TW201439077A - 新穎環硫化物及光學材料用組成物 - Google Patents

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Kazuki KARIYAZONO
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Hiroyuki Okada
Hiroshi Horikoshi
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Abstract

藉由本發明之較佳樣態時，以包含式(1)所示的環硫化物與式(2)所示的環硫化物的光學材料用組成物，可使式(2)所示的環硫化物安定並以廉價來保管，且可提供耐光性良好的光學材料。□(式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)，□(式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。

Description

新穎環硫化物及光學材料用組成物
本發明為關於環硫化物，其係適合使用於塑膠透鏡、稜鏡、光纖、資訊記錄盤、濾光片等的光學材料，之中又以塑膠透鏡為適合。
塑膠透鏡為輕量且富靭性，亦易於染色。作為塑膠透鏡所特別要求之性能係低比重、高透明性及低黃色度，作為光學性能，則為高折射率與高阿貝係數、高耐熱性、高強度等。高折射率可使透鏡薄壁化，高阿貝係數可減低透鏡之色像差。
近年，以高折射率與高阿貝係數為目的，已有多數具有硫原子的有機化物被報告著。之中又以具有硫原子的聚環硫化物，已知其折射率與阿貝係數之平衡為良好(專利文獻1)。又，由於聚環硫化物可與各種化合物反應，故為了提升物性，已提案有與各種化合物的組成物(專利文獻2~5)。
然而，由於環硫化物之反應性為高，故難以長期間保存，已有提案冷藏後進行保管之手法(專利文獻6)、或 添加具有鹵素基的環氧化物之手法(專利文獻7)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平09-110979號公報
[專利文獻2]日本特開平10-298287號公報
[專利文獻3]日本特開2001-002783號公報
[專利文獻4]日本特開2001-131257號公報
[專利文獻5]日本特開2002-122701號公報
[專利文獻6]日本特開2000-327677號公報
[專利文獻7]日本特開2005-272418號公報
然而，冷藏保存時需要専用的保冷庫而會花費成本，具有鹵素基的環氧化物會導致來自於鹵素的耐光性之惡化，故要求著改善。
即，本發明之課題係可使環硫化物等的聚合性化合物安定並以廉價來保管，且提供能得到耐光性為良好的光學材料的光學材料用組成物。
本發明團隊有鑑於如此般狀況，經重複深入 研究之結果發現，藉由下述所示的本發明，可解決上述課題。即，本發明之樣態如同下述。
<1>.一種下述式(1)所示的環硫化物， (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
<2>.一種包含上述<1>之環硫化物與聚合性化合物的光學材料用組成物。
<3>.如上述<2>之光學材料用組成物，其中，前述環硫化物之含有量為0.001~5.0質量%。
<4>.如上述<2>或<3>之光學材料用組成物，其係包含前述聚合性化合物95.0~99.999質量%。
<5>.如上述<2>~<4>中任一項之光學材料用組成物，其中，作為前述聚合性化合物係包含下述式(2)所示的環硫化物， (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
<6>.如上述<5>之光學材料用組成物，其係包含前述式(2)所示的環硫化物40~99.999質量%。
<7>.一種光學材料之製造方法，其特徵係於如上述 <2>~<6>中任一項之光學材料用組成物中，對該光學材料用組成物之總量添加0.0001質量%~10質量%的聚合觸媒，予以聚合硬化而製造光學材料。
<8>.一種藉由如上述<7>之光學材料之製造方法而得到的光學材料。
<9>.一種含有如上述<8>之光學材料的光學透鏡。
<10>.一種如上述<1>之下述式(1)所示的環硫化物之製造方法， (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)，其係具有下述步驟：藉由硫化氫或聚硫醇化物與環氧鹵丙烷化物之反應而得到下述式(3)所示的化合物之步驟、將所得到的式(3)所示的化合物與鹼反應，使進行脫鹵化氫反應而得到下述式(4)所示的化合物之步驟、將所得到的式(4)所示的化合物與硫雜化劑反應而得到前述式(1)所示的化合物之步驟； (式中，X表示鹵素原子，m表示0~4之整數，n表示 0~2之整數)， (式中，X表示鹵素原子，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
藉由本發明，在製造具有高折射率的光學材料之際，可使環硫化物等的聚合性化合物安定並以廉價來保管，且可提供能得到耐光性為良好的光學材料的光學材料用組成物。
[實施發明之的最佳形態]
以下詳細來說明本發明。
本發明之一實施形態為前述式(1)所示的環硫化物，更，本發明之另一實施形態為包含前述式(1)所示的環硫化物與聚合性化合物的光學材料用組成物。作為該聚合性化合物，舉例如環硫化物、乙烯基化物、甲基丙烯氧化物、丙烯氧化物、烯丙化物等，但較佳為環硫化物，更佳為前述式(2)所示的環硫化物。
本發明之光學材料用組成物中，前述式(1)所示的環硫化物之比例較佳為0.001~5.0質量%，更佳為 0.005~3.0質量%，特佳為0.01~1.0質量%。當式(1)所示的環硫化物之含有量低於0.001質量%時，有無法得到充分效果之情形；當超過5.0質量%時，耐熱性有降低之情形。又，本發明之光學材料用組成物中，聚合性化合物之比例較佳為95.0~99.999質量%，更佳為97.0~99.995質量%，特佳為99.0~99.99質量%。當使用前述式(2)所示的環硫化物來作為聚合性化合物時，於光學材料用組成物中前述式(2)所示的環硫化物之比例較佳為40~99.999質量%，更佳為50~99.995質量%，特佳為60~99.99質量%。
以下，對於前述式(1)所示的環硫化物、及前述式(2)所示的環硫化物詳細說明。
本發明之一實施形態為前述式(1)所示的環硫化物，又，式(1)所示的環硫化物係使用於本發明之另一實施形態的光學材料用組成物中。式(1)中，以m表示0~2之整數，n表示0或1之整數為較佳；更佳為m為0而n為1、或n為0之化合物；最佳為n為0之化合物。式(1)所示的環硫化物可以單獨使用，混合2種以上使用亦無妨。
式(1)所示的環硫化物之具體例方面，舉例如1-巰基-2-羥基-6,7-環硫基-4-硫雜庚烷、1-巰基-2-羥基-7,8-環硫基-4,5-二硫雜辛烷、1-巰基-2-羥基-8,9-環硫基-4,6-二硫雜壬烷、1-巰基-2-羥基-9,10-環硫基-4,7-二硫雜癸烷、1-巰基-2-羥基-12,13-環硫基-4,7,10-三硫雜十三烷等，此 等之中較佳舉例如1-巰基-2-羥基-6,7-環硫基-4-硫雜庚烷、及1-巰基-2-羥基-7,8-環硫基-4,5-二硫雜辛烷。
以下，對於本發明之式(1)所示的環硫化物之製造方法進行說明，但該製造方法未特別限定。
作為本發明之式(1)所示的環硫化物之製造方法，舉例如下述方法，其係以硫化氫或聚硫醇化物、與環氧鹵丙烷化物之反應來得到下述式(3)所示的化合物後，接著，將所得到的式(3)所示的化合物與鹼反應，使進行脫鹵化氫反應後來得到下述式(4)所示的化合物，之後進而將所得到的式(4)所示的化合物與硫雜化劑(例如硫脲、硫氰酸鹽等)反應而得到式(1)所示的環硫化物。
(式中，X表示鹵素原子，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
(式中，X表示鹵素原子，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
對於式(3)所示的化合物之製造方法進行記 載說明。
式(3)所示的化合物，其係以硫化氫或聚硫醇化物、與環氧鹵丙烷化物之反應而得到。示例聚硫醇化物時，舉例如甲二硫醇(methanedithiol)、1,2-二巰基乙烷、1,3-二巰基丙烷、1,4-二巰基丁烷、雙(2-巰基乙基)硫醚等。硫化氫或聚硫醇化物之中，較佳為硫化氫、1,2-二巰基乙烷、雙(2-巰基乙基)硫醚，最佳為硫化氫。作為環氧鹵丙烷化物，可示例如環氧氯丙烷或環氧溴丙烷等，較佳為環氧氯丙烷。
使環氧鹵丙烷、與硫化氫或聚硫醇化物反應之際，較佳使用觸媒。作為觸媒，舉例如無機酸、有機酸、路易斯酸、矽酸、硼酸、第四級銨鹽、無機鹼、有機鹼等。較佳為有機酸、第四級銨鹽、及無機鹼，更佳為第四級銨鹽、及無機鹼。具體例方面，舉例如氯化四甲銨、溴化四甲銨、四甲基乙酸銨、氯化四乙銨、溴化四乙銨、四乙基乙酸銨、氯化四丁銨、溴化四丁銨、四丁基乙酸銨、氯化四己銨、溴化四己銨、四己基乙酸銨、氯化四辛銨、溴化四辛銨、四辛基乙酸銨、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鎂、氫氧化鈣等。之中較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、及氫氧化鈣。
觸媒之添加量，只要是可使反應進行者未特別限制，但相對於環氧鹵丙烷1莫耳，較佳使用0.00001~0.5莫耳，更佳為0.001~0.1莫耳。當未滿0.00001莫耳時，反應會無法進行或變得過慢，故不佳； 當超過0.5莫耳時，反應易過度進行，而控制變得困難，故不佳。
環氧鹵丙烷、與硫化氫或聚硫醇化物之比例，只要是反應為可進行者未特別限制，但對聚硫醇化物之硫醇基(SH基)或硫化氫之H的環氧鹵丙烷之莫耳比，較佳為0.3~4，更佳為0.4~3，又更佳為0.5~2。當未滿0.3或超過4時，會殘留大量的未反應的原材料，故經濟面為不佳。
亦可使用或不使用溶劑，當使用時係使用水、醇類、醚類、酮類、芳香族烴類、鹵素化烴類等。具體例方面，舉例如水、甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、二乙基醚、四氫呋喃、二噁烷、甲基賽路蘇、乙基賽路蘇、丁基賽路蘇、甲基乙基酮、丙酮、苯、甲苯、二甲苯、二氯乙烷、三氯甲烷、氯苯等。之中較佳為水、甲醇、及甲苯，最佳為水、及甲醇。
反應溫度，只要是可使反應進行者未特別限制，但較佳為-10℃~80℃，更佳為0℃~50℃，又更佳為0℃~40℃。反應時間未特別限制，但通常為20小時以下。當未滿-10℃時，反應會無法進行或變得過慢，故不佳；當超過80℃時，會低聚物化而成為高分子量，故不佳。
又，以式(3)所示且具有m=0、n=1的二硫醚鍵結的化合物，亦可使環氧鹵丙烷與硫化氫反應，在得到具有鹵化基、醇性羥基及硫醇基(SH基)的化合物後，使用鹵素化物與鹼性化物來使SH基彼此以分子間反 應，而得到二硫醚化。在二硫醚化所使用的鹵素化物之具體例，舉例如氯、溴、及碘，較佳為溴、及碘。相對於SH基1莫耳，使用鹵素化物0.1~5莫耳。較佳為0.2~3莫耳，更佳為0.3~1莫耳。當未滿0.1或超過5莫耳時，會殘留大量的未反應的原材料，故經濟面為不佳。
鹼性化物之具體例方面，舉例如碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鎂、氫氧化鈣等。較佳為碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣、碳酸氫鈉、及碳酸氫鉀。
相對於SH基1莫耳，使用鹼性化物0.1~10莫耳。較佳為0.2~5莫耳，更佳為0.3~3莫耳。當未滿0.1或超過10莫耳時，會殘留大量的未反應的原材料，故經濟面為不佳。
亦可使用或不使用溶劑，當使用時係使用水、醇類、醚類、酮類、芳香族烴類、鹵素化烴類。具體例方面，舉例如水、甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、二乙基醚、四氫呋喃、二噁烷、甲基賽路蘇、乙基賽路蘇、丁基賽路蘇、甲基乙基酮、丙酮、苯、甲苯、二甲苯、二氯乙烷、三氯甲烷、氯苯等。之中較佳為水、甲醇、及甲苯，最佳為水、及甲醇。
反應溫度，只要是可使反應進行者未特別限制，但較佳為-10℃~80℃，更佳為0℃~50℃，又更佳為0℃~40℃。反應時間未特別限制，但通常為20小時以下。當未滿-10℃時，反應會無法進行或變得過慢，故不佳；當超 過80℃時，會低聚物化而成為高分子量，故不佳。
對於式(4)所示的化合物之製造方法進行記載說明。
式(4)所示的化合物係使式(3)所示的化合物與鹼反應而得到，鹼之具體例方面，舉例如氨、鹼金屬及鹼土金屬之氫氧化物、鹼金屬及鹼土金屬之碳酸鹽、鹼金屬之碳酸氫鹽、鹼金屬及鹼土金屬之銨鹽等。此等亦可作為水溶液使用。較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銨、碳酸氫鈉、及碳酸氫鉀，更佳為氫氧化鈉、及氫氧化鉀。
所使用的鹼之量，雖無法依據作為原料的式(3)所示的化合物而予以一概限定，但通常相對於式(3)所示的化合物中的鹵代醇(halohydrin)之當量，係使用0.40~0.60當量的鹼，較佳為0.42~0.57當量，更佳為0.45~0.55當量。當鹼量為少或多時，收量都會降低。
於反應時所使用的溶劑未特別限制，可使用任意的溶劑，但較佳為使用水、醇類、醚類、酮類、脂肪族烴類、芳香族烴類、鹵素化烴類等。此等可單獨使用，混合使用亦無妨。醇類之具體例方面，舉例如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇等；醚類之具體例方面，舉例如二乙基醚、四氫呋喃、二噁烷等；酮類之具體例方面，舉例如甲基賽路蘇、乙基賽路蘇、丁基賽路蘇、甲基乙基酮、丙酮等；脂肪族烴類之具體例方面，舉例如己烷、庚烷、辛烷等；芳香族烴類之具體例方面，舉例如苯、甲苯、二甲苯 等；鹵素化烴類之具體例方面，舉例如二氯乙烷、三氯甲烷、氯苯等。更佳為水、及醇類，該具體例方面，如水、甲醇、丙醇、及異丙醇。之中較佳為水、及甲醇。
溶劑之量未特別限制，但通常相對於式(3)所示的化合物100質量份為5~1000質量份，較佳為50~500質量份，更佳為100~300質量份。
反應溫度，只要是可使反應進行者未特別限制，但較佳為-10℃~80℃，更佳為0℃~50℃，又更佳為0℃~30℃。反應時間未特別限制，但通常為20小時以下。當未滿-10℃時，反應會無法進行或變得過慢，故不佳；當超過80℃時，會低聚物化而成為高分子量，故不佳。
更詳言之，較佳使式(3)所示的化合物滴下於有機溶劑與鹼性化物水溶液之混合溶劑中來進行反應。作為式(3)所示的化合物之滴下方法未特別限制，可直接予以滴下，或可溶解於溶劑中再予以滴下，或於合成式(3)所示的化合物後，以不離析之狀態下予以滴下亦可。
尚，式(4)所示的化合物之中，n=0之化合物可由氫硫化金屬與環氧鹵丙烷而得到。
將氫硫化金屬添加於環氧鹵丙烷中使產生反應。此時，以環氧鹵丙烷/氫硫化金屬之莫耳比成為5~20之方式來添加氫硫化金屬。較佳為5~15，更佳為5~10。尚，在此的莫耳比非示為在實際的反應系內的莫耳比，而表示環氧鹵丙烷之置入量與氫硫化金屬之最終添加量之莫耳比。
當環氧鹵丙烷/氫硫化金屬之莫耳比未滿5時，會生 成大量的低聚物，並導致收率有降低之情形。另一方，當環氧鹵丙烷/氫硫化金屬之莫耳比超過20時，由於使用過剩量的環氧鹵丙烷，故經濟面為不佳。
對於環氧鹵丙烷的氫硫化金屬之添加，非以一次性之添加，而以緩慢添加之方法時，由於低聚物之生成較少，故較佳。
只要是環氧鹵丙烷與氫硫化金屬為可反應時，亦可不特別使用溶劑，但較佳為使用溶劑。使用溶劑時，較佳為水、醇類、醚類、脂肪族烴類、芳香族烴類、及鹵素化烴類，更佳為水、及醇類，又更佳為水、及甲醇，最佳為甲醇。此等溶劑可單獨使用，混合使用亦無妨。
溶劑較佳為使用用來溶解氫硫化金屬。更言之，較佳為使環氧鹵丙烷與溶解於溶劑中的氫硫化金屬反應，更佳為使溶解於溶劑中的氫硫化金屬滴下於環氧鹵丙烷中。
反應溫度為-5~30℃，較佳為0℃~20℃，最佳為5~15℃。當低於-5℃時，反應速度會降低而經濟面為不佳；當超過30℃時，式(2)所示的環硫化物會增加，故不佳。
尚，1氫硫化金屬添加結束後，較佳為攪拌1分~10小時。更佳為5分~5小時，又更佳為10分~3小時。
上述使環氧鹵丙烷與氫硫化金屬反應之後，亦可添加鹼來促進反應。鹼之具體例方面，舉例如氨、鹼金屬及鹼土金屬之氫氧化物、鹼金屬及鹼土金屬之碳酸鹽、鹼金屬之碳酸氫鹽、鹼金屬及鹼土金屬之銨鹽等。此等亦可作為 水溶液使用。較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銨、碳酸氫鈉、及碳酸氫鉀，更佳為氫氧化鈉、及氫氧化鉀。
對於由式(4)所示的化合物得到式(1)所示的環硫化物之製造方法進行記載說明。
使式(4)所示的化合物與硫脲、硫氰酸鹽等的硫雜化劑反應而得到式(1)所示的環硫化物。較佳的硫雜化劑為硫脲、硫氰酸鈉、硫氰酸鉀、及硫氰酸銨，特佳的化合物為硫脲。硫雜化劑對應於式(4)所示的化合物之環氧與鹵素之合計之莫耳數，即，使用理論量，若重視反應速度、純度時，係使用理論量~理論量之2.5倍莫耳。較佳為理論量之1.3倍莫耳~理論量之2.0倍莫耳；更佳為理論量之1.5倍莫耳~理論量之2.0倍莫耳。當溶劑為溶解硫雜化劑、與式(1)所示的環硫化物、及式(4)所示的化合物時，未特別限制，具體例方面，舉例如甲醇、乙醇等的醇類、二乙基醚、四氫呋喃、二噁烷等的醚類、甲基賽路蘇、乙基賽路蘇、丁基賽路蘇等的羥基醚類、苯、甲苯等的芳香族烴類、二氯甲烷、三氯甲烷、氯苯等的鹵素化烴類、水等。較佳為醇類、芳香族烴、及水，更佳為甲醇、及甲苯。此等可單獨使用，混合使用亦無妨。
反應溫度，只要是反應為可進行者未特別限制，通常在10℃~50℃來實施。當未滿10℃時，除了反應速度之降低以外，硫脲之溶解會變得不充分，而反應無法充分進行；當超過50℃時，聚合物之生成有變顯著之情形。
反應時較佳為添加酸或酸酐、銨鹽。所使用的酸或酸酐之具體例方面，舉例如硝酸、鹽酸、過氯酸、次氯酸、二氧化氯、氫氟酸、硫酸、發煙硫酸、硫醯氯、硼酸、砷酸、亞砷酸、焦砷酸、燐酸、亞磷酸、次亞磷酸、氧氯化磷、氧溴化磷、硫化磷、三氯化磷、三溴化磷、五氯化磷、氰酸、鉻酸、硝酸酐、硫酸酐、氧化硼、五氧化砷酸、五氧化燐、鉻酸酐、矽凝膠、二氧化矽-氧化鋁、氯化鋁、氯化鋅等的無機酸性化物、甲酸、乙酸、過乙酸、硫代乙酸、草酸、酒石酸、丙酸、丁酸、琥珀酸、戊酸、己酸、辛酸、環烷酸、巰基丙酸甲酯、丙二酸、戊二酸、己二酸、環己烷羧酸、硫基二丙酸、二硫基二丙酸乙酸、馬來酸、苯甲酸、苯乙酸、鄰甲苯甲酸、間甲苯甲酸、對甲苯甲酸、水楊酸、2-甲氧基苯甲酸、3-甲氧基苯甲酸，苯甲醯基苯甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、水楊酸、二苯羥乙酸、α-萘甲酸、β-萘甲酸、乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐、苯甲酸酐、鄰苯二甲酸酐、均苯四酸酐、偏苯三酸酐、三氟乙酸酐等的有機羧酸類、單-、二-及三-甲基磷酸酯、單-、二-及三-乙基磷酸酯、單-、二-及三-異丁基磷酸酯、單-、二-及三-丁基磷酸酯、單-、二-及三-月桂基磷酸酯等的磷酸類及此等的磷酸酯部分成為亞磷酸酯的亞磷酸類、以二甲基二硫代磷酸為代表的二烷基二硫代磷酸類等的有機磷化物、酚、兒茶酚、t-丁基兒茶酚、2,6-二-t-丁基甲酚、2,6-二-t-丁基乙基酚、間苯二酚、氫醌、 1,3,5-苯三酚、五倍子酚、甲酚、乙酚、丁酚、壬酚、羥基苯乙酸、羥基苯丙酸、羥基苯乙酸醯胺、羥基苯乙酸甲酯、羥基苯乙酸乙酯、羥基苯乙醇、羥基苯乙胺、羥基苯甲醛、苯基酚、雙酚-A、2,2’-亞甲基-雙(4-甲基-6-t-丁基酚)、雙酚-F、雙酚-S、α-萘酚、β-萘酚、胺基酚、氯酚、2,4,6-三氯酚等的酚類、甲烷磺酸、乙烷磺酸、丁烷磺酸、十二烷磺酸、苯磺酸、鄰甲苯磺酸、間甲苯磺酸、對甲苯磺酸、乙基苯磺酸、丁基苯磺酸、十二烷基苯磺酸、對苯酚磺酸、鄰甲酚磺酸、間胺苯磺酸、對胺苯磺酸、4B-酸、二胺基茋磺酸、聯苯基磺酸、α-萘磺酸、β-萘磺酸、Peri acid、Laurent acid、苯基J酸等的磺酸類等，亦可併用此等的幾種來使用。較佳為甲酸、乙酸、過乙酸、硫代乙酸、草酸、酒石酸、丙酸、丁酸、琥珀酸、戊酸、己酸、辛酸、環烷酸、巰基丙酸甲酯、丙二酸、戊二酸、己二酸、環己烷羧酸、硫基二丙酸、二硫基二丙酸乙酸、馬來酸、苯甲酸、苯乙酸、鄰甲苯甲酸、間甲苯甲酸、對甲苯甲酸、水楊酸、2-甲氧基苯甲酸、3-甲氧基苯甲酸，苯甲醯基苯甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、水楊酸、二苯羥乙酸、α-萘甲酸、β-萘甲酸、乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐、苯甲酸酐、鄰苯二甲酸酐、均苯四酸酐、偏苯三酸酐、及三氟乙酸酐等的有機羧酸類；更佳為乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐、苯甲酸酐、鄰苯二甲酸酐、均苯四酸酐、偏苯三酸酐、及三氟乙酸酐等的酸酐；最佳為乙酸 酐。相對於反應液總量，該添加量通常以0.001質量%~10質量%之範圍來使用，較佳為0.01質量%~5質量%。當添加量未滿0.001質量%時，聚合物之生成變得顯著而反應收率會降低；當超過10質量%時，收率有顯著降低之情形。又，銨鹽之具體例方面，舉例如氯化銨、溴化銨、碘化銨、甲酸銨、乙酸銨、丙酸銨、苯甲酸銨、硫酸銨、硝酸銨、碳酸銨、磷酸銨、氫氧化銨等。更佳為硝酸銨、硫酸銨、及氯化銨；最佳為硝酸銨。
本發明之光學材料用組成物，作為聚合性化合物較佳可使用前述式(2)所示的環硫化物。式(2)所示的環硫化物之具體例方面，舉例如雙(β-環硫基丙基)硫醚、雙(β-環硫基丙基)二硫醚、雙(β-環硫基丙硫基)甲烷、1,2-雙(β-環硫基丙硫基)乙烷、1,3-雙(β-環硫基丙硫基)丙烷、1,4-雙(β-環硫基丙硫基)丁烷等的環硫類。式(2)所示的環硫化物可以單獨使用，混合2種以上使用亦無妨。
之中較佳的化合物為雙(β-環硫基丙基)硫醚((2)式的n=0)、雙(β-環硫基丙基)二硫醚((2)式的m=0、n=1)；最佳的化合物為雙(β-環硫基丙基)硫醚((2)式的n=0)。
本發明之光學材料用組成物，為了改善所得到的樹脂之加熱時之色調，作為聚合性化合物亦可包含聚硫醇化物。將光學材料用組成物之合計設為100質量%時，聚硫醇化物之含有量通常為1~25質量%，較佳為 2~25質量%，特佳為5~20質量%。當聚硫醇化物之含有量低於1質量%時，透鏡成型時有變黃之情形；當超過25質量%時，耐熱性有降低之情形。在本發明所使用的聚硫醇化物，可以單獨使用，混合2種以上使用亦無妨。該具體例方面，可舉例如甲二硫醇(methanedithiol)、甲三硫醇(methanetrithiol)、1,2-二巰基乙烷、1,2-二巰基丙烷、1,3-二巰基丙烷、2,2-二巰基丙烷、1,4-二巰基丁烷、1,6-二巰基己烷、雙(2-巰基乙基)醚、雙(2-巰基乙基)硫醚、1,2-雙(2-巰基乙氧基)乙烷、1,2-雙(2-巰基乙硫基)乙烷、2,3-二巰基-1-丙醇、1,3-二巰基-2-丙醇、1,2,3-三巰基丙烷、2-巰基甲基-1,3-二巰基丙烷、2-巰基甲基-1,4-二巰基丁烷、2-(2-巰基乙硫基)-1,3-二巰基丙烷、4-巰基甲基-1,8-二巰基-3,6-二硫雜辛烷、2,4-二巰基甲基-1,5-二巰基-3-硫雜戊烷、4,8-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、4,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、5,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、1,1,1-參(巰基甲基)丙烷、肆(巰基甲基)甲烷、乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、二乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、二乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、1,4-丁二醇雙(2-巰基乙酸酯)、1,4-丁二醇雙(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷參巰乙酸酯(trimethylolpropanetristhioglycolate)、三羥甲基丙烷參巰基丙酸酯、季戊四醇肆巰乙酸酯、季戊四醇肆巰基丙酸酯、1,2-二巰基環己烷、1,3-二巰基環己烷、1,4-二巰基環 己烷、1,3-雙(巰基甲基)環己烷、1,4-雙(巰基甲基)環己烷、2,5-二巰基甲基-1,4-二噻烷(2,5-dimercaptomethyl-1,4-dithiane)、2,5-二巰基甲基-1,4-二噻烷、2,5-雙(2-巰基乙硫基甲基)-1,4-二噻烷、2,5-二巰基甲基-1-噻烷、2,5-二巰基乙基-1-噻烷、2,5-二巰基甲基噻吩、1,2-二巰基苯、1,3-二巰基苯、1,4-二巰基苯、1,3-雙(巰基甲基)苯、1,4-雙(巰基甲基)苯、2,2’-二巰基聯苯、4,4’-二巰基聯苯、雙(4-巰基苯基)甲烷、2,2-雙(4-巰基苯基)丙烷、雙(4-巰基苯基)醚、雙(4-巰基苯基)硫醚、雙(4-巰基苯基)碸、雙(4-巰基甲基苯基)甲烷、2,2-雙(4-巰基甲基苯基)丙烷、雙(4-巰基甲基苯基)醚、雙(4-巰基甲基苯基)硫醚、2,5-二巰基-1,3,4-硫雜二唑、3,4-噻吩二硫醇、1,1,3,3-肆(巰基甲硫基)丙烷等。
此等之中較佳的具體例，舉例如雙(2-巰基乙基)硫醚、2,5-二巰基甲基-1,4-二噻烷、1,3-雙(巰基甲基)苯、1,4-雙(巰基甲基)苯、4-巰基甲基-1,8-二巰基-3,6-二硫雜辛烷、4,8-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、4,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、5,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、1,1,3,3-肆(巰基甲硫基)丙烷、季戊四醇肆巰基丙酸酯、季戊四醇肆巰乙酸酯、三羥甲基丙烷參巰乙酸酯、及三羥甲基丙烷參巰基丙酸酯；更佳舉例如雙(2-巰基乙基)硫醚、2,5-雙(2-巰基甲基)-1,4-二噻烷、4-巰基甲 基-1,8-二巰基-3,6-二硫雜辛烷、1,3-雙(巰基甲基)苯、季戊四醇肆巰基丙酸酯、及季戊四醇肆巰乙酸酯；最佳的化合物，舉例如雙(2-巰基乙基)硫醚、2,5-二巰基甲基-1,4-二噻烷、及4-巰基甲基-1,8-二巰基-3,6-二硫雜辛烷。
為了改善所得到的樹脂之強度，本發明之光學材料用組成物亦可包含聚異氰酸酯化物來作為聚合性化合物。將光學材料用組成物之合計設為100質量%時，聚異氰酸酯化物之含有量通常為1~25質量%，較佳為2~25質量%，特佳為5~20質量%。當聚異氰酸酯化物之含有量低於1質量%時，強度有降低之情形；當超過25質量%時，色調有降低之情形。在本發明所使用的聚異氰酸酯化物，可以單獨使用，混合2種以上使用亦無妨。
該具體例方面，可舉例如二伸乙基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、環己烷二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸酯甲基)環己烷、1,4-雙(異氰酸酯甲基)環己烷、異佛爾酮二異氰酸酯、2,6-雙(異氰酸酯甲基)十氫萘、賴氨酸三異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、鄰聯甲苯胺二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、二苯基醚二異氰酸酯、3-(2’-異氰酸酯環己基)丙基異氰酸酯、亞異丙基雙(環己基異氰酸酯)、2,2’-雙(4-異氰酸酯苯基)丙烷、三苯基甲烷三異氰酸酯、雙(二異氰酸酯甲苯基)苯基甲烷、4,4’,4”-三異氰酸酯-2,5-二甲氧基苯基胺、3,3’-二甲氧基聯苯胺-4,4’-二異氰酸酯、1,3-苯二異氰酸酯、1,4-苯二異氰酸 酯、4,4’-二異氰酸酯聯苯、4,4’-二異氰酸酯-3,3’-二甲基聯苯、二環己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、1,1’-亞甲基雙(4-異氰酸酯苯)、1,1’-亞甲基雙(3-甲基-4-異氰酸酯苯)、間苯二甲基二異氰酸酯、對苯二甲基二異氰酸酯、間四甲基苯二甲基二異氰酸酯、對四甲基苯二甲基二異氰酸酯、1,3-雙(2-異氰酸酯-2-丙基)苯、2,6-雙(異氰酸酯甲基)萘、1,5-萘二異氰酸酯、雙(異氰酸酯甲基)四氫二環戊二烯、雙(異氰酸酯甲基)二環戊二烯、雙(異氰酸酯甲基)四氫噻吩、雙(異氰酸酯甲基)降冰片烯、雙(異氰酸酯甲基)金剛烷、硫基二乙基二異氰酸酯、硫基二丙基二異氰酸酯、硫基二己基二異氰酸酯、雙〔(4-異氰酸酯甲基)苯基〕硫醚、2,5-二異氰酸酯-1,4-二噻烷、2,5-二異氰酸酯甲基-1,4-二噻烷、2,5-二異氰酸酯甲基噻吩、二硫基二乙基二異氰酸酯、二硫基二丙基二異氰酸酯等。
然而，可在本發明使用的聚異氰酸酯化物並不僅只限定於此等，又，此等可單獨使用，混合2種以上使用亦無妨。
此等之中較佳的具體例，舉例如異佛爾酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、間苯二甲基二異氰酸酯、對苯二甲基二異氰酸酯、間四甲基苯二甲基二異氰酸酯、對四甲基苯二甲基二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸酯甲基)環己烷、1,4-雙(異氰酸酯甲基)環己烷、雙(異氰酸酯甲基)降冰片 烯、及2,5-二異氰酸酯甲基-1,4-二噻烷中所選出的至少1種以上的化合物；之中較佳的化合物為異佛爾酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸酯甲基)環己烷、及間苯二甲基二異氰酸酯；最佳的化合物為異佛爾酮二異氰酸酯、間苯二甲基二異氰酸酯、及1,3-雙(異氰酸酯甲基)環己烷。
更，聚硫醇化物中的SH基對聚異氰酸酯化物的NCO基之比例，即〔聚硫醇化物的SH基數/聚異氰酸酯化物的NCO基數〕(SH基/NCO基)較佳為1.0~2.5，更佳為1.25~2.25，又更佳為1.5~2.0。當上述比例低於1.0時，透鏡成型時有著色成黃色之情形；當超過2.5時，耐熱性有降低之情形。
為了提升所得到的樹脂之折射率，本發明之光學材料用組成物亦可包含硫來作為聚合性化合物。將光學材料用組成物之合計設為100質量%時，硫之含有量通常為0.1~15質量%，較佳為0.2~10質量%，特佳為0.3~5質量%。
在本發明所使用的硫之形狀可為任意形狀亦無妨。具體而言，硫為微粉硫、膠體硫、沈降硫、結晶硫、昇華硫等，但較佳為粒子細小的微粉硫。
使用於本發明的硫之製法，可為任意製法亦無妨。硫之製法具有例如：從天然硫礦的昇華純化法、藉由溶融法來採掘埋藏於地下的硫、將從石油或天然氣經脫硫步驟等 所得到的硫化氫等作為原料的回收法等，任意製法亦無妨。
使用於本發明的硫之粒徑，以小於10網目(mesh)，即，硫較佳為較10網目為細的微粉。當硫之粒徑較10網目大時，硫難以完全溶解。因此，在第一步驟會產生不佳的反應等，而有產生不良之情形。硫之粒徑，更佳為較30網目為小，最佳為較60網目為小。
使用於本發明的硫之純度較佳為98%以上，更佳為99.0%以上，又更佳為99.5%以上，最佳為99.9%以上。當硫之純度為98%以上時，相較於未滿98%之情形，所得到的光學材料之色調可更改善。
在將本發明之光學材料用組成物聚合硬化以得到光學材料之際，較佳為添加聚合觸媒。作為聚合觸媒，可使用胺、膦、鎓鹽等，特以鎓鹽，之中又較佳為第四級銨鹽、第四級鏻鹽、第三級鋶鹽、及第二級碘鎓鹽；之中更佳為與光學材料用組成物之相溶性為良好的第四級銨鹽及第四級鏻鹽，又更佳為第四級鏻鹽。作為更佳的聚合觸媒，舉例如四-n-丁基溴化銨、三乙基苄基氯化銨、十六烷基二甲基苄基氯化銨、1-n-十二烷基氯化砒啶等的第四級銨鹽、四-n-丁基溴化鏻、四苯基溴化鏻等的第四級鏻鹽。此等之中，較佳的聚合觸媒為四-n-丁基溴化銨、三乙基苄基氯化銨、及四-n-丁基溴化鏻。
聚合觸媒之添加量會依據組成物之成分、混合比及聚合硬化方法而有所變化，無法予以一概限定，但通常相對 於光學材料用組成物之合計100質量%，以添加0.0001質量%~10質量%，較佳為0.001質量%~5質量%，更佳為0.01質量%~1質量%，最佳為0.01質量%~0.5質量%。當聚合觸媒之添加量多於10質量%時，有急遽聚合之情形。又，當聚合觸媒之添加量少於0.0001質量%時，光學材料用組成物無法充分硬化，而有耐熱性不良之情形。
又，在以本發明之製造方法來製造光學材料之際，以提升所得到的光學材料之實用性，理當應可將紫外線吸收劑、上藍劑、顏料等的添加劑添加於光學材料用組成物中。
作為紫外線吸收劑之較佳例，如苯并三唑系化物；特佳的化合物方面，如2-(2-羥基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑、5-氯-2-(3、5-二-tert-丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-辛基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-甲氧基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-乙氧基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-丁氧基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-2H-苯并三唑、及2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑。
此等紫外線吸收劑之添加量，通常相對於光學材料用組成物之合計100質量%，以添加0.01~5質量%。
在使光學材料用組成物聚合硬化之際，以延長可使用時間(pot life)或聚合放熱之分散化等為目的，因應所需可添加聚合調整劑。聚合調整劑，可舉例如長週 期型週期表中的第13~16族之鹵素化物。此等之中，較佳者有矽、鍺、錫、銻之鹵素化物，更佳為具有烷基的鍺、錫、銻之氯化物。又更佳的化合物為二丁基二氯化錫、丁基三氯化錫、二辛基二氯化錫、辛基三氯化錫、二丁基二氯鍺、丁基三氯鍺、二苯基二氯鍺、苯基三氯鍺、及三苯基二氯化銻，最佳的化合物為二丁基二氯化錫。聚合調整劑可單獨使用，亦可混合2種以上使用亦無妨。
相對於光學材料用組成物之總計100質量%，聚合調整劑之添加量為0.0001~5.0質量%，較佳為0.0005~3.0質量%，更佳為0.001~2.0質量%。當聚合調整劑之添加量少0.0001質量%時，在所得到的光學材料用組成物中無法確保充分的可使用時間(pot life)；當聚合調整劑之添加量多於5.0質量%時，光學材料用組成物無法充分硬化，所得到的光學材料之耐熱性有降低之情形。
將如此般所得到的光學材料用組成物注入於鑄模等的模具中，並使聚合而成為光學材料。
在將本發明之光學材料用組成物注入於模具之際，就提高本發明之光學材料之品質，較佳以0.1~5μm左右孔徑的濾器來將雜質過濾除去。
本發明之光學材料用組成物之聚合，通常以如下述般來進行。即，硬化時間通常為1~100小時，硬化溫度通常為-10℃~140℃。聚合為藉由下述步驟：以指定的聚合溫度保持指定時間之步驟、進行0.1℃~100℃/h之昇溫之步驟、進行0.1℃~100℃/h之降溫之步驟，或組合此等之步 驟來進行。
又，硬化結束後，將所得到的光學材料以50~150℃之溫度來進行10分~5小時左右的退火(anneling)處理，由於可除去本發明之光學材料之應變，故為較佳處理。更，對於所得到的光學材料，因應所需亦可進行染色、硬質塗布、耐衝擊性硬質塗布、抗反射、賦予防霧性等的表面處理。
本發明之光學材料可適合作為光學透鏡使用。
[實施例]
以下藉由實施例及比較例來說明本發明之內容，但本發明並不限定於以下的實施例。
1.安定性
氮氛圍下，以60℃、1星期使用GPC分析來追蹤光學材料用組成物中的主成分的環硫化物(即，作為聚合性化合物的環硫化物)之純度變化，將純度降低為未滿5%者設為A，5%以上且未滿10%者設為B，10%以上者設為C。A及B為合格等級。
2.耐光性評價(色調測定) (1)初期值之測定
以實施例記載之方法來製造厚3.0mm的平板，使用Color Techno System公司製色彩計JS-555來測定YI值。 將此值設為p。
(2)藉由光的色調變化之測定
測定初期值後，照射碳弧燃燒光60小時，之後測定YI值。將此值設為q。
算出(q-p)/p之值，將此值為未滿1.0者設為A，1.0以上且未滿2.0者設為B，2.0以上者設為C。A及B為合格等級。
3.脫模性
以實施例記載之方法來製造-4D之透鏡，評價聚合硬化後的從鑄模的脫模性。將容易脫模者設為A，可脫模者設為B，不易脫模者設為C。A及B為合格等級。
(實施例1)
置入環氧氯丙烷185g(2.0mol)、水30g、甲醇5g、32%氫氧化鈉水溶液1.5g，一邊攪拌一邊將硫化氫35g(1.0mol)以保持於液溫5~15℃之同時予以吹入，而得到雙(3-氯-2-羥基丙基)硫醚210g(0.96mol)。
投入水100g後，將32%氫氧化鈉水溶液120g以保持於0~10℃之同時予以滴下。之後，投入甲基異丁基酮300g並萃取，將得到的有機層以1%乙酸洗淨後予以水洗，使溶劑餾去。之後，以管柱純化，得到105g(0.58mol)的1-氯-2-羥基-6,7-環氧-4-硫雜庚烷。
之後，投入甲苯750ml、甲醇750ml、乙酸酐0.2g、硫脲177g，以40℃使反應10小時並以甲苯萃取，將得到的有機層以10%硫酸洗淨後予以水洗，使溶劑餾去。之後，以管柱純化，得到40g(0.20mol)的下述構造式所示的1-巰基-2-羥基-6,7-環硫基-4-硫雜庚烷。
1H-NMR(CDCl3)：1.5ppm(1H)、2.0ppm(1H)、2.2-2.7ppm(9H)、3.8ppm(1H)
13C-NMR(CDCl3)：25ppm、33ppm(2C)、39ppm、45ppm、78ppm
(實施例2)
置入環氧氯丙烷190g(2.1mol)、甲醇500ml、氫氧化鈣1.0g，一邊攪拌一邊將硫化氫75g(2.2mol)以保持於液溫0~5℃之同時予以吹入，而得到氯巰基丙醇。接著，投入水1000ml、碳酸氫鈉168g，再將碘254g以保持於液溫5~10℃之同時予以投入。以10℃反應12小時後，進行過濾、乾燥，得到雙(3-氯-2-羥基丙基)二硫醚。
投入水100g之後，將32%氫氧化鈉水溶液120g以保持於0~10℃之同時予以滴下。之後，投入甲基異丁基酮300g並萃取，將得到的有機層以1%乙酸洗淨後予以水洗，使溶劑餾去。之後，以管柱純化，得到20g (0.09mol)的1-氯-2-羥基-7,8-環氧-4,5-二硫雜辛烷。
之後，投入甲苯750ml、甲醇750ml、乙酸酐0.2g、硫脲177g，以40℃使反應10小時並以甲苯萃取，將得到的有機層以10%硫酸洗淨後予以水洗，使溶劑餾去。之後，以管柱純化，得到9.0g(0.04mol)的下述構造式所示的1-巰基-2-羥基-7,8-環硫基-4,5-二硫雜辛烷。
1H-NMR(CDCl3)：1.5ppm(1H)、2.0ppm(1H)、2.2-3.0ppm(9H)、3.8ppm(1H)13C-NMR(CDCl3)：24ppm、32ppm(2C)、41ppm、46ppm、77ppm
(實施例3~8)
將以實施例1所調製的式(1)所示的1-巰基-2-羥基-6,7-環硫基-4-硫雜庚烷(以下稱為化合物b)，依照表1所示之量添加於作為聚合性化合物的雙(β-環硫基丙基)硫醚(以下稱為化合物a)中，來評價安定性。將結果表示於表1中。
(實施例9~14)
將以實施例2所調製的式(1)所示的1-巰基-2-羥基-7,8-環硫基-4,5-二硫雜辛烷(以下稱為化合物d)，依照 表1所示之量添加於作為聚合性化合物的雙(β-環硫基丙基)二硫醚(以下稱為化合物c)中，來評價安定性。將結果表示於表1中。
(比較例1)
僅評價化合物a之安定性。將結果表示於表1中。
(比較例2)
僅評價化合物c之安定性。將結果表示於表1中。
(實施例15~20)
以表2中所示之量來混合化合物a與化合物b，添加作為紫外線吸收劑的2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑1.0質量%、作為聚合觸媒的四-n-丁基溴化鏻0.05質量%，之後以20℃充分混合使成均勻。接著，以1.3kPa之真空度來進行脫氣，注入於由二片玻璃板及膠帶所構成的鑄模(厚3.0mm的平板用及-4D的透鏡用)，以30℃加熱10小時，再花費10小時以一定速度昇溫至100℃，最後以100℃加熱1小時，來使其聚合硬化。放冷後，從鑄模予以脫模，並以110℃進行60分的退火處理，得到成型板(厚3.0mm的平板及-4D的透鏡)。對於平板進行耐光性評價(色調測定)，並進行-4D透鏡之脫模性之評價。將此等結果表示於表2中。
(比較例3)
將作為紫外線吸收劑的2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑1.0質量%、作為聚合觸媒的四-n-丁基溴化鏻0.05質量%添加於化合物a中，之後以20℃充分混合使成均勻。接著，以1.3kPa之真空度來進行脫氣，注入於由二片玻璃板及膠帶所構成的鑄模(厚3.0mm的平板用及-4D的透鏡用)，以30℃加熱10小時，再花費10小時以一定速度昇溫至100℃，最後以100℃加熱1小時，來使其聚合硬化。放冷後，從鑄模予以脫模，並以110℃進行60分的退火處理，得到成型板(厚3.0mm的平板及 -4D的透鏡)。對於平板進行耐光性評價(色調測定)，並進行-4D透鏡之脫模性之評價。將此等結果表示於表2中。
(比較例4、5)
以表2中所示之量來混合化合物a與下述構造式所示的1-氯-2-羥基-6,7-環氧-4-硫雜庚烷(以下稱為化合物e)，並添加作為紫外線吸收劑的2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑1.0質量%、作為聚合觸媒的四-n-丁基溴化鏻0.05質量%，之後以20℃充分混合使成均勻。接著，以1.3kPa之真空度來進行脫氣，注入於由二片玻璃板及膠帶所構成的鑄模(厚3.0mm的平板用及-4D的透鏡用)，以30℃加熱10小時，再花費10小時以一定速度昇溫至100℃，最後以100℃加熱1小時，來使其聚合硬化。放冷後，從鑄模予以脫模，並以110℃進行60分的退火處理，得到成型板(厚3.0mm的平板及-4D的透鏡)。對於平板進行耐光性評價(色調測定)，並進行-4D透鏡之脫模性之評價。將此等結果表示於表2中。
(實施例21~26)
以表2中所示之量來混合化合物c與化合物d，並添 加作為紫外線吸收劑的2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑1.0質量%、作為聚合觸媒的N,N-二甲基環己基胺0.5質量%，之後以20℃充分混合使成均勻。接著，以1.3kPa之真空度來進行脫氣，注入於由二片玻璃板及膠帶所構成的鑄模(厚3.0mm的平板用及-4D的透鏡用)，以30℃加熱10小時，再花費10小時以一定速度昇溫至100℃，最後以100℃加熱1小時，來使其聚合硬化。放冷後，從鑄模予以脫模，並以110℃進行60分的退火處理，得到成型板(厚3.0mm的平板及-4D的透鏡)。對於平板進行耐光性評價(色調測定)，並進行-4D透鏡之脫模性之評價。將此等結果表示於表2中。
(比較例6)
將作為紫外線吸收劑的2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑1.0質量%、作為聚合觸媒的N,N-二甲基環己基胺0.5質量%添加於化合物c中，之後以20℃充分混合使成均勻。接著，以1.3kPa之真空度來進行脫氣，注入於由二片玻璃板及膠帶所構成的鑄模(厚3.0mm的平板用及-4D的透鏡用)，以30℃加熱10小時，再花費10小時以一定速度昇溫至100℃，最後以100℃加熱1小時，來使其聚合硬化。放冷後，從鑄模予以脫模，並以110℃進行60分的退火處理，得到成型板(厚3.0mm的平板及-4D的透鏡)。對於平板進行耐光性評價(色調測定)，並進行-4D透鏡之脫模性之評價。將此等結果表示 於表2中。
(比較例7、8)
以表2中所示之量來混合化合物c與下述構造式所示的1-氯-2-羥基-7,8-環氧-4,5-二硫雜辛烷(以下稱為化合物f)，並添加作為紫外線吸收劑的2-(2-羥基-5-t-辛基苯基)-2H-苯并三唑1.0質量%、作為聚合觸媒的N,N-二甲基環己基胺0.5質量%，之後以20℃充分混合使成均勻。接著，以1.3kPa之真空度來進行脫氣，注入於由二片玻璃板及膠帶所構成的鑄模(厚3.0mm的平板用及-4D的透鏡用)，以30℃加熱10小時，再花費10小時以一定速度昇溫至100℃，最後以100℃加熱1小時，來使其聚合硬化。放冷後，從鑄模予以脫模，並以110℃進行60分的退火處理，得到成型板(厚3.0mm的平板及-4D的透鏡)。對於平板進行耐光性評價(色調測定)，並進行-4D透鏡之脫模性之評價。將此等結果表示於表2中。

Claims (10)

  1. 一種下述式(1)所示的環硫化物， (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
  2. 一種包含如請求項1之環硫化物與聚合性化合物的光學材料用組成物。
  3. 如請求項2之光學材料用組成物，其中，前述環硫化物之含有量為0.001~5.0質量%。
  4. 如請求項2或3之光學材料用組成物，其係包含前述聚合性化合物95.0~99.999質量%。
  5. 如請求項2~4中任一項之光學材料用組成物，其中，作為前述聚合性化合物係包含下述式(2)所示的環硫化物， (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
  6. 如請求項5之光學材料用組成物，其係包含前述式(2)所示的環硫化物40~99.999質量%。
  7. 一種光學材料之製造方法，其特徵係於如請求項2~6中任一項之光學材料用組成物中，對該光學材料用組 成物之總量添加0.0001質量%~10質量%的聚合觸媒，予以聚合硬化而製造光學材料。
  8. 一種藉由如請求項7之光學材料之製造方法而得到的光學材料。
  9. 一種含有如請求項8之光學材料的光學透鏡。
  10. 一種如請求項1之下述式(1)所示的環硫化物之製造方法， (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)，其係具有下述步驟：藉由硫化氫或聚硫醇化物與環氧鹵丙烷化物之反應而得到下述式(3)所示的化合物之步驟、將所得到的式(3)所示的化合物與鹼反應，使進行脫鹵化氫反應而得到下述式(4)所示的化合物之步驟、將所得到的式(4)所示的化合物與硫雜化劑反應而得到前述式(1)所示的化合物之步驟； (式中，X表示鹵素原子，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)， (式中，X表示鹵素原子，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
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