TW201444675A - 玻璃層板、顯示元件、以及顯示設備 - Google Patents

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Abstract

一種玻璃層板、一種顯示元件、一種顯示設備、一種製造該玻璃層板的方法、以及一種製造該顯示元件的方法。該玻璃層板係包括一載體玻璃基材；一中間層堆疊於該載體玻璃基材上且由一具有一柱狀晶粒結構(columnar grain structure)的材料形成；以及一薄玻璃基材堆疊於該中間層上。

Description

玻璃層板、顯示元件、以及顯示設備
本發明的例示性具體實施態樣係關係於一種玻璃層板、一種顯示元件、一種顯示裝置、一種製造玻璃層板的方法、以及一種製造該顯示元件的方法。
近來玻璃作為一結構性及功能性材料的重要性已經增加。具體而言，因為薄玻璃基材係透明的、可撓的、以及具有一低熱膨脹係數和一高熱阻，所以已被推薦使用於可撓的顯示裝置。然而，因其可撓性，而難以在製造可撓的顯示裝置時獨立使用一薄玻璃基材。取而代之的是，通常將薄玻璃基材貼附於一堅硬的載體玻璃基材以形成一可撓的顯示裝置。
然而，當堆疊一薄玻璃基材於一載體玻璃基材上時，該二玻璃基材之間可能產生氣泡。此外，當該堆疊的玻璃基材於製造可撓的顯示裝置的過程中曝露於高溫時，該二玻璃基材可能永久地彼此結合，然後不可能將該二結合的玻璃基材分離。還有，當該薄玻璃基材與該載體玻璃基材具有不同的熱膨脹係數 時，於該薄玻璃基材的部分區域會產生集中的應力，其導致薄玻璃基材因溫度改變而發生破裂。
本發明之例示性具體實施態樣係提供一玻璃層板，其藉由將一薄玻璃基材黏附於一載體玻璃基材上而形成，之後可將之彼此分離而不產生缺陷。
本發明之例示性具體實施態樣亦提供一顯示元件及一顯示設備，此二者皆包括該玻璃層板。
本發明之例示性具體實施態樣亦提供一製造該玻璃層板的方法和一製造該顯示元件的方法。
本發明之額外特徴將於以下描述中說明，且部分地將從說明中清楚地呈現，或可由本發明的實踐以獲知。
本發明之一例示性具體實施態樣係揭露一玻璃層板，包括：一載體玻璃基材；一中間層堆疊於該載體玻璃基材上且由一具有一柱狀晶粒結構(columnar grain structure)的材料形成；以及一薄玻璃基材堆疊於該中間層上。
本發明之一例示性具體實施態樣亦揭露一製造玻璃層板的方法，該方法包括：形成一具有一柱狀晶粒結構之材料的中間層於一載體玻璃基材上；以及堆疊一薄玻璃基材於該中間層上。
根據本發明之另一方面，係提供一製造該顯示元件的方法，該方法包括：製造一玻璃層板；形成一顯示裝置層於該 玻璃層板之一薄玻璃基材上；以及形成一封裝層於該顯示裝置層上。
應理解為，前述一般性的說明與下列詳細說明皆供例示與解釋用，且係意欲提供所請發明的進一步解釋。
10‧‧‧載體玻璃基材
20‧‧‧中間層
21‧‧‧材料
22‧‧‧晶體
30‧‧‧薄玻璃基材
100‧‧‧玻璃層板
200‧‧‧顯示元件
210、211‧‧‧顯示裝置層
220‧‧‧薄膜封裝層
300‧‧‧可撓的顯示面板
400‧‧‧可撓的顯示設備
401‧‧‧殼
包括於此之附圖式係用以提供本發明之進一步的理解且構成本說明書的一部分，闡明本發明之例示性具體實施態樣，且與說明一同用以解釋本發明之原理。
第1圖係一示意截面圖，顯示一根據本發明之一例示性具體實施態樣的玻璃層板。
第2圖係一概念圖，顯示第1圖所示之玻璃層板的一截面。
第3A圖及第3B圖係一玻璃層板的截面圖，顯示一載體玻璃基材與一薄玻璃基材之相對位置如何因彼此的熱膨脹係數差異而改變。
第4圖係一根據本發明之一例示性具體實施態樣之顯示元件的截面圖。
第5圖係一包括根據本發明之一例示性具體實施態樣之一玻璃層板之可撓的顯示面板的截面圖。
第6圖係一包括一根據本發明之一例示性具體實施態樣之玻璃層板之可撓的顯示裝置的立體圖。
以下，將參考附圖而更充分地說明本發明，於其中顯示本發明之例示性具體實施態樣。然而，本發明可以多種不同形式體現且應解讀為不被侷限於此列舉的例示性具體實施態樣。相反地，該等例示性具體實施態樣係提供以使本揭露明瞭且充分地傳達本發明之範圍予本領域之通常知識者。
於圖式中，類似的組件係以類似的元件符號標示。於圖式中，層及區域的長度及尺寸為了清楚而可能被誇大。
本說明書所使用的用語僅係用以描述特定的具體實施態樣且不具任何侷限本發明的意圖。除非內文明確地不同，否則單數的用詞係包括複數的用詞。於本說明書中，應理解的是，用語如「包括(include)」、「包含(comprise)」及「具有(have)」係使用以指出所實施特徴的存在，而非事先排除一或多個其他特徴之存在或增加的可能性。於說明書中，用語「及/或(and/or)」係包括一或多個關聯的列出特徴之任何及全部的組合。於說明書中，用語如「第一」及「第二」僅係用以將一特定特徵與另一特徵區分以描述各式特徴，且該等特徴並不限於該等用語。在下面的說明中，當揭露一第一特徴係連接至、結合至、或連結至一第二特徴時，這並不排除該第一特徴與該第二特徴之間可插入一第三特徴。然而，當揭露一第一元件係直接地設置於一第二元件上時，這排除該第一元件與該第二元件之間設置有一第三元件的情形。
除非有不同定義，所有於此使用包括技術或科學用 語的用語，均具有該領域之通常知識者一般理解的相同意義。應理解的是，除非說明書中明確地定義，否則一般使用的用語(其係定義於字典)，係具有與於相關科技的文章中相同的意義，且該等用語不被理解為理想的或過度正式的意義。
如同在此使用，用語「及/或」係包括一或多個關聯的列出項目之任何及全部的組合。用詞如「至少之一者」，當在一列元件之後時，係修飾該整列的元件且並非修飾該列中的個別元件。
將被理解的是，當一元件或層被指稱「於另一元件或層上」或「連接至另一元件或層」時，其可直接位於或直接連接至其他元件或層上，或可存在插入的元件或層。相對地，當一元件被指稱為「直接地於另一元件或層上」或「直接地連接至另一元件或層」時，則不存在著插入的元件或層。將理解，針對本揭露的目的而言，「X、Y、Z之至少一者」可被解讀為僅X、僅Y、僅Z、或X、Y、Z之二或多者的任一組合，例如：XYZ、XYY、YZ、ZZ。
第1圖係根據本發明之一例示性具體實施態樣之一玻璃層板100的示意截面圖。
參考第1圖，玻璃層板100係包括一載體玻璃基材10、一薄玻璃基材30、及一中間層20設置於該載體玻璃基材10與該薄玻璃基材30之間。
載體玻璃基材10可為一堅硬基材以支撐薄玻璃基材 30。薄玻璃基材30係可撓的，且因此可能難以於製造程序中獨立使用。為了形成一半導體裝置或一顯示裝置於薄玻璃基材30上，係將薄玻璃基材30貼附至載體玻璃基材10。此外，於製造程序完成之後，將薄玻璃基材30從載體玻璃基材10分離。
載體玻璃基材10具有一適合生產線的厚度。載體玻璃基材10的厚度可大於薄玻璃基材30的厚度以支撐且加強薄玻璃基材30的剛性。
載體玻璃基材10的熱膨脹係數可實質上等於薄玻璃基材30者。此情況下，於一熱處理中玻璃層板100可不彎曲。然而，載體玻璃基材10的熱膨脹係數可與薄玻璃基材30不同。
載體玻璃基材10的材料可與薄玻璃基材30相同。此情況下，載體玻璃基材10與薄玻璃基材30可具有實質上相同的熱膨脹係數。然而，載體玻璃基材10的材料可與形成於薄玻璃基材30的材料不同。舉例而言，載體玻璃基材10可能由鹼玻璃形成，例如一種含有鹼金屬氧化物的鹼石灰玻璃，或可能由一種非鹼玻璃(alkali-free glass)形成。載體玻璃基材10的形狀及尺寸並無特別限制。
薄玻璃基材30係一用以形成一半導體裝置或一顯示裝置(例如一可撓的顯示裝置)的基底基材。薄玻璃基材30係透明的且可具有熱阻及可撓性，以及可具有一低的熱膨脹係數。
薄玻璃基材30可具有約100至500奈米的厚度。此外，如薄玻璃基材30含有氮化矽，薄玻璃基材30可具有約300 奈米的厚度。薄玻璃基材30可具有約100奈米或更少的厚度。薄玻璃基材30可薄至足以提供一程度的可撓性。舉例而言，薄玻璃基材30可為可撓至足以彎曲或捲繞。
薄玻璃基材30在貼附至載體玻璃基材10後可用於包括一熱程序的製造程序中。薄玻璃基材30於製造程序完成後可從載體玻璃基材10分離。
薄玻璃基材30的熱膨脹係數並無特別限制。然而，為確保包括薄玻璃基材30之設備的耐久性及可靠度，薄玻璃基材30的熱膨脹係數可係低的。舉例而言，在100℃溫度變化下薄玻璃基材30可變形約0.1%或更少。
用以形成薄玻璃基材30的材料並無限制。舉例而言，薄玻璃基材30可由鹼玻璃或非鹼玻璃形成。
製造載體玻璃基材10與薄玻璃基材30的方法並無特別限制。舉例而言，可藉使用浮動法(floating method)、融合法(fusion method)、澆鑄法、流孔下抽引法(slot down draw)、及再抽引法(redraw)將熔融的玻璃形成為一板，以製造載體玻璃基材10及薄玻璃基材30。
可拋光載體玻璃基材10與薄玻璃基材30的表面。而且，可使用一自動清潔設備或以去離子水手動清潔載體玻璃基材10與薄玻璃基材30的表面。
中間層20可包括一具有柱狀晶粒結構的材料21。中間層20可固定於載體玻璃基材10上，且為可貼附至薄玻璃基材 30/可從薄玻璃基材30拆離。意即，中間層20可以一足夠小的貼附力貼附至薄玻璃基材30，使得薄玻璃基材30可在不受損的情形下從中間層20分離。因此，當薄玻璃基材30被分離時，沒有殘留物殘留在薄玻璃基材30上。
中間層20可為軟化狀態或者硬化狀態。當中間層20為軟化狀態時，薄玻璃基材30可以一強貼附力貼附於中間層20。當中間層20為硬化狀態時，薄玻璃基材30可以一弱貼附力貼附於中間層20，且可輕易地分離。中間層20的厚度可為數十微米或更少，但不限於此。
當材料21從液態固化至固態時，材料21可依一特定方向生長。舉例而言，材料21可具有一具一垂直於該載體玻璃基材10之晶體生長方向的晶狀結構。
材料21係可包括選自氧化硼、氮化矽(特別是β-氮化矽，β-Si3N4)、碳酸矽、及氮化硼之至少一者。舉例而言，材料21可為非晶質氧化硼。包括氧化硼的材料21可由硼酸溶液形成。
可藉一物理氣相沉積法沉積材料21於載體玻璃基材10上，例如濺鍍法。根據另一具體實施態樣，可藉由化學氣相沉積法沉積材料21於載體玻璃基材10上。
材料21可由一液相材料形成。此情況下，可藉由例如旋轉塗覆法，將一液相材料塗覆至載體玻璃基材10上，接著以一固化程序形成具有該柱狀晶粒結構的固態材料21。於固化程序 中，材料21可成長同時在垂直於該載體玻璃基材10之方向形成一晶狀結構。據此，中間層20，包括具有該柱狀晶粒結構之材料21，可形成於載體玻璃基材10上。
中間層20可被軟化。舉例而言，當載體玻璃基材10曝露於高溫下，在中間層20中的材料21可被軟化或熔化。當材料21軟化時，材料21可變得黏稠，且薄玻璃基材30可因材料21的黏性而貼附於中間層20。藉由冷卻操作可硬化中間層20，以輕易從中間層20分離薄玻璃基材30。
如上所述，材料21可包括非晶質三氧化二硼。當三氧化二硼(B2O3)從一液相長出時，三氧化二硼可具有一柱狀晶粒結構。此外，當施加高溫度的熱於三氧化二硼時，該三氧化二硼可於熔化前完全地軟化。
可從一硼酸(H3BO3)溶液中形成一三氧化二硼層於載體玻璃基材10上。可於室溫下溶解硼酸於水至一特定溶解度形成一硼酸溶液。舉例而言，該溶解度可為約4.72公克/100毫升。該硼酸溶液可為一硼酸飽和水溶液，於其中水係飽和有硼酸。
該硼酸溶液可塗覆於載體玻璃基材10上。舉例而言，可以旋轉塗覆程序將該硼酸溶液塗覆於載體玻璃基材10上。塗覆有該硼酸溶液的載體玻璃基材10可於一高溫下加熱，例如約460℃或更低。
當加熱載體玻璃基材10時，於約170℃或更低溫度下，硼酸(H3BO3)可分解成偏硼酸(HBO2)及水(H2O)，如下 化學反應流程所示：H3BO3→HBO2+H2O (1)
此外，於約300℃或更高溫度下，偏硼酸(HBO2)可分解成為三氧化二硼(B2O3)及水(H2O)，如下化學反應流程所示：2HBO2→B2O3+H2O (2)
於約450℃或更低溫度下，可熔化三氧化二硼(B2O3)。於後，在一冷卻程序中，可形成具有該柱狀晶粒結構的氧化硼層於載體玻璃基材10上。
藉由於載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之間形成中間層20，可於例如約300℃或更高的溫度下，避免載體玻璃基材10及薄玻璃基材30的永久結合。另外，當載體玻璃基材10與薄玻璃基材30藉使用一無機材料或一具有不同晶體結構之有機材料形成的一層彼此結合時，在此因載體玻璃基材10與薄玻璃基材30熱膨脹係數之間的差異，可能產生破裂。然而，即使載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之熱膨脹係數彼此不同，藉由形成中間層20以在載體玻璃基材10與薄玻璃基材30間包括具有柱狀晶粒結構的材料21，可減少應力。因此，可避免於薄玻璃基材30中產生破裂。
當堆疊薄玻璃基材30於載體玻璃基材10上時，薄玻璃基材30與載體玻璃基材10之間可能產生氣泡。氣泡的量及 尺寸可隨著薄玻璃基材30與載體玻璃基材10的表面狀態及堆疊狀態而改變。根據本發明之一例示性具體實施態樣，因為將包括具有柱狀晶粒結構之材料21的中間層20沉積於載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之間，所以沒有氣泡產生。
一般而言，玻璃表面含有羥基(-OH)。如果兩個堆疊玻璃於一高溫(例如，約300℃或更高)下退火，該兩個堆疊之表面上的-OH基團將彼此反應。結果，-OH基團彼此強力地化學鍵結，且該兩個堆疊的玻璃可永久地彼此結合。
再者，根據環境條件該玻璃中的成分會被氧化或還原。當施加高溫的熱至該兩個堆疊的玻璃，玻璃改質劑和結構活性元素會在彼此間擴散。意即，因為該高溫退火，包含於玻璃中的金屬陽離子(例如，Mg2+、Ca2+、及Fe2+)可朝該玻璃的表面擴散。此金屬陽離子的擴散係直接影響玻璃的性質。特定而言，金屬陽離子的移動可造成擴散反應。
該擴散反應可藉於相之間的邊界發生化學反應而造成新相的形成及成長。因此，兩個堆疊的玻璃可永久地彼此結合。
根據本發明之一例示性具體實施態樣，因於載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之間設置中間層20，即便當於其中施加高溫，載體玻璃基材10的-OH基團及薄玻璃基材30的-OH基團彼此分離，而預防彼此反應。此外，可藉由中間層20而減少或避免在載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之間的擴散反應。
第2圖係一概念圖，顯示第1圖所示之玻璃層板100 的一截面。
參考第2圖，玻璃層板100係包括載體玻璃基材10、中間層20、及薄玻璃基材30，其依此順序黏附至彼此。
中間層20係可包括具有柱狀晶粒結構的晶體22。如第2圖所示，晶體22具有一橢圓形且係垂直於載體玻璃基材10。然而，形成的晶體22可具有其他形狀例如六角柱形、方柱形、或圓柱形。晶體22的形狀並不限於此，僅需晶體22具有柱狀晶粒結構且可以垂直於基材10、30之平面的方向成長。如第2圖所示，晶體22於垂直載體玻璃基材10之平面的方向可具有較長的長度。
第3A圖及第3B圖係一玻璃層板100的截面圖，顯示一載體玻璃基材10與一薄玻璃基材30之相對位置隨載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之間的熱膨脹係數差異而改變。
更詳細而言，假設載體玻璃基材10較薄玻璃基材30為膨脹，第3A圖顯示第1圖所示之玻璃層板100的左部分，且第3B圖顯示第1圖所示之玻璃層板100的右部分。在相反的假設下，薄玻璃基材30較載體玻璃基材10為膨脹，第3A圖顯示第1圖所示之玻璃層板100的右部分，且第3B圖顯示第1圖所示之玻璃層板100的左部分。
如同第3A及3B圖所示，因晶體22具有柱狀晶粒結構，晶體22可根據載體玻璃基材10與薄玻璃基材30的相對位置向左或右的方向傾。因此，中間層20可吸收因載體玻璃基材10與薄玻璃基材30熱膨脹係數差異而產生的應力。因此，於較載體 玻璃基材10相對脆弱的薄玻璃基材30的破裂之產生係可預防的。
意即，當載體玻璃基材10與薄玻璃基材30以不同速率膨脹或收縮，位於載體玻璃基材10與薄玻璃基材30之間且具有柱狀晶粒結構的晶體22可以一前-後的方向移動。因此，各該載體玻璃基材10與薄玻璃基材30可膨脹或收縮，與另一玻璃基材的運動無關。因此，可預防或減少從熱膨脹係數之間的差異所造成之應力的產生。
為使具有柱狀晶粒結構的晶體22盡可能的移動，可於一高溫下軟化或熔化具有柱狀晶粒結構的晶體22，例如於約350℃或更高的溫度。當軟化具有柱狀晶粒結構的晶體22時，晶體22可變黏稠，且中間層20可使載體玻璃基材10與薄玻璃基材30彼此固定。當冷卻晶體22時，晶體22可硬化，且此情況下，載體玻璃基材20與薄玻璃基材30可輕易地彼此分離。
第4圖係於根據本發明之一例示性具體實施態樣之載體玻璃基材10上之一顯示元件200的截面圖。
參考第4圖，顯示元件200係包括一玻璃層板100、一顯示裝置層210於顯示層板100上、及一封裝層(未示出)於顯示裝置層210上。玻璃層板100係包括一載體玻璃基材10、一中間層20設置於載體玻璃基材10上、及一薄玻璃基材30設置於中間層20上。於第4圖所示的玻璃層板100可實質上相同於第1圖所示的玻璃層板100，且因此，省略其詳細說明。
顯示裝置層210可包括一薄膜電晶體(TFT)陣列、 一發射層、一保護層、一線路層、一半導體層、一顏色濾件、液晶、一透明電極、及/或各式的線路圖案配置一顯示裝置，例如一液晶顯示器(LCD)或一有機發光二極體(OLED)。
若顯示元件200係一用以製造一有機發光顯示設備的OLED元件，顯示裝置層210可包括一TFT陣列以及一發射層形成於薄玻璃基材30上。該發射層可為一有機發射層、且一像素電極與一相對電極可設置於該有機發射層之上部與下部。該像素電極或該相對電極可連接至該TFT陣列。顯示裝置210可包括一驅動電路與線路圖案以驅動該TFT陣列及該發射層。
一種製造顯示元件200的方法可包括一形成玻璃層板100的程序及一於玻璃層板100之薄玻璃基材30上形成顯示裝置層210的程序。該形成玻璃層板100的程序可包括製備載體玻璃基材10及薄玻璃基材30、於載體玻璃基材10上形成中間層20、及堆疊薄玻璃基材30於中間層20上的程序。
特定而言，當形成玻璃層板100時，可以去離子水清潔載體玻璃基材10與薄玻璃基材30。可使用一自動清潔設備或手動清潔載體玻璃基材10及薄玻璃基材30。
於清潔後，載體玻璃基材10與薄玻璃基材30於一約50℃溫度的火爐內乾燥。以下，將假設中間層20含有具有一柱狀晶粒結構的氧化硼。
當載體玻璃基材10與薄玻璃基材30乾燥後，可塗覆硼酸溶液於載體玻璃基材10。藉溶解硼酸於去離子水至其飽和 以製備該硼酸飽和溶液，之後，可使用旋轉塗覆法將該硼酸飽和溶液塗覆於載體玻璃基材10。塗覆有該硼酸溶液的載體玻璃基材10可負載至該火爐中例如約1小時，且其溫度設定至約450℃。該施於載體玻璃基材10上的硼酸溶液在火爐中被轉變成一熔化態的氧化硼。
在熱處理後，具有熔化態之氧化硼的載體玻璃基材10從火爐中卸載且冷卻。之後，熔化態之氧化硼被轉變成具有柱狀晶粒結構的氧化硼，從而於載體玻璃基材10上形成中間層20。之後，堆疊薄玻璃基材30於中間層20上。
於玻璃層板100之薄玻璃基材30上形成顯示裝置層210的程序可包括一於高溫下的熱處理，例如，從約350℃至約450℃的溫度範圍。
顯示裝置層210並不限於此配置。舉例而言，顯示裝置層210可包括有機發光顯示設備的一TFT陣列及一像素電極、一電洞注入層(HIL)、一電洞傳輸層(HTL)、一有機發射層、一電子傳輸層(ETL)、一電子注入層(EIL)、一相對電極、及一薄膜封裝層，或可包括LCD設備的一TFT陣列、一顏色濾件、及一液晶層。
舉例而言，若要製造一有機發光顯示設備，製造顯示元件200的方法可包括形成一TFT陣列於薄玻璃基材30、形成一像素電極連接於該TFT陣列、形成一有機發射層於該像素電極上、形成一相對電極、及形成一封裝層的程序。
若要製造一TFT-LCD顯示設備，於該載體玻璃基材上製造顯示元件200的方法可包括形成一TFT陣列於薄玻璃基材30上、形成一顏色濾件於另一玻璃基材上、將薄玻璃基材30(其上形成該TFT陣列)與另一玻璃基材(其上形成顏色濾件)彼此結合、注入液晶、以及密封一注入孔的程序。
第5圖係藉由使用一根據本發明一例示性具體實施態樣之玻璃層板製造的可撓的顯示面板300的概要截面圖。參考第5圖，可撓的顯示面板300可包括一薄玻璃基材30、一顯示裝置層211、以及一薄膜封裝層220。
薄玻璃基材30係實質上相同於第1圖所示之玻璃層板100之薄玻璃基材30，且因此，在此省略其說明。顯示裝置層211係實質上相同於第3圖所示之顯示裝置層210。因此，以下將僅說明薄膜封裝層220。
顯示裝置層211可為一有機發光顯示面板的顯示裝置層。顯示裝置層211與薄膜封裝層220可對應至第3圖的顯示裝置層210。顯示裝置層211可被可撓的薄膜封裝層220覆蓋。
於顯示裝置層211中的有機發射層容易被外在的溼氣或氧氣降解。因此，為了保護顯示裝置層211，應將顯示裝置層211密封，且薄膜封裝層220可具有一結構，包括複數個無機層及複數個有機層交替堆疊於彼此之上，以密封顯示裝置層211。薄膜封裝層220可具有一結構，包括複數個無機層與至少一有機層交替堆疊。薄膜封裝層220之一最下層或一最上層可為一有機層。
該等無機層可由氧化鋁、氧化矽、或氮化矽形成，且各該等無機層可包括複數個無機絕緣層之一堆疊結構。該等無機層可避免外在溼氣及/或氧氣透入至該有機發射層。有機層可由一有機聚合物形成。該等有機層可減少該等無機層的內部應力、或填埔該等無機層的缺陷且使該等無機層平坦化。
於在玻璃層板100的薄玻璃基材30上形成顯示裝置層211及薄膜封裝層220之後，可硬化玻璃層板100的中間層20。之後，載體玻璃基材10可從其上形成有顯示裝置層211及薄膜封裝層220的薄玻璃基材30分離。貼附於載體玻璃基材10的中間層20可徹底地從薄玻璃基材30分離。沒有殘留物殘留在薄玻璃基材30上的中間層20。
於其上形成顯示裝置層211與薄膜封裝層220的薄玻璃基材30係可形成可撓的顯示面板300。
第6圖係一藉由使用一根據本發明之一例示性具體實施態樣之玻璃層板製造之可撓的顯示設備400的立體圖。
參考第6圖，可撓的顯示設備400可包括一可撓的顯示面板300，其實質上相同於第5圖所示的可撓的顯示面板300，以及一殼401。
殼401可覆蓋可撓的顯示面板300的側表面及/或一背表面以保護可撓的顯示面板300。殼401可由一可撓的材料形成，且如第6圖所示，可撓的顯示設備400可捲繞或彎曲。
根據本發明之具體實施態樣的玻璃層板及製造玻璃 層板的方法，該中間層可於該載體玻璃基材與薄玻璃基材之間由一具有一柱狀晶粒結構的材料形成。因此，可避免載體玻璃基材與薄玻璃基材之間永久的結合，且也可避免因該載體玻璃基材與該薄玻璃基材之熱膨脹係數間之差異造成的破裂。可在不受損的情形下從該載體玻璃基材分離該薄玻璃基材。此外，當該薄玻璃基材貼附於該載體玻璃基材時，可避免於該載體玻璃基材與該薄玻璃基材之間的氣泡產生。因此該顯示面板與該顯示設備係包括該對氧氣與溼氣具有高抵抗力的薄玻璃基材，該顯示設備具有高耐久性同時也可維持其可撓的性質。
本領域具通常知識者可明瞭在不悖離本發明的精神與範圍下可製作本發明中的各種修飾與修改。因此，本發明意欲涵蓋本發明之修改及修飾，只要其在後附申請專利範圍及其等效者之範圍內。
10‧‧‧載體玻璃基材
20‧‧‧中間層
21‧‧‧柱狀晶粒結構的材料
30‧‧‧薄玻璃基材
100‧‧‧玻璃層板

Claims (9)

  1. 一種玻璃層板，包含：一第一基材；一中間層設置於該第一基材上，該中間層包含一具有柱狀晶粒結構(columnar grain structure)的材料；以及一第二基材設置於該中間層上。
  2. 如請求項1之玻璃層板，其中該中間層的材料具有一垂直於該第一基材之一上表面的晶體生長方向。
  3. 如請求項1之玻璃層板，其中該中間層之材料的晶體生長係發生於該材料之固化反應期間。
  4. 如請求項1之玻璃層板，其中該中間層的材料包含選自下列群組之至少一者：氧化硼、氮化矽、碳酸矽、以及氮化硼。
  5. 如請求項1之玻璃層板，其中該中間層的材料包含一非晶質的氧化硼。
  6. 如請求項1之玻璃層板，其中該中間層的材料於約350℃或更高的溫度軟化。
  7. 如請求項1之玻璃層板，其中該第二基材具有約100奈米至約500奈米的厚度。
  8. 一種顯示元件，包含：根據請求項1的玻璃層板；一顯示裝置層，設置於該玻璃層板之第二基材上；以及 一封裝層，覆蓋該顯示裝置層。
  9. 一種顯示設備，包含：一顯示面板，其係由從根據請求項8之顯示元件移除該第一基材而獲得；以及一殼，配置以保護該顯示面板。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102107456B1 (ko) * 2013-12-10 2020-05-08 삼성디스플레이 주식회사 플렉시블 표시 장치 및 이의 제조 방법
EP3180187A1 (en) * 2014-08-13 2017-06-21 Corning Incorporated Intermediate cte glasses and glass articles comprising the same
CN106356375B (zh) * 2015-07-17 2019-12-03 群创光电股份有限公司 基板单元、元件基板、显示装置及显示装置的制造方法
CN105093615B (zh) 2015-07-29 2018-01-26 合肥鑫晟光电科技有限公司 曲面显示面板及其制备方法、显示装置
KR102170175B1 (ko) * 2019-06-26 2020-10-27 인하공업전문대학산학협력단 플렉시블 디스플레이 장치 제조를 위한 가접합 캐리어 글래스-금속 호일 접합체의 제조방법
CN114327107A (zh) * 2020-09-30 2022-04-12 群创光电股份有限公司 电子装置的制造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2798094B1 (fr) 1999-09-03 2002-06-28 Saint Gobain Vitrage Intercalaire et vitrage feuillete comportant ledit intercalaire
US20050136625A1 (en) 2002-07-17 2005-06-23 Debora Henseler Ultra-thin glass devices
US7193671B2 (en) * 2003-09-02 2007-03-20 Sony Corporation Reflective liquid crystal display device having obliquely evaporated alignment film on vertically evaporated film, method of manufacturing the same, and vertically aligned liquid crystal display unit
US7924362B2 (en) * 2007-04-20 2011-04-12 Via Optronics, Llc Bezelless display system having a display assembly with an overlay including a transparent section optically bonded to a display region with an optical layer that includes a pre-cured adhesive preform
TW200916426A (en) 2007-10-04 2009-04-16 Atomic Energy Council Sealing method of glass or glass-ceramics composition
WO2010047273A1 (ja) * 2008-10-23 2010-04-29 旭硝子株式会社 ガラス基板積層装置及び積層ガラス基板の製造方法
US9063605B2 (en) * 2009-01-09 2015-06-23 Apple Inc. Thin glass processing using a carrier
US8697228B2 (en) 2009-05-06 2014-04-15 Corning Incorporated Carrier for glass substrates
JP5637140B2 (ja) 2009-10-20 2014-12-10 旭硝子株式会社 ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、表示装置、およびこれらの製造方法
EP2624326A4 (en) * 2010-09-29 2017-05-10 Posco Method for manufacturing a flexible electronic device using a roll-shaped motherboard, flexible electronic device, and flexible substrate
TWI449007B (zh) 2011-09-16 2014-08-11 E Ink Holdings Inc 可撓性顯示裝置的製造方法
JP2013069769A (ja) * 2011-09-21 2013-04-18 Ulvac Japan Ltd Ｔｆｔ基板の製造方法およびレーザーアニール装置

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