TW201442969A - 顯示裝置、顯示裝置之製造方法、觸控面板及觸控面板之製造方法 - Google Patents

顯示裝置、顯示裝置之製造方法、觸控面板及觸控面板之製造方法 Download PDF

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TW201442969A
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Tatsuya Tsuzuki
Naoki Mitamura
Tadashi Muramoto
Yu Matsuda
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Central Glass Co Ltd
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
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Abstract

本發明之目的在於提供一種具備覆蓋玻璃之顯示裝置及該顯示裝置之製造方法，上述覆蓋玻璃形成有觸控感測器、安全性較高且具有較高之端面強度。本發明之顯示裝置之特徵在於：其係具備顯示面板、及安裝於上述顯示面板之前表面之觸控面板者，且上述觸控面板具備：覆蓋玻璃，其具有與上述顯示面板之前表面對向之第1表面、及與上述第1表面為相反側之第2表面；及觸控感測器，其形成於上述覆蓋玻璃之上述第1表面上；上述覆蓋玻璃係經化學強化之玻璃，上述覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900 MPa，壓縮應力層深度為5~20 μm，上述覆蓋玻璃具有相對於上述第1表面大致垂直之淨切面、及形成於上述第2表面之端緣之倒角面。

Description

顯示裝置、顯示裝置之製造方法、觸控面板及觸控面板之製造方法
本發明係關於一種顯示裝置、顯示裝置之製造方法、觸控面板及觸控面板之製造方法，例如係關於一種可利用手指或筆等手寫輸入之輸入輸出一體型顯示裝置。
藉由於液晶面板或有機EL(Electroluminescence，電致發光)面板等平面顯示面板等顯示面板設置觸控面板，而可手寫輸入字元、圖案等並且可將該輸入內容顯示於顯示面板的顯示裝置，係多被用於行動電話等行動裝置或汽車導航系統等各種電子裝置。
為了避免於輸入時產生之局部壓力而保持顯示品質，該顯示裝置於視認側設置有透明之保護板。而且，就強度或耐久性等方面而言，該保護板較佳為使用玻璃板。近年來，因要求行動裝置等之輕量化或薄型化，故亦要求上述顯示裝置薄型化，隨之亦要求保護玻璃板之厚度之減少化。然而，隨著玻璃變薄，強度會降低，從而存在因落下等而導致保護玻璃(覆蓋玻璃)自身破裂之情況，無法發揮保護顯示裝置之作用。因此，覆蓋玻璃一般使用化學強化玻璃(例如參照專利文獻1及專利文獻2)。
又，為了應對觸控面板之構造亦薄型化，而揭示有使覆蓋玻璃與觸控感測器一體化之觸控面板(例如參照專利文獻3)。
進而，作為觸控面板之製造方式，提出有如下方法：藉由於大 型透明玻璃基板上多面形成觸控感測器，並於後續步驟中逐一裁斷，而高效率地製造複數個觸控面板(例如參照專利文獻4)。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特表2010-527892號公報
專利文獻2：日本專利特開2010-275126號公報
專利文獻3：日本專利特開2012-88946號公報
專利文獻4：日本專利特開2008-33777號公報
關於可用作覆蓋玻璃之化學強化玻璃，於專利文獻1及專利文獻2中揭示有特定之玻璃組成，但未揭示顯示裝置之具體構成。
關於自多面形成有觸控感測器之大型玻璃基板逐一裁斷之方法，專利文獻3中揭示有利用化學蝕刻進行裁斷之方法，專利文獻4中揭示有利用金剛石切割器裁斷之方法。然而，於專利文獻3之方法中，藉由蝕刻自覆蓋玻璃兩面進行切斷，因此必須以不蝕刻觸控感測器之部分之方式實施遮蔽，亦必須實施蝕刻後之清洗或廢液處理，其結果為，導致步驟之長期化、複雜化。又，於專利文獻4之方法中，利用金剛石切割器裁斷觸控感測器側之面，因此會殘留金剛石切割器之切斷槽痕。切斷槽痕係因如金剛石切割器般之機械工具與玻璃之接觸而產生，故而與於玻璃產生微細之劃痕之情況表背一致。即，於在玻璃殘留有切斷槽痕之狀態下，無法獲得較高之端面強度(玻璃端面之強度)。
如此，於自1片大型玻璃基板高效率地製造複數個觸控面板之方法中，由於後切斷化學強化玻璃，故而玻璃端面之強度與化學強化程度無關，而是由切斷方法或端面處理方法決定。為了獲得較高之端面 強度，必須將端面精加工為所謂「淨切面」。所謂淨切面，例如係指藉由分割利用機械工具形成之劃線而獲得之切斷面中非刻劃側之切斷面、或利用雷射刻劃而形成之切斷面等。
但，由於淨切面無碎屑(碎片)或微裂(劃痕)，故而為高強度，另一方面，具有鋒利之邊緣，因此容易引起手或手指之劃傷等，安全性存在問題。因此，通常對端面實施倒角加工。即，先前無法有效利用由淨切面所產生之較高之端面強度之優點。
本發明之目的在於鑒於上述問題，提供一種具備覆蓋玻璃之顯示裝置及該顯示裝置之製造方法，該覆蓋玻璃形成有觸控感測器、安全性較高且具有較高之端面強度。又，本發明之目的亦在於提供一種該顯示裝置中使用之觸控面板及該觸控面板之製造方法。
本發明之顯示裝置之特徵在於：其係具備顯示面板、及設置於上述顯示面板之前表面之觸控面板者，且上述觸控面板具備：覆蓋玻璃，其具有與上述顯示面板之前表面對向之第1表面、及與上述第1表面為相反側之第2表面；及觸控感測器，其形成於上述覆蓋玻璃之上述第1表面上；上述覆蓋玻璃係經化學強化之玻璃，上述覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa，壓縮應力層深度為5~20μm，上述覆蓋玻璃具有相對於上述第1表面大致垂直之淨切面、及形成於上述第2表面之端緣之倒角面。
本發明之顯示裝置係於顯示面板之前表面安裝有觸控面板者，上述觸控面板具備覆蓋玻璃、及形成於上述覆蓋玻璃之第1表面(與顯示面板之前表面對向之面)之觸控感測器。而且，於本發明之顯示裝置中，構成觸控面板之覆蓋玻璃具有特徵。
於本發明之顯示裝置中，將經化學強化之玻璃用作覆蓋玻璃，覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa，壓縮應力層深度為5~20 μm。
由於上述覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa，故而覆蓋玻璃之強度優異。若表面壓縮應力未達600MPa，則玻璃之平均強度降低，因與高硬度構件之接觸所致之衝擊或因落下所致之衝擊等而破裂，因此無法耐受市場上之使用。另一方面，若表面壓縮應力超過900MPa，則玻璃之切斷性劣化，因此，尤其於較薄之玻璃中，相對於表面壓縮應力形成之內部拉伸應力亦增加，有於裂痕導入時玻璃斷裂之虞。
由於上述覆蓋玻璃之壓縮應力層深度為5~20μm，故而覆蓋玻璃之耐刮傷性及切斷加工性優異。若壓縮應力層深度未達5μm，則無法防止因於化學強化前產生之被稱為「格利菲裂縫(Griffith flaw)」之微小裂痕所致之玻璃之斷裂。又，若壓縮應力層深度未達5μm，則刮傷性亦較差，無法耐受市場上之使用。另一方面，若壓縮應力層深度超過20μm，則不易沿劃線分割玻璃、即切斷玻璃。
上述覆蓋玻璃具有相對於第1表面大致垂直之淨切面、及形成於第2表面之端緣之倒角面，該方面為本發明之顯示裝置之較大特徵。
首先，由於相對於覆蓋玻璃之第1表面大致垂直地形成有淨切面，故而獲得較高之端面強度。又，若藉由手指或筆等之輸入操作按壓覆蓋玻璃面，則對觸控感測器側(第1表面側)之玻璃面施加拉伸應力，因此較佳為觸控感測器側之端面強度較高。
又，覆蓋玻璃之第2表面係相當於顯示裝置之最外側且以手或手指等直接接觸而操作之面。藉由對該第2表面之端緣實施倒角加工，可不引起手或手指之劃傷等，而安全地使用顯示裝置。
於上述覆蓋玻璃中，為了行動裝置等最終製品之輕量化或確保電池等之裝置容量，較理想為玻璃之板厚儘可能地薄，但若過薄，則因玻璃彎曲而產生之應力變大。又，若板厚過厚，則導致裝置重量增 加或顯示裝置之視認性降低。因此，於本發明之顯示裝置中，較佳為上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
於本發明之顯示裝置中，較佳為，上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
一般認為，表面壓縮應力之值越高，則為了保持與壓縮應力層之壓縮應力之累積值之均衡所必需之內部拉伸應力之值變得越高。
若上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A與玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，且滿足上述SA>SB之關係，則即便具有較高之表面壓縮應力之值，亦可使壓縮應力層之壓縮應力之累積值降低。
又，作為用以評估應力圖案之斜率之指標，評估上述比r2/r1及r3/r2，於r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7之情形時，於玻璃表面側，應力急遽減少，越朝向玻璃內部側，應力減少之比率越小。其可近似地表現上述應力圖案之斜率之變化。因此，可滿足SA>SB之關係，可降低壓縮應力層之壓縮應力之累積值。若r2/r1之比及r3/r2之比未達0.3，則有於玻璃表面側，應力急遽過度減少之傾向，產生因使用中可能產生之微裂而導致覆蓋玻璃之強度降低之擔憂。另一方面，若r2/r1之比及r3/r2之比超出0.7，則應力圖案之斜率接近於固定。即， 成為自玻璃表面朝向內部之壓縮應力之減少程度更接近直線之傾向。因此，不易獲得使壓縮應力層之壓縮應力之累積值降低之效果。
於本發明之顯示裝置中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
於本發明之顯示裝置中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
本發明之顯示裝置之製造方法之特徵在於：該顯示裝置具備顯示面板、及安裝於上述顯示面板之前表面之觸控面板，該顯示裝置之製造方法包括如下步驟：準備經化學強化且表面壓縮應力為600~900MPa、壓縮應力層深度為5~20μm之玻璃板；於上述玻璃板之第1表面上之至少第1區域及第2區域分別形成觸控感測器；藉由以分割上述第1區域與上述第2區域且形成相對於上述玻璃板之上述第1表面大致垂直之淨切面之方式切斷上述玻璃板，製作至少兩片於第1表面上形成有上述觸控感測器之覆蓋玻璃；對上述覆蓋玻璃之與上述第1表面為相反側之第2表面之端緣實施倒角加工；及將上述覆蓋玻璃之上述第1表面以與上述顯示面板之前表面對向之方式配置。
於上述方法中，於1片大型玻璃板形成複數個觸控感測器後，分割該玻璃板，因此可高效率地製作複數個觸控面板。又，由於相對於觸控感測器側之面(第1表面)大致垂直地形成淨切面，故而可提高觸控感測器側之端面強度。如此，可高效率地製造本發明之顯示裝置。
於本發明之顯示裝置之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
於本發明之顯示裝置之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以 一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
於本發明之顯示裝置之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
於本發明之顯示裝置之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
本發明之觸控面板之特徵在於具備：覆蓋玻璃，其具有第1表面、及與上述第1表面為相反側之第2表面；及觸控感測器，其形成於上述覆蓋玻璃之上述第1表面上；上述覆蓋玻璃係經化學強化之玻璃，上述覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa，壓縮應力層深度為5~20μm，上述覆蓋玻璃具有相對於上述第1表面大致垂直之淨切面、及形成於上述第2表面之端緣之倒角面。
於本發明之觸控面板中，較佳為，上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
於本發明之觸控面板中，較佳為，上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第 1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
於本發明之觸控面板中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
於本發明之觸控面板中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
本發明之觸控面板具有與構成本發明之顯示裝置之觸控面板相同之構成。因此，由於發揮與本發明之顯示裝置中所說明之效果相同之效果，故而省略其詳細之說明。
本發明之觸控面板之製造方法之特徵在於包含如下步驟：準備經化學強化且表面壓縮應力為600~900MPa、壓縮應力層深度為5~20μm之玻璃板；於上述玻璃板之第1表面上之至少第1區域及第2區域分別形成觸控感測器；藉由以分割上述第1區域與上述第2區域且形成相對於上述玻璃板之上述第1表面大致垂直之淨切面之方式切斷上述玻璃板，製作至少兩片於第1表面上形成有上述觸控感測器之覆蓋玻璃；及對上述覆蓋玻璃之與上述第1表面為相反側之第2表面之端緣實施倒角加工。
於本發明之觸控面板之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
於本發明之觸控面板之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力 圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
於本發明之觸控面板之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
於本發明之觸控面板之製造方法中，較佳為，上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
於本發明之觸控面板之製造方法中，藉由與本發明之顯示裝置之製造方法相同之步驟製造觸控面板。因此，由於發揮與本發明之顯示裝置之製造方法中說明之效果相同之效果，故而省略其詳細之說明。
根據本發明，可製成具備覆蓋玻璃之顯示裝置，該覆蓋玻璃形成有觸控感測器、觸控感測器側之面之端面強度較高且視認側之最外表面之安全性較高。
10‧‧‧顯示裝置
100‧‧‧觸控面板
110‧‧‧覆蓋玻璃
111‧‧‧覆蓋玻璃之第1表面
112‧‧‧覆蓋玻璃之第2表面
113‧‧‧淨切面
114‧‧‧倒角面
120‧‧‧觸控感測器
150‧‧‧觸控面板
160‧‧‧玻璃基板
170‧‧‧透明導電膜
180‧‧‧接觸體
200‧‧‧顯示面板
310‧‧‧玻璃板
310'‧‧‧玻璃板
313‧‧‧淨切面
314‧‧‧初始龜裂
315‧‧‧劃線
320‧‧‧雷射光
330‧‧‧區域
A‧‧‧頂部
I1‧‧‧電流
I2‧‧‧電流
L1‧‧‧干涉條紋
L2‧‧‧干涉條紋
L3‧‧‧干涉條紋
L4‧‧‧干涉條紋
r‧‧‧電阻
r1‧‧‧間隔
r2‧‧‧間隔
r3‧‧‧間隔
圖1係模式性地表示本發明之實施形態之顯示裝置之一例之剖面圖。
圖2係模式性地表示構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之一例之立體圖。
圖3(a)及圖3(b)係模式性地表示構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之倒角面之形狀的放大剖面圖。
圖4係模式性地表示應力圖案之斜率與壓縮應力層之壓縮應力之累積值之關係之曲線圖。
圖5(a)~圖5(c)係模式性地表示干涉條紋之間隔與應力圖案之斜率之關係之曲線圖。
圖6係模式性地表示表面應力計之視野內之干涉條紋之一例之圖。
圖7(a)及圖7(b)係用以說明利用靜電電容方式之觸控面板之位置檢測之原理之一例的圖。
圖8(a)~圖8(f)係模式性地表示本發明之實施形態之顯示裝置之製造方法之一例之剖面圖。
圖9(a)~圖9(e)係用以說明利用雷射刻劃之加工原理之一例之圖。
以下，對本發明之實施形態具體地進行說明。然而，本發明並不限定於以下之實施形態，可於不變更本發明之主旨之範圍內適當變更而應用。
首先，對本發明之實施形態之顯示裝置進行說明。再者，以下說明之顯示裝置之構成要素即具備覆蓋玻璃及形成於上述覆蓋玻璃之第1表面上之觸控感測器之觸控面板亦為本發明之實施形態。
圖1係模式性地表示本發明之實施形態之顯示裝置之一例之剖面圖。
圖1所示之顯示裝置10具備觸控面板100及顯示面板200，觸控面板100具備覆蓋玻璃110及觸控感測器120。
觸控面板100安裝於顯示面板200之前表面(視認側之面)。即，觸控面板100之背面(反視認側之面)係相對於顯示面板200之前表面而對向配置。
覆蓋玻璃110具有反視認側之面即第1表面111及視認側之面即第2表面112，又，具有相對於第1表面111大致垂直之淨切面113及形成於第2表面112之端緣之倒角面114。進而，覆蓋玻璃110之第1表面111與顯示面板200之前表面對向配置。關於覆蓋玻璃110於下文詳細說明。
觸控感測器120形成於覆蓋玻璃110之第1表面111上，觸控感測器120之反視認側之面與顯示面板200之前表面對向配置。
因此，於圖1所示之顯示裝置10中，自視認側依序配置有覆蓋玻璃110、觸控感測器120、顯示面板200。覆蓋玻璃110係配置於視認側之最外側。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃係如被稱為「One Glass Solution」或「覆蓋玻璃一體型」之藉由將覆蓋玻璃用作形成觸控感測器之基板而利用1片覆蓋玻璃發揮覆蓋功能與基板功能者。
圖2係模式性地表示構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之一例之立體圖。
如上所述，覆蓋玻璃110具有第1表面111及與第1表面111為相反側之第2表面112。又，覆蓋玻璃110具有相對於第1表面111大致垂直之淨切面113及形成於第2表面112之端緣之倒角面114。
淨切面113為無碎屑或微裂之面，較佳為鏡面。此種淨切面113可藉由對第2表面112實施機械刻劃而折斷而獲得，又，亦可藉由雷射刻劃自第1表面111或第2表面112側進行切斷而獲得。淨切面113較佳為利用雷射刻劃形成之切斷面，更佳為利用自第1表面111側之雷射刻劃形成之切斷面。
淨切面113相對於第1表面111大致垂直。
再者，於本說明書中，所謂「大致垂直」，不僅包含完全垂直者，亦包含鑒於本發明之效果而實質上可同樣視為垂直者。
於構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃中，只要淨切 面相對於第1面大致垂直，則亦可藉由包含氟酸或緩衝氟酸等之蝕刻液實施蝕刻。
於構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃中，淨切面(端面)之算術平均粗糙度Ra較佳為0.07μm以下，更佳為0.06μm以下，進而較佳為0.05μm以下。又，淨切面(端面)之最大高度粗糙度Rz較佳為0.70μm以下，更佳為0.60μm，進而較佳為0.50μm以下。Ra之下限越小越佳，但並無特別設定，亦可設為0.005μm。Rz之下限越小越佳，但並無特別設定，亦可設為0.010μm。再者，Ra係基於JIS(Japanese Industrial Standards，日本工業標準)B 0601：2001定義之算術平均粗糙度，Rz係基於JIS B 0601：2001定義之最大高度粗糙度。
再者，於本發明之實施形態之顯示裝置中，淨切面只要與覆蓋玻璃之第1表面連續地形成即可，又，較佳為與倒角面連續地形成。又，淨切面較佳為與覆蓋玻璃之所有第1表面連續地形成。
倒角面114可藉由對第2表面112之端緣實施倒角加工而獲得。所謂倒角係指切割角部而形成面，作為其加工方法，自利用機械加工之C倒角及R倒角中選擇1種或組合複數種之方法。進而，較佳為利用如氧化鈰之研磨材等精加工為鏡面狀態。或者，亦可藉由浸漬於包含氟酸或緩衝氟酸等之蝕刻液中而實施倒角加工。又，進而，亦可藉由組合如上所述之機械加工與浸漬於蝕刻液中等而實施倒角加工。
圖3(a)及圖3(b)係模式性地表示構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之倒角面之形狀之放大剖面圖。
圖3(a)表示使角部之形狀為以1個平面截去所得之形狀之倒角，將此種倒角稱為C倒角。圖3(b)表示使角部之形狀為曲面狀之倒角，將此種倒角稱為R倒角。再者，於圖3(a)及圖3(b)中，以兩箭頭x所示之長度於表面側及端面側相同，該長度亦可於表面側及端面側不同。
於本發明之實施形態之顯示裝置中，只要不引起手或手指之劃傷等而可確保安全性，則覆蓋玻璃之倒角面之切取量(倒角範圍)適當決定即可。例如，於倒角面之形狀為C倒角或R倒角之情形時，自頂部A之切取量(圖3(a)及圖3(b)中，以兩箭頭x所示之長度)較佳為覆蓋玻璃之厚度之3~35%。再者，於倒角面之形狀為C倒角或R倒角以外之情形時，自頂部A之切取量亦較佳為覆蓋玻璃之厚度之3~35%。若切取量相對於覆蓋玻璃之厚度小於3%，則無法去除刻劃痕。另一方面，若切取量相對於覆蓋玻璃之厚度大於35%，則切取量相對於覆蓋玻璃之厚度變得過大，外觀上欠佳。
再者，於本發明之實施形態之顯示裝置中，倒角面較佳為形成於覆蓋玻璃之第2表面之所有端緣，但亦可具有於第2表面之端緣未形成倒角面之部分。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃係經化學強化之玻璃(化學強化玻璃)。例如，藉由玻璃表面層中之鈉離子與存在於玻璃外部之鉀離子進行離子交換，於玻璃表面形成有壓縮應力層。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa。若考慮對玻璃之衝擊或對劃痕等之阻抗性，則表面壓縮應力之下限為620MPa，進而亦可為650MPa。表面壓縮應力之值較佳為較高，但若考慮因表面壓縮應力之值變高而導致內部拉伸應力增加之情況，則表面壓縮應力之上限亦可為850MPa，進而亦可為800MPa，又進而亦可為750MPa。
若同時考慮耐刮傷性與切斷加工性，則構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之壓縮應力層深度為5~20μm，較佳為6~15μm，更佳為9~15μm，進而較佳為10~13μm。
於本說明書中，所謂離子交換後之表面壓縮應力及壓縮應力層深度，分別係指使用利用光波導效應之表面應力計並藉由光彈性法而 測定之值。再者，於使用表面應力計之測定中，必須使用與離子交換前之玻璃之玻璃組成對應之折射率及光彈性常數。
於構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃中，為了行動裝置等最終製品之輕量化或確保電池等之裝置容量，較理想為玻璃之板厚儘可能地薄，但若過薄，則因玻璃彎曲而產生之應力變大。又，若板厚過厚，則導致裝置重量增加或顯示裝置之視認性降低。由此，覆蓋玻璃之厚度之上限較佳為3mm，更佳為2mm。又，覆蓋玻璃之厚度之下限較佳為0.3mm，更佳為0.4mm。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃之形狀並無特別限定，但較佳為板狀體。又，於覆蓋玻璃之形狀為板狀體之情形時，可為平板亦可為彎曲板，包含各種形狀。又，於平板狀中，亦可為矩形或圓盤狀，又，亦可實施局部之開孔加工或加工成對角隅部實施R加工等而成之設計形狀。
本發明之實施形態之顯示裝置中之覆蓋玻璃之表面亦可藉由利用藥劑塗佈之表面塗佈、微細加工、或膜貼附等，而為賦予耐指紋性、防眩性功能之狀態。又，亦可對覆蓋玻璃之表面實施與顯示面板之色調一致之印刷，亦可實施局部之開孔加工等。
例如，亦可於覆蓋玻璃設置有具有低反射功能或防眩功能之膜、具有防止指紋附著功能之膜、用以使對比度提高之偏光元件膜。具有該等功能之膜可將具有上述功能之塑膠膜等貼附於覆蓋玻璃而設置，亦可藉由塗佈或蒸鍍等方法而設置。
關於覆蓋玻璃之形狀或尺寸，亦不僅考慮單純之矩形，而且考慮角隅部加工成圓形等之形狀等與顯示面板之設計形狀對應之各種形狀或尺寸。
如上所述，本發明之實施形態之顯示裝置中之覆蓋玻璃為化學強化玻璃，此種化學強化玻璃可於玻璃表面藉由將玻璃中所含最多之 鹼金屬離子A取代為離子半徑大於上述鹼金屬離子A之鹼金屬離子B之離子交換而製作。
例如，於鹼金屬離子A為鈉離子(Na+離子)之情形時，作為鹼金屬離子B，可使用鉀離子(K+離子)、銣離子(Rb+離子)及銫離子(Cs+離子)之至少一者。於鹼金屬離子A為鈉離子之情形時，較佳為使用鉀離子作為鹼金屬離子B。
又，於離子交換時，可使用至少包含鹼金屬離子B之硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、氫氧化物鹽及磷酸鹽中之1種或2種以上。而且，於鹼金屬離子A為鈉離子之情形時，較佳為使用至少包含鉀離子之硝酸鹽。
於構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃中，離子交換前之玻璃只要含有能夠離子交換之鹼金屬離子，則並不特別限定於鹼石灰玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃等，但較佳為鹼石灰玻璃，更佳為實質上以質量%計包含SiO2：65~75%、Na2O+K2O：5~20%、CaO：2~15%、MgO：0~10%、Al2O3：0~5%。
作為可用作覆蓋玻璃之化學強化玻璃，例如於專利文獻1及專利文獻2中揭示有所謂鋁矽酸鹽玻璃。於藉由下述雷射刻劃切斷經化學強化之鋁矽酸鹽玻璃之情形時，即便欲導入用以進行雷射刻劃之初始龜裂，亦因維氏硬度較高而難以形成初始龜裂。若難以形成初始龜裂，則亦難以藉由雷射使龜裂進展，因此此種玻璃之刻劃並不容易。另一方面，於鹼石灰玻璃中，可利用較鋁矽酸鹽玻璃等低之雷射功率進行雷射刻劃。
於本說明書中，所謂「Na2O+K2O：5~20%」係指玻璃中之Na2O及K2O之總和之含量為5~20質量%。
SiO2為玻璃之主成分，若未達65%，則強度降低，而且使玻璃之化學耐久性劣化。另一方面，若超過75%，則玻璃融液之高溫黏度變 高，難以使玻璃成形。因此，其範圍較佳為65~75%，更佳為68~73%。
Na2O於化學強化處理上不可或缺，為必需成分。若未達5%，則離子交換不充分，化學強化處理後之強度幾乎未提高，另一方面，若超過20%，則使玻璃之化學耐久性劣化，耐候性變差。因此，其範圍較佳為5~20%，更佳為5~18%，進而較佳為7~16%。另一方面，K2O並非為必需成分，與Na2O一併作為玻璃熔解時之熔劑發揮作用，少許之添加具有作為促進離子交換之輔助成分之作用，但若過大地添加，則因與Na2O之混合鹼效應而抑制鈉離子之移動，使離子交換變難。若超過5%，則利用離子交換之強度提高變難，因此較理想為以5%以下之範圍導入。作為Na2O+K2O之範圍，較佳為5~20%，更佳為7~18%，進而較佳為10~17%。
CaO改善玻璃之化學耐久性。又，具有降低玻璃熔解時之熔融玻璃之黏度之作用，為了使量產性提高，較理想為含有2%以上。另一方面，若超過15%，則抑制鈉離子之移動。因此，其範圍較佳為2~15%，更佳為4~13%，進而較佳為5~11%。
MgO並非為必需成分，但與CaO相比，抑制鈉離子之移動之效果較少，較理想為以MgO取代CaO。另一方面，與CaO相比，降低玻璃熔融時之熔融玻璃之黏度之作用亦較小，若超過10%，則玻璃黏性變高，使量產性劣化。因此，其範圍較佳為0~10%，更佳為0~8%，進而較佳為1~6%。
Al2O3並非為必需成分，但為提高強度且提高離子交換效率之成分。以質量%計，若超過5%，則玻璃融液之高溫黏度變高，而且失透傾向增大，因此難以使玻璃成形。又，離子交換效率變得過大，壓縮應力層深度變深，因此化學強化後之切斷性劣化。因此，其範圍較佳為0~5%，更佳為1~4%，進而較佳為1~3%(設為不包含3)。
離子交換前之玻璃為鹼石灰玻璃，較佳為實質上包含上述成分，亦可於其中含有總量1%以內之Fe2O3、TiO2、CeO2、SO3等微量成分。
離子交換前之玻璃之應變點較佳為450~550℃，更佳為480~530℃。若玻璃之應變點未達450℃，則化學強化時之耐熱性不充分，另一方面，若超過550℃，則玻璃熔融溫度變得過高，玻璃板之生產效率劣化，導致成本增加。
離子交換前之玻璃係藉由浮式法、滾壓法及下拉法等一般之玻璃成形方法而成形，該等中，較佳為藉由浮式法成形。
又，離子交換前之玻璃之表面亦可為藉由上述成形方法而成形之狀態，亦可藉由使用氟酸蝕刻等使表面粗糙，而為被賦予防眩性等功能性之狀態。
於構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃中，化學強化後之玻璃之維氏硬度較佳為5.0~6.0GPa，更佳為5.2~6.0GPa，進而較佳為5.2~5.8GPa。若維氏硬度未達5.0GPa，則刮傷性較差，因此無法耐受市場上之使用，另一方面，若超過6.0GPa，則切斷性劣化。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃，較佳為於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A與玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者 滿足0.3~0.7。
於上述情形時，更佳為至少r2/r1滿足0.3~0.7，又，進而較佳為r2/r1及r3/r2之兩者滿足0.3~0.7。
再者，亦可假定r3/r2滿足0.3~0.7，r2/r1不滿足0.3~0.7之情形，於此情形時，最表面之壓縮應力因生產時之緩冷等之影響而有稍緩和傾向，因此於如上所述之情形時，若r3/r2滿足0.3~0.7，則有內部拉伸應力降低之傾向。
圖4係模式性地表示應力圖案之斜率與壓縮應力層之壓縮應力之累積值之關係之曲線圖。
於圖4中，以實線表示將較佳之覆蓋玻璃(化學強化玻璃)之應力圖案以一次函數近似之曲線圖。
於圖4中，於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A與玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，將應力圖案A之斜率設為SA、將應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係。
另一方面，於圖4中，以虛線表示應力圖案之斜率固定之曲線圖、即僅具有1種應力圖案之曲線圖。
自圖4可知，於表面壓縮應力之值σ及壓縮應力層之深度d相同之情形時，於以實線表示之化學強化玻璃中，亦可使壓縮應力層之壓縮應力之累積值降低。
於化學強化玻璃中，壓縮應力層之壓縮應力之累積值與拉伸應力層之內部拉伸應力之累積值相互保持均衡。
因此推測，於較佳之覆蓋玻璃中，雖然具有較高之表面壓縮應力之值，但具有較低之內部拉伸應力。
再者，於本說明書中，所謂「應力圖案之斜率」係指壓縮應力相對於距玻璃表面之深度之斜率之絕對值。
因此，具有較大斜率之應力圖案陡峭，具有較小斜率之應力圖 案平緩。
再者，壓縮應力層之壓縮應力自玻璃表面朝向玻璃內部減少，因此於應力圖案A及應力圖案B中，斜率之正負一致。
又，於求出應力圖案之斜率時，無關於產生之應力圖案之形狀，將自玻璃表面側以一次函數近似之應力圖案設為A，將自玻璃內部側以一次函數近似之應力圖案設為B，求出各者之斜率即可。
以下，對干涉條紋之間隔與應力圖案之斜率之關係進行說明。
圖5(a)~圖5(c)係模式性地表示干涉條紋之間隔與應力圖案之斜率之關係之曲線圖。
如圖5(a)~圖5(c)所示，已知干涉條紋之間隔係與應力圖案之斜率對應。
即，意指如圖5(a)所示，於干涉條紋之間隔較寬之情形時，應力圖案之斜率較大，另一方面，如圖5(b)所示，於干涉條紋之間隔較窄之情形時，應力圖案之斜率較小。又，圖5(c)係組合圖5(a)及圖5(b)之應力圖案。於將應力圖案以具有不同斜率之2個一次函數近似之情形時，可確認干涉條紋之間隔變化之情況與應力圖案之斜率之變化之情況之對應。如此，藉由觀察干涉條紋之間隔，可獲得關於應力圖案之斜率之資訊。
此處，r2/r1接近於1係指自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔r2和自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔r1為相同程度，係指r2/r1越小於1，間隔r2越小於間隔r1。r3/r2亦同樣。
再者，離子交換基本上係依據Fick之擴散法則，擴散法則本身並非一次函數，因此嚴格而言，應力圖案並非直線。關於干涉條紋之間隔與應力圖案之關係，更嚴格而言，若使用由r2/r1及r3/r2之至少一者建立關係之干涉條紋寬度之數列，則較使用直線之情形，作為近似之 精度變高，且作為生產管理亦簡便。
根據以上，於r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7之情形時，於玻璃表面側，應力急遽減少，越朝向玻璃內部側，應力減少之比率越小。其可近似地表現如圖4所示之應力圖案之斜率之變化。因此，可滿足SA>SB之關係。
以下，對使用表面應力計觀察化學強化玻璃板之干涉條紋之方法進行說明。
圖6係模式性地表示表面應力計之視野內之干涉條紋之一例之圖。
圖6之下側表示玻璃表面側，圖6之上側表示玻璃內部側。
如圖6所示，計測自玻璃表面起第1條干涉條紋L1與第2條干涉條紋L2之間隔r1、自玻璃表面起第2條干涉條紋L2與第3條干涉條紋L3之間隔r2、及自玻璃表面起第3條干涉條紋L3與第4條干涉條紋L4之間隔r3。根據所計測之間隔r1、間隔r2及間隔r3算出r2/r1之值及r3/r2之值。
藉由上述方法算出之r2/r1或r3/r2之值較佳為0.3~0.7。r2/r1或r3/r2之下限值較佳為0.35，更佳為0.4。r2/r1或r3/r2之上限值較佳為0.65，更佳為0.63。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之觸控感測器例如於靜電電容方式之檢測方式之情形時，具有透明電極之多層配線構造。於日本專利特開2008-80743號公報等中介紹有靜電電容方式之檢測方式。
圖7(a)及圖7(b)係用以說明利用靜電電容方式之觸控面板之位置檢測之原理之一例的圖。但，於圖7(a)及圖7(b)中，為了使說明簡單，表示有檢測一維位置之情形。於使用靜電電容方式之情形時，使用於玻璃基板160上成膜有ITO(Indium Tin Oxide：添加有錫或氧化錫之氧化銦)等透明導電膜170之觸控面板150。
如圖7(a)所示，於觸控面板150之兩端，經由電流檢測用電阻r自 電流源施加同位相之交流電壓。於筆或手指等接觸體未接觸且未接近之情形時，於觸控面板150不流動電流。如圖7(b)所示，若作為導體之接觸體180接觸或接近觸控面板150，則於接觸體180與觸控面板150之間形成電容器，於接觸體180流動微弱之電流。由此，自電流源流動電流I1、I2。若接觸體180之接觸位置不同，則電流I1、I2之值不同，因此藉由檢測電流I1、I2之值，可檢測接觸體180接觸或接近之位置。實際上，觸控面板一般係檢測接觸體接觸或接近之二維位置，因此自觸控面板之4個部位施加交流電壓。
再者，作為檢測方式，除靜電電容方式以外，亦可為電阻檢測方式、光學方式、超音波方式等。
構成本發明之實施形態之顯示裝置之觸控面板較佳為藉由對大於覆蓋玻璃之玻璃板實施化學強化處理，於形成觸控感測器後分割該玻璃板而製作。於此情形時，可高效率地製作複數個觸控面板。但，亦可藉由於先切斷玻璃板並加工成彎曲板狀等設計形狀之後，實施化學強化處理，形成觸控感測器，而製作觸控面板。
作為構成本發明之實施形態之顯示裝置之顯示面板，通常使用液晶顯示面板，但亦可視情形而使用有機EL顯示、電漿顯示面板等其他顯示面板。
本發明之實施形態之顯示裝置較佳為具有用以使覆蓋玻璃與顯示面板等一體化之構件。為了遮蓋設置於該構件或顯示裝置之周緣側之配線，較佳為於覆蓋玻璃之周緣設置有具有足夠遮蓋之寬度之遮蔽層、較佳為吸光度為3以上、更佳為4以上之遮蔽層。
該遮蔽層可藉由塗佈包含熱硬化性合成樹脂、顏料及染料之調和物並進行乾燥、加熱等而形成。上述熱硬化合成樹脂，可使用環氧樹脂、丙烯酸矽樹脂、醇酸樹脂、聚醯胺樹脂、氟樹脂等。
作為上述顏料，可使用混合有選自由氧化鐵、氧化銅、氧化 鉻、氧化鈷、氧化錳、氧化鋁、氧化鋅、鉻酸鉛、硫酸鉛、鉬酸鉛等所組成之群中之1種或2種以上之材料者。
作為上述染料，可使用二系、酞菁系、蒽醌系有機物等。
作為用於為了進行塗佈而將該混合物製成糊狀之介質，可使用二乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單丁醚等溶劑。又，作為硬化反應促進劑，亦可混合改性脂肪族聚胺樹脂、正丁醇等。
上述遮蔽層之厚度較佳為35μm以下，更佳為30μm以下。若遮蔽層之厚度大於35μm，則遮蔽層表面與玻璃基板表面之邊界部之階差變大，於設置有如上所述之膜之情形時，容易於該階差部分殘留氣泡。
以下，對本發明之實施形態之顯示裝置之製造方法進行說明。再者，以下說明之顯示裝置之製造方法之一部分即觸控面板之製造方法亦為本發明之實施形態。
圖8(a)~圖8(f)係模式性地表示本發明之實施形態之顯示裝置之製造方法之一例之剖面圖。
於圖8(a)所示之步驟中，準備玻璃板310。
準備之玻璃板係經化學強化之玻璃板，其表面壓縮應力為600~900MPa，壓縮應力層深度為5~20μm。
於製作上述玻璃板之情形時，其方法並無特別限定，較佳為包含如下步驟之方法(以下稱為第1化學強化方法)：第1步驟，其係使玻璃板接觸包含鹼金屬離子A及鹼金屬離子B且具有鹼金屬離子A之莫耳量相對於鹼金屬離子A之莫耳量及鹼金屬離子B之莫耳量之合計之比率P(mol%)的第1鹽；及第2步驟，其係於上述第1步驟之後，使玻璃板接觸具有小於上述比率P之比率Q(mol%)之第2鹽。
又，作為製作上述玻璃板之方法，亦較佳為包含如下步驟之方法(以下稱為第2化學強化方法)：第1步驟，其係使玻璃板接觸包含鹼 金屬離子A之第1鹽之步驟，且上述第1鹽具有鹼金屬離子A之莫耳量相對於鹼金屬離子之莫耳量之合計之比率X(mol%)=90~100mol%；第2步驟，其係於上述第1步驟後使玻璃板接觸包含鹼金屬離子B之第2鹽之步驟，且上述第2鹽具有鹼金屬離子A之莫耳量相對於鹼金屬離子之莫耳量之合計之比率Y(mol%)=0~10mol%；及第3步驟，其係於上述第2步驟後，使玻璃板接觸包含鹼金屬離子B之第3鹽之步驟，且上述第3鹽具有鹼金屬離子B之莫耳量相對於鹼金屬離子之莫耳量之合計之比率Z(mol%)=98~100mol%。
關於化學強化(離子交換)前之玻璃板及化學強化(離子交換)後之玻璃板，具有與上述構成本發明之實施形態之顯示裝置之覆蓋玻璃中說明之玻璃共通之構造及特性，因此省略其詳細之說明。
首先，對第1化學強化方法進行說明。
於第1化學強化方法中，藉由設為如上所述之第1鹽之構成，於第1步驟中，玻璃表面層被改質為一併包含鹼金屬離子A及鹼金屬離子B(較佳為鈉離子及鉀離子)之狀態。其結果為，具有阻礙於第2步驟中產生之壓縮應力之緩和現象之效果。即，藉由該第2步驟中之離子交換產生之表面壓縮應力因進行第1步驟而僅略微地緩和而殘留。因此，可獲得較大之表面壓縮應力。
於第1步驟及第2步驟中，所謂「使玻璃板接觸鹽」係指使玻璃板接觸或浸漬於鹽浴中。如此，於本說明書中，所謂「接觸」，亦包含「浸漬」之概念。於第2化學強化方法中亦同樣。
又，作為鹽之接觸形態，可為如使糊狀鹽直接接觸之形態、如以水溶液之形式噴射之形態、如浸漬於加熱至熔點以上之熔融鹽中之形態等，但該等中，較理想為浸漬於熔融鹽中。
鹼金屬離子A及鹼金屬離子B之具體例如上所述，較佳為分別為鈉離子及鉀離子。
又，作為鹽之種類，可使用硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、氫氧化物鹽及磷酸鹽中之1種或2種以上之混合物。
作為包含鹼金屬離子A之鹽，較佳為使用硝酸鈉熔融鹽，作為包含鹼金屬離子B之鹽，較佳為使用硝酸鉀熔融鹽。因此，作為包含鹼金屬離子A及鹼金屬離子B之鹽，較佳為使用包含硝酸鈉及硝酸鉀之混合熔融鹽。
於第1步驟後形成之壓縮應力層深度較佳為設為5~23μm。又，更佳為7~20μm，進而較佳為10~18μm。較佳為，以成為上述壓縮應力層之深度之方式，於第1步驟中，根據比率P調整第1鹽之溫度及接觸第1鹽之時間。
又，較佳為，於第2步驟中，以於第2步驟後形成之壓縮應力層之深度成為5~20μm之方式，根據比率Q調整第2鹽之溫度及接觸第2鹽之時間。
此處，若第1鹽之比率P過大，則亦有玻璃板之表面層之組成不易改質，容易於玻璃板之表面產生白濁之傾向，阻礙玻璃強度之可靠性提高。另一方面，若第1鹽之比率P過小，則於第1步驟中，有玻璃板之表面層之組成過度改質之傾向，玻璃中之鹼金屬離子A之大部分與鹼金屬離子B進行離子交換。因此，於第2步驟中無法推進離子交換，無法獲得所期望之表面壓縮應力及斷裂機率為1%之強度。又，若比率P過小，則有於第1步驟後壓縮應力層變深之傾向，對玻璃之切斷性造成影響。由此，比率P較佳為5~50mol%。比率P之下限更佳為15mol%，進而較佳為20mol%。比率P之上限更佳為40mol%，進而較佳為35mol%。
又，若第2鹽之比率Q過大，則於第2步驟中，於玻璃板之表面層未導入充分量之鹼金屬離子B，又，有鹼金屬離子B之重新擴散之驅動力亦變弱之傾向，難以獲得所期望之表面壓縮應力。因此，比率Q 較佳為0~10mol%。比率Q之下限更佳為2mol%，進而較佳為1mol%。如此，第2鹽亦可實質上不包含鹼金屬離子A(例如鈉離子)，而僅包含鹼金屬離子B(例如鉀離子)作為陽離子。
再者，雖然將第1鹽及第2鹽之構成限定為鹼金屬離子A及鹼金屬離子B而進行說明，但只要無損本發明之目的，則並不妨礙存在不與鹽產生反應之穩定之金屬氧化物、雜質或其他鹽類。例如，亦可於第1鹽或第2鹽中含有銀離子或銅離子。
又，若第1步驟中之處理溫度(第1鹽之溫度)過高，則玻璃板之表面白濁之可能性變高，無法使玻璃強度之可靠性提高，而且壓縮應力層亦變深，因此對玻璃切斷性造成影響。又，存在亦推進第1步驟中產生之壓縮應力之緩和之傾向。另一方面，若第1鹽之溫度過低，則無法促進第1步驟中之離子交換，無法獲得所期望之壓縮應力層深度。因此，第1鹽之溫度較佳為400~530℃。第1鹽之溫度之下限更佳為410℃，進而較佳為430℃。第1鹽之溫度之上限更佳為515℃，進而較佳為500℃，特佳為485℃。
又，若第2步驟中之處理溫度(第2鹽之溫度)過高，則於第2步驟中，不僅導致第1步驟中產生之壓縮應力之緩和，而且壓縮應力層亦變深，因此對玻璃切斷性造成影響。另一方面，若第2鹽之溫度過低，則無法促進第2步驟中之離子交換，於第2步驟中無法產生較高之表面壓縮應力，而且亦不易產生鹼金屬離子B之重新擴散，因此無法獲得所期望之壓縮應力層深度。因此，第2鹽之溫度較佳為第1鹽之溫度以下，更佳為較第1鹽之溫度低溫。又，第2鹽之溫度較佳為380~500℃。第2鹽之溫度之下限更佳為390℃，進而較佳為400℃，特佳為410℃。第2鹽之溫度之上限更佳為490℃，進而較佳為480℃，特佳為460℃。
又，於第1步驟中使玻璃板接觸第1鹽之時間及於第2步驟中使玻 璃板接觸第2鹽之時間之合計較佳為1~12小時，更佳為2~6小時。
具體而言，若使玻璃板接觸第1鹽之時間過長，則容易緩和於第1步驟中產生之壓縮應力。進而，有壓縮應力層之深度變深之傾向。其影響玻璃之切斷性。另一方面，若使玻璃板接觸第1鹽之時間過短，則有如下傾向：於第1步驟中無法充分獲得玻璃表面層之改質效果，於第2步驟中容易產生應力緩和。
由此，於第1步驟中使玻璃板接觸第1鹽之時間較佳為0.5~8小時，更佳為1~6小時，進而較佳為1~4小時。
於第2步驟中，較理想為儘可能阻礙由離子交換處理產生之應力之緩和，使玻璃板接觸鹽之時間越長，則越會推進應力緩和。又，有第2步驟後之壓縮應力層之深度變深之傾向，其亦影響玻璃之切斷性。另一方面，若使玻璃板接觸第2鹽之時間過短，則無法充分推進鹼金屬離子A與鹼金屬離子B之離子交換，難以產生所期望之壓縮應力。
由此，於第2步驟中，使玻璃板接觸第2鹽之時間較佳為0.5~8小時，更佳為0.5~6小時，進而較佳為0.5~3小時。
再者，關於第1步驟之處理溫度及接觸時間、以及第2步驟之處理溫度及接觸時間如上所述，其等與第1步驟及第2步驟中之離子交換量(定義為以化學強化前後之玻璃板之質量差之絕對值除以玻璃板之表面積所得之量)存在關係。即，若第1步驟及第2步驟中之各者之離子交換量為相同程度，則並不限定於此處記載之處理溫度範圍、接觸時間範圍，亦可自由變更。
其次，對第2化學強化方法進行說明。
於第2化學強化方法中，藉由第1步驟，可使玻璃板之表面層之鹼金屬離子A之比率增加，可使經過其後之第2步驟及第3步驟獲得之最終之化學強化玻璃之表面壓縮應力提高。於第2步驟中，藉由自玻 璃板流出之鹼金屬離子A，第2鹽浴得以稀釋，將第2鹽浴之鹼金屬離子A之比率(比率Y)設為0~10mol%之範圍。確實，若第2鹽浴之鹼金屬離子A之比率變高、即鹼金屬離子B之比率變低，則第2步驟後之表面壓縮應力之值降低。然而，若比率Y為0~10mol%之範圍，則藉由使用包含較多鹼金屬離子B之第3鹽浴進行第3步驟，可製造最終具有較高之表面壓縮應力之化學強化玻璃。進而，於第2步驟中，離子交換之大半完成，因此於第3步驟中，鹼金屬離子A不易自玻璃流出。因此，可防止第3步驟中使用之第3鹽浴之稀釋。因此，可以較高值維持第3鹽浴之鹼金屬離子B之比率(比率Z)。
如此，於第2化學強化方法中，即便不頻繁更換離子交換中使用之鹽浴，亦可繼續製造具有較高之表面壓縮應力之化學強化玻璃。因此，藉由進行所有第1步驟~第3步驟，可繼續製造具有較高之表面壓縮應力之值之化學強化玻璃。
鹼金屬離子A及鹼金屬離子B之具體例如上所述，較佳為分別為鈉離子及鉀離子。
又，作為鹽之種類，可使用硝酸鹽、硫酸鹽、碳酸鹽、氫氧化物鹽及磷酸鹽中之1種或2種以上之混合物。該等中，較佳為硝酸鹽。
於第1鹽中，鹼金屬離子A之莫耳量相對於鹼金屬離子之莫耳量之合計之比率X(mol%)為90~100mol%，較佳為95~100mol%，更佳為98~100mol%。較佳為，第1鹽之比率X為100mol%，即，第1鹽實質上不包含其它鹼金屬離子，而僅包含鹼金屬離子A(例如鈉離子)作為陽離子。
若第1鹽之比率X過小，則不易獲得使玻璃板之表面層之鹼金屬離子A之比率增加之效果，即便進行第2步驟及第3步驟，亦無法製造具有所期望之表面壓縮應力之化學強化玻璃。
第1步驟中之鹽之溫度(第1鹽之溫度)較佳為375~520℃。第1鹽 之溫度之下限更佳為385℃，進而較佳為400℃。第1鹽之溫度之上限更佳為510℃，進而較佳為500℃。
若第1鹽之溫度過高，則玻璃表面白濁之可能性變高。另一方面，若第1鹽之溫度過低，則無法充分獲得第1步驟中之玻璃表面改質之效果。
於第1步驟中使玻璃板接觸第1鹽之時間較佳為0.5~10小時，更佳為1~7小時。若使玻璃板接觸第1鹽之時間過長，則為製造化學強化玻璃所必需之時間變得過長。另一方面，若使玻璃板接觸第1鹽之時間過短，則無法充分獲得第1步驟中之玻璃表面層之改質效果。
於第2步驟中，使用硝酸鹽與氫氧化物鹽之混合物之情形時，可較僅使用硝酸鹽之情形提高藉由第2步驟產生之壓縮應力。但，若僅為第2步驟，則於大氣中保管之情形時，容易於玻璃板之表面產生白濁。然而，藉由於第2步驟後進行下述第3步驟，可防止白濁之產生且獲得較高之表面應力。混合於硝酸鹽中之氫氧化物鹽相對於硝酸鹽100mol%，較佳為0~1500ppm，更佳為0~1000ppm。
於第2鹽中，鹼金屬離子A之莫耳量相對於鹼金屬離子之莫耳量之合計之比率Y(mol%)為0~10mol%，較佳為0~5mol%，更佳為0~1mol%。第2鹽之比率Y較佳為0mol%，更佳為第2鹽實質上不包含鹼金屬離子A，而僅包含鹼金屬離子B(例如鉀離子)作為陽離子。
若第2鹽之比率Y大於10mol%，則於第2步驟中，於玻璃表面層未導入充分量之鹼金屬離子B，即便進行其後之第3步驟，亦無法製造具有所期望之表面壓縮應力之化學強化玻璃。
再者，第2鹽較佳為僅包含鹼金屬離子B之未使用之鹽，亦可為藉由鹼金屬離子A稀釋之已使用之鹽。
於第2步驟中，較佳為，以於第2步驟後形成之壓縮應力層之深度成為3~25μm(更佳為5~20μm，進而較佳為5~18μm)之方式，根 據第2鹽之比率Y調整處理溫度(第2鹽之溫度)。
若第2步驟中之處理溫度(第2鹽之溫度)過高，則玻璃表面白濁之可能性變高，進而又，壓縮應力層亦變深，因此對玻璃切斷性造成影響。另一方面，若第2鹽之溫度過低，則無法促進第2步驟中之離子交換，無法獲得所期望之壓縮應力層之深度。
因此，第2鹽之溫度較佳為380~500℃。第2鹽之溫度之下限更佳為390℃，進而較佳為400℃。第2鹽之溫度之上限更佳為490℃，進而較佳為480℃。
於第2步驟中使玻璃板接觸第2鹽之時間較佳為1~6小時，更佳為1~4小時。若使玻璃板接觸第2鹽之時間過長，則容易緩和於第2步驟中產生之壓縮應力。進而，有壓縮應力層之深度變深之傾向。其影響玻璃之切斷性。另一方面，若使玻璃板接觸第2鹽之時間過短，則無法促進第2步驟中之離子交換，無法獲得所期望之壓縮應力層之深度。
於第3鹽中，鹼金屬離子B之莫耳量相對於鹼金屬離子之莫耳量之合計之比率Z(mol%)為98~100mol%，較佳為99~100mol%，更佳為99.3~100mol%。較佳為，第3鹽之比率Z為100mol%，即，第3鹽實質上不包含其他鹼金屬離子，而僅包含鹼金屬離子B(例如鉀離子)作為陽離子。
若第3鹽之比率Z過小，則於第3步驟中無法於玻璃表面層導入充分量之鹼金屬離子B，無法製造具有所期望之表面壓縮應力之化學強化玻璃。
再者，第3鹽較佳為僅包含鹼金屬離子B之未使用之鹽，亦可為藉由鹼金屬離子A等稀釋之已使用之鹽。
於第3步驟中，較佳為，以於第3步驟後形成之壓縮應力層之深度成為5~25μm(更佳為7~20μm，進而較佳為8~18μm)之方式，根 據第3鹽之比率Z調整處理溫度(第3鹽之溫度)。
若第3步驟中之處理溫度(第3鹽之溫度)過高，則於第3步驟中，不僅導致第2步驟中產生之壓縮應力之緩和，而且壓縮應力層亦變深，因此對玻璃切斷性造成影響。另一方面，若第3鹽之溫度過低，則無法促進第3步驟中之離子交換，於第3步驟中無法產生較高之表面壓縮應力，而且無法獲得所期望之壓縮應力層之深度。
因此，第3鹽之溫度較佳為380~500℃。第3鹽之溫度之下限更佳為390℃，進而較佳為400℃。第3鹽之溫度之上限更佳為480℃，進而較佳為470℃。
於第3步驟中使玻璃板接觸第3鹽之時間較佳為0.5~4小時，更佳為0.5~3小時。於第3步驟中，較理想為儘可能地阻礙藉由離子交換處理產生之應力之緩和，使玻璃板接觸鹽之時間越長，則越推進應力緩和。又，有第3步驟後之壓縮應力層之深度變深之傾向，其亦影響玻璃之切斷性。另一方面，若使玻璃板接觸第3鹽之時間過短，則無法充分推進鹼金屬離子A與鹼金屬離子B之離子交換，難以產生所期望之壓縮應力。
再者，關於第1步驟之處理溫度及接觸時間、第2步驟之處理溫度及接觸時間、以及第3步驟之處理溫度及接觸時間如上所述，其等與離子交換量(定義為以化學強化前後之玻璃板之質量差之絕對值除以玻璃板之表面積所得之量)存在關係。即，若各步驟中之各者之離子交換量為相同程度，則並不限定於此處記載之處理溫度範圍、接觸時間範圍，亦可自由變更。
又，雖然將第1鹽、第2鹽及第3鹽之構成限定為鹼金屬離子A及鹼金屬離子B而進行說明，但只要無損本發明之目的，則並不妨礙存在不與鹽產生反應之穩定之金屬氧化物、雜質或其他鹽類。例如，亦可於第1鹽、第2鹽或第3鹽中含有銀離子或銅離子。
於圖8(b)所示之步驟中，於準備之玻璃板310之第1表面311上形成複數個觸控感測器120。
於本發明之實施形態中，將玻璃板之第1表面分割成複數個區域，於各個區域形成觸控感測器。而且，如下所述，藉由針對各個區域之每一個切斷玻璃板，可製作複數個觸控面板(形成有觸控感測器之覆蓋玻璃)。於圖8(b)中，例示有於2個區域形成觸控感測器120之例，當然，可根據最初準備之玻璃板之大小或製作之觸控面板之大小而適當變更形成觸控感測器之數量。
作為形成觸控感測器之方法，並無特別限定，可使用日本專利特開2012-88946號公報等中介紹之公知之方法。例如，於日本專利特開2012-88946號公報中揭示有於靜電電容方式之檢測方式之情形時，以具有透明電極之多層配線構造之方式，藉由光微影法形成包含特定之電極配線之構造之方法。
於圖8(c)及圖8(d)所示之步驟中，以分別分割形成有觸控感測器120之區域且形成相對於玻璃板310之第1表面311大致垂直之淨切面之方式，將形成有觸控感測器120之玻璃板310切斷。
具體而言，如圖8(c)所示，藉由雷射刻劃於形成有觸控感測器120之玻璃板310之第1表面311上形成劃線315。於圖8(c)中，以分成形成有觸控感測器120之2個區域之方式形成有劃線315，只要根據製作之觸控面板之數量形成劃線即可。再者，關於雷射刻劃於下文詳細地說明。
繼而，藉由沿劃線315分割玻璃板310，如圖8(d)所示，製成2片玻璃板310'。作為分割玻璃板之方法，如下所述，可為機械分割之方法，亦可為藉由重疊於劃線照射雷射光而進行分割之方法。
其後，如圖8(e)所示，藉由對覆蓋玻璃110之第2表面112之端緣實施倒角加工，可製作於覆蓋玻璃110之第1表面111上形成有觸控感 測器120之觸控面板100。
構成觸控面板100之覆蓋玻璃110具有相對於第1表面111大致垂直之淨切面113及形成於第2表面112之端緣之倒角面114。
倒角加工之方法如上所說明般，因此省略其詳細之說明。
於圖8(f)所示之步驟中，將覆蓋玻璃110之第1表面111以與顯示面板200之前表面對向之方式配置。藉此，完成具備顯示面板200及安裝於顯示面板200之前表面之觸控面板100之顯示裝置10。
於圖8(a)~圖8(f)所示之方法中，形成觸控感測器120之玻璃板310之面與形成劃線315之玻璃板310之面均為第1表面311。藉此，於使用輥等搬送機構搬送玻璃板310時，可防止因與輥等之接觸而導致觸控感測器120損傷。
於本發明之實施形態中，只要分割第1區域及第2區域且形成相對於玻璃板之第1表面大致垂直之淨切面，則切斷玻璃板之方法並無特別限定。作為切斷玻璃板之方法，較佳為如圖8(c)及圖8(d)所示般藉由雷射刻劃自玻璃板之第1表面側進行切斷，但亦可藉由雷射刻劃自玻璃板之第2表面側進行切斷，亦可藉由機械刻劃自玻璃板之第2表面側進行切斷。
以下，對雷射刻劃進行說明。
於雷射刻劃中，來自二氧化碳雷射(CO2雷射)等之雷射光由玻璃表面層吸收，吸收雷射光之部位發熱，於該部位局部地產生壓縮應力。若於產生該壓縮應力之狀態下，使用冷卻水等對該部位進行冷卻，則反而產生拉伸應力，於玻璃表面層產生龜裂，藉由二維地、較佳為直線地產生該龜裂而形成劃線。
再者，除CO2雷射以外，亦可使用CO雷射、YAG(Yatrium Alumium Garnet，釔鋁石榴石)雷射等。
圖9(a)~圖9(e)係用以說明利用雷射刻劃之加工原理之一例之 圖。
首先，如圖9(a)所示，使用金剛石切割器等，於玻璃板310之端面產生用以開始刻劃之初始龜裂314。
其次，如圖9(b)所示，自玻璃板310之端面沿分斷預定線照射雷射光320，加熱玻璃板310之表面。
繼而，如圖9(c)所示，於加熱後立即利用噴水器等對雷射光之後端附近之區域330進行急冷。
於是，如圖9(d)所示，自設置於玻璃板310之端面之初始龜裂314，於玻璃板310之表面層，龜裂進展。其結果為，於玻璃板310之表面形成劃線315。
其後，藉由沿劃線315分割玻璃板，如圖9(e)所示，可製作切斷面成為淨切面313之玻璃板310'。
作為分割玻璃板之方法，並無特別限定，可為機械分割之方法，亦可為藉由重疊於劃線照射雷射光而進行分割之方法。
實施例
以下，例示更具體地揭示本發明之實施形態之實施例。再者，本發明並不僅限定於該等實施例。
於以下之實施例中，製作構成顯示裝置及觸控面板之覆蓋玻璃，評估其特性。
(實施例1)
作為化學強化(離子交換)前之玻璃板，準備包含鹼石灰玻璃(以質量%計，SiO2：71.3%、Na2O：13.0%、K2O：0.85%、CaO：9.0%、MgO：3.6%、Al2O3：2.0%、Fe2O3：0.15%、SO3：0.1%)，且厚度為0.7mm、短邊400mm×長邊500mm之玻璃板。
對準備之玻璃板進行於保持為475℃之包含硝酸鉀75mol%及硝酸鈉25mol%之混合熔融鹽(第1鹽，比率P：25mol%)浴中浸漬2小時 之第1步驟之後，進行於保持為435℃之實質上包含硝酸鉀100mol%之熔融鹽(第2鹽，比率Q：0mol%)浴中浸漬1小時之第2步驟，藉此實施化學強化處理。
關於化學強化後之玻璃板，使用表面應力計(東芝硝子製造(現在為折原製作所製造)，FSM-60V)，觀察干涉條紋之條數及其間隔，分別測定表面壓縮應力及形成於玻璃板之表面之壓縮應力層深度。再者，於利用表面應力計之測定中，使用1.52作為上述鹼石灰玻璃之玻璃組成之折射率，使用26.8((nm/cm)/MPa)作為該光彈性常數。再者，使用鈉燈作為光源。
其結果為，表面壓縮應力為675MPa，壓縮應力層深度為12μm。
同時，計測自玻璃表面起第1條干涉條紋L1與第2條干涉條紋L2之間隔r1、自玻璃表面起第2條干涉條紋L2與第3條干涉條紋L3之間隔r2、及自玻璃表面起第3條干涉條紋L3與第4條干涉條紋L4之間隔r3。
繼而，根據所計測之間隔r1、間隔r2及間隔r3算出r2/r1之值及r3/r2之值，結果r2/r1=0.61、r3/r2=0.65。
又，關於化學強化後之玻璃板，利用以下方法測定由四點彎曲試驗所得之平均斷裂應力。該值可作為用作構成顯示裝置及觸控面板之覆蓋玻璃之情形時之觸控感測器側(第1表面側)之端面強度之指標而使用。
使用機械刻劃裝置(三星DIAMOND工業公司製造之MS500)將化學強化後之玻璃板刻劃為120mm×60mm之大小，藉由折斷獲得成為覆蓋玻璃之單片。於所獲得之覆蓋玻璃中，於將與具有刻劃之面為相反側之面設為第1面之情形時，形成有相對於第1面大致垂直之淨切面。
使用非接觸三維測定裝置(三鷹光器公司製造之NH-3N)，依據JIS B 0601：2001測定切斷之上述玻璃板之淨切面，測定端面之算術平均粗糙度Ra及端面之最大高度粗糙度Rz。此時之Ra為0.013μm，Rz為0.18μm。
以於覆蓋玻璃之第1面產生拉伸應力之方式支持覆蓋玻璃，進行四點彎曲試驗，測定平均斷裂應力。
再者，於斷裂起始點存在於面內之情形時，除資料外，僅將於邊緣部分存在有斷裂起始點者設為有效樣品，此時之有效樣品數為50，平均斷裂應力為563MPa。
(實施例2)
除將玻璃板之厚度變更為0.55mm以外，準備與實施例1相同之玻璃板。使用雷射刻劃裝置(LWMI公司製造之SC-7392S)將化學強化前之玻璃板刻劃為120mm×60mm之大小，藉由折斷獲得成為覆蓋玻璃之單片。對所獲得之覆蓋玻璃，與實施例1同樣地實施化學強化處理，結果獲得表面壓縮應力為740MPa、壓縮應力層深度為12μm、r2/r1=0.67、r3/r2=0.57之覆蓋玻璃。對所獲得之覆蓋玻璃，與實施例1同樣地測定端面之算術平均粗糙度Ra及端面之最大高度粗糙度Rz，結果Ra為0.031μm，Rz為0.42μm。又，與實施例1同樣地，藉由四點彎曲試驗測定雷射刻劃側之平均斷裂應力，結果有效樣品數為8，平均斷裂應力為757MPa。
(比較例1)
準備與實施例1相同之玻璃板。與實施例1同樣地使用機械刻劃裝置將化學強化前之玻璃板刻劃為120mm×60mm之大小，藉由折斷獲得成為覆蓋玻璃之單片。於對所獲得之覆蓋玻璃未實施化學強化處理之狀態下，與實施例1同樣地，測定端面之算術平均粗糙度Ra及端面之最大高度粗糙度Rz，結果Ra為0.013μm，Rz為0.14μm。又，與實施例1同樣地，藉由四點彎曲試驗測定淨切面側之平均斷裂應力， 結果有效樣品數為50，平均斷裂應力為234MPa。
(比較例2)
除將玻璃板之厚度變更為1.1mm以外，準備與實施例1相同之玻璃板。與實施例1同樣地使用機械刻劃裝置將化學強化前之玻璃板刻劃為120mm×60mm之大小，藉由折斷獲得成為覆蓋玻璃之單片。對所獲得之覆蓋玻璃，自圖3(a)所示之頂部A以0.2mm之切取量(玻璃板之厚度之18%)實施C倒角後，與實施例1同樣地實施化學強化處理，結果獲得表面壓縮應力為750MPa、壓縮應力層深度為13μm、r2/r1=0.68、r3/r2=0.63之覆蓋玻璃。對所獲得之覆蓋玻璃，與實施例1同樣地測定端面之算術平均粗糙度Ra及端面之最大高度粗糙度Rz，結果Ra為1.662μm，Rz為10.17μm。又，與實施例1同樣地，藉由四點彎曲試驗測定平均斷裂應力，結果有效樣品數為7，平均斷裂應力為425MPa。
將實施例1、實施例2、比較例1及比較例2之覆蓋玻璃之板厚、表面壓縮應力、壓縮應力層深度、r2/r1值、r3/r2值、端面之算術平均粗糙度Ra、端面之最大高度粗糙度Rz、由四點彎曲試驗所得之有效樣品數及平均斷裂應力示於表1。自表1亦可知，實施例1及2之覆蓋玻璃與比較例1及2之覆蓋玻璃相比，平均斷裂應力之值較高。因此，確認到實施例1及2之覆蓋玻璃與比較例1及2之覆蓋玻璃相比，具有充分之端面強度。
再者，關於2012年9月27日申請之國際申請案PCT/JP2012/074925、2012年9月27日申請之國際申請案PCT/JP2012/074926、2012年9月27日申請之國際申請案PCT/JP2012/074929、及2013年1月10日申請之日本專利申請案2013-002747號之內容，將其整體作為參照組入本申請案中。
10‧‧‧顯示裝置
100‧‧‧觸控面板
110‧‧‧覆蓋玻璃
111‧‧‧覆蓋玻璃之第1表面
112‧‧‧覆蓋玻璃之第2表面
113‧‧‧淨切面
114‧‧‧倒角面
120‧‧‧觸控感測器
200‧‧‧顯示面板

Claims (20)

  1. 一種顯示裝置，其特徵在於：其係包括顯示面板、及安裝於上述顯示面板之前表面之觸控面板者，上述觸控面板包括：覆蓋玻璃，其具有與上述顯示面板之前表面對向之第1表面、及與上述第1表面為相反側之第2表面；及觸控感測器，其形成於上述覆蓋玻璃之上述第1表面上；上述覆蓋玻璃係經化學強化之玻璃，上述覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa，壓縮應力層深度為5~20μm，上述覆蓋玻璃具有相對於上述第1表面大致垂直之淨切面、及形成於上述第2表面之端緣之倒角面。
  2. 如請求項1之顯示裝置，其中上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
  3. 如請求項1或2之顯示裝置，其中上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用將光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
  4. 如請求項1至3中任一項之顯示裝置，其中上述覆蓋玻璃之上述 淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之顯示裝置，其中上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
  6. 一種顯示裝置之製造方法，其特徵在於：該顯示裝置包括顯示面板及安裝於上述顯示面板之前表面之觸控面板，該顯示裝置之製造方法包括如下步驟：準備經化學強化且表面壓縮應力為600~900MPa、壓縮應力層深度為5~20μm之玻璃板；於上述玻璃板之第1表面上之至少第1區域及第2區域分別形成觸控感測器；藉由以分割上述第1區域與上述第2區域且形成相對於上述玻璃板之上述第1表面大致垂直之淨切面之方式切斷上述玻璃板，製作至少兩片於第1表面上形成有上述觸控感測器之覆蓋玻璃；對上述覆蓋玻璃之與上述第1表面為相反側之第2表面之端緣實施倒角加工；及以與上述顯示面板之前表面對向之方式配置上述覆蓋玻璃之上述第1表面。
  7. 如請求項6之顯示裝置之製造方法，其中上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
  8. 如請求項6或7之顯示裝置之製造方法，其中上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻 璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
  9. 如請求項6至8中任一項之顯示裝置之製造方法，其中上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
  10. 如請求項6至9中任一項之顯示裝置之製造方法，其中上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
  11. 一種觸控面板，其特徵在於包括：覆蓋玻璃，其具有第1表面、及與上述第1表面為相反側之第2表面；及觸控感測器，其形成於上述覆蓋玻璃之上述第1表面上；上述覆蓋玻璃係經化學強化之玻璃，上述覆蓋玻璃之表面壓縮應力為600~900MPa，壓縮應力層深度為5~20μm，上述覆蓋玻璃具有相對於上述第1表面大致垂直之淨切面、及形成於上述第2表面之端緣之倒角面。
  12. 如請求項11之觸控面板，其中上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
  13. 如請求項11或12之觸控面板，其中上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條 紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
  14. 如請求項11至13中任一項之觸控面板，其中上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
  15. 如請求項11至14中任一項之觸控面板，其中上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
  16. 一種觸控面板之製造方法，其特徵在於包括如下步驟：準備經化學強化且表面壓縮應力為600~900MPa、壓縮應力層深度為5~20μm之玻璃板；於上述玻璃板之第1表面上之至少第1區域及第2區域分別形成觸控感測器；藉由以分割上述第1區域與上述第2區域且形成相對於上述玻璃板之上述第1表面大致垂直之淨切面之方式切斷上述玻璃板，製作至少兩片於第1表面上形成有上述觸控感測器之覆蓋玻璃；及對上述覆蓋玻璃之與上述第1表面為相反側之第2表面之端緣實施倒角加工。
  17. 如請求項16之觸控面板之製造方法，其中上述覆蓋玻璃之厚度為0.3~3mm。
  18. 如請求項16或17之觸控面板之製造方法，其中上述覆蓋玻璃於壓縮應力層中具有玻璃表面側之應力分佈圖案A及玻璃內部側之應力分佈圖案B之兩種應力圖案，於將該應力圖案A及該應力圖案B分別以一次函數近似之情形時，當將該應力圖案A之斜率設 為SA、將該應力圖案B之斜率設為SB時，滿足SA>SB之關係，且當使用以光波導效應作為觀測原理之表面應力計觀察上述覆蓋玻璃之干涉條紋，將自玻璃表面起第1條干涉條紋與第2條干涉條紋之間隔設為r1，將自玻璃表面起第2條干涉條紋與第3條干涉條紋之間隔設為r2，將自玻璃表面起第3條干涉條紋與第4條干涉條紋之間隔設為r3時，r2/r1及r3/r2中之至少一者滿足0.3~0.7。
  19. 如請求項16至18中任一項之觸控面板之製造方法，其中上述覆蓋玻璃之上述淨切面之算術平均粗糙度Ra為0.07μm以下，且最大高度粗糙度Rz為0.70μm以下。
  20. 如請求項16至19中任一項之觸控面板之製造方法，其中上述覆蓋玻璃之上述倒角面之切取量為上述覆蓋玻璃之厚度之3~35%。
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