TW201427773A - 振動產生裝置 - Google Patents

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    • B06B1/00—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
    • B06B1/10—Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of mechanical energy

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Abstract

一種振動產生裝置，包括一工作平台、一相對平台以及一驅動單元。工作平台用以承載一工件，工件配置於工作平台之一側。相對平台鄰近於工作平台之另一側，其中工作平台與相對平台以反向突出於工作平台與相對平台之間的至少二凸塊彼此接觸。驅動單元耦接工作平台或相對平台，用以驅動工作平台或相對平台於一水平方向上運動，且工作平台於一垂直方向上產生一振動。

Description

振動產生裝置
本發明是有關於一種振動產生裝置，且特別是有關於一種具有水平運動及垂直振動的振動產生裝置。
傳統的振動產生裝置不外乎使用振動馬達來傳遞振動能量至一工件。例如：將一含有檢測樣本的試管放置在振動盤上，並將振動馬達以高速運轉，以使振動盤產生振動。檢測樣本內的粒子受到振動之後分散在試管中，而達到攪拌的效果。然而，振動馬達擺放的位置會影響振動的效果，例如離振動馬達較遠的地方振動效果較差，因而造成振動量不均勻的問題。
此外，另一種使用吸管反覆吸放檢測樣本，以使檢測樣本內的粒子分散在試管內，亦可達到攪拌的功效，但此種接觸式攪拌的方式易產生吸管污染及增加清洗/消毒成本等問題，不適合用在大量檢測的項目上，有待進一步改善。
本發明係有關於一種振動產生裝置，可在水平方向上運動並可在垂直方向上產生振動。
根據本發明之一方面，提出一種振動產生裝置，包括一工作平台、一相對平台以及一驅動單元。工作平台用以承載一工件，工件配置於工作平台之一側。相對平台鄰近於工作平台之另一側，其中工作平台與相對平台以反向突 出於工作平台與相對平台之間的至少二凸塊彼此接觸。驅動單元耦接工作平台或相對平台，用以驅動工作平台或相對平台於一水平方向上運動，且工作平台於一垂直方向上產生一振動。
根據本發明之另一方面，提出一種振動產生裝置，包括一工作平台、一相對平台以及一驅動單元。工作平台用以承載一工件，工件配置於工作平台之一側。相對平台鄰近於工作平台之另一側，其中工作平台與相對平台以反向突出於工作平台與相對平台之間的至少二凸塊彼此接觸。驅動單元耦接工作平台及/或相對平台，用以驅動工作平台及/或相對平台於二維平面上運動，且工作平台於一垂直方向上產生一振動。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：
本實施例之振動產生裝置，係利用構造簡單的水平傳動機構使二平台產生單向或雙向運動，並且二平台以反向突出於二平台之間的凸塊相接觸，以產生類似車輛行經突起路面的跳動效果。也就是說，當一平台與一相對平台相對移動時，經過凸塊的平台因凸塊的高低差而造成平台上下跳動。因此，本實施例藉由設計平台經過凸塊的數量、高度與凸塊排列的間距，或調整平台之移動速度及位移的距離來控制振動的頻率與幅度，以期達到配置於平台上的一工件被振動而產生晃動的效果。
本實施例之工件例如具有多個用以放置檢測樣本的試皿，請參照第1圖，其繪示一試皿中檢測樣本的示意圖。利用本實施例之振動產生裝置，檢測樣本20內的粒子22可被左右振動及/或上下振動而均勻分散在試皿10中，以避免傳統接觸式攪拌衍生的問題，更可適用在大量檢測的項目上，以降低檢測成本。
以下係提出各種實施例進行詳細說明，實施例僅用以作為範例說明，並非用以限縮本發明欲保護之範圍。須說明的是，在下列實施例中，所稱的水平方向例如是X軸方向、Y軸方向或某一特定方向，而所稱的水平運動例如是在二維平面(例如X-Y平面)上任意型態的運動，不限定在X軸方向及/或Y軸方向上的運動。此外，所稱的垂直方向例如是與二維平面大致上垂直的方向(例如Z軸方向)。
第一實施例
請參照第2A及2B圖，其分別繪示依照本發明一實施例之振動產生裝置100的示意圖。振動產生裝置100包括一工作平台110、一相對平台120以及一驅動單元130。工作平台110用以承載一工件30，此工件30配置於工作平台110之一側。相對平台120鄰近於工作平台110之另一側。工作平台110與相對平台120以反向突出於工作平台110與相對平台120之間的至少二凸塊B1及B2彼此接觸。
舉例來說，在第2A圖中，工作平台110配置於相對平台120上方，並以夾具(未繪示)夾持固定，以保持工 作平台110可平穩地在相對平台120上水平移動。至少一第一凸塊B1設置於工作平台110之一側，而多個第二凸塊B2設置於相對平台120靠近工作平台110之一側，以使第一凸塊B1在水平方向H上運動時與多個第二凸塊B2依序接觸而產生跳動的效果。
此外，在第2B圖中，工作平台110配置於相對平台120上方，與第2A圖不同的地方在於，至少一第一凸塊B1設置於之相對平台120一側，而多個第二凸塊B2設置於工作平台110靠近相對平台120之一側。同樣，此些第二凸塊B2在水平方向H上運動時可與第一凸塊B1依序接觸而產生跳動的效果。
第一凸塊B1與第二凸塊B2可為長條形凸塊B22、半圓形凸塊B21或其組合。舉例來說，請參照第3A圖，凸塊例如為半圓形凸塊B21，其沿著一水平方向H依序排列或為多行多列的陣列排列。或是，請參照第3B圖，凸塊例如是長條形凸塊B22，其沿著一水平方向H依序排列。或是，請參照第3C圖，凸塊例如為長條形凸塊B22與半圓形凸塊B21之組合，並沿著一水平方向H交錯排列。雖然本實施例以長條形凸塊B22與半圓形凸塊B21為範例說明，但不限定凸塊的形狀，其他形狀的凸塊，例如菱形、圓錐形、半橢圓形或梯形等亦可。
接著，請參照第4A~4C圖，其繪示凸塊的排列方式示意圖。凸塊B除了如第2A及2B圖所示等高度且等間距排列在工作平台110上或相對平台120上之外，亦可改變凸塊B的高度及/或間距，以產生不同振動效果。舉例來 說，在第4A圖中，多個第二凸塊B23等高度但不等間距沿著水平方向H排列，當第一凸塊B1經過間距為G1的第二凸塊B23時，振動的頻率會隨之增加；而當第一凸塊B1經過間距為G2(G2>G1)的第二凸塊B23時，振動的頻率會隨之減少，因此可藉由調整第二凸塊B23排列的間距來改變振動的頻率。或是，在第4B圖中，多個第二凸塊B23及B24等間距但不等高度沿著水平方向H排列，當第一凸塊B1經過高度為L1的第二凸塊B24時，振動的幅度會隨之增加；而當第一凸塊B1經過高度為L2(L1>L2)的第二凸塊B23時，振動的幅度會隨之減少，因此可藉由調整第二凸塊B23及B24排列的高度來改變振動的幅度。或是，在第4C圖中，多個第二凸塊B23及B24不等間距且不等高度沿著水平方向H排列，當第一凸塊B1經過不同高度(L1>L2)的第二凸塊B23及B24時，振動的幅度會隨之改變(與凸塊高度成正比)；而當第一凸塊B1經過不同間距(G2>G1)的第二凸塊B23及B24時，振動的頻率會隨之改變(與凸塊間距呈反比)，因此可藉由各別調整第二凸塊B23及B24排列的高度及間距來改變振動的幅度與頻率。
本實施例之驅動單元可包括至少一線性傳動裝置，例如是以馬達帶動螺桿或皮帶以傳輸動力的裝置，用以驅動工作平台110或相對平台120，以使工作平台110或相對平台120於水平方向H上運動。請參照第6A圖之振動產生裝置101，驅動單元131包括一控制器141以及一線性傳動裝置142。線性傳動裝置142耦接工作平台110或相 對平台120，而控制器141可根據驅動訊號控制線性傳動裝置142，使其沿著一水平方向H傳輸動力。或者，請參照第6B圖之振動產生裝置102，驅動單元132包括一控制器141、一第一傳動裝置143以及一第二傳動裝置144。第一傳動裝置143與第二傳動裝置144耦接工作平台110或相對平台120，而控制器141可根據驅動訊號控制第一傳動裝置143，使其沿著第一水平方向H1傳輸動力，或是控制第二傳動裝置144，使其沿著第二水平方向H2傳輸動力。
因此，本實施例藉由工作平台110或相對平台120於一水平方向H上的運動，且第一凸塊B1經過第二凸塊B2時產生的跳動，可使工作平台110於一垂直方向V上產生振動，以達到配置於工作平台110上的一工件30被振動而產生晃動的效果。
第二實施例
請參照第5圖，其繪示依照本發明一實施例之振動產生裝置200的示意圖。振動產生裝置200包括一工作平台210、一相對平台220以及一驅動單元230。有關工作平台210、相對平台220與多個配置於工作平台210與相對平台220之間且相互接觸的凸塊(未繪示)，其配置方式與第一實施例相似，請參照第2A-2B、3A-3C及4A-4C圖及其說明，在此不再贅述。
本實施例與第一實施例不同之處在於：驅動單元230耦接工作平台210及相對平台220，用以驅動工作平台210 與相對平台220於二維平面上相對運動。舉例來說，請參照第6C圖之振動產生裝置103，驅動單元133包括一控制器141、一第一傳動裝置143以及一第二傳動裝置144。第一傳動裝置143耦接工作平台210，第二傳動裝置144耦接相對平台220，而控制器141可根據驅動訊號控制第一傳動裝置143，使其沿著第一水平方向H1傳輸動力以帶動工作平台210，並且可控制第二傳動裝置144，使其沿著第二水平方向H2傳輸動力以帶動相對平台220。
因此，本實施例藉由工作平台210與相對平台220於二水平方向H1及H2上的運動，以及工作平台110於一垂直方向V上產生振動，以達到配置於工作平台110上的一工件30被振動而產生晃動的效果。
第三實施例
再者，請參照第6D及6E圖之二實施例，驅動單元除了以第6A圖之線性傳動裝置142來帶動工作平台110或相對平台120之外，亦可以一非線性傳動裝置(例如懸吊式傳動裝置或是地搖式傳動裝置)來帶動工作平台110或相對平台120，以使工作平台110或相對平台120產生一水平運動。
舉例來說，請參照第6D圖之振動產生裝置104，驅動單元134包括一控制器141以及一懸吊式傳動裝置145，懸吊式傳動裝置145用以支撐工作平台110，使工作平台110可平穩地放置在相對平台120上，並且帶動工作平台110，使工作平台110相對於相對平台120具有一水平運 動，水平運動例如為圖中所示之(a)S形或8字形之運動(b)圓周運動(c)不規則形運動或(d)矩形運動等。
或者，請參照第6E圖之之振動產生裝置105，驅動單元135包括一控制器141以及一地搖式傳動裝置146，地搖式傳動裝置146用以支撐相對平台120，而工作平台110以夾具(未繪示)夾持固定不動並可平穩地放置在相對平台120上。地搖式傳動裝置146可帶動相對平台120，使相對平台120相對於工作平台110具有一水平運動，水平運動例如為圖中所示之(a)S形或8字形之運動(b)圓周運動(c)不規則形運動或(d)矩形運動等。上述舉例之水平運動不限定其實施方式，任何型態之水平運動皆可。
因此，本實施例藉由工作平台110或相對平台120於二維平面上的運動，以及工作平台110於一垂直方向V上產生振動，以達到配置於工作平台110上的一工件30被振動而產生晃動的效果。
本發明上述實施例所揭露之振動產生裝置，係利用構造簡單的水平傳動機構及凸塊，使平台產生水平運動及垂直振動，以產生類似車輛行經突起路面的跳動效果，因此可避免使用振動馬達造成的振動量不均勻或單向振動之問題。
綜上所述，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專 利範圍所界定者為準。
10‧‧‧試皿
20‧‧‧檢測樣本
22‧‧‧粒子
30‧‧‧工件
100~105、200‧‧‧振動產生裝置
110、210‧‧‧工作平台
120、220‧‧‧相對平台
130~135、230‧‧‧驅動單元
141‧‧‧控制器
142‧‧‧線性傳動裝置
144‧‧‧第二傳動裝置
143‧‧‧第一傳動裝置
145‧‧‧懸吊式傳動裝置
146‧‧‧地搖式傳動裝置
B‧‧‧凸塊
B1‧‧‧第一凸塊
B2、B23、B24‧‧‧第二凸塊
B22‧‧‧長條形凸塊
B21‧‧‧半圓形凸塊
H‧‧‧水平方向
H1‧‧‧第一水平方向
H2‧‧‧第二水平方向
V‧‧‧垂直方向
G2、G1‧‧‧間距
L1、L2‧‧‧高度
第1圖繪示一試皿中檢測樣本的示意圖。
第2A及2B圖分別繪示依照本發明一實施例之振動產生裝置的示意圖。
第3A~3C圖繪示凸塊之形狀及排列方式的示意圖。
第4A~4C圖繪示凸塊之形狀及排列方式的示意圖。
第5圖繪示依照本發明一實施例之振動產生裝置的示意圖。
第6A~6E圖繪示各種實施態樣之振動產生裝置的示意圖。
30‧‧‧工件
100‧‧‧振動產生裝置
110‧‧‧工作平台
120‧‧‧相對平台
130‧‧‧驅動單元
B‧‧‧凸塊
B1‧‧‧第一凸塊
B2‧‧‧第二凸塊
H‧‧‧水平方向
V‧‧‧垂直方向

Claims (19)

  1. 一種振動產生裝置，包括：一工作平台，用以承載一工件，該工件配置於該工作平台之一側；一相對平台，鄰近於該工作平台之另一側，其中該工作平台與該相對平台以反向突出於該工作平台與該相對平台之間的至少二凸塊彼此接觸；以及一驅動單元，耦接該工作平台或該相對平台，用以驅動該工作平台或該相對平台於一水平方向上運動，且該工作平台於一垂直方向上產生一振動。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之振動產生裝置，其中至少一第一凸塊設置於該工作平台與該相對平台之一，而複數個第二凸塊設置於該工作平台與該相對平台之另一。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊沿著該水平方向等間距或不等間距排列。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊沿著該水平方向等高度或不等高度排列。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊排列的間距與該振動的頻率呈反比。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊排列的高度與該振動的幅度呈正比。
  7. 如申請專利範圍第2項所述之振動產生裝置，其 中該些第二凸塊包括長條形凸塊、半圓形凸塊或其組合。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之振動產生裝置，其中該驅動單元包括一沿著該水平方向傳輸動力的線性傳動裝置。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之振動產生裝置，其中該驅動單元包括沿著第一水平方向傳輸動力的第一傳動裝置以及沿著第二水平方向傳動的第二傳動裝置。
  10. 一種振動產生裝置，包括：一工作平台，用以承載一工件，該工件配置於該工作平台之一側；一相對平台，鄰近於該工作平台之另一側，其中該工作平台與該相對平台以反向突出於該工作平台與該相對平台之間的至少二凸塊彼此接觸；以及一驅動單元，耦接該工作平台及/或該相對平台，用以驅動該工作平台及/或該相對平台於二維平面上運動，且該工作平台於一垂直方向上產生一振動。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之振動產生裝置，其中至少一第一凸塊設置於該工作平台與該相對平台之一，而複數個第二凸塊設置於該工作平台與該相對平台之另一。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊沿著該方向等間距或不等間距排列。
  13. 如申請專利範圍第11或12項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊沿著該方向等高度或不等高度排 列。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊排列的間距與該振動的頻率呈反比。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊排列的高度與該振動的幅度呈正比。
  16. 如申請專利範圍第11項所述之振動產生裝置，其中該些第二凸塊包括長條形凸塊、半圓形凸塊或其組合。
  17. 如申請專利範圍第10項所述之振動產生裝置，其中該驅動單元包括一沿著第一水平方向傳輸動力的第一傳動裝置以及一沿著第二水平方向傳輸動力的第二傳動裝置。
  18. 如申請專利範圍第10項所述之振動產生裝置，其中該驅動單元包括一支撐該工作平台並使該工作平台相對於該相對平台具有一水平運動之懸吊式傳動裝置。
  19. 如申請專利範圍第10項所述之振動產生裝置，其中該驅動單元包括一支撐該相對平台並使該相對平台相對於該工作平台具有一水平運動之地搖式傳動裝置。
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