CN104726061A - 磨料、研磨件及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种磨料，包括研磨颗粒和粘结基质，所述研磨颗粒分布于所述粘结基质中，其中，所述研磨颗粒包括氢氧化铝研磨颗粒；所述粘结基质包括三丙烯酸酯、二丙烯酸酯和引发剂。本发明提供的磨料制得的研磨件具有较低的抗磨损性，既可以用来清洁液晶屏表面，又不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。

Description

磨料、研磨件及其制备方法
技术领域
本发明涉及研磨领域，尤其涉及一种磨料、一种研磨件和一种制备研磨件的方法。
背景技术
在液晶屏的生产过程中有一个清洁液晶屏表面的步骤。在该步骤中，常常用刮刀或砂带清理液晶屏表面的杂质或玻璃碎屑。
然而，刮刀无法用于清洁在具有ITO(氧化铟锡透明导电膜)涂层的液晶屏表面，否则可能会在ITO涂层上产生划伤。传统的用于清洁液晶屏表面的ITO涂层的砂带中主要含有氧化铝研磨颗粒，这些氧化铝研磨颗粒可能会在ITO涂层上产生划伤，影响液晶屏的良率。
因此，有必要开发一种新的磨料和研磨件，该研磨件既可以用来清洁液晶屏表面，又不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
发明内容
本发明旨在提供一种新的抗磨损性较低的磨料和研磨件，该研磨件既可以用来清洁液晶屏表面，又不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
根据本发明的一个方面，本发明提供一种磨料，包括研磨颗粒和粘结基质，所述研磨颗粒分布于所述粘结基质中，其中，所述研磨颗粒包括氢氧化铝研磨颗粒；所述粘结基质包括三丙烯酸酯、二丙烯酸酯和引发剂。
根据本发明的某些优选实施方式，所述氢氧化铝研磨颗粒的平均粒径为0.5-10μm。
根据本发明的某些优选实施方式，所述氢氧化铝研磨颗粒的含量为15-30wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述研磨颗粒还可以进一步包括碳酸钙研磨颗粒。
根据本发明的某些优选实施方式，所述碳酸钙研磨颗粒的平均粒径为0.5-5μm。
根据本发明的某些优选实施方式，所述碳酸钙研磨颗粒的含量为0.5-5wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述研磨颗粒还包括氧化铝(aluminum oxide)研磨颗粒。
根据本发明的某些优选实施方式，所述氧化铝研磨颗粒的平均颗粒尺寸为0.5-5μm。
根据本发明的某些优选实施方式，所述氧化铝研磨颗粒的含量为0.5-2wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述粘结基质的含量为60-85wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述三丙烯酸酯的平均分子量为150-500。
根据本发明的某些优选实施方式，所述三丙烯酸酯选自下列组中的一种或多种：异氰脲酸酯丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
根据本发明的某些优选实施方式，所述三丙烯酸酯的含量为10-40wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述二丙烯酸酯的平均分子量为100-600。
根据本发明的某些优选实施方式，所述二丙烯酸酯选自下列组中的一种或多种：聚乙二醇(200)二丙烯酸酯和氧乙烯双酚A二丙烯酸酯。
根据本发明的某些优选实施方式，所述二丙烯酸酯的含量为30-60wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述引发剂的含量为0.1-5wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
根据本发明的某些优选实施方式，所述粘结基质还可以进一步包括下列组中的一种或多种：表面活性剂、悬浮剂、偶联剂或分散剂。
根据本发明的另一个方面，本发明提供一种研磨件，包括经固化的根据本发明提供的磨料。
根据本发明的某些优选实施方式，所述研磨件包括一个或多个突起部件。
根据本发明的某些优选实施方式，所述突起部件的沿水平方向的截面的形状包括下列组中的一种或多种：三角形、正方形、长方形、菱形、五边形、六边形、圆形和椭圆形。
根据本发明的某些优选实施方式，所述突起部件的沿水平方向的截面的面积为0.25-5mm2。
根据本发明的某些优选实施方式，所述突起部件的上表面和所述突起部件的沿水平方向的截面平行。
根据本发明的某些优选实施方式，所述突起部件为金字塔形结构。
根据本发明的某些优选实施方式，所述突起部件的高度为10-500μm。
根据本发明的某些优选实施方式，所述多个突起部件的高度是相同的。
根据本发明的某些优选实施方式，所述多个突起部件是规则排布的。
任意两个横向相邻的突起部件的中心之间的距离相等，且该距离为x1，优选x1＝1.6-2.0mm。
任意两个纵向相邻的突起部件的中心之间的距离相等，且该距离为x2，优选x2＝1.6-2.0mm。
根据本发明的某些优选实施方式，所述研磨件还包括背衬层，所述突起部件设置在所述背衬层上。
根据本发明的某些优选实施方式，所述背衬层的材料包括下列组中的一种或多种：聚乙烯薄膜、聚酯布、混纺布、棉布和纸。
根据本发明的某些优选实施方式，所述突起部件与所述背衬层之间还包括一个底涂层。
根据本发明的某些优选实施方式，所述底涂层的材料包括下列组中的一种或多种：聚氨酯和乙烯丙烯酸共聚物。
根据本发明的另一个方面，本发明提供一种制备研磨件的方法，包括步骤：使根据本发明提供的磨料固化。
根据本发明的某些优选实施方式，可以通过紫外光使所述磨料固化。
根据本发明的某些优选实施方式，所述紫外光的强度为500-700瓦/分米，优选600瓦/分米。
根据本发明的某些优选实施方式，在使磨料固化的步骤前，可以先将根据本发明提供的磨料设置到背衬层上。优选地，可以通过涂布的方式将根据本发明提供的磨料设置到背衬层上。
根据本发明的某些优选实施方式，所述背衬层的材料包括下列组中的一种或多种：聚乙烯薄膜、聚酯布、混纺布、棉布和纸。
根据本发明的某些优选实施方式，在将所述磨料设置到背衬层上的步骤前，可以先在所述背衬层上设置一个底涂层。
根据本发明的某些优选实施方式，所述底涂层的材料包括下列组中的一种或多种：聚氨酯和乙烯丙烯酸共聚物。
根据本发明提供的研磨件的抗磨损性较低，既可以用来清洁液晶屏表面，又不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
上述发明内容非意在描述本发明的每种实施方式的每一个公开实施例。下面结合附图以及具体实施方式更具体地举例说明示例性实施例，可以使得本发明的上述和进一步的实施方案的特征和优势更为明显。
附图说明
图1A是根据本发明的某些优选实施方式提供的研磨件的俯视图；
图1B是根据本发明的某些优选实施方式提供的研磨件的沿垂直方向的截面图；
图2A是根据本发明的某些优选实施方式提供的用于制备研磨件的方形模腔的俯视图；
图2B是根据本发明的某些优选实施方式提供的用于制备研磨件的方形模腔的沿垂直方向的截面图；
图3是Schiefer测试示意图。
具体实施方式
应当理解，在不脱离本发明的范围或精神的情况下，本领域技术人员能够根据本说明书的教导设想其它各种实施方案并能够对其进行修改。因此，以下的具体实施方式不具有限制性意义。
除非另外指明，否则本说明书和权利要求中使用的表示特征尺寸、数量和物理特性的所有数字均应该理解为在所有情况下均是由术语“约”来修饰的。因此，除非有相反的说明，否则上述说明书和所附权利要求书中列出的数值参数均是近似值，本领域的技术人员能够利用本文所公开的教导内容寻求获得的所需特性，适当改变这些近似值。用端点表示的数值范围的使用包括该范围内的所有数字以及该范围内的任何范围，例如，1、2、3、4和5包括1、1.1、1.3、1.5、2、2.75、3、3.80、4和5等等。
磨料
本发明提供一种磨料，可以将该磨料固化得到研磨件，该研磨件具有较低的抗磨损性，既可以用来清洁液晶屏表面，又不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
本发明提供的磨料包括研磨颗粒和粘结基质，所述研磨颗粒分布于所述粘结基质中，其中，所述研磨颗粒包括氢氧化铝研磨颗粒；所述粘结基质包括三丙烯酸酯、丙烯酸酯和引发剂。
所述氢氧化铝研磨颗粒的平均粒径为O.5-10μm，优选0.5-5μm，特别优选0.5-1μm。所述氢氧化铝研磨颗粒的含量为15-30wt.％，优选25-30wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述研磨颗粒还可以进一步包括碳酸钙研磨颗粒。所述碳酸钙研磨颗粒的平均粒径为0.5-5μm，优选1-3μm。所述碳酸钙研磨颗粒的含量为0.5-5wt.％，优选1-5wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述研磨颗粒还可以进一步包括氧化铝研磨颗粒。所述氧化铝研磨颗粒的平均粒径为0.5-5μm，优选1-3μm。所述氧化铝研磨颗粒的含量为0.5-2wt.％，优选1-2wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述粘结基质的含量为60-85wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述三丙烯酸酯的平均分子量为150-500，优选200-500。所述三丙烯酸酯可以优选下列组中的一种或多种：异氰脲酸酯丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；例如，所述三丙烯酸酯可以选择购自Sartomer公司的异氰脲酸酯丙烯酸酯SR368D或三羟甲基丙烷三丙烯酸酯SR351。所述三丙烯酸酯的含量为10-40wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。所述三丙烯酸酯可以用于增强粘结基质的粘结性能，使研磨颗粒粘结在粘结基质中。其次，所述三丙烯酸酯还可以进一步用于粘结磨料和背衬层。此外，三丙烯酸酯有助于使磨料经固化后形成研磨件(关于所述“研磨件”的介绍，详见本说明书的“研磨件”部分)；如果磨料中缺少三丙烯酸酯，会使粘结基质的性质太软，导致磨料无法经固化后形成研磨件。
所述二丙烯酸酯的平均分子量为100-600，优选200-600。所述二丙烯酸酯可以优选下列组中的一种或多种：聚乙二醇(200)二丙烯酸酯和聚氧乙烯双酚A二丙烯酸酯；例如，所述二丙烯酸酯可以选择购自Sartomer公司的聚乙二醇(200)二丙烯酸酯SR259或氧乙烯双酚A二丙烯酸酯SR601。所述二丙烯酸酯含量为30-60wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。所述二丙烯酸酯有助于使磨料经固化后形成的研磨件具有较低的抗磨损性，不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤；如果磨料中缺少第二丙烯酸酯，会使粘结基质的性质太硬，导致磨料经固化后形成的研磨件的抗磨损性过高，会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。此外，所述第二丙烯酸酯还有助于提高磨料的亲水性，使磨料经固化后形成的研磨件在水磨条件下具有适当的抗磨损性，以更好地控制研磨件的磨损速率，既不会使研磨件磨损的过快，也不会使研磨件磨损的太慢，如果研磨件磨损太快，会减少研磨件的寿命，如果研磨件磨损太慢，会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
所述引发剂能够促使磨料发生固化，不仅可以使研磨颗粒粘结在粘结基质中，而且可以使磨料和背衬层粘结在一起。所述引发剂可以优选下列组中的一种或多种：光引发剂或热自由基引发剂。所述光引发剂优选下列组中的一种或多种：紫外光引发剂和光活化引发剂，特别优选紫外光引发剂。例如，所述紫外光引发剂可以选择购自Ciba公司的Irgacure819；例如，所述光活化引发剂可以选择购自Basf公司的TPO-L。例如，所述热自由基引发剂可以选择购自Dupont公司的VAZO52或VAZ067。所述引发剂的含量为0.1-5wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述粘结基质还可以进一步包括下列组中的一种或多种：表面活性剂、悬浮剂、偶联剂和分散剂。
所述表面活性剂可以用于改善粘结基与背衬的粘结强度和亲和性。所述表面活性剂可以优选下列组中的一种或多种：阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂，特别优选非离子表面活性剂。所述非离子表面活性剂优选醇醚类表面活性剂。例如，所述醇醚类表面活性剂可以选择购自Dows公司的Tergitol15-S-5。所述表面活性剂的含量为0.1-10wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述悬浮剂可以用于减少粘结基质中研磨颗粒的沉淀。所述悬浮剂可以优选无定形氧化硅颗粒，特别优选表面积小于150m2/g的无定形氧化硅颗粒。例如，所述表面积小于150m2/g的无定形氧化硅颗粒可以选择购自Evonik公司的OX50。所述悬浮剂的含量为1-5wt.％，优选1-2wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述偶联剂可以为粘结基质与研磨颗粒提供缔合桥接。所述偶联剂可以优选下列组中的一种或多种：硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂和锆铝酸酯偶联剂。可以根据需要通过不同的方式加入偶联剂，例如，偶联剂可以直接加入粘结基质中。所述偶联剂的含量优选0.1-5wt，％，特别优选0.1-3wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
所述分散剂可以用于降低粘结基质的粘度，使研磨颗粒均匀地分散均在粘结基质中。所述分散剂可以优选锚固聚合物分散剂。例如，所述锚固聚合物分散剂可以选择购自Lubrizol公司的Solplus D520。所述分散剂的含量为0.1-0.5wt.％，优选0.1-0.3wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
本发明提供的磨料具有较低的抗磨损性，既可以用来清洁液晶屏表面，又不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
研磨件
本发明还提供一种研磨件。所述研磨件包括研磨层，所述研磨层包括经固化的本发明提供的“磨料”。关于所述“磨料”的介绍，详见本说明书的“磨料”部分。
如图1A和图1B所示，研磨件100包括背衬层110和设置在背衬层110上的一个或多个突起部件120。该研磨件100可以用于清洁液晶屏表面，并且不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
所述背衬层110的材料可以优选下列组中的一种或多种：聚乙烯背衬、聚酯布背衬、混纺布背衬，棉布背衬和纸基背衬，特别优选聚乙烯背衬。例如，可以选择购自3M公司的聚乙烯背衬。
所述突起部件120的沿水平方向的截面的形状可以优选下列组中的一种或多种：三角形、正方形、长方形、菱形、五边形、六边形、圆形和椭圆形，特别优选方形、长方形形和椭圆形。所述突起部件120的沿水平方向的截面的面积优选为0.25-5mm2，特别优选1-3mm2。
所述突起部件120的上表面可以与突起部件120的沿水平方向的截面平行，也可以与突起部件120的沿水平方向的截面不平行，优选突起部件120的上表面与突起部件120的沿水平方向的截面平行。所述突起部件120的上表面的形状可以与突起部件120的沿水平方向的截面的形状相同，也可以与突起部件120的沿水平方向的截面的形状不相同，优选突起部件120的上表面的形状与突起部件120的沿水平方向的截面的形状相同。所述突起部件120的上表面的面积可以与突起部件120的沿水平方向的截面的面积相同，也可以与突起部件120的沿水平方向的截面的面积不相同，优选突起部件120的上表面的面积与突起部件120的沿水平方向的截面的面积相同。
此外，所述突起部件120也可以是金字塔形结构。
所述突起部件120的高度为h1，优选h1＝10-500μm，特别优选h1＝200-350μm。
当研磨件100包括多个突起部件120时，这些突起部件120的高度h1可以是相同的，也可以是不相同的。优选地，突起部件120高度h1是相同的，这样有利于研磨件清洁液晶屏表面，并且不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
当研磨件100包括多个突起部件120时，这些突起部件120可以是规则排布的，也可以是不规则排布的。优选地，这些突起部件120是规则排布的，这样有利于研磨件清洁液晶屏表面，并且不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。当研磨件100包括多个突起部件120时，任意两个横向相邻的突起部件120的中心之间的距离可以是相等的、也可以是不相等的；当任意两个横向相邻的突起部件120的中心之间的距离相等时，设该距离为x1，优选x1＝1.6-2.0mm。任意两个纵向相邻的突起部件120的中心之间的距离可以是相等的、也可以是不相等的；当任意两个纵向相邻的突起部件120的中心之间的距离相等时，设该距离为x2，优选x2＝1.6-2.0mm。x1可以与x2相等、也可以不相等，优选x1与x2相等。
所述研磨件100还可以进一步包括底涂层130(图中未示出)，所述底涂层130可以用于增加背衬层110和突起部件120之间的结合力。所述底涂层130的材料可以选自下列组中的一种或多种：聚氨酯和乙烯丙烯酸共聚物，特别优选乙烯丙烯酸共聚物。
制备研磨件的方法
本发明提供一种制备研磨件的方法，包括步骤：使根据本发明提供的磨料固化。
关于所述“磨料”的介绍，详见本说明书的“磨料”部分。
如图2A和图2B所示，可以将本发明提供的磨料置于模具200中进行使磨料固化的步骤。
如图2A和图2B所示，所述模具200包括一个或多个凹槽220。所述模具200可以通过微复制技术制造。所述凹槽220的沿水平方向的截面的形状可以优选下列组中的一种或多种：三角形、正方形、长方形、菱形、五边形、六边形、圆形和椭圆形，特别优选正方形、长方形和椭圆形。所述凹槽220的底面的面积优选为0.25-5mm2，特别优选1-3mm2。
优选地，所述凹槽220的侧壁和底面垂直。
优选地，所述凹槽220的底面和所述凹槽220的沿水平方向的截面平行。优选地，所述凹槽220的底面的形状和所述凹槽220的沿水平方向的截面的形状相同。优选地，所述凹槽220的底面的面积和所述凹槽220的沿水平方向的截面的面积相同。
此外，所述凹槽220也可以是倒金字塔形结构。
所述凹槽220的深度为b1，优选b1＝10-500μm，特别优选b1＝200-350μm。当模具200包括多个凹槽220时，这些凹槽220的深度b1可以是相同的，也可以是不相同的，优选这些凹槽220的深度b1是相同的。当模具200包括多个凹槽220时，这些凹槽220可以是规则排布的，也可以是不规则排布的，优选这些凹槽220是规则排布的。当模具200包括多个凹槽220时，任意两个横向相邻的凹槽220的中心之间的距离可以是相等的、也可以是不相等的；当任意两个横向相邻的凹槽220的中心之间的距离相等时，设该距离为y1，优选y1＝1.6-2.0mm。任意两个纵向相邻的凹槽220的中心之间的距离可以是相等的、也可以是不相等的；当任意两个纵向相邻的凹槽220的中心之间的距离相等时，设该距离为y2，优选y2＝1.6-2.0mm。y1可以与y2相等、也可以不相等，优选y1与y2相等。
在使磨料固化的步骤中，当磨料中含有光引发剂时，可以优选通过紫外光使磨料固化。当用紫外光使磨料固化时，所述紫外光的强度为500-700瓦/分米，优选600瓦/分米。
在使磨料固化的步骤中，当磨料中含有热自由基引发剂时，可以优选通过加热使磨料固化，加热温度优选为50-120℃。
实施例
以下提供的实施例和对比实施例有助于理解本发明，并且这些实施例和对比实施例不应理解为对本发明范围的限制。除非另外指明，所有的份数和百分比均按重量计。
在本发明的实施例和对比实施例中采用的原料如下表1所示。
表1实施例和对比实施例中采用的原料
本发明主要通过如图3所示的“Schiefer测试”来评估实施例和对比实施例中提供的研磨件的抗磨损性能。
Schiefer测试方法
把研磨件裁成圆形的碟片(如图1A所示)，碟片的直径可以根据需要而定。
用数字显微镜VHX-1000E(可购自Keyence公司)对测试前的碟片作3D测试，将测试开始前的碟片厚度记录下来。
如图3所示，在碟片330的背面涂上压敏胶，把碟片330贴到一个平的托盘320上，把贴有碟片330的托盘320安装到Schiefer测试设备上(Schiefer测试设备可购自美国马里兰州盖瑟斯堡的Frazier Precision公司)。
在测试压力为4.54kg且一直喷水的湿磨状态下(水350的流量为30ml/min)，用碟片330研磨外径为102mm、内径为51mm、材质为PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)的环形340，碟片330一共旋转4500转。在该测试过程中，托盘320的转速为250RPM，PMMA环340的转速为250RPM，PMMA环340的转动方向和托盘320的转动方向相同，图3中所示的箭头分别表示PMMA环340的转动方向和托盘320的转动方向，PMMA环340的旋转轴和托盘320的旋转轴不在一条直线上，PMMA环340的旋转轴和托盘320的旋转轴之间距离约为30mm。
当研磨结束后，通过吹干的方式干燥碟片330。
用数字显微镜VHX-1000E(可购自Keyence公司)对测试后的碟片作3D测试，测试后的碟片厚度记录下来。根据以下公式计算得到研磨件的实际磨损，以评估研磨件的抗磨损率：
实际磨损＝研磨开始前的碟片厚度-研磨完成后的碟片厚度
当碟片的实际磨损小于5μm，则表示该碟片(研磨件)具有较高的抗磨损性，如果用该碟片清洁液晶屏表面，会在液晶屏表面的ITO层上产生划伤。如果磨料的实际磨损大于或等于5μm，则表示该碟片(研磨件)具有较低的抗磨损性，如果用该碟片(研磨件)清洁液晶屏表面，不会在液晶屏表面的ITO层上产生划伤。
本发明的实施例和对比实施例所提供的研磨件的抗磨损性能的测试结果列于表4。
实施例1-4(粘结基质的制备)
根据表2所列的成分及其用量，通过下列步骤，制备粘结基质。
步骤1：将各成分加入CAModel#LA1A搅拌器中(该搅拌器可以购自Cott Turbon Mixer Inc公司)中；
步骤2：在温度为30℃、转速为400RPM的条件下搅拌30分钟，使各成分混合均匀，得到粘结基质。
表2粘结基质的制备
实施例1 实施例2 实施例3 实施例4
SR368D 28.42 26.20 28 28.42
SR351 0 0.1 0 68.33
SR259 8.41 7.75 7.86 0
SR601 59.92 55.25 58 0
Silane A174 0.1 0.1 3 0.1
Irgacure819 0.38 0.38 0.38 0.38
TPO-L 1.53 1.53 1.53 1.53
Solplus D520 0.11 0.26 0.11 0.11
Tergitol15-S-5 0 7.5 0 0
OX50 1.12 1.12 1.12 1.12
Total 100 100 100 100
实施例5-13和对比实施例C1-C4
“磨料的制备”：
根据表3所列的成分及其用量，通过下列步骤，制备磨料：
在不超过30℃的条件下，用CA Model#LA1A搅拌器(该搅拌器可以购自的Scott Turbon Mixer Inc公司)，转速为400RPM的条件下，将研磨颗粒均匀地分散到粘结基质中，得到磨料。
“研磨件的制备”：
把磨料均匀涂布到如图2A和图2B所示的PP(聚丙烯)模具上，该PP模具通过微复制技术制造，该PP模具的宽度为200mm，该PP模具具有方形模腔结构。该方形模腔包括多个规则排布的凹槽，这些凹槽的底面与凹槽沿水平方向的截面平行且面积相等，这些凹槽的底面积为1.69mm2，深度b1为300μm。这些规则排布的凹槽中，任意两个横向相邻的凹槽的中心之间的距离是相等的，且该距离为y1，y1＝1.8mm，任意两个纵向相邻的凹槽的中心之间的距离也是相等的，且该距离为y2，y2＝1.8mm。
按照US5975987所提供的方法，将充满磨料的模具覆盖到一个宽度为12英寸、厚度0.005英寸的PET(聚乙烯)膜上，该PET膜上涂有EAA(乙烯丙烯酸共聚物)弹性底涂(或者，也可以将充满磨料的模具覆盖到一个宽度为12英寸、厚度0.005英寸的布背基上，该布背基上涂有聚氨酯底涂)；
按照US5975987所提供的方法，在夹辊的夹持力为90磅/英尺(约等于620.5kpa)、PE膜移动速度为10英尺/分钟的条件下，用强度为600瓦/分米的紫外光照射PET膜上的磨料(紫外光照射的设备为EPIQ6000，可购自马里兰州盖瑟斯堡Fusion system公司)；
待磨料固化后，将PP模具与PET膜分离，在涂有EAA的PET膜上形成一个经过固化的研磨件。该研磨件的宽度为200mm。该研磨件具有规则排布的突起部件，这些突起部件的沿水平方向的截面的形状为正方形(正方形的边长为1.3mm，面积为1.69mm2)，这些突起部件的高度h1为300+50μm。这些规则排布的突起部件中，任意两个横向相邻的突起部件的中心之间的距离是相等的，且该距离为x1，x1＝1.8mm，任意两个纵向相邻的突起部件的中心之间的距离也是相等的，且该距离为x2，x2＝1.8mm。
“研磨件的Schiefer测试”
在研磨件的背面涂一层3M PSA300LSE压敏胶(可购自3M公司)；
将涂有压敏胶的磨料裁切成直径为4英寸的圆形碟片(如图1A所示)；
根据本说明书的“Schiefer测试部分提供的“Schiefer测试方法”，测试碟片的实际磨损，结果列于表3。
从对比实施例C1-C3可以看出，当磨料中不含有氢氧化铝研磨颗粒时，用该磨料制得的研磨件实际磨损小于5μm，这说明该研磨件的抗磨损性较高，可能会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
从对比实施例C4可以看出，当磨料中含有氢氧化铝研磨颗粒但不含有二丙烯酸酯时，用该磨料制得的研磨件实际磨损小于5μm，这说明该研磨件的抗磨损性较高，可能会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
从实施例5-13可以看出，当磨料中含有氢氧化铝研磨颗粒、三丙烯酸酯和二丙烯酸酯时，用该磨料制得的研磨件的实际磨损大于5μm，这说明该研磨件的抗磨损性较低，不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
另外，从实施例10和12可以看出，当磨料的研磨颗粒中含有氢氧化铝研磨砂粒时，还可以在研磨颗粒中进一步加入适量的(1-2wt.％)碳酸钙研磨颗粒，用该磨料制得的研磨件的实际磨损大于5μm，这说明该研磨件的抗磨损性较低，不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
此外，从实施例9和11可以看出，当磨料的研磨颗粒中含有氢氧化铝研磨砂粒时，还可以在研磨颗粒中进一步加入适量的(1-2wt.％)氧化铝研磨颗粒，用该磨料制得的研磨件的实际磨损大于5μm，这说明该研磨件的抗磨损性仍然较低，不会对液晶屏表面的ITO涂层产生划伤。
虽然出于举例说明的目的，上述具体实施方式包含许多具体细节，但本领域普通技术人员应理解，这些细节的许多变型、更改、替代和改变均在权利要求所保护的本发明范围内。因此，具体实施方式中描述的公开内容不对权利要求所保护的本发明施加任何限制。本发明的适当范围应由权利要求书及其适当的法律等同物限定。所有引用的参考文献均以引用的方式全文并入本文中。

Claims (42)

1.一种磨料，包括研磨颗粒和粘结基质，所述研磨颗粒分布于所述粘结基质中，其中，
所述研磨颗粒包括氢氧化铝研磨颗粒；
所述粘结基质包括三丙烯酸酯、二丙烯酸酯和引发剂。
2.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述氢氧化铝研磨颗粒的平均粒径为0.5-10μm。
3.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述氢氧化铝研磨颗粒的含量为15-30wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
4.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述研磨颗粒还包括碳酸钙研磨颗粒。
5.根据权利要求4所述的磨料，其中，所述碳酸钙研磨颗粒的平均颗粒尺寸为0.5-5μm。
6.根据权利要求4所述的磨料，其中，所述碳酸钙研磨颗粒的含量为0.5-5wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
7.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述研磨颗粒还包括氧化铝研磨颗粒。
8.根据权利要求7所述的磨料，其中，所述氧化铝研磨颗粒的平均颗粒尺寸为0.5-5μm。
9.根据权利要求7所述的磨料，其中，所述氧化铝研磨颗粒的含量为0.5-2wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
10.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述粘结基质的含量为60-85wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
11.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述三丙烯酸酯的平均分子量为150-500。
12.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述三丙烯酸酯选自下列组中的一种或多种：异氰脲酸酯丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
13.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述三丙烯酸酯的含量为10-40wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
14.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述二丙烯酸酯的平均分子量为100-600。
15.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述二丙烯酸酯选自下列组中的一种或多种：聚乙二醇(200)二丙烯酸酯和氧乙烯双酚A二丙烯酸酯。
16.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述二丙烯酸酯的含量为30-60wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
17.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述引发剂选自下列组中的一种或多种：光引发剂和热自由基引发剂。
18.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述引发剂的含量为0.1-5wt.％，以磨料的总重量按100wt.％计。
19.根据权利要求1所述的磨料，其中，所述粘结基质还包括下列组中的一种或多种：表面活性剂、悬浮剂、偶联剂和分散剂。
20.一种研磨件，包括经固化的根据权利要求1-19所述的磨料。
21.根据权利要求20所述的研磨件，其中，所述研磨件包括一个或多个突起部件。
22.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述突起部件的沿水平方向的截面的形状包括下列组中的一种或多种：三角形、正方形、长方形、菱形、五边形、六边形、圆形和椭圆形。
23.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述突起部件的沿水平方向的截面的面积为0.25-5mm2。
24.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述突起部件的上表面和所述突起部件的沿水平方向的截面平行。
25.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述突起部件为金字塔形结构。
26.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述突起部件的高度为10-500μm。
27.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述多个突起部件的高度是相同的。
28.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述多个突起部件是规则排布的。
29.根据权利要求21所述的研磨件，其中，任意两个横向相邻的突起部件的中心之间的距离相等，且该距离为x1，优选x1＝1.6-2.0mm。
30.根据权利要求21所述的研磨件，其中，任意两个纵向相邻的突起部件的中心之间的距离相等，且该距离为x2，优选x2＝1.6-2.0mm。
31.根据权利要求21所述的研磨件，其中，所述研磨件还包括背衬层，所述突起部件设置在所述背衬层上。
32.根据权利要求31所述的研磨件，其中，所述背衬层的材料包括下列组中的一种或多种：聚乙烯薄膜、聚酯布、混纺布、棉布和纸。
33.根据权利要求31所述的研磨件，其中，所述突起部件与所述背衬层之间还包括一个底涂层。
34.根据权利要求33所述的研磨件，其中，所述底涂层的材料包括下列组中的一种或多种：聚氨酯和乙烯丙烯酸共聚物。
35.一种制备研磨件的方法，包括步骤：使根据权利要求1-19所述的磨料固化。
36.根据权利要求35所述的方法，其中，通过紫外光使所述磨料固化。
37.根据权利要求36所述的方法，其中，所述紫外光的强度为500-700瓦/分米。
38.根据权利要求36所述的方法，其中，所述紫外光的强度为600瓦/分米。
39.根据权利要求35所述的方法，其中，在使磨料固化的步骤前，先将所述磨料设置到背衬层上。
40.根据权利要求39所述的方法，其中，所述背衬层的材料包括下列组中的一种或多种：聚乙烯薄膜、聚酯布、混纺布、棉布和纸。
41.根据权利要求39所述的方法，其中，在将所述磨料设置到背衬层上的步骤前，先在所述背衬层上设置一个底涂层。
42.根据权利要求41所述的方法，其中，所述底涂层的材料包括下列组中的一种或多种：聚氨酯和乙烯丙烯酸共聚物。
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