TW201446631A - 捲繞製程薄膜 - Google Patents

Abstract

本發明係揭露捲繞裝備。該裝備係包括一中介層薄膜，其具有一間隔件表面及一背表面；一第一間隔件，其由中介層薄膜所攜載，位於間隔件表面上，與中介層薄膜的一第一邊緣相鄰；一第二間隔件，其由中介層薄膜所攜載，位於間隔件表面上，與中介層薄膜的一第二邊緣相鄰，間隔件界定一製程薄膜保護性空間；及一可旋轉式核心，其被定向以接收中介層薄膜的一初始端並捲起中介層薄膜，其中一製程薄膜位於製程薄膜保護性空間中，其中製程薄膜的一被動表面係與中介層薄膜的一表面相鄰。

Description

捲繞製程薄膜

本發明係有關於捲繞製程薄膜。

背景

製程薄膜(包括基材)可在高科技裝置製造中作出許多應用。一製程薄膜典型係具有一主動表面及一被動表面。被動表面可易被處置及操縱，但功能性裝置、層式塗覆物及組件可被形成或放置在主動表面上，且因此主動表面可能易被處理期間的任何物理接觸所污染或損害。基於此原因，已經開發以沒有污染其主動表面的危險之方式來處置製程薄膜之不同種類的卡匣。在半導體產業中，廣泛使用前開式統一盒(FOUP)型式的標準化晶圓卡匣處置來固持矽晶圓；一晶圓可從如是一盒被移除以依需要藉由特殊工具作處理或測量。使用類似的製程以供處置薄膜電晶體(TFT)玻璃基材。在塑膠圖案化產業中，有時使用可棄式插頁以供處置如觸控螢幕及膜開關成份等製程薄膜。

依據本發明之一實施例，係特地提出一種捲繞裝備，包含：一中介層薄膜，其具有一間隔件表面及一背表面；一第一間隔件，其由該中介層薄膜所攜載，位於該間 隔件表面上，與該中介層薄膜的一第一邊緣相鄰；一第二間隔件，其由該中介層薄膜所攜載，位於該間隔件表面上，與該中介層薄膜的一第二邊緣相鄰，該等間隔件界定一製程薄膜保護性空間；及一可旋轉式核心，其被定向以接收該中介層薄膜的一初始端並捲起該中介層薄膜，其中一製程薄膜位於該製程薄膜保護性空間中，其中該製程薄膜的一被動表面與該中介層薄膜的一表面相鄰。

100,200,248,300,400,600,700,800,1108,1206‧‧‧中介層薄膜

102,1004,1016‧‧‧間隔件表面

104‧‧‧背表面

106,602,702,806,902,908,916‧‧‧第一間隔件

108‧‧‧中介層薄膜的第一邊緣

110,604,704,808,904,910,918‧‧‧第二間隔件

112‧‧‧中介層薄膜的第二邊緣

114‧‧‧製程薄膜保護性空間

116‧‧‧可旋轉式核心

118,120,126‧‧‧箭頭

122‧‧‧軸線

124‧‧‧核心116的近端

128‧‧‧第一凸緣狀輪

130‧‧‧第二凸緣狀輪

202,250,302,1308,1322,1342,1348‧‧‧核心

204‧‧‧中介層薄膜200的第一部分

206,208,254,256,308,310‧‧‧間隔件的第一部分

212‧‧‧中介層薄膜200的第二部分

214,216,260,262,314,316‧‧‧間隔件的第二部分

218‧‧‧中介層薄膜200的第三部分

220,222,266,268,320,322‧‧‧間隔件的第三部分

224,270,324,1116,1216,1306‧‧‧製程薄膜

226‧‧‧製程薄膜224的第一部分

228,328‧‧‧保護性空間的第一部分

230‧‧‧製程薄膜224的主動表面之第一部分

232A,232B,232C,232D,278A,278B,278C,278D,330A,330B,330C,330D,1052,1054,1056,1120,1220‧‧‧組件

234‧‧‧製程薄膜224的被動表面之第一部分

236‧‧‧中介層薄膜200的背表面之第一部分

238,290,346‧‧‧中介層薄膜的間隔件表面之第二部分

240‧‧‧製程薄膜224的第二部分

242‧‧‧間隔件之間的保護性空間之第二部分

244,288,344‧‧‧製程薄膜的被動表面之第二部分

246‧‧‧中介層薄膜的背表面之第二部分

252,900,1000‧‧‧中介層薄膜的第一部分

258,312,906,1010‧‧‧中介層薄膜的第二部分

264,318,914‧‧‧中介層薄膜的第三部分

272‧‧‧製程薄膜270的第一部分

274,342‧‧‧保護性空間之部分

280,332,334,376‧‧‧製程薄膜的主動表面之第一部分

282,336‧‧‧中介層薄膜的間隔件表面之第一部分

284,934‧‧‧製程薄膜的第二部分

286‧‧‧保護性空間之第二部分

292,348,942‧‧‧製程薄膜的第三部分

294,350‧‧‧保護性空間之第三部分

296,352‧‧‧製程薄膜的被動表面之第三部分

298,354‧‧‧中介層薄膜的間隔件表面之第三部分

304‧‧‧中介層薄膜的背表面之第一部分

306‧‧‧中介層薄膜300的第一部分

308‧‧‧第一間隔件的第一部分

310‧‧‧第二間隔件的第一部分

326‧‧‧製程薄膜324的第一部分

338‧‧‧背表面的第二部分

340‧‧‧製程薄膜324的第二部分

402,406‧‧‧間隔件元件

404‧‧‧中介層的第一邊緣

408‧‧‧中介層的第二邊緣

410‧‧‧橫向勁化器

500,1206‧‧‧中介層

502‧‧‧截頭圓錐形間隔件

606‧‧‧中介層薄膜中的開口

608‧‧‧第一間隔件中的開口

610‧‧‧第二間隔件中的開口

802‧‧‧紋理狀間隔件表面

804‧‧‧中介層薄膜800的背表面

912,920‧‧‧保護性空間

922‧‧‧被動表面

924‧‧‧製程薄膜的第一部分

926‧‧‧中介層薄膜的第一部分900之背表面

928‧‧‧製程薄膜的第一部分924之主動表面

930A,930B‧‧‧組件、層或形貌體

932‧‧‧製程薄膜的第二部分934之被動表面

936‧‧‧中介層薄膜的第二部分906之背表面

938‧‧‧製程薄膜的第二部分934之主動表面

940‧‧‧製程薄膜的第三部分942之被動表面

944‧‧‧中介層薄膜的第三部分914之背表面

1002,1006,1008,1014,1018,1020,1112,1114,1208,1212‧‧‧間隔件

1012‧‧‧中介層薄膜的第一部分1000的背表面

1022‧‧‧第一製程薄膜1024的第一部分

1024,1036‧‧‧第一製程薄膜

1026‧‧‧第一製程薄膜1024的第二部分

1028‧‧‧第一製程薄膜1024的第一部分1022之被動表面

1030‧‧‧第一製程薄膜1024的第二部分1026之被動表面

1032‧‧‧中介層薄膜的第二部分1010之背表面

1034‧‧‧第一製程薄膜1036的第一部分

1038‧‧‧第二製程薄膜1036的第二部分

1040‧‧‧第二製程薄膜1036的第一部分1034之被動表面

1042‧‧‧第二製程薄膜1036的第二部分1038之被動表面

1044‧‧‧第一製程薄膜1024的第一部分1022之主動表面

1046‧‧‧第一製程薄膜1024的第二部分1026之主動表面

1048‧‧‧第二製程薄膜1036的第一部分1034之主動表面

1050‧‧‧第二製程薄膜1036的第二部分1038之主動表面

1100,1102,1104,1106,1200,1202‧‧‧支撐件

1110‧‧‧中介層薄膜1108的間隔件表面

1118‧‧‧製程薄膜1116的主動表面

1122‧‧‧第一邊緣

1124‧‧‧第二邊緣

1204‧‧‧中介層薄膜1206的背表面

1210‧‧‧中介層1206的間隔件表面

1214‧‧‧製程薄膜1216的部分

1218‧‧‧製程薄膜1216的主動表面

1300‧‧‧被動表面製程薄膜捲繞裝備

1302‧‧‧第一卡匣

1304,1324,1340,1346‧‧‧捲筒

1310‧‧‧第一中介層薄膜

1312,1318‧‧‧開口

1314‧‧‧製程站

1316‧‧‧第二卡匣

1320‧‧‧第二中介層薄膜

1326‧‧‧第一拉張滾子

1328‧‧‧第二拉張滾子

1330‧‧‧被動側

1332,1336‧‧‧抽引滾子

1334,1338‧‧‧軋縫輪

1344,1350‧‧‧拉張滾子

1352,1354‧‧‧覆蓋件

1356,1362‧‧‧伺服馬達

1358,1364‧‧‧摩擦煞車

1360,1366‧‧‧鼓輪

1400,1402,1500,1502,1504,1506,1508,1510,1600,1602,1604,1606,1608,1610,1612,1614‧‧‧製程

圖式未依實際比例繪製。圖式藉由範例來示範揭示。

圖1A是捲繞裝備的一範例之立體圖；圖1B是捲繞裝備的另一範例之立體圖；圖1C是捲繞裝備的另一範例之立體圖；圖2A是根據一範例之一中介層薄膜以及一繞一核心被捲起的製程薄膜之剖視圖，其中製程薄膜係與中介層薄膜的一背表面相鄰；圖2B是根據一範例之一中介層薄膜以及一繞一核心被捲起的製程薄膜之剖視圖，其中製程薄膜係與中介層薄膜的一間隔件表面相鄰；圖3是根據另一範例之一中介層薄膜以及一繞一被核心捲起的製程薄膜之剖視圖；圖4是一中介層薄膜的一範例之立體圖，其具有形成為平行六面體的間隔件；圖5是一中介層薄膜的一範例之立體圖，其具有 截頭圓柱形間隔件；圖6是一氣體可滲透性中介層薄膜的一範例之立體圖，其具有形成為連續條帶之氣體可滲透性間隔件；圖7是一中介層薄膜的一範例之立體圖，其形成為一網目；圖8是一中介層薄膜的一範例之立體圖，其具有一紋理狀表面；圖9是藉由中介層薄膜的層所分離之製程薄膜的層之立體部份切開圖；圖10是根據一範例在中介層薄膜的各層之間呈併列狀之製程薄膜的兩條帶之立體圖；圖11A是一中介層薄膜的一範例之立體圖，其攜載一間隔件表面上的複數個支撐件；圖11B類似於圖11A且具有支撐件上的一製程薄膜；圖12A是一中介層薄膜的一範例之立體圖，其攜載一背表面上的複數個支撐件；圖12B類似於圖12A且具有支撐件上的一製程薄膜；圖13A是被動表面製程薄膜捲繞裝備的一範例之前側示意圖，其顯示製程薄膜開始從一充滿捲筒移往一空捲筒；圖13B是圖13A所示之捲繞裝備的背側示意圖；圖14是顯示根據一範例之一用於處理製程薄膜 之方法的流程圖；圖15是顯示根據另一範例之一用於處理製程薄膜之方法的流程圖；圖16是顯示根據另一範例之一用於處理製程薄膜之方法的流程圖。

詳細描述

圖式及此描述中係使用示範性範例及細節，但其他組態係可能存在且無需說明。諸如電壓、溫度、維度、及組件數值等參數係為近似值。諸如上、下、頂及底等定向用語只便於用來表明組件相對於彼此的空間性關係，且除非另外指明，否則相對於外部軸線的定向並不重要。為求清楚，有些已知的方法及結構不作詳述。由申請專利範圍所界定的方法係可包含所列舉者以外的步驟，且除非申請專利範圍本身指明，否則可以所提供次序以外的另一次序來進行步驟。為此，藉由申請專利範圍、而非藉由圖式或本文描述來施加僅有的限制。

製程薄膜上之主動表面的輥對輥製造一直是困難的。在複雜製程中，常只具有有限的階段可在其中捲起一薄膜。這是因為：捲起薄膜將導致輥的一繞體中之主動側接觸到一後續繞體中的被動側。在一涉及以一諸如光阻或障壁塗覆物等敏感性或黏劑材料塗覆主動表面之製程中，在薄膜可被捲起之前，製程必須繼續直行經過固化及烘烤步驟。此外，甚至在可能捲起之製造階段中，捲及再 捲所導入的污染及機械性損傷係會損害主動表面或其上的組件。甚至在使用插頁之製程中，係具有污染的危險。並且，插頁會導入靜電荷，其不但會損害主動表面上的組件亦會吸引灰塵及其他形式的小顆粒污染。一直需要具有一種在不同製造階段捲起製程薄膜而不施加損害之方式。

如圖1A所示，捲繞裝備的一範例係包括一概括標示為100的中介層薄膜，其具有一間隔件表面102及一背表面104。一第一間隔件106係由中介層薄膜100攜載於其間隔件表面102上，與中介層薄膜的一第一邊緣108相鄰。一第二間隔件110係由中介層薄膜100攜載於間隔件表面102上，與中介層薄膜100的一第二邊緣112相鄰。一製程薄膜保護性空間114被界定於第一及第二間隔件之間。一可旋轉式核心116被定向以與製程薄膜保護性空間114中的一製程薄膜(未圖示)一起如箭頭118所示捲起中介層薄膜，其中製程薄膜的一被動表面與中介層薄膜的一表面相鄰。在此範例中，中介層薄膜100係包繞於核心116周圍，其中間隔件表面102係面對核心，如一箭頭120所示，顯示出當從核心116的一近端124觀看時，核心以一逆時針方向繞其軸線122旋轉。當薄膜被捲起時，在間隔件106與110之間所界定的保護性空間114係從間隔件表面102延伸至中介層薄膜之一相鄰層(或繞體)的一背表面。

如圖1B所示，在部分範例中，中介層薄膜100包繞於核心116周圍，其中背表面104係面對核心，如一箭頭126所示。

在圖1A的範例中，核心被顯示為一實心軸的形式，但核心可採行其他形式。圖1C提供類似於圖1A所示者之捲繞裝備的一範例，差異在於使用一與中介層薄膜100的第一邊緣108相鄰之第一凸緣狀輪128及一與中介層薄膜100的第二邊緣112相鄰之第二凸緣狀輪130作為一核心，而非一實心軸。

現在參照圖2A，顯示在兩邊緣的任一者上具有間隔件之一長度的中介層薄膜200係繞一核心202被捲起。中介層薄膜200的一第一部分204係最靠近核心202並沿著一邊緣攜載一間隔件的一第一部分206且沿著一相對邊緣攜載一間隔件的一第一部分208。“部分”用語係指一路繞核心延伸之膜或間隔件的一層(或繞體)。一第一部分(層或繞體)係與核心相鄰，且隨著膜及間隔件被盤捲，後續的層或繞體係一者盤捲在前一者頂上。間隔件的第一部分206及208係與核心202相鄰、且在部分範例中休止於核心202上。

中介層薄膜200的一第二部分212係攜載休止於中介層薄膜的第一部分204上之間隔件的第二部分214及216。中介層薄膜200的一第三部分218係攜載休止於中介層薄膜的第二部分212上之間隔件的第三部分220及222。

一長度的製程薄膜224亦繞核心被捲起。製程薄膜224的一第一部分226係位居在間隔件之間所形成的保護性空間之一部分228中。如同中介層薄膜，製程薄膜的第一部分226可被視為是核心周圍的一第一層(第一繞體)。製程薄膜224的一主動表面之一第一部分230係攜載不同物品諸 如形貌體、塗覆物、功能件、圖案、或組件232A、232B、232C及232D。這些物品係裝設在製程薄膜的主動表面上、形成於其中、或以其他方式放置在其上。製程薄膜224的一被動表面之一第一部分234係與中介層薄膜200的一背表面之一第一部分236相鄰。製程薄膜224的被動表面之第一部分234係由中介層薄膜200的背表面之第一部分236所支撐。如目前將作更詳細討論，製程薄膜被充分拉張以維持其與中介層薄膜背表面之間的接觸。

保護性空間的第一部分228係延伸於中介層薄膜的背表面之第一部分236及中介層薄膜的間隔件表面之一第二部分238之間。間隔件係設定尺寸以使保護性空間完全地含有製程薄膜而在中介層薄膜的間隔件表面與製程薄膜的主動表面之間沒有任何接觸。

製程薄膜224的一第二部分240係位居間隔件之間的保護性空間之一第二部分242中。製程薄膜的被動表面之一第二部分244係與中介層薄膜的背表面之一第二部分246相鄰。

一依此形成的捲筒係可包含比起圖2A所示中介層薄膜的三個繞體及製程薄膜的兩個繞體更少或更多個、在部分範例中遠為更多個之繞體。

圖2B概括類似於圖2A，差異在於：一製程薄膜被顯示成繞一核心而插頁於一中介層薄膜，其中製程薄膜的一被動表面與中介層薄膜的一間隔件表面相鄰。更特別來說，在兩邊緣的任一者上具有間隔件之一長度的中介層 薄膜248係顯示成繞一核心250被捲起。中介層薄膜的一第一部分252係最靠近核心並沿著一邊緣攜載一間隔件的一第一部分254且沿著一相對邊緣攜載一間隔件的一第一部分256，中介層薄膜的一第二部分258係攜載休止於中介層薄膜的第一部分252上之間隔件的第二部分260及262。中介層薄膜的一第三部分264係攜載休止於中介層薄膜的第二部分258上之間隔件的第三部分266及268。

一長度的製程薄膜270亦繞核心被捲起。製程薄膜270的一第一部分272係位居間隔件之間所形成之保護性空間的一部分274中。製程薄膜的一主動表面之一第一部分376係攜載不同物品諸如形貌體、塗覆物、功能件、圖案、或組件278A、278B、278C及278D。這些物品係裝設在製程薄膜的主動表面上、形成於其中、或以其他方式放置在其上。製程薄膜的一被動表面之一第一部分280係設置成與中介層薄膜的一間隔件表面之一第一部分282相鄰。製程薄膜的被動表面之第一部分280係由中介層薄膜的背表面之第一部分282所支撐。

製程薄膜的一第二部分284係位居間隔件之間的保護性空間之一第二部分286中。製程薄膜的被動表面之一第二部分288係與中介層薄膜的間隔件表面之一第二部分290相鄰。類似地，製程薄膜的一第三部分292係位居間隔件之間的保護性空間之一第三部分294中，其中製程薄膜的被動表面之一第三部分296係與中介層薄膜的間隔件表面之一第三部分298相鄰。

圖3概括類似於圖2A，差異在於：在此範例中，一中介層薄膜300繞一核心302被捲起，其中中介層薄膜的一背表面之一第一部分304係與核心302相鄰、且在部分範例中被核心302所支撐。中介層薄膜300的一第一部分(或繞體、或層)306係攜載一第一間隔件的一第一部分308及一第二間隔件的一第一部分310。中介層薄膜的一第二部分312係設置於間隔件的第一部分308及310上並轉而攜載間隔件的第二部分314及316。中介層薄膜的一第三部分318係設置於間隔件的第二部分314及316上並轉而攜載間隔件的第三部分320及322。

一長度的製程薄膜324亦繞核心302被捲起。製程薄膜324的一第一部分326係位居間隔件之間所形成之一保護性空間的一第一部分328中。不同的形貌體、塗覆物、功能件、圖案、或組件330A、330B、330C及330D係裝設或形成於製程薄膜的一主動表面之一第一部分332上。製程薄膜的一被動表面之一第一部分334係與中介層薄膜的一間隔件表面之一第一部分336相鄰。保護性空間的第一部分328係被中介層薄膜之間隔件表面的第一部分336及背表面的一第二部分338所劃界。製程薄膜被充分拉張以固持其被動表面抵住中介層薄膜的間隔件表面，俾使製程薄膜的主動表面不接觸於中介層薄膜的背表面。

製程薄膜324的一第二部分340係位居間隔件之間的保護性空間之一部分342中。製程薄膜的被動表面之一第二部分344係設置於中介層薄膜的間隔件表面之一第二 部分346上。類似地，製程薄膜的一第三部分348係位居保護性空間的一第三部分350中。製程薄膜的被動表面之一第三部分352係設置於中介層薄膜的間隔件表面之一第三部分354上。如同保護性空間的其他部分，保護性空間的第三部分350設置於中介層薄膜的背與間隔件表面之間；在此案例中，保護性空間的第三部分350係設置於中介層薄膜的間隔件表面之第三部分354及中介層薄膜的一第四部分(未圖示)之背表面的一部分之間。

回到圖1A的範例，第一間隔件106被顯示成一分段式條帶。第二間隔件110亦被顯示成一分段式條帶。中介層薄膜及間隔件由具充分順應性以繞核心116捲起之材料製成。在此範例中，間隔件106及110係隨著開始捲起而與核心相鄰、且在部分範例中接觸於核心。在此圖及其他圖中的元件未依實際比例繪製，且比起圖式所描繪者，核心相對於間隔件可實際為更大或更小。

圖4顯示一中介層薄膜400的一範例，複數個個別間隔件元件402以間隔沿著中介層的一第一邊緣404設置，且複數個個別間隔件元件406以間隔沿著中介層的一第二邊緣408設置。在此範例中，間隔件元件被定形成平行六面體，但形狀並不重要且可使用具其他形狀的間隔件元件。譬如，圖5顯示一具有截頭圓錐形間隔件502之中介層500。

圖4的範例亦包括嵌設於間隔件400中之一橫向勁化器410。此勁化器從第一邊緣404延伸至第二邊緣408，但在其他範例中，勁化器可能未延伸這麼遠。複數個類似 的勁化器可以間隔沿著中介層作配置。勁化器410被顯示成與邊緣呈直角，因此其不會干擾中介層薄膜捲起至一核心上之作用。在其他範例中，勁化器可配置為以其他角度橫越中介層，只要勁化器不干擾中介層捲起即可。中介層亦可由一具異向順應性的材料形成，而保持橫向勁性(stiffness)同時能夠形成一縱向輥。

圖6是一具有第一及第二間隔件602及604之中介層薄膜600的一範例，第一及第二間隔件602及604各形成為一連續條帶的材料。間隔件材料必須具充分順應性以准許捲起至一核心上。在此範例中，中介層薄膜及間隔件已藉由諸如中介層薄膜中的開口606、第一間隔件中的開口608、及第二間隔件中的開口610等複數個開口而被製成氣體可滲透性。藉由將中介層薄膜及間隔件的一或多者製成氣體可滲透性，係利於可藉由與中介層薄膜600相鄰的一製程薄膜所發射的氣體之逃逸以及反應性氣體材料的入侵與流動以容許對於製程薄膜的捲筒中製程變更。在其他範例中，中介層薄膜及間隔件材料可能缺少特殊開口、但可具充分多孔性以成為氣體可滲透性。

圖7提供由網目材料所形成的一中介層薄膜700之一範例。如同圖6的範例，網目係利於氣體的運動。在此範例中，中介層700係攜載形成為分段式條帶之第一及第二間隔件702及704，且在其他範例中，一網目中介層薄膜可攜載任何其他的適當間隔件。

圖8是一具有一紋理狀間隔件表面802之中介層 薄膜800的一範例。紋理可為任何適當的圖案以避免或減輕紋理狀表面與一可能接觸該表面的製程薄膜之間的靜摩擦力、或利於氣體或反應性氣體材料近接至製程薄膜。在其他範例中，中介層薄膜800的一背表面804可為紋理狀。在此範例中，中介層薄膜800係攜載形成為分段式條帶之第一及第二間隔件806及808，但間隔件可採行其他形式，譬如如上文所述。

圖9顯示藉由中介層薄膜的繞體而彼此分離之製程薄膜的繞體。一中介層薄膜的一第一部分(層或繞體)900係攜載第一間隔件902及第二間隔件904。中介層薄膜的一第二部分906係攜載第一間隔件908及第二間隔件910，而在其間界定一保護性空間912。中介層薄膜的一第三部分914係攜載第一間隔件916及第二間隔件918，而在其間界定一保護性空間920。一製程薄膜的一第一部分924之一被動表面922係配置為與中介層薄膜的第一部分900之一背表面926相鄰。製程薄膜的第一部分924之一主動表面928係攜載組件、層或形貌體930A及930B。主動表面928係居留於保護性空間912中並與製程薄膜的任何其他部分或中介層薄膜的任何部分不作接觸。製程薄膜的一第二部分934之一被動表面932係配置為與中介層薄膜的第二部分906之一背表面936相鄰。製程薄膜的第二部分934之一主動表面938係居留於保護性空間920中並與製程薄膜的任何其他部分或中介層的任何部分不作接觸。主動表面938可攜載組件、層或形貌體(未圖示)。製程薄膜的一第三部分942之一被動表面 940係配置為與中介層薄膜的第三部分914之一背表面944相鄰。

不只一個製程薄膜條帶可配置為與單一中介層薄膜相鄰。如圖10所示，一中介層薄膜的一第一部分1000係攜載與其間隔件表面1004的一第一邊緣相鄰之一間隔件1002、與一第二邊緣相鄰之一間隔件1006、及位於中間之一間隔件1008。配置於中介層薄膜的第一部分1000的一背表面1012下方之中介層薄膜的一第二部分1010係攜載與其間隔件表面1016的一第一邊緣相鄰之一間隔件1014、與一第二邊緣相鄰之一間隔件1018、及位於中間之一間隔件1020。

一第一製程薄膜1024的一第一部分1022係配置於間隔件1014與1020之間的一保護性空間中。第一製程薄膜1024的一第二部分1026配置於由中介層薄膜的一第三部分(未圖示)所攜載之間隔件(未圖示)之間的一保護性空間中。第一製程薄膜1024的第一部分1022之一被動表面1028係與中介層薄膜的第一部分1000之背表面1012相鄰。第一製程薄膜1024的第二部分1026之一被動表面1030係與中介層薄膜的第二部分1010之一背表面1032相鄰。

一第一製程薄膜1036的一第一部分1034係配置於間隔件1018與1020之間的一保護性空間中。第二製程薄膜1036的一第二部分1038配置於由中介層薄膜的第三部分(未圖示)所攜載之間隔件(未圖示)之間的一保護性空間中。第二製程薄膜1036的第一部分1034之一被動表面1040 係與中介層薄膜的第一部分1000之背表面1012相鄰。第二製程薄膜1036的第二部分1038之一被動表面1042係與中介層薄膜的第二部分1010之背表面1032相鄰。

第一製程薄膜1024的第一部分1022之一主動表面1044係可攜載組件、層或形貌體(未圖示)且未被中介層薄膜或被製程薄膜的任何其他部分所碰觸。類似地，第一製程薄膜1024的第二部分1026之一主動表面1046、第二製程薄膜1036的第一部分1034之一主動表面1048、及第二製程薄膜1036的第二部分1038之一主動表面1050係未被中介層薄膜或被製程薄膜的任何其他部分所碰觸。譬如，一組件1052係配置於主動表面1046上，一組件1054配置於主動表面1048上，且一組件1056配置於主動表面1050上。

如圖11A所示，複數個支撐件1100、1102、1104及1106可由一中介層薄膜1108所攜載。支撐件被攜載於中介層薄膜1108的一間隔件表面1110上，沿著中介層1108的一邊緣之間隔件1112以及沿著中介層1108的另一邊緣之間隔件1114亦然。圖11B類似於圖11A，差異在於：一製程薄膜1116被顯示成位於間隔件1112與1114之間的一保護性空間中。製程薄膜1116的一主動表面1118係接觸於支撐件並具有一組件1120。支撐件1100只沿著一第一邊緣1122接觸製程薄膜1116的主動表面1118，其在該處將不對於組件或製程薄膜的任何主動區中之其他主動元件產生任何損害。類似地，支撐件1102係只沿著遠離製程薄膜的任何主動區之一第二邊緣1124接觸主動表面1118。

在圖11A及11B中，支撐件被攜載於中介層的間隔件表面上。如圖12A及12B所示，支撐件1200及1202可被攜載於一中介層薄膜1206的一背表面1204上。間隔件1208沿著中介層1206的一間隔件表面1210之一邊緣被攜載，且間隔件1212沿著中介層1206的另一邊緣被攜載。一製程薄膜1216的一部分1214係在中介層薄膜的另一部分(未圖示)的間隔件(未圖示)之間的一保護性空間中由支撐件1200及1202所支撐。如同圖11A及11B的範例中，製程薄膜1216的一主動表面1218係沿著遠離諸如一組件1220等任何組件或製程薄膜1216的主動表面1218的任何主動區之邊緣而由支撐件1200及1202所支撐。

在上述兩範例中，支撐件係包含隔開的平行六面體，但在其他範例中，支撐件可依需要採行分段式條帶、連續條帶、或其他適當形狀之形式。

圖13A及13B顯示概括標成1300的被動表面製程薄膜捲繞裝備之一範例。一第一卡匣1302係含有被盤捲在一核心1308上的層中之一製程薄膜1306的一捲筒1304。在捲筒1304上，各層的製程薄膜1306佔據以一種如上述方式由一或多層的一第一中介層薄膜1310所形成之一受保護空間。製程薄膜1306係從捲筒1304解捲、經由一開口1312離開第一卡匣1302、並穿過一製程站1314。可在製程站1314中於製程薄膜1306上進行任何適當的製程。從製程站1314，製程薄膜1306經由一開口1318進入一第二卡匣1316。製程薄膜1306係插頁於一第二中介層薄膜1320，且 兩薄膜捲繞在一核心1322上以形成一捲筒1324，其中製程薄膜1306佔據以一種如上述方式由第二中介層薄膜1320的層所形成之保護性空間。最終，全部的製程薄膜1306已從第一卡匣1302被轉移至第二卡匣1316。然後，第二卡匣1316可從裝備1300被移除並用以安全地儲存或運送製程薄膜1306。

製程薄膜1306可譬如藉由第一卡匣1302與製程站1314之間的一第一拉張滾子1326以及製程站1314與第二卡匣1316之間的一第二拉張滾子1328從第一卡匣1302被引導經過製程站1314來到第二卡匣1316。第一及第二拉張滾子係只在一被動側1330上接觸製程薄膜1306。亦可使用其他導件，諸如拉張滾子1326與製程站1314之間的一軋縫輪1334及一抽引滾子1332、及拉張滾子1328與製程站1314之間的一軋縫輪1338及一抽引滾子1336。

隨著製程薄膜從捲筒1304解捲，第一中介層薄膜1310亦解捲且經由開口1312離開第一卡匣。第一中介層薄膜可被盤捲以形成一核心1342上的一捲筒1340。第一中介層薄膜可隨著其從第一卡匣1302中的捲筒1304解捲且盤捲至捲筒1340上而轉移至一或多個導件諸如一拉張滾子1344。當製程薄膜1306及第一中介層薄膜1310已從捲筒1304解捲且第一中介層薄膜1310已盤捲至捲筒1340上時，中介層薄膜的捲筒1340可從裝備1300被移除並稍後重新使用、留在原位、或盤捲回到卡匣內而無製程薄膜以供儲存。

第二中介層薄膜1320可藉由從一核心1348上的 一捲筒1346解捲而得。第二中介層薄膜1320可轉移至一或多個導件諸如一拉張滾子1350並經由開口1318進入第二卡匣1316。

在部分範例中，薄膜從捲筒1304解捲時除外，開口1312可以一覆蓋件1352被密封。類似地，薄膜被盤捲在捲筒1324上時除外，開口1318可以一覆蓋件1354被密封，隨著製程薄膜盤捲在捲筒1324上，其可藉由一用以驅動核心1322的伺服馬達1356被拉張。在部分範例中，製程薄膜亦藉由拉張滾子1328、拉張滾子1326、或任何其他組件之一或多者被拉張。在部分範例中，一伺服馬達(未圖示)可機械性耦合至核心1308並可用來在解捲時拉張製程薄膜。在部分範例中，可利用被施加至與核心1308耦合的一鼓輪1360之一摩擦煞車1358在解捲時拉張製程薄膜。若不用伺服馬達1356，可使用某其他種類的馬達或一手曲柄來提供扭矩以將製程及中介層薄膜盤捲至核心1322上。

隨著製程薄膜1306及第一中介層薄膜1310從捲筒1304解捲，可利用一伺服馬達1362或其他適當的機動裝置將第一中介層薄膜1310盤捲至核心1342上。可利用被施加至核心1348所攜載或耦合至核心1348的一鼓輪1366之另一伺服馬達(未圖示)或一摩擦煞車1364，在從捲筒1346解捲時拉張第二中介層薄膜1320。

圖14提供一用於處理製程薄膜之方法的一範例。該方法包括提供一具有一間隔件表面及一背表面之中介層薄膜，間隔件表面具有與中介層薄膜的一第一邊緣相 鄰之一第一間隔件、及與中介層薄膜的一第二邊緣相鄰之一第二間隔件、及在第一與第二間隔件之間所界定之至少一保護性空間(1400)；以及將一製程薄膜及中介層薄膜盤捲至一核心上，其中製程薄膜配置於第一與第二間隔件之間的保護性空間中且製程薄膜的一被動表面與中介層薄膜的一表面相鄰(1402)。

圖15提供用於處理製程薄膜之一方法的另一範例。如同先前範例中，提供一具有一間隔件表面及一背表面之第一中介層薄膜，間隔件表面具有與中介層薄膜的一第一邊緣相鄰之一第一間隔件及與中介層薄膜的一第二邊緣相鄰之一第二間隔件，在第一與第二間隔件之間界定有至少一保護性空間(1500)。第一中介層薄膜係被拉張(1502)。在部分範例中，一製程薄膜以比第一中介層薄膜更小的拉力被拉張(1504)。薄膜被盤捲至一核心上，其中製程薄膜配置於第一與第二間隔件之間的保護性空間中，且製程薄膜的一被動表面與中介層薄膜的一表面相鄰(1506)。中介層薄膜中的拉力、而非製程薄膜中的拉力係形成捲筒。

在部分範例中，隨著薄膜被盤捲而在製程薄膜上而進行一製程(1508)。此程序先前已就圖13A及13B作討論，其中製程薄膜被饋送經過一製程站、然後被盤捲。

在其他範例中，在薄膜已經盤捲之後進行製程(1510)。在一範例中，經捲製的薄膜可被放置在一製程站內，且立刻在整體捲筒上進行製程。在此案例中可使用一如前述的多孔性或穿孔狀之中介層薄膜。

圖16提供一用於處理製程薄膜之方法的另一範例。一捲有一第一中介層薄膜之未經處理的製程薄膜係設有與中介層薄膜的一表面相鄰之製程薄膜的一被動表面(1600)。薄膜被解捲(1602)。製程薄膜被饋送經過一製程站(1604)且第一中介層薄膜被捲製(1606)。

在部分範例中，該方法係繼續而提供一第二中介層薄膜(1608)。製程薄膜係捲有第二中介層薄膜，製程薄膜的一被動表面與第二中介層薄膜的一表面相鄰(1610)。製程薄膜可以比第一及第二中介層薄膜的至少一者更小之一拉力被拉張(1612)。

在其他範例中，並未捲製第一中介層薄膜，製程薄膜被饋送回到第一中介層薄膜並再度與第一中介層薄膜作捲製(1614)，且不需要第二中介層薄膜。

配置於中介層薄膜與其間隔件所提供的保護性空間中之製程薄膜的一捲筒、且其中製程薄膜的一主動表面藉此受保護而不與中介層薄膜抑或製程薄膜的其他層作任何接觸一係可被包圍在一卡匣中。一含有如是一捲筒之卡匣係可容易被運送而不損害製程薄膜。

中介層薄膜可由諸如塑膠、紙、金屬、玻璃、複合物或類似物等任何薄順應性材料製造。

在捲製期間，中介層薄膜可被拉張以形成捲筒，且很少拉力需被施加至製程薄膜，進一步予以保護。核心可藉由一可供精密控制速度與扭矩之伺服馬達(譬如圖13B所示)被旋轉、藉由一亦提供速度及扭矩的良好控制之手曲 柄(未圖示)被旋轉、或藉由某其他適當裝置被旋轉。

利用如上述的裝備及方法，可以一種在解捲或盤捲期間或是捲製之時不碰觸薄膜的主動表面之方式來處置製程薄膜。製程薄膜的盤捲捲筒可容易被保護而在運送期間或製程薄膜未被處理的任何時間不受到灰塵及其他損害性碎屑所污染。此彈性係容許不同製程以不同速率運行。譬如長期低溫烘烤等部分處理可在薄膜被捲製之時達成。若薄膜的捲筒被包圍在一卡匣中，卡匣可易於被運送在一潔淨環境外的設施與製程之間。製造製程可分解成一較小單元，而容許先導規模之最適化及容易的製程開發或是量產規模的客製化。相同系統可處置具不同寬度、厚度及模數之薄膜。薄膜可以捲筒形態與薄膜拉力之間的獨立拉力被捲製，且薄膜可以低的所施加拉力作儲存，導致儲存期間機械變形之降低。卡匣係可攜載有追蹤、內容物及製程資料，其皆可在不參照實際薄膜下作讀取，而利於有效率的製程管理及品質控制。

100‧‧‧中介層薄膜

102‧‧‧間隔件表面

104‧‧‧背表面

106‧‧‧第一間隔件

108‧‧‧中介層薄膜的第一邊緣

110‧‧‧第二間隔件

112‧‧‧中介層薄膜的第二邊緣

114‧‧‧製程薄膜保護性空間

116‧‧‧可旋轉式核心

118,120‧‧‧箭頭

122‧‧‧軸線

124‧‧‧核心116的近端

Claims (16)

1. 一種捲繞裝備，包含：一中介層薄膜，其具有一間隔件表面及一背表面；一第一間隔件，其由該中介層薄膜所攜載，位於該間隔件表面上，與該中介層薄膜的一第一邊緣相鄰；一第二間隔件，其由該中介層薄膜所攜載，位於該間隔件表面上，與該中介層薄膜的一第二邊緣相鄰，該等間隔件界定一製程薄膜保護性空間；及一可旋轉式核心，其被定向以接收該中介層薄膜的一初始端並捲起該中介層薄膜，其中一製程薄膜位於該製程薄膜保護性空間中，其中該製程薄膜的一被動表面與該中介層薄膜的一表面相鄰。
2. 如申請專利範圍第1項之裝備，其中該等間隔件係選自下列各物組成的群組：一分段式條帶、一順應性條帶、及複數個間隔件元件。
3. 如申請專利範圍第1項之裝備，其中該中介層薄膜係包含一表面紋理狀材料、一網目、一異向順應性材料、及一或多個橫向勁化元件中之至少一者。
4. 如申請專利範圍第1項之裝備，其中該中介層薄膜、該第一間隔件及該第二間隔件中之一或多者係包含氣體可滲透性材料。
5. 如申請專利範圍第1項之裝備，進一步包含複數個支撐件，該等複數個支撐件係由該中介層薄膜所攜載並配置以在遠離該製程薄膜的主動表面的任何主動部分之點支撐該製程薄膜的一主動表面。
6. 如申請專利範圍第1項之裝備，進一步包含一或多個額外間隔件，該等一或多個額外間隔件係由該等第一及第二間隔件之間的中介層薄膜所攜載，該等額外間隔件係將該保護性空間分成各被設定尺寸以容納一製程薄膜之保護性區。
7. 如申請專利範圍第1項之裝備，進一步包含：一中介層薄膜核心，該中介層薄膜在其上被捲起且該中介層薄膜可自其被鬆捲；及一拉張器，其耦合至該中介層薄膜核心。
8. 如申請專利範圍第1項之裝備，進一步包含一中介層薄膜拉張滾子，該中介層薄膜拉張滾係係配置以將該中介層薄膜饋送至該可旋轉式核心。
9. 如申請專利範圍第1項之裝備，進一步包含一馬達，該馬達耦合至該可旋轉式核心。
10. 如申請專利範圍第1項之裝備，進一步包含：一卡匣，其包圍該可旋轉式核心，該卡匣係設定尺寸以容納在該可旋轉式核心上所捲起之製程薄膜及中介層薄膜的一捲筒，該卡匣的一壁係界定一開口，該開口係設定尺寸以容納該等中介層及製程薄膜；及一可移除式覆蓋件，其位於該開口上。
11. 一種用於處理製程薄膜之方法，該方法包含：提供一具有一間隔件表面及一背表面之中介層薄膜，該間隔件表面具有與該中介層薄膜的一第一邊緣相鄰之一第一間隔件及與該中介層薄膜的一第二邊緣相鄰之一第二間隔件，及該等第一與第二間隔件之間所界定的至少一保護性空間；及 將一製程薄膜及該中介層薄膜盤捲至一核心上，其中該製程薄膜係配置於該等第一及第二間隔件之間的該保護性空間中，且該製程薄膜的一被動表面與該中介層薄膜的一表面相鄰。
12. 如申請專利範圍第11項之方法，其中將該等製程及中介層薄膜盤捲至該核心上係包含：拉張該中介層薄膜；及以比該中介層薄膜更小的一拉力來拉張該製程薄膜。
13. 如申請專利範圍第11項之方法，進一步包含在該薄膜已盤捲於該核心上之後，在該製程薄膜上進行一製程。
14. 一種用於處理製程薄膜之方法，該方法包含：提供捲有一第一中介層薄膜之未經處理的製程薄膜，該製程薄膜的一被動表面與該第一中介層薄膜的一表面相鄰；將該等薄膜解捲；將該製程薄膜饋送經過一製程站；及捲製該中介層薄膜。
15. 如申請專利範圍第14項之方法，進一步包含：提供一第二中介層薄膜；及使該第二中介層薄膜捲有該製程薄膜，該製程薄膜的一被動表面與該第二中介層薄膜的一表面相鄰。
16. 如申請專利範圍第15項之方法，進一步包含以比該等第一及第二中介層薄膜的至少一者更小的一拉力來拉張該製程薄膜。