TW201427155A - 薄膜電極及其製法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種用於製備電極之轉印薄膜，其包含(a)底襯層及(b)至少一層塗料層，其係位於該底襯層上，且包含黏結劑及填料，其中該塗料層具有約2至40微米之厚度。本發明亦關於一種製備薄膜電極之方法，其包含(1)提供一基材；(2)將上述轉印薄膜置於該基材上，其中該塗料層係介於該底襯層與該基材之間；(3)使該塗料層轉印於該基材上；及(4)移除該底襯層以形成薄膜電極。本發明另關於一種由上述方法所製得之薄膜電極。

Description

薄膜電極及其製法
本發明係關於一種用於製備電極之轉印薄膜；本發明亦關於一種製備薄膜電極之方法；本發明更關於一種利用該方法所製得之薄膜電極。
隨著科技與經濟的快速發展，在能源的使用上也是大幅度的增加，現今使用量最大的石油、天然氣、煤等原料的存量正不斷地減少，而增加的需求則必須仰賴其他新興能源。其中因太陽能較不具污染性，為目前最被看好且最重要的能源研究課題之一。至目前為止，已經有多種不同類型的太陽能電池發展出來，其中染料敏化太陽能電池(Dye-Sensitized Solar Cell；DSSC)因具有價格低的優勢而被認為最具發展潛力。
染料敏化太陽能電池最早發展於1976年，由日本的Tsubomura以多孔性氧化鋅作為電極而得，其得到的光電轉化效率為2.5%。瑞士聯邦理工學院教授Grätzel於1990年提出一種染料敏化太陽能電池(美國專利第4,927,721號)，並於1991年將染料敏化太陽能電池的光電轉化效率提升至7.1~7.9%，至此商業化才有了可能性。瑞士的Grätzel所發展的染料敏化太陽能電池係將二氧化鈦(TiO2)奈米結晶粒塗佈於氧化銦錫(ITO)玻璃作為陽極，利用二氧化鈦奈米粒多孔膜之孔隙結構吸附釕錯合物光敏化染料以吸收可見光，再配合鍍上鉑的導電玻璃作為陰極，而電解質係利用 碘離子(I-/I3 -)溶液以提供電池所需之氧化-還原反應。
現有染料敏化太陽能電池之工作電極的製作方式係先將金屬氧化物(如二氧化鈦及氧化鋅)、金屬(如鉑)或其他導電材料(如碳及石墨烯)與溶劑(如松油醇)及黏結劑(如乙基纖維素)配製成漿料後，再採用網版印刷、刮刀塗佈或旋轉塗佈等方法將漿料均勻地塗佈於基材上而形成導電電極。然而，使用網版印刷法常會因網版設計及印刷條件的不同而產生產品使用的問題，且網版容易損耗，造成成本的增加；刮刀塗佈法則不易控制塗佈的膜厚，因而增加量產的困難度；旋轉塗佈法則具有不易圖案化的缺點。
本案發明人發現，可先將金屬氧化物、金屬或其他導電材料之填料與黏結劑配製成塗料，並塗佈於底襯層上形成轉印薄膜；欲製備薄膜電極時，則將轉印薄膜上之塗料轉印於經塗覆氟摻雜氧化錫(FTO)之玻璃或不規則形狀之基材上，如此之方法可大幅增加產品之應用項目。
本發明之一目的係提供一種用於製備電極之轉印薄膜，其包含：(a)底襯層；及(b)至少一層塗料層，其係位於該底襯層上，且包含黏結劑及填料，其中該塗料層具有約2至40微米之厚度。
本發明之另一目的係提供一種製備薄膜電極之方法，其包含： (1)提供一基材；(2)將本發明之轉印薄膜置於該基材上，其中該塗料層係介於該底襯層與該基材之間；(3)使該塗料層轉印於該基材上；及(4)移除該底襯層以形成薄膜電極。
本發明之又一目的係提供一種薄膜電極，其係由本發明之方法所製得。
使用本發明之轉印薄膜與方法製備薄膜電極具有以下之特點：- 轉印薄膜易於儲存、運送或加工；- 使用便利，可使用捲繞式(roll-to-roll)製程大量生產及易於控制產品(如塗料層)膜厚；及- 可使用凸版或凹版印刷製作圖案化電極。
以下將具體地描述根據本發明之部分具體實施態樣；惟，在不背離本發明之精神下，本發明尚可以多種不同形式之態樣來實踐，不應將本發明保護範圍解釋為限於說明書所陳述者。此外，除非文中有另外說明，於本說明書中(尤其是在後述專利申請範圍中)，所使用之「一」、「該」及類似用語應理解為包含單數及複數形式。
於本文中，當一元件或層位於另一元件或層「上」意謂該元件或層可直接位於該另一元件或層上、連接至該另一元件或層上或存在介於其間之其他元件或層。
於本文中，術語「約」意謂如由一般熟習此項技術者所 測定之特定值的可接受誤差，其部分地視如何量測或測定該值而定。在某些實施例中，術語「約」意謂在1、2、3或4個標準偏差之內。在某些實施例中，術語「約」意謂在給定值或範圍之50%、20%、15%、10%、9%、8%、7%、6%、5%、4%、3%、2%、1%、0.5%或0.05%之內。
本發明係關於一種用於製備電極之轉印薄膜，其包含：(a)底襯層；及(b)至少一層塗料層，其係位於該底襯層上，且包含黏結劑及填料，其中該塗料層具有約2至40微米之厚度。
本發明轉印薄膜之底襯層可為透明、半透明或不透明之紙或薄膜，適用於本發明轉印薄膜之底襯層包括，但不限於，聚酯樹脂、聚甲基丙烯酸酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環烯烴樹脂、聚烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、三醋酸纖維素或其混合所製成之積層紙或薄膜。其中聚酯樹脂包括例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)；聚甲基丙烯酸酯樹脂包括例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。根據本發明之一具體實施例，本發明所使用之底襯層為聚對苯二甲酸乙二酯。
本發明轉印薄膜之底襯層上包含至少一層塗料層，該塗料層可經圖案化或未經圖案化，適合用來將該塗料層塗施於該底襯層上之方法可為任何本發明所屬技術領域中具有通常知識者所習知的施工方法，如塗佈(coating)、噴灑 (spray)、網印(screen printing)、印刷(printing)或含浸(dipping)等方式。
上述塗佈方法例如，但不限於，刮刀式塗佈(knife coating)、滾輪塗佈(roller coating)、柔版塗覆(flexographic coating)、熱傳遞塗覆(thermal transfer coat)、微凹版印刷塗佈(micro gravure coating)、流塗(flow coating)、簾塗(curtain coating)、旋塗(spin coating)、噴霧式塗佈(spray coating)、線杆塗佈(bar coating)、狹縫式模壓塗佈(slot die coating)、凸版印刷塗佈(gravure coating)、斜板式塗佈(slide coating)、其它習知方法或上述方法之組合。
上述印刷方法例如，但不限於，凹版印刷(gravure printing)、微凹版印刷(micro gravure printing)、平版印刷、凸版印刷(letterpress printing)、噴墨式印刷(ink-jet printing)、橡皮版印刷、柔性版印刷、點刻印刷、雷射印刷或上述方法之組合。
本發明轉印薄膜之塗料層的厚度為約2至40微米，當厚度太小時，由該轉印薄膜所製成之電池效能不佳，當厚度太大時，該塗料層於該轉印薄膜製備成薄膜電極的製程中易發生脆裂。根據本發明之一實施例，該塗料層厚度較佳為約3至30微米，更佳為5至20微米。
適用於本發明轉印薄膜之塗料層的黏結劑包括，但不限於，聚酯樹脂、環氧樹脂、聚醯胺樹脂、氟素樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂或其混合。根據 本發明之一具體實施例，本發明所使用之黏結劑為聚酯樹脂。
適用於本發明轉印薄膜之塗料層的填料包括金屬氧化物、金屬或其他導電材料，其例如，但不限於，二氧化鈦(TiO2)、氧化鋅(ZnO)、氧化錫(SnO2)、氧化銦(In2O3)、硫化鎘(CdS)、硫化鋅(ZnS)、硒化鎘(CdSe)、磷化鎵(GaP)、碲化鎘(CdTe)、硒化鉬(MoSe2)、硒化鎢(WSe2)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化鎢(WO3)、鉭酸鉀(KTaO3)、氧化鋯(ZrO2)、鈦酸鍶(SrTiO3)、氧化矽(SiO2)、硫化鎘(CdS)、鉑、碳、石墨烯或其混合。根據本發明之一具體實施例，本發明所使用之填料為二氧化鈦。
於本發明轉印薄膜中，該填料之固含量，以整體塗料層固含量總重量計，係約15重量%至約95重量%。本發明轉印薄膜中之填料含量可依據填料之種類不同做適當之調整。當填料為金屬氧化物時，若金屬氧化物含量太小，則該轉印薄膜製得之薄膜電極所製成之染料敏化太陽能電池的光轉換效率不佳，若金屬氧化物含量太大，則該轉印薄膜的轉印能力不佳，金屬氧化物之含量較佳為約40重量%至約80重量%，更佳為約50重量%至約75重量%；當填料為金屬時，所使用之含量較佳為約15重量%至約25重量%；當填料為碳時，所使用之含量較佳為約75重量%至約95重量%。
本發明轉印薄膜可包含兩層或兩層以上之塗料層，且該等塗料層所包含之填料可視需要具有不同的平均粒徑，該 粒徑範圍為2至600奈米。根據本發明之一具體實施例，本發明之轉印薄膜具有一層塗料層，該塗料層所使用之填料粒徑為2至60奈米，較佳為10至50奈米；根據本發明之另一具體實施例，本發明之轉印薄膜具有二層塗料層，第一層填料粒徑為400至600奈米，第二層填料粒徑為10至50奈米。
本發明轉印薄膜可視需要包含位於該塗料層上之保護層，其可用於保護塗料層，防止該塗料層所形成之圖案產生皺折的現象，並提供轉印薄膜所需的韌度，以避免塗料層於儲存、運送、轉印或加工時受損。適用於本發明轉印薄膜之保護層包括，但不限於，聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、乙烯-醋酸乙烯酯(Ethylene Vinyl Acetate，EVA)或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。
本發明之轉印薄膜可藉由下列步驟製備：(I)將黏著劑、填料與溶劑混合均勻，形成一塗料；(II)將該塗料塗施於底襯層上；及(III)加熱該塗I料以使其乾燥，形成一塗料層。
若需要，可重複進行上述各步驟，以獲得複數層之塗料層。
上述步驟(I)之溶劑並無特殊限制，只要能將黏著劑、填料均勻分散即可，較佳為極性溶劑，例如，但不限於，醇類、醇醚類、酮類或其組合等極性溶劑，較佳為甲醇、乙醇、乙二醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第三丁醇、異戊醇、松油醇(Terpineol)、乙酸乙酯、甲基乙基酮(MEK)、 丙酮、甲基異丁基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、N-甲基吡咯酮(NMP)、N-辛基吡咯烷酮(NOP)、r-丁內酯(GBL)、二甲基乙醯胺(DMAC)、二甲基甲醯胺(DMF)、二甲基亞碸(DMSO)、四氫呋喃(THF)、甲苯(toluene)或二甲苯(xylene)。
上述步驟(II)之塗施方法係如前所述。
上述步驟(III)之加熱條件並無特殊限制，可為任何本發明所屬技術領域中具有通常知識者所熟知者，例如可於約100℃至約150℃下加熱約5分鐘至約20分鐘。
本發明亦關於一種製備薄膜電極之方法，其包含：(1)提供一基材；(2)將本發明之轉印薄膜置於該基材上，其中該塗料層係介於該底襯層與該基材之間；(3)使該塗料層轉印於該基材上；及(4)移除該底襯層以形成薄膜電極。
上述步驟(1)之基材包括，但不限於，玻璃、金屬、合金、塑膠或其混合。該基材表面可為平面、非平面或不規則形狀。根據本發明之一具體實施例，本發明所使用之基材為玻璃或塑膠。
上述步驟(3)之轉印方式可使用任何本發明所屬技術領域中具有通常知識者所熟知之方式，例如使用壓合方式將該塗料層轉印至該基材上，其中，該壓合方式可為熱壓合或真空壓合。
上述步驟(4)之薄膜電極，可視需要進一步進行加熱步 驟將黏結劑去除，例如可於約100℃至約500℃下加熱約1小時至約5小時。
相較於傳統使用網印法製備電極的方式，使用本發明之轉印方法製備薄膜電極可以減少薄膜電極發生龜裂的狀況，並可提升染料敏化太陽能電池的光轉換效率。
以下配合圖1及2說明本發明之製備薄膜電極的方法步驟。首先，如圖1a所示，提供一基材10；接著，如圖1b所示，將轉印薄膜30置於基材10上，其中轉印薄膜30包含塗料層31及底襯層32，且塗料層31係介於底襯層32與基材10之間，藉此方式可使塗料層31轉印於基材10上；最後，如圖1c所示，將底襯層32移除，即可形成薄膜電極40。
此外，於本發明方法中，如圖2a所示，基材10上可視情況包含導電層15而形成導電基材20。適用於本發明方法之導電層包括，但不限於，氟摻雜氧化錫(FTO)、銻摻雜氧化錫(ATO)、鋁摻雜氧化鋅(AZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦錫(ITO)、導電高分子或其混合之導電氧化物。根據本發明之一具體實施例，本發明所使用之導電層為氟摻雜氧化錫。
接著，如圖2b所示，將轉印薄膜30置於導電基材20上，其中轉印薄膜30包含塗料層31及底襯層32，且塗料層31係介於底襯層32與導電層15之間，而導電層15則介於塗料層31與基材10之間，藉此方式可使塗料層31轉印於導電基材20上。
最後，如圖2c所示，將底襯層32移除，即可形成薄膜電 極40。
圖3顯示根據本發明之一實施例之薄膜電極的製備方法，其主要具有下列步驟：將導電基材20置於承載構件50上；將轉印薄膜30定位於導電基材20上；再以加壓平台60及承載構件50將轉印薄膜30壓合貼附於導電基材20上，藉此將轉印薄膜30之塗料層31轉印於導電基材20上，該壓合可為熱壓合，其加熱方式可為吹送熱空氣至轉印薄膜30表面，或直接以經加熱之加壓平台60加熱於轉印薄膜30；接著將加壓平台60及承載構件50分開，再移除已離型之底襯層32，製得薄膜電極40。
於本發明之薄膜電極的製備方法中，該步驟(2)可使用捲繞式製程輸送及定位該轉印薄膜。圖4顯示根據本發明之另一實施例之薄膜電極的製備方法，其主要具有下列步驟：將導電基材20置於承載構件50上；利用捲繞式製程之滾輪70，將轉印薄膜30正確地輸送及定位於導電基材20上；再以加壓平台60及承載構件50將轉印薄膜30壓合貼附於導電基材20上，藉此將轉印薄膜30之塗料層31轉印於導電基材20上，該壓合方式如前所述；接著將加壓平台60及承載構件50分開，再以滾輪70捲動轉印薄膜30而移除已離型之底襯層32，製得薄膜電極40，並接著進行下一循環之轉印步驟。
本發明方法所製得之薄膜電極可應用於染料敏化太陽能電池或超級電容。例如，染料敏化太陽能電池包含：(a)提供電流流動通路的第一電極及第二電極；(b)傳輸電子與電 洞的電解質；及(c)連接兩電極之封裝材料，其中該第一電極包括導電基材、作為電子傳輸的半導體材料層及光敏化劑，該第二電極包括基材及於該基材上之導體材料。本發明之方法可用於將該半導體材料層轉印於該導電基材上而完成第一電極，亦可用於將該導體材料轉印於該基材上而完成第二電極。同樣地，本發明之方法亦可用於製作超級電容之金屬氧化物電極、碳電極及導電高分子電極。
本發明將經由下列實施例進一步加以詳細描述，唯該敘述僅係用以例示說明本發明，而非對本發明範圍作任何限制，任何熟悉此項技藝之人士可輕易達成之修飾及改變均包括於本案說明書揭示內容及所附申請專利範圍之範圍內。
實施例 實施例1 轉印薄膜之製備
取17.5重量份之二氧化鈦(ST-21，日本石原公司製，固形份100%)、7.5重量份之聚酯樹脂(5016-TS，長興化學公司製，固形份100%)與75重量份之溶劑N-辛基吡咯烷酮(NOP)高速攪拌混合均勻，製成固形份約25重量%之塗料組合物，其中二氧化鈦之平均粒徑為約25奈米。
以RDS塗布棒#7將塗料組合物塗在聚對苯二甲酸乙二酯(PET)離型膜上(型號：A71，帝人杜邦公司製，膜厚50微米)，塗膜厚度為24微米，於130℃下乾燥10分鐘後可得本發明之轉印薄膜，其乾燥後之塗料層厚度為6微米。
薄膜電極之製備
取一導電玻璃，將上述所製備之轉印薄膜以具塗料層之一面朝向該導電玻璃而置於其上，以熱壓合機(型號MCQA-11-40-150，Mindman公司製，壓合條件：3 kgf，130℃，3分鐘)進行壓合，使轉印薄膜之塗料層轉印至導電玻璃上，接著移除PET離型膜，再進一步以烘箱烘烤(500℃/60分鐘，升溫速度為5℃/分鐘)，最後製得本發明之薄膜電極。
實施例2
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將塗膜厚度改為12微米，其乾燥後之塗料層厚度為3微米。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
實施例3
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將塗膜厚度改為36微米，其乾燥後之塗料層厚度為9微米。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
實施例4
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將二氧化鈦之用量改為12.5重量份，聚酯樹脂之用量改為12.5重量份。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
實施例5
取17.5重量份之二氧化鈦(ST-41，日本石原公司製，固形份100%)、7.5重量份之聚酯樹脂(5016-TS，長興化學公司製，固形份100%)與75重量份之溶劑N-辛基吡咯烷酮 (NOP)高速攪拌混合均勻，製成固形份約25重量%之塗料組合物，其中二氧化鈦之平均粒徑為約400奈米。
以RDS塗布棒#7將上述之塗料組合物塗在PET離型膜上(型號：A71，帝人杜邦公司製，膜厚50微米)，塗膜厚度為12微米，於130℃下乾燥10分鐘，乾燥後之第一塗料層厚度為3微米；接著重覆上述步驟將實施例1之塗料組合物塗於上述之第一塗料層上，塗膜厚度為36微米，其乾燥後之第二塗料層厚度為9微米，藉此製得具雙層塗料層之轉印薄膜。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
比較例1
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將二氧化鈦之用量改為21重量份，聚酯樹脂之用量改為4重量份。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
比較例2
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將二氧化鈦之用量改為8.75重量份，聚酯樹脂之用量改為16.25重量份。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
比較例3
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將聚酯樹脂改為乙基纖維素(46080-250G-F，30-60 mPa.s，Sigma公司製)。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
比較例4
重覆實施例1之步驟製備轉印薄膜，唯將聚酯樹脂改為甲基丙烯酸酯樹脂(M3000；Sekisui公司製)。
重複實施例1之步驟製備薄膜電極。
比較例5
取17.5重量份之二氧化鈦(ST-21，日本石原公司製，固形份100%)、7.5重量份之乙基纖維素(46080-250G-F，30-60 mPa.s，Sigma公司製)與75重量份之溶劑松油醇(Terpineol)高速攪拌混合均勻，製成固形份約25重量%之塗料組合物，其中二氧化鈦之平均粒徑為約25奈米。
薄膜電極之製備
取一導電玻璃，將上述所製備之塗料組合物以網版印刷方式印刷於該導電玻璃上(網印機型號：TP-600E，台灣恆基公司製)，印刷厚度為24微米，於130℃下乾燥10分鐘，經乾燥之塗料層厚度為6μm，接著以烘箱烘烤(500℃/60分鐘，升溫速度為5℃/分鐘)，最後製得薄膜電極。
薄膜電極之性質及效能測試
以習知之方法將實例1至5與比較例2及5所製得之薄膜電極製成染料敏化太陽能電池，從電池的工作電極和相對電極分別引出導線接到電池性能測試裝置上，用太陽光模擬器模擬太陽光，將光強度調整至100 mW/cm2，測量電池之光轉換效率，測試結果如表1所示。
由表1結果可知，本發明之轉印薄膜具有良好的轉印能力，且在相同膜厚及相同之填料固含量條件下，相較於先前技術以網印法製作之薄膜電極(比較例5)，由本發明之轉印薄膜製得之薄膜電極(實施例1)所製成之染料敏化太陽能電池可以提升約15%之光轉換效率。
由上述實例應容易瞭解本發明之各種改良是可行的並且是熟諳此技者容易聯想到及預期的。
10‧‧‧基材
15‧‧‧導電層
20‧‧‧導電基材
30‧‧‧轉印薄膜
31‧‧‧塗料層
32‧‧‧底襯層
40‧‧‧薄膜電極
50‧‧‧承載構件
60‧‧‧加壓平台
70‧‧‧滾輪
圖1說明本發明之一種製備薄膜電極的方法步驟。
圖2說明本發明之另一種製備薄膜電極的方法步驟。
圖3說明根據本發明之一實施例之薄膜電極的製備方法。
圖4說明根據本發明之另一實施例之薄膜電極的製備方法。
10‧‧‧基材
30‧‧‧轉印薄膜
31‧‧‧塗料層
32‧‧‧底襯層
40‧‧‧薄膜電極

Claims (17)

  1. 一種用於製備電極之轉印薄膜，其包含：(a)底襯層；及(b)至少一層塗料層，其係位於該底襯層上，且包含黏結劑及填料，其中該塗料層具有約2至40微米之厚度。
  2. 如請求項1之轉印薄膜，其中該底襯層係選自由聚酯樹脂、聚甲基丙烯酸酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環烯烴樹脂、聚烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、三酯酸纖維素及其混合所組成之群組。
  3. 如請求項1之轉印薄膜，其中該塗料層具有約3至30微米之厚度。
  4. 如請求項1之轉印薄膜，其中該黏結劑係選自由聚酯樹脂、環氧樹脂、聚醯胺樹脂、氟素樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂及其混合所組成之群組。
  5. 如請求項1之轉印薄膜，其中該填料係選自由二氧化鈦(TiO2)、氧化鋅(ZnO)、氧化錫(SnO2)、氧化銦(In2O3)、硫化鎘(CdS)、硫化鋅(ZnS)、硒化鎘(CdSe)、磷化錄(GaP)、碲化鎘(CdTe)、硒化鉬(MoSe2)、硒化鎢(WSe2)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化鎢(WO3)、鉭酸鉀(KTaO3)、氧化鋯(ZrO2)、鈦酸鍶(SrTiO3)、氧化矽(SiO2)、硫化鎘(CdS)、鉑、碳、石墨烯及其混合所組成之群組。
  6. 如請求項1之轉印薄膜，其中該填料於該塗料層中之固含量為約15重量%至約95重量%。
  7. 如請求項1之轉印薄膜，其進一步包含位於該塗料層上之保護層。
  8. 一種製備薄膜電極之方法，其包含：(1)提供一基材；(2)將如請求項1至6中任一項之轉印薄膜置於該基材上，其中該塗料層係介於該底襯層與該基材之間；(3)使該塗料層轉印於該基材上；及(4)移除該底襯層以形成薄膜電極。
  9. 如請求項8之方法，其中該基材上包含導電層，且該塗料層於步驟(2)中係介於該底襯層與該導電層之間。
  10. 如請求項9之方法，其中該導電層係選自由氟摻雜氧化錫(FTO)、銻摻雜氧化錫(ATO)、鋁摻雜氧化鋅(AZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦錫(ITO)及其混合所組成之導電氧化物。
  11. 如請求項8至10中任一項之方法，其中該基材係選自由玻璃、金屬、合金、塑膠及其混合所組成之群組。
  12. 如請求項8至10中任一項之方法，其中該基材為平面或非平面。
  13. 如請求項8至10中任一項之方法，其中步驟(2)係以捲繞式(roll-to-roll)製程輸送及定位該轉印薄膜。
  14. 如請求項8至10中任一項之方法，其中步驟(3)之轉印係利用壓合方式進行。
  15. 如請求項14之方法，其中該壓合方式為熱壓合。
  16. 一種薄膜電極，其係由如請求項8至15中任一項之方法所製得。
  17. 如請求項16之薄膜電極，其係應用於染料敏化太陽能電池(DSSC)。
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