TW201538978A - 稀有金屬作為關鍵組分之用途 - Google Patents
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Abstract
本發明關於製造診斷測試元件之領域。具體而言，本發明關於稀有金屬組分(特別是稀鹼金屬組分)之用途，其係包含在塗覆組成物中以供測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量。此外，本發明包括一種測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量之方法。再者，本發明關於包含稀有金屬組分(特別是稀鹼金屬組分)之塗覆組成物，及該塗覆組成物用於製造診斷測試元件之用途，以及有關該測試元件。
Description
本發明關於製造診斷測試元件之領域。具體而言，本發明關於稀有金屬組分(特別是稀鹼金屬組分)之用途，其係包含在塗覆組成物中以供測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量。此外，本發明包括一種測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量之方法。再者，本發明關於包含稀有金屬組分(特別是稀鹼金屬組分)之塗覆組成物，及該塗覆組成物用於製造診斷測試元件之用途，以及有關該測試元件。
塗覆法係用於本技術之許多領域中。特別是，可用於測量生物分析物(諸如血糖)之診斷測試元件的製造需要在固態支撐體上產生數個不同層膜。該等層係藉由將一或多種塗覆組成物施加至該固態支撐體之塗覆法獲得。典型診斷測試元件及用於產生彼之塗覆法係描述於例如DE 196 29 656 A1、DE 196 29 657 A1、WO 2010/052306或EP 0 821 234 B1。
然而，其對於塗層品質能保證之可靠作業診斷測試元
件具有決定性。為此，必須藉由測定形成該塗層之乾燥塗覆組成物的量來表示該塗層(即，該等層)之特徵。此種特徵為評估所希望規格之情況下的塗層之品質所需。
當前，施加至固態支撐體之乾燥塗覆組成物的量係由差重稱量(differential weighing)(即，藉由在施加之前與之後稱重塗覆組成物的量)來測定。從而，可計算已施加之塗覆組成物的量。此外，乾燥塗覆組成物之量係隨後藉由計算該組成物之固態組分的量之總和而測定。
差重稱量亦可用以直接測定所施加之乾燥塗覆組成物。為此，先稱重該乾燥塗覆組成物之塗層的固態支撐體。之後，例如藉由超音波處理從該固態支撐體完全移除該乾燥塗層，且再次稱重該無塗層之固態支撐體。所測定之重量之間的差異表示作為塗層施加至該固態支撐體的乾燥塗覆組成物之量。
塗層中之乾燥塗覆組成物的量亦可藉由紅外線(IR)光譜技術或藉由經由X射線螢光測定重元素來測定(就藉由X射線螢光測定重元素而言，詳見Rizescu 2001,International Journal of Energy and Environment 4(5)：503-513；Ene 2010,Rom Journal Phys.55(7-8)：815-820)。然而，該等技術對於塗層之間質效應敏感或需要添加高濃度重元素至該塗層。
如此，需要用於測定塗層及特別是所施加之乾燥塗覆組成物之品質的經改良技術。
在本發明背後的技術問題可被視為提出依從上述需求
的手段及方法。該技術問題係藉由下文申請專利範圍及本文中表示特徵的實施態樣來解決。
因此，本發明大體上關於稀有金屬組分之用途，該稀有金屬組分係包含在塗覆組成物中以供測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量。
本文所使用之用語「稀有金屬組分」係指包含稀有金屬原子或離子之組成物。應暸解上下文中之「稀有」為該金屬離子或原子不應以可偵測量存在於塗覆組成物的其他組分中。因此，其應為該塗覆組成物的獨特組分。因此，為慣用緩衝劑等之鹽的一部分之常見金屬離子等不應視為稀有。稀有金屬及稀有金屬離子可選自包括過渡金屬、類金屬、鑭系金屬及錒系金屬之重金屬及一些鹼土金屬的群組。
特別預期可作為根據本發明之稀重金屬為密度大於5g/m3，更常見係大於10g/cm3及最常見係20g/m3者。密度為至少5g/m3之重金屬為V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Bi、Po、Ra、Ac、Rf、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Th、Pa、U、Np、Pu、Am、Cm、Bk、Cf或Es。此外，特別預期用於本發明之稀重金屬組分中的
稀重金屬原子或離子在MS分析之情況下離子化後應帶正電。此外，預期該稀重金屬組分不應干擾該塗覆組成物之其他組分及彼等於該塗層中之目的。例如，就塗層之大部分目的而言，會需要非放射性重金屬。
在一態樣中，該稀有金屬組分為稀鹼金屬組分。本文所使用之用語「稀鹼金屬組分」係指包含稀鹼金屬原子或離子之組成物。根據本發明之常見鹼金屬為鈉(Na)及鉀(K)。因此，根據本發明之稀鹼金屬組分包含鋰(Li)、銣(Rb)、銫(Cs)或鍅(Fr)原子或離子。適於作為根據本發明待使用之塗覆組成物的稀鹼金屬組分之組成物為包含該等稀鹼金屬原子或離子之鹽、氫氧化物或有機金屬化合物。特別預期為鹽，諸如該等稀鹼金屬之鹵鹽，以及氫氧化物。如此，在一態樣中，根據本發明之稀鹼金屬組分可為LiCl、RbCl、CsCl或FrCl。可使用任何其他鹵化物，諸如氟(F-)陰離子、溴(Br-)陰離子、碘(I-)陰離子或砈(At-)陰離子代替氯(Cl-)陰離子。如此，在其他態樣中，根據本發明之稀鹼金屬組分可為LiF、RbF、CsF或FrF或LiBr、RbBr、CsBr或FrBr或LiI、RbI、CsI或FrI或LiAt、RbAt、CsAt或FrAt。亦可使用形成陰離子之其他鹽。在其他態樣中，根據本發明之稀鹼金屬組分可為LiOH、RbOH、CsOH或FrOH。特別是，LiOH或RbOH為根據本發明之適用稀鹼金屬組分。
本文所使用之用語「塗覆組成物」係指能於施加至例如固態支撐體時形成塗層之液態組成物。本文所指之「塗
層」係藉由從該塗覆組成物去除溶劑而使塗覆組成物之乾燥層作為塗層留在該固態支撐體上所形成。視塗層之所希望目的而定，塗覆組成物可包含各種組分。然而，將暸解該塗覆組成物應包含可去除之溶劑，諸如水性溶劑。水性溶劑可例如藉由施加熱處理、蒸發或冷凍乾燥而從該塗覆組成物去除。根據本發明，亦可想到其他可去除溶劑(諸如有機溶劑)。然而，根據本發明之塗覆組成物應包含至少一種如前文指明之稀有金屬組分。在一態樣中，該至少一種稀有金屬組分為至少一種稀鹼金屬組分。在一態樣中，該組分係以預定量包含在該塗覆組成物中，使得即使在去除該溶劑之後，亦可根據該稀有金屬組分之預定量精確地測定該形成塗層的所施加塗覆組成物。將暸解，視使用於將該塗覆組成物施加至支撐體的施加技術而定，可施加不同量。即使使用相同技術施加，不同經支撐體的所施加之量會改變。根據該塗層中所測定之稀有金屬組分的量，可比較施加至不同支撐體之乾燥塗覆組成物的量，例如作為塗覆法之品質控制的衡量標準。
本發明之用途的特定態樣中，該塗覆組成物能形成診斷測試元件中所使用之偵測層或反應層。
診斷測試元件原則上包含至少一個用於分析物定性及/或定量偵測之偵測試劑。偵測試劑通常理解為意指在該分析物存在下至少一種可偵測性質(更具體而言為物理及/或化學可偵測性質)改變的化學物質或化學物質之混合物。較佳地，該性質改變尤其只在待偵測分析物存在而非
其他物質存在時發生。
該至少一種性質改變可為例如光學可偵測性質，更具體而言為色彩改變。具有光學偵測試劑之診斷測試元件的實例在先前技術中為人熟知。例如，DE 196 29 656 A1、DE 196 29 657 A1、WO 2010/052306或EP 0 821 234 B1描述利用存在於診斷測試元件中且包括色彩形成試劑之試劑系統來從全血測定分析物的診斷測試元件。此種診斷測試元件包含具有添加樣本之樣本裝載側、及因分析物與試劑系統反應而發生光學可偵測改變的偵測側之測試區。該測試區係經建構以使存在於血液樣本之紅血球不到達該偵測側。再者，該測試區具有透明載玻片及第一膜層以及施加至該第一膜層之第二膜層。位於該透明載玻片上之該第一層或反應層為濕潤狀態，因而展現之光散射大幅少於位於其上之第二層。其包含用於偵測分析物之偵測試劑。該第一膜層包含折射率接近水之折射率的填料，而該第二層或偵測層含有根據該乾燥第二層計濃度為至少25重量%或甚至超過25重量%之折射率為至少或甚至>2.0，更具體而言為至少2.2的顏料。例如，該第一層可包含矽酸鈉鋁作為填料。
因此，本文所使用之用語「反應層」(或「第一層」)係指包含用於偵測分析物之反應試劑的測試區中的膜層。此外，該層亦應包含含有聚合膜形成劑、膨脹劑及弱光散射性填料或完全無填料之塗覆化合物。弱光散射性填料為根據本發明折射率接近水之折射率者。已證實二氧化矽、
矽酸鹽及矽酸鋁特別適於此目的。
本文所使用之用語「偵測層」(或「第二層」)係指在包含經分散液飽和之固態組分的測試區中之膜層。通常，該偵測層需要膨脹劑，且在任何情況下均需要至少一種強烈散射光之顏料。理想狀態況，第二膜層中之顏料的折射率應為至少2.5。因此，通常將TiO2添加至該層中。此外，該第二層亦可含有無孔填料以及多孔填料。儘管該濕潤劑具有開啟效應，藉由添加充分膨脹之膨脹劑(即，當吸收水時體積增加之物質)，仍獲得不僅可被樣本液體相對快速滲透且亦具有良好紅血球以及額外血液顏料分離性質之層。該等膨脹性質應良好以供用於色彩形成(諸如例如葡萄糖測試反應)之速率主要取決於該樣本液體滲透通過該層的測試，可光學偵測反應在一分鐘之最大值之後可測量。已證實尤其適用之膨脹劑為甲基乙烯基醚順丁烯二酸酐共聚物、黃原膠與甲基乙烯基醚順丁烯二酸共聚物。將暸解根據本發明之診斷測試元件可使用一或多個反應層。
能形成偵測層或反應層之塗覆組成物通常為水性組成物。該偵測層或反應層之組分亦可包含在該塗覆組成物中。此外，該組成物將包含熟練之技術人士從例如DE 196 29 657 A1、DE 196 29 656 A1、EP 0 821 234 B1、EP 1 035 919 B1或EP 1 035 920 B1(彼等係以引用方式併入本文中)熟知的適用於該等組分之溶劑。
包含具有多層結構之測試區的診斷測試元件之製造原
則上為熟習本領域之人士熟知，且描述於例如DE 196 29 657 A1、DE 196 29 656 A1或EP 0 821 234 B1(彼等係以引用方式併入本文中)。在一態樣中，先將反應層之塗覆組成物施加至該診斷元件上的測試區。然後，從該塗覆組成物去除該溶劑導致是為第一層(即，反應層)之乾燥塗層形成。在另一步驟中，將偵測層之塗覆組成物施加至該第一層。再次去除該溶劑以產生第二層(即，該偵測層)。在將該塗覆組成物施加至該診斷測試元件之測試區之後可藉由已知用於去除溶劑之所有技術(包括熱處理、蒸發或冷凍乾燥)從該組成物去除溶劑。
在一態樣中，診斷測試裝置之偵測層係從包含第一稀有金屬組分之塗覆組成物形成，而反應層係從包含第二稀有金屬組分之塗覆組成物形成，因此該第一及第二稀有金屬組分的稀有金屬原子或離子方面不同。在此種態樣中，可使用不同稀有金屬組分來測定是為偵測層之乾燥塗覆組成物以及是為反應層之乾燥塗覆組成物二者的量。在一態樣中，該塗覆組成物中之至少一種稀有金屬組分為至少一種稀鹼金屬組分。在特定態樣中，RbOH及LiOH係作為第一及第二稀鹼金屬組分施加。
本文所使用之用語「量」係指絕對量或相對量，即，特定體積中之組分的濃度。將暸解根據乾燥塗覆組成物之量，亦可計算表示塗層之特徵的其他參數，諸如其厚度或其重量。
有利的是，已發現在本發明背後研究中，稀有金屬組
分(諸如該等稀有金屬之氫氧化物或鹽)可以預定量用作塗覆組成物中之關鍵組分。在一態樣中，該等稀有金屬組分為稀鹼金屬組分。根據該等關鍵組分，可精確地測定診斷測試元件中之塗層(例如反應層或偵測層)中的乾燥塗覆組成物之量。由於該等關鍵組分用作該塗層之可偵測標記，將暸解該稀有金屬組分之稀有金屬原子或離子不應從該關鍵組分以外之組分或因污染導入。稀有金屬組分(具體而言，稀鹼金屬組分)特別適於作為診斷測試元件中所包含之偵測層或反應層中的關鍵組分，原因係該等組分對於需要在該等層中進行的其他化學反應惰性更高。此外，彼等不明顯改變所希望之物理性質，諸如該等層之光學性質。使用稀有金屬組分(具體而言，稀鹼金屬組分)作為關鍵組分之另一優點係可偵測到非常低偵測水準(例如，ppb(ng/g)範圍)的包含在該等組分中之稀有金屬原子或離子。為此，根據本發明背後之發現，質譜法(諸如ICP-MS)成為有利偵測技術。此外，稀有金屬之同位素可用作校正目的之內部標準，從而能精確且定量測從乾燥塗覆組成物中之稀有金屬組分的量。由於本發明，可顯著改善塗層之品質、特別是診斷測試元件領域中者。
先前之用語的定義及解釋在細節上做必要修正地應用於下述實施態樣中。
下文中，指明本發明之用途的具體實施態樣：在本發明之用途的實施態樣中，該稀有金屬組分為稀鹼金屬組分。
在本發明之用途的另一實施態樣中，該稀鹼金屬組分包含鋰、銣或銫離子。
在本發明之用途的另外實施態樣中，該稀有金屬組分為稀鹼金屬氫氧化物或鹽。
在本發明之用途的又一實施態樣中，該稀有金屬組分以預定之量存在於該塗覆組成物中。
在本發明之用途的實施態樣中，該稀有金屬組分不與該塗覆組成物之其他組分反應。
在本發明之用途的其他實施態樣中，該塗層為偵測層或反應層。
在本發明之用途的另外實施態樣中，該偵測層或反應層係包含在診斷測試元件中。
此外，本發明關於一種測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量之方法，該方法包括：a)將該包含乾燥塗覆組成物之塗層溶解於溶劑中，其中該塗覆組成物包含稀有金屬組分且其中該溶劑包含用於該稀有金屬組分之內部標準；b)偵測該稀有金屬組分之量；及c)根據該稀有金屬組分之偵測量來測定包含在該塗層中的乾燥塗覆組成物之量。
本文中所提之溶解該塗層包括使該塗層中該乾燥塗覆組成物的個別組分移動並使彼等進入溶液。通常，該塗層或其預定部分將溶解於酸性水溶液(諸如HNO3溶液)中。此外，該溶解亦可包括施加物理力(例如藉由搖動)或施加
微波輻射。
通常，將稀有金屬組分(具體而言，稀鹼金屬組分)之內部標準以預定量添加至該溶解塗層。此種標準可包含該稀有金屬組分之同位素或由彼組成，或可為包含彼之化合物。根據以已知預定量添加至該溶液之該標準，可針對不同量之稀有金屬組分進行校正。
該稀有金屬組分(具體而言，稀鹼金屬組分)之偵測可藉由能特別定量測定包含在包含該經溶解塗層的溶液中之稀有金屬原子或離子的各種不同偵測技術進行。具體而言，光譜法技術適於根據稀有金屬原子或離子之物理及/或化學性質來測定該等稀有金屬原子或離子。儘管如此，根據本發明，亦包括其他技術。具體而言，質譜法技術(諸如感應耦合質譜法(ICP-MS))在應用於根據本發明之方法時提供特定有利結果。諸如紅外線(IR)光譜法等技術係取決於間質效應，或在例如X射線螢光分析之情況下，需要相當高濃度之重關鍵組分存在該塗覆組成物中。
可根據該稀有金屬組分之偵測量來測定包含在該塗層中的乾燥塗覆組成物之量。為此，比較內部標準之測定量及預定量能定量地計算該量。
在一態樣中，該方法包括溶解兩個不同塗層，諸如診斷測試元件之反應層及偵測層，由此該等塗層包含不同稀有金屬組分。因此，由於該一塗覆組成物係由第一金屬組分表示而另一塗覆組成物係由在稀有金屬原子或離子方面不同於第一金屬組分的第二稀有金屬組分表示，故本發明
方法使得能測定在一方法內不同塗層各者中之塗覆組成物的量。如此，本發明方法使得能測定不同層中相對於彼此之塗覆組成物的相對量以及絕對量。藉由比較兩個不同層中之絕對或相對量，可基於該塗覆法中之品質控制目的而計算及確立比率。在特定態樣中，該等稀有金屬組分為稀鹼金屬組分。
下文中，指明本發明之診斷測試元件的具體實施態樣：在本發明之方法的實施態樣中，該稀有金屬組分為稀鹼金屬組分，具體而言，如本文其他處所指明。
在本發明之方法的實施態樣中，該稀有金屬組分之量係藉由質譜法偵測。
在本發明之方法的另外實施態樣中，該質譜法為感應耦合質譜法(ICP-MS)。
在本發明之方法的又一實施態樣中，該溶解包括酸處理及/或微波處理。
在本發明之方法的實施態樣中，該內部標準為富含同位素之稀有金屬組分。
在本發明之方法的另外實施態樣中，將兩個分別包含第一及第二乾燥塗覆組成物之塗層溶解，其中該第一塗覆組成物包含於溶劑中之第一稀有金屬組分，該溶劑包含用於該第一稀有金屬組分之內部標準，且其中該第二塗覆組成物包含於溶劑中之第二稀有金屬
組分，該溶劑包含用於該第二稀有金屬組分之內部標準。
在特定實施態樣中，該方法進一步包括比較包含在該第一及該第二塗層中之乾燥塗覆組成物的量。
在本發明之方法的其他實施態樣中，將兩個分別包含第一及第二乾燥塗覆組成物之塗層溶解在至少一種溶劑中，其中該第一塗覆組成物包含第一稀有金屬組分，其中該第二塗覆組成物包含第二稀有金屬組分，且其中該至少一種溶劑包含至少一種用於該第一稀有金屬組分及/或用於該第二稀有金屬組分之內部標準，從而根據該第一及該第二稀有金屬組分之偵測量來測定包含在該等兩個塗層中的第一及該第二乾燥塗覆組成物之絕對及/或相對量。
本發明亦考慮一種塗覆組成物，其用於形成作為包含在診斷測試元件中之偵測層或反應層的塗層，其中該塗覆組成物包含稀有金屬組分，具體而言，稀鹼金屬組分。
本發明另外包括的是診斷測試元件。該測試元件應包含作為偵測層或反應層之塗層，該塗層包含含有稀有金屬組分(具體而言，稀鹼金屬組分)之乾燥塗覆組成物。
在一態樣中，該診斷測試元件包含作為偵測層之塗層或作為反應層之塗層，其中作為該偵測層之塗層包含之稀有金屬組分的金屬係與作為該偵測層之塗層中所含的金屬組分不同。從而，可使用相同分析(例如質譜法，諸如ICP-MS)測定塗層中的乾燥塗覆組成物之量。
最後，本發明關於本發明之塗覆組成物用於製造診斷測試元件的用途，該診斷測試元件將該塗覆組成物包含於作為反應層之塗層或反應層中。
本說明書中所引用的所有參考資料其全文揭示內容以及本說明中特別提及之揭示內容係以引用方式併入本文中。
(100)‧‧‧產生偵測層及反應層
(110)‧‧‧溶解某一面積之測試區
(120)‧‧‧添加關鍵組分之內部標準
(130)‧‧‧以質譜法測定稀鹼金屬原子或離子之含量
(140)‧‧‧計算乾燥塗覆組成物之量
圖1顯示本發明方法之實施態樣的方法之示意圖。用於偵測層及反應層之塗覆組成物係以稀鹼金屬組分作為關鍵組分來產生(100)。將某一面積之測試區溶解(110)且添加用作所包括之關鍵組分(即，稀鹼金屬組分)的內部標準(120)。然後，藉由質譜法(130)(諸如ICP-MS)測定稀鹼金屬原子或離子之含量。根據稀鹼金屬組分之含量，計算所施加之乾燥塗覆組成物的量(140)。
圖2顯示用於測定存在於從含LiOH之塗覆組成物所獲得的塗層中之鋰離子的量之ICP-MS分析。(A)在不同測試元件上之偵測層的分析。(B)將介於8.00與9.00mg/m2之範圍之間的(A)之圖表放大。第一預裁切空白試樣的三個測試件編號為1-1、1-2、及1-3，第二預裁切空白試樣的三個測試件編號為2-1、2-2、2-3，及第三預裁切空白試樣的三個測試件編號為3-1、3-2、及3-3。
下列實施例應只用於說明本發明或其態樣。然而，該等實施例在任何方面均不應被視為限制本發明之範圍。
用於偵測層及反應層之塗覆組成物基本上係如DE 196 29 657 A1、DE 196 29 656 A1或EP 0 821 234 B1中之技術產生。
此外，然而將使得最終塗層應包含10mg Li+/m2之量的LiOH添加至該偵測層塗覆組成物。將使得最終塗層應包含10mg Rb+/m2之量的RbOH添加至該反應層塗覆組成物。為此，將濃度為0.01g/100g塗覆組成物之RbOH添加至該反應層塗覆組成物，同時將濃度為0.06g/100g塗覆組成物之LiOH添加至該偵測層塗覆組成物。
將1cm2面積之如實施例1所揭示般製造的診斷測試元件之測試區溶解於HNO3且在微波中處理直到該等層及支撐基質完全溶解為止(110)。將預定量之Y89Cl及Li6Cl添加至不同樣本以作為內部校正標準(120)。進行ICP-MS以測定Li7/Li6與Rb86/Y87之比率(130)。根據用於產生該等塗覆組成物之量及藉由ICP-MS所測定之同位素的比率(見圖1)計算在該偵測層及反應層中之乾燥組成物的量
(140)。
不同測試元件所獲得之結果係示於圖2。具體而言，圖2(B)顯示乾燥塗覆組成物之量的少許差異可藉由ICP-MS根據作為關鍵組分的Li離子來測定。研究三個預裁切空白試樣的三個測試件(第一預裁切空白試樣的三個測試件編號為1-1、1-2、及1-3，第二預裁切空白試樣的三個測試件為2-1、2-2、2-3，及第三預裁切空白試樣的三個測試件為3-1、3-2、及3-3)。
(100)‧‧‧產生偵測層及反應層
(110)‧‧‧溶解某一面積之測試區
(120)‧‧‧添加關鍵組分之內部標準
(130)‧‧‧以質譜法測定稀鹼金屬原子或離子之含量
(140)‧‧‧計算乾燥塗覆組成物之量
Claims (18)
- 一種包含於塗覆組成物中之稀有金屬組分的用途，其係用於測定塗層中之乾燥塗覆組成物的量。
- 如申請專利範圍第1項之用途，其中該稀有金屬組分為稀鹼金屬組分。
- 如申請專利範圍第2項之用途，其中該稀鹼金屬組分包含鋰、銣或銫離子。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項之用途，其中該稀有金屬組分為稀有金屬氫氧化物或鹽。
- 如申請專利範圍第1至4項中任一項之用途，其中該稀有金屬組分以預定之量存在於該塗覆組成物中。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項之用途，其中該稀有金屬組分不與該塗覆組成物之其他組分反應。
- 如申請專利範圍第1至6項中任一項之用途，其中該塗層為偵測層或反應層。
- 如申請專利範圍第7項之用途，其中該偵測層或反應層係包含在診斷測試元件中。
- 一種測定至少一個塗層中之乾燥塗覆組成物的量之方法，該方法包括：a)將該至少一個包含乾燥塗覆組成物之塗層溶解於溶劑中，其中該塗覆組成物包含稀有金屬組分且其中該溶劑包含用於該稀有金屬組分之內部標準；b)偵測該稀有金屬組分之量；及c)根據該稀有金屬組分之偵測量來測定包含在該至 少一個塗層中的乾燥塗覆組成物之量。
- 如申請專利範圍第9項之方法，其中該稀有金屬組分為稀鹼金屬組分。
- 如申請專利範圍第9或10項之方法，其中該稀有金屬組分之量係藉由質譜法偵測。
- 如申請專利範圍第11項之方法，其中該質譜法為感應耦合質譜法(ICP-MS)。
- 如申請專利範圍第9至12項中任一項之方法，其中該溶解包括酸處理及/或微波處理。
- 如申請專利範圍第9至13項中任一項之方法，其中該內部標準為富含同位素之稀有金屬組分。
- 如申請專利範圍第9至14項中任一項之方法，其中將兩個包含第一與第二乾燥塗覆組成物之塗層溶解於至少一種溶劑中，其中該第一塗覆組成物包含第一稀有金屬組分，其中該第二塗覆組成物包含第二稀有金屬組分，且其中該至少一種溶劑包含至少一種用於該第一稀有金屬組分及/或用於該第二稀有金屬組分之內部標準，從而根據該第一及該第二稀有金屬組分之偵測量來測定包含在該等兩個塗層中的第一及該第二乾燥塗覆組成物之絕對及/或相對量。
- 一種塗覆組成物，其用於形成作為包含在診斷測試元件中之偵測層或反應層的塗層，其中該塗覆組成物包含稀有金屬組分。
- 一種診斷測試元件，其包含作為偵測層或反應層之塗層，該塗層包含含有稀有金屬組分之乾燥塗覆組成物。
- 一種如申請專利範圍第16項之塗覆組成物的用途，其係用於製造診斷測試元件，該診斷測試元件包含在作為偵測層或反應層之塗層中的該塗覆組成物。
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