TW201523397A

TW201523397A - 光出射裝置及圖像顯示系統

Info

Publication number: TW201523397A
Application number: TW103137264A
Authority: TW
Inventors: Junya Hayakawa; Hiroshi Abe
Original assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2013-10-31
Filing date: 2014-10-28
Publication date: 2015-06-16
Also published as: EP3065034A1; CN105637457A; CN105637457B; US9886140B2; TWI550475B; JP2015088013A; US20160246448A1; EP3065034A4; EP3065034B1; JP6273775B2; KR101806237B1; RU2016121167A; KR20160078476A; WO2015064091A9; WO2015064091A1

Abstract

本發明之目的係提供一種可調整光之出射方向之光出射裝置及圖像顯示系統。本發明之光出射裝置具備：光源部6(6R)，其將光出射至沿著特定之平面之區域內；框架5，其設置光源部6(6R)；及調整機構7，其調整來自光源部6(6R)之光相對於上述特定之平面之出射方向。如此，由於調整來自光源部6(6R)之光相對於特定之平面之出射方向的調整機構7設置於框架5，故而可調整該框架5相對於上述特定之平面之斜度。藉此，可調整來自光源部6(6R)之光之出射方向。

Description

光出射裝置及圖像顯示系統

本發明係關於一種光出射裝置及圖像顯示系統。

先前，已知有檢測在預先決定之座標輸入區域內被操作之指示工具(例如筆等)之位置之座標輸入裝置。作為此種座標輸入裝置，已知有如下座標輸入裝置：於顯示圖像之顯示面上形成沿著該顯示面之光(紅外光)層，於由上述指示工具指示出顯示面內之特定之位置時，檢測由該指示工具所反射之光之位置，藉此檢測上述指示工具所指示之指示位置(例如，專利文獻1)。

該專利文獻1所記載之座標輸入裝置具備：座標輸入有效區域，其構成顯示裝置之顯示面；複數個感測器單元，其具有形成沿著該座標輸入區域之上述光層之投光部及受光部；複歸反射部，其配置於座標輸入有效區域之外側3條邊上，且使所入射之光反射；及控制運算單元。而且，該座標輸入裝置中，藉由複數個感測器單元而檢測座標輸入有效區域內藉由指示工具之動作而產生之光量分佈之變化範圍，且控制運算單元基於該變化範圍之數及指示工具之降筆數，算出座標輸入有效區域內之座標值。

於此種座標輸入裝置中，上述感測器單元之投光部具備發出紅外光之紅外LED(Light Emitting Diode，發光二極體)、及將該紅外光於大致90°之範圍投光之投光透鏡，且該投光部固定於上罩。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第4757144號公報

此處，例如於專利文獻1所示之座標輸入裝置中，必須如上述般於顯示圖像之座標輸入有效區域上，形成沿著該座標輸入有效區域之光層。然而，於專利文獻1所記載之座標輸入裝置中，無法調整自投光部所投射之光之出射方向。

因此，有可能因安裝上述投光部之壁之凹凸或零件交叉等，而於輸入面(例如屏幕等)與光之投射角度之間產生偏差，且存在無法適當地形成上述光層之情形。對於此種問題，考慮將上述感測器單元精度良好地固定，但於此種情形時，存在該感測器單元之安裝複雜化之問題。

本發明之目的之一在於提供一種可調整光之出射方向之光出射裝置及圖像顯示系統。

本發明之第1態樣之光出射裝置之特徵在於包括：光源部，其將光出射至沿著特定之平面之區域內；框架，其設置上述光源部；及調整機構，其調整來自上述光源部之上述光相對於上述特定之平面之出射方向。

根據上述第1態樣，由於調整來自光源部之光相對於特定之平面之出射方向的調整機構設置於框架，故而可調整該框架相對於上述特定之平面之斜度。因此，可針對特定之平面調整自設置於框架之光源部所出射之光之出射方向。

上述第1態樣中，較佳為，上述框架包含支點部，且上述調整機構以上述支點部為中心，調整上述框架相對於上述特定之平面之斜度，藉此調整上述光之出射方向。

根據上述第1態樣，由於框架包含支點部，故而調整機構能夠以支點部為中心，確實地調整框架相對於特定之平面之斜度。因此，可針對特定之平面確實地調整自設置於框架之光源部所出射之光之出射方向。

上述第1態樣中，較佳為，上述支點部位於相對於上述調整機構與上述光之出射方向相反之側，且上述調整機構包含第1調整機構及第2調整機構，該等第1調整機構及第2調整機構設置於上述框架之上述光之出射方向側，且自與上述特定之平面正交之方向觀察時於上述光之出射方向側相互空出間隔而配置。

根據上述第1態樣，由於支點部位於相對於調整機構與光之出射方向相反之側，故而可藉由位於框架中之上述交叉之方向之一端側之第1調整機構、及位於另一端側之第2調整機構之各者，以位於與光之出射方向相反之側之支點部為中心，而調整框架相對於特定之平面之斜度。因此，可針對上述特定之平面，細微地調整自設置於框架之光源部所出射之光之出射方向。

上述第1態樣中，較理想為，上述第1調整機構及上述第2調整機構中之至少任一者包含：固定構件，其沿上述框架之上述光之出射方向側之端部配置，且相對於上述框架獨立而固定；軸構件，其轉動自如地設置於上述固定構件；及移動構件，其卡合於上述軸構件，且沿上述軸構件之中心軸移動，而使上述框架沿上述中心軸移動。

根據上述第1態樣，若使轉動自如地設置於相對於框架獨立而固定之固定構件之軸構件轉動，則移動構件沿軸構件之中心軸移動，且框架沿軸構件之中心軸移動。藉此，可跟隨軸構件之轉動而細微地調整框架相對於上述特定之平面之斜度。又，若第1調整機構及第2調整機構之各者具備此種構成，則可更細微地調整框架之斜度。因此，可更細微地調整上述光之出射方向。

上述第1態樣中，較佳為，上述軸構件包含螺合部，該螺合部於該軸構件之周面形成為沿著上述中心軸之螺旋狀，且與上述移動構件螺合；且上述移動構件在以上述中心軸為中心之轉動受限制之狀態下與上述框架抵接。

根據上述第1態樣，可藉由軸構件之轉動，使移動構件向沿著軸構件之中心軸之方向確實地移動。藉此，可極細微地調整框架相對於特定之平面之斜度。因此，可針對特定之平面極細微地調整上述光之出射方向。

上述第1態樣中，較佳為，包括將上述光源部、上述框架、及上述調整機構收納於內部之殼體；且上述固定構件固定於上述殼體內；並且上述殼體包含：操作構件，其位於上述殼體之外部，且轉動自如地支持於上述殼體；及傳遞構件，其具有與上述操作構件同軸之轉動軸，與上述軸構件卡合，而使上述軸構件隨著上述操作構件之轉動而轉動。

根據上述第1態樣，藉由使用者使操作構件轉動，可使與傳遞構件卡合之軸構件間接地轉動。藉此，僅藉由使設置於殼體之外部之操作構件轉動，便可調整收納於殼體內部之框架之斜度。

此處，認為若使軸構件直接轉動，則會因施加於軸構件之負荷而導致框架或固定構件變形。與此相對，根據上述第1態樣，操作構件經由傳遞構件而使軸構件轉動，藉此可抑制該變形產生。

上述第1態樣中，較佳為，上述殼體包括被覆上述操作構件之蓋構件。

根據上述第1態樣，例如，於上述光之出射方向之調整結束後，利用蓋構件被覆操作構件，藉此可防止操作構件意外地轉動以致上述光之出射方向被變更。

上述第1態樣中，較佳為，上述殼體包含位於上述操作構件之周圍且沿上述操作構件之轉動方向形成之凹部。

根據上述第1態樣，於操作構件所在之殼體之周圍，沿操作構件之轉動方向形成有凹部。據此，由於可形成供抓持操作構件之手指進入之空間，故而可容易使操作構件沿設置有操作構件之殼體之面轉動。因此，使用者之力變得易傳遞至操作構件，而抑制操作構件相對於該殼體之面傾斜，故而可減輕對操作構件或傳遞構件之負荷。

上述第1態樣中，較佳為，包含緩衝部，該緩衝部位於上述殼體與上述框架之間，且於該光出射裝置掉落時與上述框架抵接，從而抑制設置於上述框架之上述光源部與上述殼體之接觸。

根據上述第1態樣，可藉由緩衝部於光出射裝置掉落時與框架抵接，而防止殼體與光源部之接觸。因此，不對光源部實施衝擊對策，便可防止因掉落之衝擊而引起之光源部之破壞。又，藉由此種構成，於光出射裝置掉落後，亦可維持針對特定之平面而調整之框架之斜度。

上述第1態樣中，較佳為，上述緩衝部與上述殼體一體形成。

作為緩衝部，可例示銷，該銷相對於框架自光源部側之殼體內表面突出，且位於框架與該殼體內表面之間。

根據上述第1態樣，由於緩衝部與殼體一體形成，故而無需另行設置緩衝零件。因此，可抑制光出射裝置之製造步驟之複雜化及製造成本之增加。

再者，緩衝部之前端部(與框架抵接之部分)採用凸形狀及凹形狀之任一形狀均可，但若設為凹形狀，則可更有效地吸收上述衝擊。

本發明之第2態樣之圖像顯示系統之特徵在於包括：顯示裝置，其顯示所接收之圖像；上述光出射裝置，其將光出射至沿著上述顯示裝置顯示上述圖像之顯示面之區域內，而形成沿著上述顯示面之光層；檢測裝置，其檢測上述區域內自上述光出射裝置所出射之光之反射位置；及圖像產生裝置，其產生與由上述檢測裝置檢測出之檢測結果相應之圖像，並發送至上述顯示裝置。

根據上述第2態樣，可取得與上述第1態樣之光出射裝置相同之效果。

又，由於可使自光出射裝置出射至特定範圍之光適當地沿著上述顯示面，故而可使該光層與顯示面之距離相對較短。因此，例如，可使用使自光出射裝置所出射之光反射之指示工具，容易地進行連續地指示顯示於顯示面之圖像中之特定之部位的操作(如雙擊之操作)，即對該光層連續地插拔指示工具之操作。因此，可提昇圖像顯示系統之操作性。

1‧‧‧光出射裝置

2‧‧‧殼體

2A‧‧‧頂面部

2B‧‧‧底面部

2C‧‧‧正面部

2D‧‧‧背面部

2E‧‧‧左側面部

2F‧‧‧右側面部

2G‧‧‧左側凹部

2H‧‧‧右側凹部

3‧‧‧裝置本體

4‧‧‧光幕單元

5‧‧‧框架

6‧‧‧光源部

6L‧‧‧第1光源部

6R‧‧‧第2光源部

7‧‧‧調整機構

8‧‧‧基板

10‧‧‧圖像顯示系統

21‧‧‧上殼體

21A‧‧‧表面

22‧‧‧下殼體

22A‧‧‧底面

23‧‧‧蓋

24‧‧‧壓住構件

51‧‧‧支點部

52‧‧‧嵌合部

53L‧‧‧孔部

53R‧‧‧孔部

54‧‧‧孔部

61‧‧‧固體光源

62‧‧‧光學裝置

63‧‧‧支持構件

64‧‧‧散熱器

71‧‧‧固定構件

71A‧‧‧面

72L‧‧‧第1調整機構

72R‧‧‧第2調整機構

73‧‧‧移動構件

81‧‧‧纜線

211‧‧‧刻度盤

211L‧‧‧刻度盤

211R‧‧‧刻度盤

212‧‧‧本體部

213‧‧‧軸部

214、721‧‧‧齒輪

215‧‧‧凹部

215L‧‧‧凹部

215R‧‧‧凹部

221‧‧‧開口部

222‧‧‧突起

223‧‧‧定位銷

224L‧‧‧凸座

224R‧‧‧凸座

225L‧‧‧凸座

225R‧‧‧凸座

226‧‧‧凸座

227‧‧‧銷(緩衝部)

228‧‧‧彈簧構件

711‧‧‧孔部

722‧‧‧軸構件

723‧‧‧移動構件

724‧‧‧防脫構件

725‧‧‧彈簧構件

7221‧‧‧螺合部

7231‧‧‧螺紋槽

A1‧‧‧箭頭

CM‧‧‧攝像裝置(檢測裝置)

GN‧‧‧圖像產生裝置(檢測裝置、圖像產生裝置)

L1‧‧‧方向

L2‧‧‧方向

LE‧‧‧相互作用區域

M‧‧‧壁掛金屬件

P1‧‧‧第1銷

P2‧‧‧第2銷

PJ‧‧‧投影器(顯示裝置)

RS‧‧‧天花板面

S1‧‧‧螺絲

S2‧‧‧螺絲

S3‧‧‧螺絲

SC‧‧‧屏幕

SC1‧‧‧被投射面(特定之平面、顯示面)

T1‧‧‧直線

T2‧‧‧直線

WS‧‧‧壁面

圖1係表示本發明之一實施形態之圖像顯示系統之構成及使用狀態的圖。

圖2係表示上述實施形態之光出射裝置之立體圖。

圖3係表示上述實施形態之光出射裝置之底面部的圖。

圖4係表示拆下上述實施形態之蓋之外觀的立體圖。

圖5係表示上述實施形態之上殼體之表面的俯視圖。

圖6係表示拆下上述實施形態之上殼體之狀態之外觀的立體圖。

圖7係表示拆下上述實施形態之上殼體之狀態之光出射裝置的俯視圖。

圖8係表示上述實施形態之光幕單元之立體圖。

圖9係自底面側觀察上述實施形態之光幕單元之圖。

圖10係表示上述實施形態之下殼體之立體圖。

圖11係調整自上述實施形態之光源部所出射之光之出射方向之前的剖面圖。

圖12係將自上述實施形態之光源部所出射之光之出射方向朝頂面側調整之後的剖面圖。

圖13係將自上述實施形態之光源部所出射之光之出射方向朝底面側調整之後的剖面圖。

圖14係概略性地表示上述實施形態之光源部之調整方法的圖。

以下，基於圖式而說明本發明之一實施形態。

[圖像顯示系統之構成]

圖1係表示本實施形態之圖像顯示系統10之構成及使用狀態之圖。

如圖1所示，本實施形態之圖像顯示系統10具備：光出射裝置1、投影器PJ、屏幕SC、及圖像產生裝置GN(省略圖示)。該圖像顯示系統10中，光出射裝置1沿屏幕SC出射光(於本實施形態中為紅外光)，而形成沿著該屏幕SC之光層。又，投影器PJ將自上述圖像產生裝置GN接收之圖像投射至被投射面(顯示面)即屏幕SC，並可視認地顯示該圖像。此外，投影器PJ具備對屏幕SC上之包含圖像顯示區域之攝像區域進行拍攝之攝像裝置，且將由該攝像裝置獲得之攝像圖像發送至圖像產生裝置GN。又，圖像產生裝置GN基於攝像圖像，對在圖像顯示區域中自光出射裝置1出射並由使用者之手指或指示工具所反射之光之反射位置(由手指或指示工具等指示之指示位置)進行解析。然後，圖像產生裝置GN基於該解析結果，產生將上述反射位置以點或線表示之圖像，並將該圖像發送至投影器PJ。藉此，本實施形態之圖像顯示系統10中，包含屏幕SC上之手指或指示工具之軌跡之圖像顯示於該屏幕SC。

以下，對圖像顯示系統10之各構成進行說明。

光出射裝置1具有形成沿著特定之平面之光層之功能。

本實施形態中，如圖1所示，光出射裝置1配設於設置屏幕SC之壁面WS。藉此，光出射裝置1於沿著特定之平面即屏幕SC之區域(相互作用區域LE)內形成光層。

再者，關於光出射裝置1之具體構成，於下文詳細敍述。

[投影器之構成]

投影器PJ由固定於上述壁面WS之壁掛金屬件M垂吊，且配設於接近天花板面RS之位置。該投影器PJ具有如下之作為圖像顯示裝置之功能，即，將自設置於內部之光源裝置所出射之光進行調變，而形成與自上述圖像產生裝置GN接收之圖像資訊相應之圖像，並將所形成之圖像放大投射至屏幕SC之被投射面SC1上。

此外，投影器PJ具備對包含向被投射面SC1投射之圖像之投射範圍(圖像顯示範圍)的攝像區域進行拍攝之攝像裝置CM，且將由該攝像裝置CM獲得之攝像圖像發送至圖像產生裝置GN。該攝像裝置CM與圖像產生裝置GN一起構成本發明之檢測裝置。

[圖像產生裝置之構成]

圖像產生裝置GN例如由PC(Personal Computer，個人電腦)等構成，且取得自投影器PJ發送之攝像圖像，並檢測所取得之攝像圖像中之上述光之反射位置。再者，攝像圖像中之圖像顯示區域之範圍可藉由執行校準(calibration)而預先掌握。因此，藉由檢測上述反射位置，可取得被投射面SC1上之由指示工具等指示之指示位置之座標。

又，圖像產生裝置GN產生將所取得之指示位置以點或線表示之圖像。如此產生之圖像被發送至投影器PJ。

[光出射裝置之構成]

以下，說明光出射裝置之具體構成。

圖2係表示光出射裝置1之立體圖，圖3係表示光出射裝置1之底面部之圖。

如圖2及圖3所示，光出射裝置1具備將下述裝置本體3收納於內部之殼體2。

如圖2所示，殼體2具有底面部2B、頂面部2A、正面部2C、背面部2D、左側面部2E、及右側面部2F。該等之中，底面部2B於在上述壁面WS(參照圖1)設置有光出射裝置1時，與該壁面WS相向。又，頂面部2A位於與底面部2B相反之側。進而，正面部2C位於自下述光源部6出射之光之出射方向側，且背面部2D位於與該正面部2C相反之側。而且，於以頂面部2A位於上方之方式與正面部2C正對時，左側面部2E位於左側，右側面部2F位於右側。

此種殼體2具備上殼體21、下殼體22、及蓋23而構成。

上殼體21構成頂面部2A、與正面部2C、背面部2D、左側面部2E及右側面部2F各者之一部分。下殼體22構成底面部2B、與正面部2C、背面部2D、左側面部2E及右側面部2F各者之一部分。

該等之中，於下殼體22，形成有跨及底面部2B、正面部2C、及左側面部2E之左側凹部2G、以及跨及底面部2B、正面部2C、及右側面部2F之右側凹部2H。

蓋23係安裝於上殼體21者，被覆作為操作構件而設置於該上殼體21之刻度盤(dial)211(參照圖4及圖5)。

圖3如所示，底面部2B於各角部具有孔部(省略圖示)，且於該各孔部，嵌合有螺絲S1。該等螺絲S1插入至頂面部2A，藉此，下殼體22與上殼體21被螺絲固定。

再者，於左側凹部2G內，露出構成下述光源部6之第1光源部6L(參照圖8及圖9)，詳細情形於下文敍述。而且，第1光源部6L使光擴散而出射至以圖3中之L1方向為中心之單點鏈線之範圍。

於右側凹部2H內，露出構成下述光源部6之第2光源部6R(參照圖6及圖7)。而且，第2光源部6R使光擴散而出射至以圖3中之L2方向為中心之單點鏈線之範圍。

藉由該等第1光源部6L及第2光源部6R所形成之光層(形成於各單點鏈線內之光層)之一部分相互重疊，且藉由該等光層，被投射面SC1(圖1)之整個面由該光層覆蓋。

圖4係表示拆下蓋23之狀態之光出射裝置1的立體圖。又，圖5係表示該狀態之光出射裝置1之俯視圖。

若拆下可裝卸地設置於上殼體21之蓋23，則如圖4及圖5所示，露出位於該上殼體21之表面21A(即，頂面部2A)之2個刻度盤211及2個凹部215。

刻度盤211(將位於左側面部2E側及右側面部2F側之刻度盤分別作為211L、211R)相當於本發明之操作構件，可轉動地被支持於頂面部2A。如圖5所示，各刻度盤211分別具有本體部212、軸部213及齒輪214。

本體部212形成為大致圓筒狀，且位於殼體2外。該本體部212係於使刻度盤211轉動時由使用者抓持之部位，且於該本體部212之側面形成有凹凸。

軸部213係被螺絲固定於本體部212之大致中央部分之棒狀構件，且被插入至形成於頂面部2A之孔(省略圖示)。

齒輪214位於殼體2內，且被固定於上述軸部213之與本體部212側相反之側之位置。該齒輪214與本體部212一併以軸部213為轉動軸而轉動。換言之，若使本體部212向任一方向轉動，則經由軸部213而與本體部212連接之齒輪214向與該本體部212之轉動方向相同之方向轉動。而且，齒輪214與構成下述調整機構7之齒輪721嚙合，且使該齒輪721轉動。即，齒輪214相當於本發明之傳遞構件。

凹部215(將位於左側面部2E側及右側面部2F側之凹部分別作為215L、215R)位於對應之刻度盤211(本體部212)之周圍，且沿該刻度盤211之轉動方向形成為圓弧狀。該等凹部215例如形成為可插入操作本體部212之使用者之手指之一部分之程度之深度。

[裝置本體之構成]

圖6係自頂面側且正面側觀察拆下上殼體21後之光出射裝置1之立體圖。圖7係表示拆下上殼體21之狀態之俯視圖。

如圖6及圖7所示，裝置本體3具備光幕單元4及基板8，其等被固定於下殼體22之內表面。

該等之中，基板8係對光幕單元4供給電力且控制該光幕單元4之控制基板。該基板8與光幕單元4藉由纜線81電性連接。

[光幕單元之構成]

圖8係自頂面側且正面側觀察光幕單元4之立體圖。圖9係自底面側觀察光幕單元4之圖。

光幕單元4具有將光出射至沿著上述被投射面SC1之區域內而形成上述光層(光幕)之功能、及調整該光之出射方向之功能。如圖6~圖9所示，此種光幕單元4具備：框架5；光源部6，其出射光；及調整機構7，其係藉由調整框架5相對於被投射面SC1之斜度，而調整由光源部6出射之光之出射方向。

[框架之構成]

框架5係平板狀之金屬構件，且支持光源部6及調整機構7。具體而言，於框架5中，於與下殼體22之底面22A(圖6及圖7)對向之面，配置有光源部6。又，於框架5之正面部2C(圖6及圖7)側之端部之兩端附近(左側面部2E側及右側面部2F側之端部附近)，配置有調整機構7。

如圖8所示，此種框架5具有支點部51、及位於該支點部51周圍之孔部53L、53R、孔部54。

支點部51配置於與上殼體21對向之面之與來自光源部6之光之出射方向相反之側(即，背面部2D側)之端部附近。該支點部51之前端形成為大致半球形狀，且於藉由下述調整機構7進行框架5之斜度(光之出射方向)之調整時，成為該框架5之支點(轉動中心)。於本實施形態中，此種支點部51配置於L1方向之延長線與L2方向之延長線相互交叉之部位(參照圖3)。

再者，如圖6及圖7所示，於下殼體22內，配置有壓住配置於該下殼體22內之框架5之壓住構件24。具體而言，壓住構件24設置於與支點部51相應之位置上，且支點部51之前端部抵接於該壓住構件24之與框架5對向之面。此種壓住構件24藉由插通該壓住構件24及上述孔部53L之螺絲S2及插通壓住構件24及孔部53R之螺絲S2，而固定於下殼體22。

[光源部之構成]

如上所述，光源部6安裝於框架5之下殼體22側。該光源部6具有位於框架5中之左側面部2E側之第1光源部6L、及位於右側面部2F側之第2光源部6R。

該等第1光源部6L及第2光源部6R之各者將光出射至沿著特定之平面即被投射面SC1之區域內。具體而言，第1光源部6L形成以上述L1方向(參照圖3)為中心之特定角度之大致均勻之光層，第2光源部6R形成以上述L2方向(參照圖3)為中心之特定角度之大致均勻之光層。藉由此種第1光源部6L所形成之光層與藉由第2光源部6R所形成之光層在被投射面SC1之中央相互重疊，由各光層覆蓋整個被投射面SC1。藉由該等光層，而形成上述相互作用區域LE。

如圖9所示，此種第1光源部6L及第2光源部6R之各者分別具備固體光源61、光學裝置62、支持構件63、及散熱器(heat sink)64。

於本實施形態中，固體光源61係出射紅外光之LD(Laser Diode，雷射二極體)，且由上述之基板8控制點亮。

光學裝置62使自固體光源61出射之光沿被投射面SC1擴散而出射。雖省略圖示，但該光學裝置62具有平行化透鏡及鮑威爾透鏡(powell lens)。該等之中，鮑威爾透鏡使自固體光源61出射且藉由平行化透鏡平行化之光均勻地擴散並出射至沿著被投射面SC1之特定範圍內。

支持構件63係支持上述光學裝置62者，且被固定於框架5。

散熱器64配置於與由上述固體光源61出射之光之出射方向相反之側。該散熱器64與該固體光源61可導熱地連接，散出自該固體光源61所傳導之熱，藉此，使固體光源61冷卻。

此處，說明下殼體22上之光源部6之位置。

圖10係自頂面側且正面側觀察下殼體22之立體圖。即，圖10係表示自圖6之狀態拆下裝置本體3之狀態之下殼體22的立體圖。

如圖10所示，下殼體22具有開口部221。

開口部221係於下殼體22之底面，根據上述光源部6之形狀而形成。而且，若光幕單元4安裝於下殼體22，則光源部6經由該開口部221於底面部2B側露出。於該狀態下，第1光源部6L位於左側凹部2G內，第2光源部6R位於右側凹部2H內，各光源部6L、6R如上述般沿被投射面SC1出射光。

此外，下殼體22具有突起222、定位銷223及凸座224L、224R、225L、225R、226、銷227。

突起222突出設置於下殼體22之底面22A，且於該突起222，嵌入有作為施壓構件之彈簧構件228(參照圖11)。該彈簧構件228抵接於底面22A，且抵接於框架5之底面部2B側之面，對該框架5向壓住構件24側施壓，詳細情形於下文敍述。

定位銷223插通上述孔部54，且將光幕單元4(框架5)定位於下殼體22。

凸座224L、224R具有供固定上述壓住構件24之螺絲S2螺合之螺孔，藉此，壓住構件24以隔著框架5之方式固定於下殼體22。

凸座226分別突出設置於底面22A之四角，且上述螺絲S1自底面部2B側插入。該螺絲S1如上述般與上殼體21螺合。

銷227於開口部221之正面部2C側附近之位置，以自底面22A向頂面部2A側分別筆直狀地延伸之方式突出設置有複數個。具體而言，配置有合計4個銷227，即，於大致L字狀之開口部221之正面部2C側之端緣中之一邊緣之正面部2C側之兩端附近分別各配置1個，於另一邊緣之正面部2C側之兩端附近分別各配置1個。該等銷227發揮作為本發明之緩衝部之功能，即，於將光幕單元4收納於殼體2內時，位於底面22A與框架5之間，於光出射裝置1掉落時，與框架5(詳細而言，框架5中光源部6之配置側之面)抵接，而抑制上述光源部6與底面22A之接觸。此種銷227係與下殼體22一體形成，且於本實施形態中，於藉由射出成形等使下殼體22成形時同時形成。

再者，本實施形態中，銷227之前端面(上殼體21側之面)係形成為平面。然而，不限於此，亦可形成為半球面狀等凸形狀或凹形狀。

[調整機構之構成]

如圖6~9所示，調整機構7配置於框架5中自光源部6出射之光之出射方向側(正面部2C側)，且調整該框架5相對於被投射面SC1之斜度。該調整機構7具有沿框架5之正面部2C側之端部(由光源部6出射之光之出射方向側之端部)配置之固定構件71、位於該端部之左側面部2E側之第1調整機構72L、及位於右側面部2F側之第2調整機構72R。即，調整機構7具有第1調整機構72L、及第2調整機構72R，該等第1調整機構72L、及第2調整機構72R係於自與被投射面SC1正交之方向觀察框架5之情形時於自光源部6出射之光擴散之方向空出特定間隔而配置。

[固定構件之構成]

固定構件71以一部分覆蓋框架5之上述正面部2C側之端部之方式固定於下殼體22。於該固定構件71之左側面部2E側及右側面部2F側，形成有複數個孔部711。於該等孔部711，嵌入有固定於下殼體22之上述凸座225L、225R之螺絲S3(參照圖6)，藉此，固定構件71被螺絲固定於下殼體22。即，固定構件71相對於框架5獨立而固定於下殼體22。

[第1調整機構及第2調整機構之構成]

圖11係表示下殼體22及第2調整機構72R之縱剖面圖。換言之，圖11係圖7中之XI-XI線剖面圖。

如圖8、圖9及圖11所示，第1調整機構72L及第2調整機構72R分別具備齒輪721、軸構件722(圖9及圖11)、及移動構件723(圖9及圖11)。

齒輪721配置於上述固定構件71之上殼體21側之面71A，且以軸構件722為中心軸而轉動自如地安裝。而且，第1調整機構72L之齒輪721與刻度盤211L之齒輪214嚙合，且第2調整機構72R之齒輪721與刻度盤211R之齒輪214嚙合。

軸構件722係於齒輪721之大致中央部分，沿該齒輪721之中心軸而螺絲固定。而且，該軸構件722之與齒輪721相反之側之端部貫通固定構件71及框架5。

移動構件723設置於軸構件722中貫通框架5之端部。即，移動構件723相對於框架5位於下殼體22側(底面部2B側)。該移動構件723係當齒輪721轉動時，沿軸構件722之中心軸移動。

具體而言，如圖11所示，軸構件722具有於其周面形成為沿著該軸構件722之中心軸之螺旋狀之螺合部7221，上述移動構件723係利用在位於該移動構件723之中央之孔部之內表面所形成之螺紋槽7231與該螺合部7221螺合。又，移動構件723嵌合於形成於框架5之嵌合部 52，藉此，該移動構件723在以軸構件722之中心軸為中心之轉動受限制之狀態下與框架5抵接。藉此，若上述刻度盤211轉動，與該刻度盤211之齒輪214嚙合之齒輪721向任一方向轉動，則軸構件722隨著該齒輪721之轉動而轉動。伴隨該軸構件722之轉動，移動構件723沿頂面部2A側或底面部2B側，即沿軸構件722移動。

再者，於此種軸構件722之前端部(底面部2B側之端部)附近，安裝有防止移動構件723自軸構件722脫落之防脫構件724。

又，於軸構件722之周圍，以使中心軸與軸構件722大致一致之方式配置有由壓縮盤簧構成之彈簧構件725。該彈簧構件725之一端與固定構件71抵接，另一端與框架5抵接。因此，彈簧構件725將框架5向移動構件723推壓施壓，且使框架5隨著移動構件723之移動而沿軸構件722之中心軸確實地移動。

[利用調整機構之出射方向調整]

以下，針對上述調整機構7對自光源部6出射之光之出射方向之調整方法進行說明。再者，以下之說明中係對操作刻度盤211R之情形進行說明，但操作刻度盤211L(參照圖4及圖5)時之出射方向調整與操作刻度盤211R(參照圖4及圖5)之情形大致相同。

於圖11所示之狀態下，框架5係相對於下殼體22之底面22A平行地配置。於該狀態下，框架5係被上述彈簧構件228向頂面部2A側施壓，支點部51之前端部抵接於壓住構件24之底面部2B側之面。另一方面，突起222不與框架5直接抵接。因此，框架5於突起222與壓住構件24之間以某種程度之自由度配置於下殼體22內，故而該框架5可藉由調整機構7而以支點部51為中心傾斜。

圖12係自圖11所示之狀態將自光源部6出射之光之出射方向朝底面部2B側調整後之光出射裝置1的剖面圖。再者，於圖12中，省略了上殼體21等光出射裝置1之構成之一部分。以下之圖13亦相同。

於此種狀態下，若使用者使安裝於頂面部2A之刻度盤211R向圖5所示之箭頭A1方向中之一方(自頂面部2A側觀察時為順時針方向或逆時針方向)轉動，則齒輪214亦以軸部213為中心軸向相同方向轉動。此處，如上所述，齒輪214與齒輪721嚙合。因此，若齒輪214轉動，則齒輪721向與該齒輪214相反之方向轉動。伴隨該齒輪721之轉動，軸構件722亦向相同方向轉動，螺合於該軸構件722之移動構件723嵌合於框架5。因此，移動構件723向底面部2B側移動，且如圖12所示，被彈簧構件725向該移動構件723施壓之框架5以上述支點部51為傾倒之中心(轉動中心)，向底面部2B側傾斜。

若以如此之方式，框架5向底面部2B側傾斜，則安裝於該框架5之光源部6亦同樣地向底面部2B側傾斜，來自第2光源部6R之光之出射方向亦向底面部2B側傾斜。藉此，出射至沿著被投射面SC1之特定之區域內之光層(相互作用區域LE)與被投射面SC1之相對位置得以調整。

圖13係自圖11所示之狀態將自光源部6出射之光之出射方向朝頂面部2A側調整後之光出射裝置1的剖面圖。

另一方面，於圖11所示之光出射裝置1之狀態下，若使用者使刻度盤211R向上述A1方向中之另一方轉動，則齒輪721經由齒輪214向與該刻度盤211R相反之方向轉動。伴隨該齒輪721之轉動，軸構件722亦向相同方向轉動，但如上所述，移動構件723不向與齒輪721相同之方向轉動。因此，伴隨軸構件722之轉動，移動構件723沿該軸構件722之中心軸向與圖12所示之情形相反之側、即頂面部2A側移動。藉此，如圖13所示，被對移動構件723施壓之框架5以上述支點部51為傾倒之中心，隨著移動構件723之移動而向頂面部2A側傾斜。繼而，藉由該框架5傾斜，來自上述第2光源部6R之光之出射方向亦向頂面部2A側傾斜。藉此，出射至沿著被投射面SC1之特定之區域內之光層 (相互作用區域LE)與被投射面SC1之相對位置得以調整。

再者，如上所述，框架5係由彈簧構件228對框架5向壓住構件24側施壓。因此，例如於光出射裝置1之掉落時等對殼體2施加有來自外部之衝擊之情形時，框架5沿對抗來自彈簧構件228之施壓之方向(底面部2B側)移動。認為因此會使光源部6(第1光源部6L及第2光源部6R)碰撞下殼體22(底面22A)而損壞。

與此相對，於對殼體2施加有上述衝擊，框架5欲向底面部2B側移動之情形時，藉由作為緩衝部之上述複數個銷227之前端部與框架5抵接，而抑制框架5向底面部2B側之移動。藉此，可抑制安裝於該框架5之第1光源部6L及第2光源部6R之各者與下殼體22(底面22A)接觸。因此，藉由使複數個銷227作為緩衝部發揮功能，可防止第1光源部6L及第2光源部6R之損壞。

[相對於被投射面之光之出射方向調整]

圖14係概略性地表示自光源部6出射之光之出射方向之調整方法的圖。

光出射裝置1之調整方法係例如圖14所示般進行。

於屏幕SC之被投射面SC1之左下端部，設置突出狀地延伸之第1銷P1。同樣，於被投射面SC1之右下端部，設置突出狀地延伸之第2銷P2。雖省略詳細圖示，但該等第1銷P1及第2銷P2之被投射面SC1側之端部較與該被投射面SC1相反之側之端部，直徑更粗。

另一方面，上述光出射裝置1係以如下方式安裝於上述壁面WS(參照圖1)，即，構成第1調整機構72L之軸構件722之中心軸位於連結設置於框架5之支點部51與第1銷P1之直線T1上，且構成第2調整機構72R之軸構件722之中心軸位於連結支點部51與第2銷P2之直線T2上。

於此種狀態下，首先，以第1銷P1為基準，調整來自第1光源部 6L之光之出射方向。具體而言，使刻度盤211L轉動，於上述被投射面SC1之左下端部，將藉由第1光源部6L而形成之光層(相互作用區域LE)與被投射面SC1之間之尺寸調整為例如成為約1mm左右。於該調整時，支點51、軸構件722、第2銷P2位於直線T2上，因此能以直線T2為軸進行調整。此種調整係基於由上述投影器PJ所具有之攝像裝置獲得之攝像圖像而進行。即，由於上述第1銷P1係以隨著自被投射面SC1側之端部向與該被投射面SC1相反之側之端部變細之方式形成，故而若上述光層與被投射面SC1之間之距離變大，則於攝像圖像中檢測到之紅外光之反射位置會在上述直線T1上發生變化。因此，基於該反射位置使刻度盤211L轉動，而調整來自第1光源部6L之光之出射方向，藉此可適當地調整上述光層與被投射面SC1之間之尺寸。

此後，使刻度盤211R轉動，於上述被投射面SC1之右下端部，將藉由第2光源部6R而形成之光層(相互作用區域LE)與被投射面SC1之間之尺寸調整為例如成為約1mm左右。再者，此種調整係藉由與調整來自第1光源部6L之光之出射方向之方法相同之方法而進行。於該調整時，支點51、軸構件722、第1銷P1位於直線T1上，因此能以直線T1為軸進行調整。

藉由此種調整，第1銷P1側之調整能以直線T2為軸進行調整，且第2銷P2側之調整能以直線T1為軸進行調整，因此，能以較少之調整次數使由自各光源部6L、6R出射之光形成之光層與被投射面SC1之間之尺寸容易地成為適當值。即，支點51、軸構件722、及第1銷P1位於直線T1上，支點51、軸構件722、及第2銷P2位於直線T2上，因此可各自或獨立地適當調整自第1光源部6L及第2光源部6R之各者出射之光層與被投射面SC1之尺寸。

再者，上文所述係先對由第1光源部6L出射之光之出射方向進行調整，後對由第2光源部6R出射之光之出射方向進行調整。然而，並不限於此，調整順序亦可相反。

根據以上說明之具備光出射裝置1之圖像顯示系統10，具有以下之效果。

由於對來自光源部6之光相對於特定之平面(被投射面SC1)之出射方向進行調整之調整機構7設置於框架5，故而可針對被投射面SC1而調整該框架5之光之出射方向側之斜度。因此，可針對被投射面SC1而調整自設置於框架5之光源部6出射之光之出射方向。

又，由於可使自光出射裝置1出射至特定範圍內之光適當地沿著被投射面SC1(顯示面)，故而可使該光層(相互作用區域LE)與被投射面SC1之距離相對較短。因此，可使用例如使自光出射裝置1出射之光反射之指示工具，容易地進行連續地指示顯示於被投射面SC1之圖像中之特定之部位之操作(如雙擊之操作)，即對相互作用區域LE連續地插拔指示工具之操作。因此，可提昇圖像顯示系統10之操作性。

由於框架5具有位於相對於調整機構7與光之出射方向相反之側之支點部51，故而調整機構7能以支點部51為中心而確實地調整框架5相對於被投射面SC1之斜度。因此，可針對被投射面SC1確實地調整自設置於框架5之光源部6出射之光之出射方向。

藉由位於自框架5之與被投射面SC1正交之方向觀察時與光之出射方向交叉之方向之一端側(左側面部2E側)之第1調整機構72L、及位於另一端側(右側面部2F側)之第2調整機構72R之各者，可調整框架5相對於被投射面SC1之斜度。因此，可針對被投射面SC1細微地調整自設置於框架5之光源部6出射之光之出射方向。

若轉動自如地設置於相對於框架5獨立地固定之固定構件71之軸構件722轉動，則移動構件723沿軸構件722之中心軸移動，且框架5沿軸構件722之中心軸移動。藉此，可隨著軸構件722之轉動而細微地調整框架5相對於被投射面SC1之斜度。又，若第1調整機構72L及第2調整機構72R之各者具備此種構成，則可更細微地調整框架5之斜度。因此，可更細微地調整上述光之出射方向。

藉由軸構件722之轉動，可使移動構件723向沿著軸構件722之中心軸之方向確實地移動。藉此，可極細微地調整框架5相對於被投射面SC1之斜度。因此，可針對被投射面SC1極細微地調整上述光之出射方向。

藉由使用者使操作構件(刻度盤211)轉動，可使與傳遞構件(齒輪214)卡合之軸部213間接地轉動。藉此，僅藉由使設置於殼體2之外部之本體部212轉動，便可調整收納於殼體2之內部之框架5之斜度。

此處，認為若使軸構件722直接轉動，則會因施加於軸構件722之負荷而導致框架5或固定構件71變形。與此相對，根據光出射裝置1，刻度盤211經由齒輪214而使軸構件722轉動，藉此可抑制該變形產生。

例如，於上述光之出射方向之調整結束後，由蓋構件(蓋23)被覆刻度盤211，藉此可防止刻度盤211意外地轉動以致上述光之出射方向被變更。

於刻度盤211之本體部212所在之殼體2之周圍，沿該刻度盤211之轉動方向形成有凹部215。據此，由於可形成供抓持本體部212之手指進入之空間，故而可容易使本體部212沿設置有本體部212之殼體2之面(頂面部2A)轉動。因此，使用者之力變得易傳遞至本體部212，而抑制刻度盤211相對於該殼體2之頂面部2A傾斜，故而可減輕對刻度盤211之負荷。

於框架5與殼體2之間(具體而言，框架5與和該框架5中之光源部6側之面對向之底面22A之間)，配置有作為緩衝部之複數個銷227。藉此，於光出射裝置1之掉落時等對殼體2施加有上述衝擊時，該複數個銷227之前端部與框架5抵接，因此可抑制光源部6碰撞殼體2。因此，光出射裝置1掉落後，亦可維持針對被投射面SC1而調整之框架5之斜度。因此，可維持調整後之來自光源部6之光之出射方向。

又，緩衝材料227與殼體2(下殼體22)一體形成。藉此，無需另行設置緩衝零件，因此可抑制光出射裝置1之製造步驟之複雜化及製造成本之增加。

[變化例]

本發明並不限定於上述實施形態，可達成本發明之目的之範圍內之變化、改良等包含於本發明中。

於上述實施形態中，光出射裝置1具備第1光源部6L、及第2光源部6R。然而，本發明不限於此。即，光源部之數量亦可為1個，或亦可為3個以上。同樣，上述光出射裝置1具備具有第1調整機構72L及第2調整機構72R之調整機構7，但本發明不限於此。即，亦可僅為第1調整機構72L及第2調整機構72R中之一者。於此情形時，該調整機構之配置亦可適當變更。

於上述實施形態中，光出射裝置1形成1個相互作用區域LE(即，1個光層)。然而，本發明不限於此。即，亦可形成相互重疊之複數個光層。於此情形時，亦可改變形成各層之光之波長。根據此種構成，可掌握指示工具已插入至哪一層，而可檢測相對於被投射面之指示工具等之高度位置。

於上述實施形態中，光出射裝置1之殼體2具備蓋23，但本發明不限於此。例如，只要於調整自光出射裝置1之光源部6出射之光之出射方向後可防止意外地操作刻度盤211，便可為任意構成。例如，亦可設置固定刻度盤211之鎖定功能。即，亦可無蓋23。

於上述實施形態中，構成刻度盤211之齒輪214與齒輪721嚙合，但本發明不限於此。例如，亦可於齒輪721與齒輪214之間進而設置1個齒輪。藉此，使用者操作各刻度盤211時使之轉動之方向與軸構件 722之轉動方向一致，可更容易地調整自光源部6出射之光之出射方向。

於上述實施形態中，於各軸構件722設置彈簧構件725，且於下殼體22之突起222設置彈簧構件228。然而，本發明不限於此。即，只要為具有施壓力者，便可由任意構件構成，且不限定於盤簧。

於上述實施形態中，將成為藉由調整機構7調整框架5之斜度時之支點之支點部51配置於該框架5。然而，本發明不限於此。例如，支點部51亦可設置於殼體2(例如上殼體21)。

又，亦可於壓住構件24之與框架5對向之面設置半球形狀之支點部，使框架5與該支點部抵接。

進而，亦可為如下構成：將突起222之前端部形成為半球形狀，且以使框架5抵接於該前端部之方式，經施壓機構施壓之壓住構件推壓該框架5。

於上述實施形態中，作為緩衝部之銷227於開口部221之正面部2C側設置有複數個。然而，本發明不限於此。即，銷227之數量可適當設定。例如，於第1光源部6L側及第2光源部6R側可分別均不設置，亦可分別設置1個。銷227之配置位置亦可適當變更。

又，作為緩衝材之複數個銷227之前端部(與框架5之抵接面)為平面狀。然而，本發明不限於此。例如，該前端部亦可為凹形狀及凸形狀之任一種。再者，若該前端部為凹形狀，則與框架5接觸而變形之前端部之壁厚變薄。藉此，相較於凸形狀可使前端部容易變形，因此可藉由該前端部之變形而容易地吸收衝擊。此外，可使前端部之面積增大。因此，可進一步吸收因光出射裝置1之掉落等而施加於殼體2之衝擊。

進而，雖係設為自下殼體22之底面22A(平面)筆直狀地延伸之形狀，但銷227之形狀亦可適當變更，亦可不與下殼體22(殼體2)一體形成。此外，亦可代替銷227而設置盤簧或橡膠等彈性體，或除該銷227以外亦設置盤簧或橡膠等彈性體。

上述實施形態中係以屏幕SC構成被投射面SC1，但亦可例如為白板。於此情形時，光出射裝置1亦可安裝於與安裝白板之壁面相同之壁面。又，於白板為獨立式之情形時，亦可將光出射裝置1直接安裝於白板。進而，於不使用屏幕SC而使投影器PJ將圖像投射至壁面之情形時，亦可將該壁面作為被投射面(特定之平面)而配置光出射裝置1。

於上述實施形態中，構成檢測裝置之攝像裝置CM設置於投影器PJ，但本發明不限於此。即，投影器與攝像裝置亦可分開。

又，圖像產生裝置GN基於由該攝像裝置獲得之攝像圖像，而檢測由指示工具等指示之使用者之指示位置。然而，本發明不限於此。例如，攝像裝置亦可為如下構成：檢測基於投影器PJ之被投射面SC1上之指示位置，對該被投射面SC1上之圖像顯示區域內之指示位置之座標進行解析，並將該座標發送至圖像產生裝置GN。

進而，圖像顯示系統10中，具備投影器PJ作為顯示裝置，且將藉由該投影器PJ投射及顯示圖像之屏幕SC之被投射面SC1設為本發明之特定之平面。然而，本發明不限於此。例如，亦可採用液晶、電漿、及有機EL(Electro-Luminescence，電致發光)等各種顯示器以代替投影器PJ及屏幕SC。於此情形時，只要將該顯示器之顯示面設為本發明之特定之平面即可。