個穴220，這些穴220可規則或不規則排列。較佳地，這些穴220為規則排列。
於固化該研磨劑之步驟中，若該研磨劑包含光起始劑，較佳可藉由紫外光固化該研磨劑。當使用紫外光固化該研磨劑時，該紫外光之強度為500至700瓦特/公寸，較佳為600瓦特/公寸。
於固化該研磨劑之步驟中，若該研磨劑包含熱自由基起始劑，較佳可藉由加熱固化該研磨劑，加熱溫度較佳為50至120℃。
實例
以下所提供之實例以及比較例旨在協助了解本發明，而不應解讀為對本發明之範圍造成限制。除非另有指明，所有份數與百分比皆以重量計。
下表1展示本發明之實例以及比較例中所使用之原料。
本發明之實例以及比較例中所提供之研磨物品的抗磨損性能係主要藉由圖3所示之「席夫爾式試驗」評估。
席夫爾式試驗法
將研磨物品切割成圓盤(如圖1A中所示)，其直徑可視需要選用。
用數位式顯微鏡VHX-1000 E(可購自Keyence Corp.)使試驗前圓盤經受3D偵測，並記錄該試驗前圓盤之厚度。
如圖3中所示，將圓盤330背側貼附壓敏黏著劑，並且將圓盤330固定於平坦托盤320。將固定有圓盤330之托盤320安裝 在席夫爾式試驗儀(可購自Frazier Precision Co.,Gaithersburg,Maryland,USA)上。
在試驗壓力4.54kg下並且利用連續水刀(水350之流速為30ml/min)進行濕研磨的情況下，使用圓盤330以總共4,500轉研磨由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)製成且外徑為102mm與內徑為51mm之環340。在試驗期間，托盤320的轉速為250rpm，PMMA環340的轉速為250rpm，並且PMMA環340的旋轉方向相同於托盤320的旋轉方向。圖3中的箭頭分別地指出PMMA環340的旋轉方向以及托盤320的旋轉方向。PMMA環340的旋轉軸與托盤320的旋轉軸不在同一條直線上，並且PMMA環340的旋轉軸與托盤320的旋轉軸之間的距離約為30mm。
一旦研磨完成，吹乾圓盤330。
用數位式顯微鏡VHX-1000 E(可購自Keyence Corp.)使試驗後圓盤經受3D偵測，並記錄該試驗後圓盤之厚度。根據下述的公式計算研磨物品的實際磨損量來評估研磨物品的抗磨損率；實際磨損量=研磨前之圓盤厚度-研磨完成時之圓盤厚度
若該圓盤的實際磨損量少於5μm，該圓盤具有相對高的抗磨損性，而若將該圓盤使用於清潔LCD面板表面，該圓盤將會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。若該圓盤的實際磨損量高於或等於5μm，則該圓盤(研磨物品)具有相對低的抗磨損性，而若將該圓盤使 用於清潔LCD面板表面，該圓盤不會刮傷LCD面板表面上的ITO塗層。
本發明之實例以及比較例所提供之研磨物品的抗磨損性能之試驗結果列於表4。
實例1至4(製備黏著基質)
採用表2所列之組分及其數量以下述步驟製備黏著基質。
步驟1：將組分加入CA Model # LA1A攪拌器(可購自Cott Turbon Mixer Inc.)。
步驟2：於溫度為30℃以及旋轉速度為400rpm的條件下攪拌該組成物以充分混合來獲得該黏著基質。
實例5至13以及比較例C1至C4 「研磨劑之製備」：
採用表3所列之組分及其數量以下述步驟製備研磨劑：使用CA Model # LA1A攪拌器(可購自Cott Turbon Mixer Inc.)，於低於30℃之溫度且轉速為400rpm的條件下，將研磨粒子均勻分散至該黏著基質中以獲得研磨劑。
「研磨物品之製備」：
將研磨劑均勻塗敷到如圖2A以及圖2B所示的PP(聚丙烯)模上。該PP模係藉由微複製技術所製成，其寬度為200mm且具有正方形模穴。該等正方形模穴包括複數個規則排列的穴。這些穴 之底部表面平行於該等穴在水平方向之剖面，且其面積相同於該等穴在水平方向之剖面面積。這些穴之底部面積為1.69mm2，且深度b1為300μm。
根據US5975987所提供之方法，將裝滿該研磨劑之模施用於PET膜上，該PET膜係塗布有EAA(乙烯丙烯酸共聚物)彈性底塗料(或者，將裝滿該研磨劑之模施用於布背襯之上，該布背襯寬度為12英吋且厚度為0.005英吋，並且其塗布有聚胺基甲酸酯底塗料)。
根據US5975987所提供之方法，於夾輥之夾緊力為90lbs/ft(約等於620.5kPa)且該PET膜之移動速度為10ft/min的條件下，用強度為600瓦特/公寸之紫外光照射該PET膜上之研磨劑(用於照射紫外光之設備為EPIQ 6000，其可購自Fusion System Corp.,Gaithersburg,Maryland)。
在該研磨劑固化之後，使該PP模與該PET膜分離，得到形成於該PET膜(塗布有EAA)上之經固化研磨物品。該研磨物品寬度為200mm。該研磨物品具有規則排列的突出構件。這些突出構件在水平方向之剖面形狀為正方形(該正方形的側邊為1.3mm且其面積為1.69mm2)。這些突出構件之高度h1為300±50μm。
「研磨物品之席夫爾式試驗」
將一層3M PSA 300LSE壓敏黏著劑(可購自3M Corp.)塗布於研磨物品之背側。
將塗布有壓敏黏著劑之研磨物品切割成直徑4英吋的圓盤(如圖1A所示)。
根據本說明書之「席夫爾式試驗」一節所提供的「席夫爾式試驗法」偵測該圓盤的實際磨損量。所得到的結果列於表3。
由比較例C1至C3可看出，當該研磨劑未含氫氧化鋁研磨粒子時，利用該研磨劑所製備之研磨物品的實際磨損量少於5 μm，顯示該研磨物品具有相對高抗磨損性，並且可能會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
由比較例C4可看出，當該研磨劑含有氫氧化鋁研磨粒子，但是不含有二丙烯酸酯時，利用該研磨劑所製備之研磨物品的實際磨損量少於5μm，顯示該研磨物品具有相對高抗磨損性，並且可能會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
由實例5至13可看出，當該研磨劑含有氫氧化鋁研磨粒子、二丙烯酸酯、以及三丙烯酸酯時，利用該研磨劑所製備之研磨物品的實際磨損量高於5μm，顯示該研磨物品具有相對低抗磨損性，並且不會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
另外，由實例10與12可看出，當該研磨劑的研磨粒子含有氫氧化鋁研磨粒子時，可進一步將適當量(1至2wt.%)之碳酸鈣研磨粒子加至該等研磨粒子，由此研磨劑所製備之研磨物品的實際磨損量高於5μm，顯示該研磨物品具有相對低抗磨損性，並且不會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
另外，由實例9與11可看出，當該研磨劑含有氫氧化鋁研磨粒子時，可進一步將適當量(1至2wt.%)之氧化鋁研磨粒子加入該研磨粒子，由此研磨劑所製備之研磨物品的實際磨損量高於5μm，顯示該研磨物品具有相對低抗磨損性，並且不會刮傷LCD面板表面上之ITO塗層。
儘管上述之實施方式包含許多旨在例證的具體細節，所屬技術領域中具有通常知識者應了解對於該等細節之許多變型、改 變、替換、以及變更仍屬於如所請揭露的範圍內。據此，實施方式中所述之揭露內容並未對如所請揭露加諸任何限制。該揭露之正確範圍應藉由本申請專利範圍及其適當的合法均等物決定。本文中所引用之參考文獻係以引用方式全文併入本文中。
120‧‧‧突出構件

Claims (39)

  1. 一種研磨劑，其包含研磨粒子以及黏著基質，且該等研磨粒子係分佈於該黏著基質之中，其中該等研磨粒子包含氫氧化鋁研磨粒子，且該黏著基質包含三丙烯酸酯、二丙烯酸酯、以及起始劑。
  2. 如請求項1之研磨劑，其中該等氫氧化鋁研磨粒子之平均粒度為0.5至10μm。
  3. 如請求項1之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該等氫氧化鋁研磨粒子存在之量為15至30wt.%。
  4. 如請求項1之研磨劑，其中該等研磨粒子進一步包含碳酸鈣研磨粒子。
  5. 如請求項4之研磨劑，其中該等碳酸鈣研磨粒子之平均粒度為0.5至5μm。
  6. 如請求項4之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該等碳酸鈣研磨粒子存在之量為0.5至5wt.%。
  7. 如請求項1之研磨劑，其中該等研磨粒子進一步包含氧化鋁研磨粒子。
  8. 如請求項7之研磨劑，其中該等氧化鋁研磨粒子之平均粒度為0.5至5μm。
  9. 如請求項7之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該等氧化鋁研磨粒子存在之量為0.5至2wt.%。
  10. 如請求項1之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該黏著基質存在之量為60至85wt.%。
  11. 如請求項1之研磨劑，其中該三丙烯酸酯之平均分子量為150至500。
  12. 如請求項1之研磨劑，其中該三丙烯酸酯係選自由三聚異氰酸酯-丙烯酸酯與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯所組成之群組中的一或多者。
  13. 如請求項1之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該三丙烯酸酯存在之量為10至40wt.%。
  14. 如請求項1之研磨劑，其中該二丙烯酸酯之平均分子量為100至600。
  15. 如請求項1之研磨劑，其中該二丙烯酸酯係選自由聚乙二醇(200)二丙烯酸酯與氧乙烯雙酚A二丙烯酸酯所組成之群組中的一或多者。
  16. 如請求項1之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該二丙烯酸酯存在之量為30至60wt.%。
  17. 如請求項1之研磨劑，其中該起始劑係選自由光起始劑與熱自由基起始劑所組成之群組中的一或多者。
  18. 如請求項1之研磨劑，其中以該研磨劑總重量為100wt.%計，該起始劑存在之量為0.1至5wt.%。
  19. 如請求項1之研磨劑，其中該黏著基質進一步包含由界面活性劑、懸浮劑、偶合劑、與分散劑所組成之群組中的一或多者。
  20. 一種研磨物品，其包含經固化之如請求項1至19中任一項之研磨劑。
  21. 如請求項20之研磨物品，其中該研磨物品包含一突出構件或複數個突出構件。
  22. 如請求項21之研磨物品，其中該突出構件在水平方向之剖面形狀包含由三角形、正方形、長方形、菱形、五邊形、六邊形、圓形、以及橢圓形所組成之群組中的一或多者。
  23. 如請求項21之研磨物品，其中該突出構件之上方表面平行於該突出構件在水平方向之剖面。
  24. 如請求項21之研磨物品，其中該突出構件為角錐結構。
  25. 如請求項21之研磨物品，其中該突出構件的高度為10至500μm。
  26. 如請求項21之研磨物品，其中該複數個突出構件具有相同高度。
  27. 如請求項21之研磨物品，其中該複數個突出構件為規則排列。
  28. 如請求項21之研磨物品，其中該研磨物品進一步包含背襯層，該突出構件係設置於其上。
  29. 如請求項28之研磨物品，其中用於該背襯層的材料包含由聚乙烯膜、聚酯布、混紡布、棉布、以及紙所組成之群組中的一或多者。
  30. 如請求項28之研磨物品，其中底塗層係包括在該等突出構件與該背襯層之間。
  31. 如請求項30之研磨物品，其中用於該底塗層之材料包含由聚胺甲酸酯與乙烯/丙烯酸共聚物所組成之群組中的一或多者。
  32. 一種用於製備研磨物品的方法，其包含固化如請求項1至19中任一項之研磨劑之步驟。
  33. 如請求項32之方法，其中該研磨劑係藉由紫外光固化。
  34. 如請求項33之方法，其中該紫外光之強度為500至700瓦特/公寸。
  35. 如請求項34之方法，其中該紫外光之強度為600瓦特/公寸。
  36. 如請求項33之方法，其中該研磨劑係在固化該研磨劑之該步驟之前先設置於該背襯層上。
  37. 如請求項36之方法，其中用於該背襯層的材料包含由聚乙烯膜、聚酯布、混紡布、棉布、以及紙所組成之群組中的一或多者。
  38. 如請求項36之方法，其中底塗層係在該研磨劑設置於該背襯層上之該步驟之前先設置於該背襯層上。
  39. 如請求項38之方法，其中用於該底塗層之材料包含由聚胺甲酸酯與乙烯/丙烯酸共聚物所組成之群組中的一或多者。
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