TW201520353A - 裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法，可得到厚度極薄之具有光澤的黑色膜，而且能夠施作使各種製品外觀具有高級感的黑色設計。 本發明提供一種裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法，其中該裝飾用蒸鍍薄膜為一種在高分子薄膜上具備有錫蒸鍍膜之裝飾用蒸鍍薄膜，其特徵在於：前述錫蒸鍍膜為以其表面部或前述高分子薄膜間之界面部的任何一者或兩者作為黑色層；前述黑色層為在形成前述錫蒸鍍膜之時，讓氧氣氣體流入到前述高分子薄膜的表面附近，使前述錫蒸鍍膜形成黑色。

Description

裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法

本發明係關於裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法，特別是關於用以在行動電話等之攜帶型資訊機器及影像放映機器等之各種家電製品、自動車內裝用零件等之外觀上施作黑色設計所使用的裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法。

向來，在行動電話等之攜帶型資訊機器及影像放映機器等之各種家電製品、自動車內裝用零件等之中，為了達到賦予該製品高級感等之目的，因而對其進行施作了一種具有被稱為亮黑色調的光澤之黑色設計。

對於成形品的表面施作具有光澤的黑色設計之手段，其係使用含有黑色顏料之黑色塗料進行塗裝，並且為了賦予光澤，而在黑色塗膜乾燥後，進一步地在黑色塗膜上實施清亮透明(clear)塗裝的方法。又，也可以使用在透明薄膜表面已形成有黑色塗膜的黑色裝飾用薄膜，並以透明薄膜側為表面而一體化形成成形品之方法，來做為塗裝法之替代方法。

例如，在專利文獻1中揭示了一種加飾用薄膜，其為在透明薄膜上使用分散有具備特定特性的碳黑之黑色印墨所形成的黑色塗膜層，以及揭示一種將透明薄膜與黑色的襯裏薄膜熱 壓合而成的加飾用薄膜，並且揭示了一種使用該等之具有亮黑感之加飾成形品的製造方法。

《先前技術文獻》 《專利文獻》

<專利文獻1>日本專利公開號第2002-292798號

然而，在透明薄膜上設有如在上述的專利文獻1中所揭示這類的黑色塗料之塗膜層或黑色襯裏薄膜之加飾用薄膜，由於黑色塗膜層的膜厚度非常厚，因塗膜層之有無而引起大的高低差，以致該高低差成為問題。亦即，在一部分設有黑色塗膜層的設計用途上，除了因高低差引起手觸感降低的問題以外，例如，攜帶型資訊機器之液晶畫面透明窗部的周圍上部分設置黑色塗膜層的窗框部來使用的情況下，因黑色塗膜層之有無而引起高低差，所以會有在由液晶畫面和加飾用薄膜貼合而成之黏著劑中混入氣泡、畫面顯示性能降低之問題，此外，如果不使黏著劑的厚度足夠厚時，也是會有難以解除因高低差所引起的氣泡之問題。

本發明是解決上述課題而完成者，目的在於提供一種可得到厚度極薄之具有光澤的黑色膜，能夠解決因膜之有無所引起的高低差問題，並且能夠施作使各種製品的外觀具有高級感之黑色設計之裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法。

為了達成上述目的，本發明之裝飾用蒸鍍薄膜係一種在高分子薄膜上具備有錫蒸鍍膜之裝飾用蒸鍍薄膜，前述錫蒸鍍膜為以其表面部或前述高分子薄膜間之界面部的任何一者或兩 者為黑色層而成者，前述黑色層為在形成前述錫蒸鍍膜之時，按照使得真空度成為在0.8×10^-2帕(Pa)至5.0×10^-2帕之範圍的方式，讓氧氣氣體流入到前述高分子薄膜的表面附近，使得前述錫蒸鍍膜形成黑色而成者。

再者，本發明之裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法，其為 藉由使高分子薄膜連續移動，並且使從以錫為蒸發材料之蒸發源而來的錫原子附著堆積，進而在前述高分子薄膜的表面上形成錫蒸鍍膜，該方法之特徵在於：藉由在形成前述錫蒸鍍膜之時，按照使得真空度成為在0.8×10^-2帕至5.0×10^-2帕之範圍的方式，讓氧氣氣體流入到前述高分子薄膜的表面附近，使得前述錫蒸鍍膜形成黑色，並以前述錫蒸鍍膜的表面部或前述高分子薄膜間之界面部之任何一者或兩者為黑色層。

根據本發明之裝飾用蒸鍍薄膜，由於是使錫蒸鍍膜 成為黑色而形成裝飾用之黑色的皮膜，所以它是一種可得到厚度極薄之具有光澤的黑色膜，而且能夠解決因膜之有無所引起的高低差之問題，並且能夠施作賦予各種製品的外觀具有高級感的黑色設計之裝飾用蒸鍍薄膜。

再者，根據本發明之裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法， 由於是一種移動高分子薄膜的輥對輥方式之蒸鍍方法，因而是一種比較簡易的方法，而且生產性優良，能夠以較低價格製造一種適用於施作賦予各種製品的外觀具有高級感的黑色設計之用途上的裝飾用薄膜。

20‧‧‧真空槽

21‧‧‧薄膜移動室

22‧‧‧蒸鍍室

23‧‧‧分隔板

24、26‧‧‧真空閥

25、27‧‧‧排氣管

28‧‧‧捲出軸

29‧‧‧PET薄膜

30、31、34、35‧‧‧自由輥

32‧‧‧蒸鍍鼓室

33‧‧‧蒸鍍薄膜

36‧‧‧捲取軸

37‧‧‧蒸發源容器

38‧‧‧錫材料

39‧‧‧加熱源

40‧‧‧電子束

41‧‧‧錫蒸發原子

42、43‧‧‧氣體噴嘴

44‧‧‧初期入射部分

45‧‧‧後期入射部分

46、47‧‧‧氧氣氣體

C‧‧‧旋轉方向

第1圖係在實施例中用以製造裝飾用蒸鍍薄膜的蒸鍍裝置之概略構成圖。

以下，詳細地說明本發明之裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法。

本發明之裝飾用蒸鍍薄膜是一種在高分子薄膜上具備有錫蒸鍍膜之裝飾用蒸鍍薄膜，前述錫蒸鍍膜為以其表面部或前述高分子薄膜間之界面部的任何一者或兩者為黑色層而成者，前述黑色層為在形成前述錫蒸鍍膜之時，讓氧氣氣體流入到前述高分子薄膜的表面附近，進而使得前述錫蒸鍍膜形成黑色之構成而成者。在以下，針對本發明之裝飾用蒸鍍薄膜，分別按照彼等之構成順序來進行說明。

本發明之裝飾用蒸鍍薄膜的基材之高分子薄膜，其係可以使用對於可見光而言為透明的高分子薄膜。具體的高分子樹脂的種類，舉例來說，例如，其可以是聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對萘二酸乙二酯(PEN)、聚丙烯(PP)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯酸甲酯(PMMA)等。在此等之中，從具有優異的耐熱性、機械強度、廉價且兼具透明性和柔軟性等之觀點來看，特別地，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜。高分子薄膜的厚度較佳為在12~200微米(μm)之範圍。

此外，為了提高蒸鍍膜的接合性，也可以預先對於高分子薄膜的表面實施電暈放電處理、電漿處理等之表面處理，也可以設置共聚合聚酯樹脂或聚胺基甲酸酯樹脂等之易接合層。

其次，針對本發明之裝飾用蒸鍍薄膜中之錫蒸鍍膜 進行詳細的說明。在本發明之裝飾用蒸鍍薄膜中，在高分子薄膜上所形成的錫蒸鍍膜係特別的重要，此錫蒸鍍膜係具備有在形成蒸鍍膜之時，讓氧氣氣體流入到高分子薄膜的表面附近而使蒸鍍膜形成黑色的黑色層。此外，此種黑色層因為是被形成來做為極微細的針狀結晶之蒸鍍膜，所以外觀上呈現具有光澤黑色。本發明的裝飾用蒸鍍薄膜中之錫蒸鍍膜的黑色層之黑色度，依照JIS Z8729的L^＊a^＊b^＊表色系標準，其係一種L^＊值為50以下、a^＊值為-3.0至+3.0、b^＊值為-3.0至+3.0之黑色。

為了形成黑色層，在形成錫蒸鍍膜之時，讓氧氣氣 體流入到高分子薄膜的表面附近，而使得蒸鍍膜成為黑色。氧氣氣體的流入量，以成膜中的氧氣周圍環境的壓力計，理想上是使真空度成為在0.8×10^-2帕(Pa)至5.0×10^-2帕之範圍的方式來流入。 在該範圍以外，由於得不到外觀呈現理想的黑色之黑色層，因而是不理想的。在壓力為小於0.8×10^-2帕時，氧化反應就會受到抑制，並成為在蒸鍍膜中混雜有金屬錫相的色層。此外，當壓力大於5.0×10^-2帕時，由於蒸鍍膜形成透明的層，所以不理想。

再者，上述的黑色層係形成於錫蒸鍍膜的表面部或 錫蒸鍍膜與高分子薄膜間之界面部的任何一者或兩者上。錫蒸鍍膜的膜厚度，雖然是可按照目的、用途而加以適當地設定，然而由於只要是在100奈米(nm)以上時就可得到充分的黑色度，只要是在500奈米以下時因錫蒸鍍膜之有無而引起的高低差之問題也是少的，所以錫蒸鍍膜之膜厚度，特別是為在100至500奈米之範圍。

為了使黑色層形成在錫蒸鍍膜與高分子薄膜間之界 面部，可以是藉由在開始進行用以形成錫蒸鍍膜的蒸鍍之際，讓氧氣氣體流入到高分子薄膜的表面附近，而使得錫蒸鍍膜與高分子薄膜間之界面部形成黑色層。此種錫蒸鍍膜與高分子薄膜間之界面部已形成黑色層的裝飾用蒸鍍薄膜，當從高分子薄膜側觀察時可看到黑色，從錫蒸鍍膜側觀察時可看到具有金屬光澤之金屬錫色。從而，於外觀施作黑色設計的用途上，適合於可從高分子薄膜側進行觀察的製品，此外，由於表面是高分子薄膜，所以耐久性是優良的。

為了使黑色層形成於錫蒸鍍膜的表面部，可以是藉 由在進行用以形成錫蒸鍍膜之蒸鍍終了之際，讓氧氣氣體流入到高分子薄膜的表面附近，而使錫蒸鍍膜的表面部形成黑色層。此種錫蒸鍍膜的表面部已形成黑色層的裝飾用蒸鍍薄膜，當從高分子薄膜側觀察時可看到金屬錫色，而從錫蒸鍍膜側觀察可看到黑色。從而，於外觀施作黑色設計的用途上，適合於可從錫蒸鍍膜側觀察的製品。此外，亦能夠藉由在錫蒸鍍膜之上設置硬塗層等來提高耐久性。

為了使黑色層形成於錫蒸鍍膜與高分子薄膜間之界 面部及錫蒸鍍膜的表面部之兩者上，能夠藉由在開始進行用以形成錫蒸鍍膜之蒸鍍之際及終了之際，讓氧氣氣體流入到高分子薄膜的表面附近，進而在錫蒸鍍膜與高分子薄膜間之界面部及錫蒸鍍膜的表面部之兩者形成黑色層。此種裝飾用蒸鍍薄膜，無論是從高分子薄膜側觀察或從錫蒸鍍膜側的任何一側觀察，皆可看到黑色。從而，於外觀施作黑色設計之用途是沒有限定的，可以是能夠從高分子薄膜側或錫蒸鍍膜側觀察的製品。

並且，在本發明之裝飾用蒸鍍薄膜中，能夠部分地 設置有具備黑色層之錫蒸鍍膜。亦即，製品的外觀設有一部分的黑色之設計的用途，例如，在攜帶型資訊機器的液晶畫面之透明窗部的周圍上設有部分的黑色窗框部來使用的用途之情況，可在高分子薄膜上部分地形成具備有黑色層之錫蒸鍍膜。

部分地形成具備有黑色層之錫蒸鍍膜之方法，其係 可以從公知的方法中適當地選擇來使用。舉例來說，例如，其可以是在全面地形成具備有黑色層之錫蒸鍍膜後，再進行蝕刻而部分地形成之方法，或者藉由在使用由水或溶劑溶解性的材料進行圖案印刷而成之遮蔽用遮罩，來形成具備有黑色層的錫蒸鍍膜之後，再進行溶解而除去遮蔽用遮罩之剝離去除(lift-off)法的方法等。

另外，使用本發明的裝飾用蒸鍍薄膜而施作有黑色 設計的被加飾製品，並未特別地限定。並且，被加飾的素材也是沒有限定的，可以是木材、金屬、樹脂成形品等之任何者。再者，使用本發明之裝飾用蒸鍍薄膜來施作黑色設計之加飾方法，其係有：在使用接合材來貼合被加飾的素材之方法，或被加飾的素材為樹脂的情況，使用與射出成形同時加飾之成形同時加飾法來得到加飾樹脂成形品的方法。

使用本發明的裝飾用蒸鍍薄膜而在樹脂成形品形成 黑色設計之成形同時加飾法，例如，可以如下述來進行。首先，在由可動型和固定型構成之成形用模具內，按照使得高分子薄膜側面向模具孔穴的方式，將本發明之裝飾用蒸鍍薄膜配置在模具內。接著，在關閉成形用模具之後，將成形樹脂從門射出充填於 模具內，使樹脂固化而成形為樹脂成形品，並且將其表面與裝飾用蒸鍍薄膜接合在一起。待使樹脂成形品冷卻之後，打開成形用模具，取出樹脂成形品。藉由以上方式來完成成形同時加飾步驟，就可得到在樹脂成形品的表面上形成有黑色設計之加飾樹脂成形品。

〈實施例〉

以下，針對本發明之裝飾用蒸鍍薄膜及其製造方法， 基於實施例而具體地說明之。但是，本發明並未限定於實施例而已。

<實施例1>

第1圖係用以製造在本發明的實施例中之裝飾用蒸鍍薄膜的蒸鍍裝置之概略構成圖。以下，說明第1圖之蒸鍍裝置的構成概要以及本實施例1中之裝飾用蒸鍍薄膜的製造方法。

在第1圖之蒸鍍裝置中，真空槽20係經由分隔板23 而分離成薄膜移動室21與蒸鍍室22。薄膜移動室21係經由真空排氣泵(未繪示)，通過真空閥24、排氣管25進行排氣而達到5.0×10^-3帕以下。蒸鍍室22也是經由真空排氣泵(未繪示)，通過真空閥26、排氣管27進行排氣而與薄膜移動室21同樣地達到5.0×10^-3Pa以下。

在本實施例1中，成為裝飾用蒸鍍薄膜的基材之高 分子薄膜係使用厚度為12微米、寬度為500公釐(mm)、長度為1000公尺(m)的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜。將此PET薄膜29裝設在捲出軸28與捲取軸36間，並使之從捲出軸28連續移動到 捲取軸36。

從捲出軸28所捲出的PET薄膜29係通過自由輥30、 31，沿著被冷卻到-20℃的蒸鍍鼓室32之外周，與蒸鍍鼓室32同步地移動到旋轉方向C。在此移動時通過蒸鍍室22之際，蒸鍍膜被形成於PET薄膜29之表面上而成為蒸鍍薄膜33，經過自由輥34、35而被捲取在捲取軸36上。

錫蒸鍍膜之形成係藉由將錫材料38裝入被設置在蒸 鍍鼓室32的下方的蒸發源容器37內，並將來自加熱源39的電子束40照射在錫材料38，加熱錫材料38而使之溶解、蒸發，使錫蒸發原子41沿著蒸鍍鼓室32的外周，傳送到與蒸鍍鼓室32同步地移動之PET薄膜29的表面，進而在PET薄膜29的表面上形成錫蒸鍍膜。

形成錫蒸鍍膜之條件是錫蒸發原子41對於PET薄膜 29的入射角為：在蒸鍍膜的初期入射部分44為+90°、在蒸鍍膜之後期入射部分45為-90°的方式來構成裝置。並且，為了在錫蒸鍍時使得氧氣氣體流入到蒸鍍鼓室32的附近，將氣體噴嘴42配置在錫蒸發原子41的入射角為+90°之初期入射部分44的附近；將氣體噴嘴43配置在錫蒸發原子41的入射角為-90°之後期入射部分45的附近。

使用如上述方式構成的第1圖之蒸鍍裝置，如以下 方式進行而製作成本實施例1中之裝飾用蒸鍍薄膜。在實施例1中，與蒸鍍鼓室32同步移動的PET薄膜29之表面，在形成錫蒸鍍膜之際，在錫蒸發原子41之蒸鍍中，按照使得真空度為在0.8×10^-2Pa至5.0×10^-2Pa之範圍的方式，將純度為99%以上的氧氣 氣體47，從氣體噴嘴43噴向後期入射部分45而使之流入。亦即，在錫蒸鍍膜形成完成之際流入氧氣氣體。所形成的錫蒸鍍膜之膜厚度為292奈米。另外，以螢光X線法來確認該膜厚度。藉由以上之方式，可得到在PET薄膜29上具備有錫蒸鍍膜，並且將該錫蒸鍍膜的表面部形成有黑色層之實施例1的裝飾用蒸鍍薄膜。

接著，針對此實施例1的裝飾用蒸鍍薄膜之錫蒸鍍 膜的黑色層，測定從錫蒸鍍膜之表面部側之黑色度。測定係以JIS Z8722為基準，使用色彩計(柯尼卡美能達株式會社製，CM-3600A)以光源的視野角10度、測定徑25.4mm來測定分光反射率，基於JIS Z8729之L^＊a^＊b^＊表色系來評價相對於D65光源之反射色。測定結果是L^＊值為17.2、a^＊值為+0.9、b^＊值為+1.8的黑色。

<實施例2>

在實施例2中之裝飾用蒸鍍薄膜係與實施例1同樣地使用如上述方式構成的第1圖之蒸鍍裝置，按照如以下的作法製作而成。 在實施例2中，在與蒸鍍鼓室32同步移動的PET薄膜29之表面上形成錫蒸鍍膜之際，在錫蒸發原子41之蒸鍍中，按照使得真空度成為在0.8×10^-2Pa至5.0×10^-2Pa的範圍的方式，將純度為99%以上的氧氣氣體46，從氣體噴嘴42噴向初期入射部分44而使之流入。即，在開始形成錫蒸鍍膜之際流入氧氣氣體。所形成的錫蒸鍍膜之膜厚度為254奈米。藉由以上方式，就可得到在PET薄膜29上具備有錫蒸鍍膜，且在此錫蒸鍍膜的與PET薄膜29間之界面部形成黑色層之實施例2中之裝飾用蒸鍍薄膜。

接著，針對此實施例2之裝飾用蒸鍍薄膜的錫蒸鍍 膜之黑色層，測定由PET薄膜29側而來之黑色度。測定係與實施例1同樣的方式進行。測定結果是L^＊值為38.7、a^＊值為-0.2、b^＊值為+0.4之黑色。

<實施例3>

在實施例3中之裝飾用蒸鍍薄膜係與實施例1同樣地使用如上述所構成的第1圖之蒸鍍裝置，按照以下之作法製作而成。在實施例3中，在與蒸鍍鼓室32同步移動的PET薄膜29之表面形成錫蒸鍍膜之際，在錫蒸發原子41之蒸鍍中，從氣體噴嘴42將純度為99%以上的氧氣氣體46向著初期入射部分44而流入，並且從氣體噴嘴43將純度為99%以上的氧氣氣體47向著後期入射部分45流入。即，在開始形成錫蒸鍍膜及終了之際流入氧氣氣體。 按照使得蒸鍍室的真空度成為在1.0×10^-2Pa至5.0×10^-2Pa的範圍之方式，來控制氧氣氣體46、47的流入量。所形成的錫蒸鍍膜之膜厚度為399奈米。藉由以上方式，可得到在PET薄膜29上具備有錫蒸鍍膜，並於錫蒸鍍膜的表面部以及與PET薄膜29間之界面部兩者分形成黑色層之實施例3中之裝飾用蒸鍍薄膜。

接著，針對此實施例3之裝飾用蒸鍍薄膜的錫蒸鍍 膜之黑色層，測定由PET薄膜29側而來的黑色度，以及由錫蒸鍍膜的表面部側而來的黑色度。測定係以和實施例1同樣的作法來進行。測定結果為：由PET薄膜29側而來的黑色度是L^＊值為38.6、a^＊值為+0.1、b^＊值為+1.3，由錫蒸鍍膜的表面部側而來的黑色度是L^＊值為28.4、a^＊值為+0.9、b^＊值為+2.7的黑色。

本發明相關的裝飾用蒸鍍薄膜，由於是一種使錫蒸 鍍膜成為黑色而形成裝飾用黑色的皮膜，並可得到厚度極薄之具有光澤的黑色膜，且能夠解決因膜之有無所引起的高低差問題，並且能夠施作賦予各種製品的外觀具有高級感的黑色設計之裝飾用蒸鍍薄膜，所以在產業上是有用的。

20‧‧‧真空槽

21‧‧‧薄膜移動室

22‧‧‧蒸鍍室

23‧‧‧分隔板

24、26‧‧‧真空閥

25、27‧‧‧排氣管

28‧‧‧捲出軸

29‧‧‧PET薄膜

30、31、34、35‧‧‧自由輥

32‧‧‧蒸鍍鼓室

33‧‧‧蒸鍍薄膜

36‧‧‧捲取軸

37‧‧‧蒸發源容器

38‧‧‧錫材料

39‧‧‧加熱源

40‧‧‧電子束

41‧‧‧錫蒸發原子

42、43‧‧‧氣體噴嘴

44‧‧‧初期入射部分

45‧‧‧後期入射部分

46、47‧‧‧氧氣氣體

C‧‧‧旋轉方向

Claims (8)

1. 一種裝飾用蒸鍍薄膜，該裝飾用蒸鍍薄膜為在一高分子薄膜上具備有一錫蒸鍍膜，特徵在於：該錫蒸鍍膜係以該錫蒸鍍膜之一表面部或該高分子薄膜間之界面部的任何一者或兩者作為一黑色層；該黑色層係在形成該錫蒸鍍膜之時，按照使得真空度成為0.8×10^-2帕(Pa)至5.0×10^-2帕之範圍的方式，讓一氧氣氣體流入到該高分子薄膜的一表面附近，使該錫蒸鍍膜形成黑色。
2. 如申請專利範圍第1項所述之裝飾用蒸鍍薄膜，其中係在開始形成該錫蒸鍍膜之際，讓該氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜的該高分子薄膜間之界面部形成該黑色層。
3. 如申請專利範圍第1項所述之裝飾用蒸鍍薄膜，其中係在該錫蒸鍍膜之形成終了之際，讓該氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜的該表面部形成該黑色層。
4. 如申請專利範圍第1項所述之裝飾用蒸鍍薄膜，其中係在開始形成該錫蒸鍍膜及終了之際，讓該氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜的該表面部及該高分子薄膜間之界面部皆形成該黑色層。
5. 一種裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法，藉由使一高分子薄膜連續移動，並且使從以錫為蒸發材料之蒸發源而來的錫原子附著堆積，而在該高分子薄膜的一表面形成一錫蒸鍍膜；該裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法之特徵在於：藉由在形成該錫蒸鍍膜之時，按照使得真空度成為在0.8×10^-2帕(Pa)至5.0×10^-2帕之範 圍的方式，讓一氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜形成黑色，並以該錫蒸鍍膜的一表面部或該高分子薄膜間之界面部的任何一者或兩者為一黑色層。
6. 如申請專利範圍第5項所述之裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法，其係在開始形成該錫蒸鍍膜之際，讓該氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜的該高分子薄膜間之界面部形成該黑色層。
7. 如申請專利範圍第5項所述之裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法，其係在該錫蒸鍍膜之形成終了之際，讓該氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜的該表面部形成該黑色層。
8. 如申請專利範圍第5項所述之裝飾用蒸鍍薄膜之製造方法，其係在開始形成該錫蒸鍍膜及終了之際，讓該氧氣氣體流入到該高分子薄膜的該表面附近，使該錫蒸鍍膜的該表面部及該高分子薄膜間之界面部皆形成該黑色層。