TW201403436A - 靜電電容式觸控面板基板及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

根據本發明之靜電電容式觸控面板基板(10)，具有：透光性基板(1)、設於透光性基板(1)的一方之面上的複數第1方向透明電極單位(2a)、接續第1方向透明電極單位(2a)彼此的第1方向接續部(3a)、被形成於與第1方向透明電極單位(2a)相同面的複數第2方向透明電極單位(2b)、接續第2方向透明電極單位(2b)彼此之第2方向接續部(3b)、以及低反射層(6)。第2方向接續部(3b)，與第1方向接續部(3a)係中介著絕緣層(4)而絕緣，包含著反射性導電性層(5)。低反射層(6)，根據國際照明委員會CIE之使用標準光源(C)的Yxy表色系之Y值呈現10%以下的低反射性，由垂直於透光性基板(1)之前述一方之面的方向來觀察時，與反射性導電性層(5)至少為部分重疊。

Description

靜電電容式觸控面板基板及顯示裝置
本發明係關於靜電電容式觸控面板基板及顯示裝置。特別是關於排列於2方向的透明電極單位之間的接續部難以被注意到的靜電電容式觸控面板基板，及具備此基板之顯示裝置。
近年來，於智慧型手機、平板電腦(個人電腦)等各種顯示裝置，作為與顯示面板組合使用的位置輸入裝置，有觸控面板急速著普及中。觸控面板，由以前就已經知道有電磁感應式、電阻膜式等各種方式的，也被使用於各種用途，但在最近特別受到矚目的，是可以多點同時輸入(multi-touch)的靜電電容式觸控面板。
圖11(a)係模式顯示具有包含從前的靜電電容式觸控面板基板20的觸控面板30，被配置於液晶顯示面板或電致發光(EL)面板(電解發光面板)等顯示影像的顯示面板40，以及由覆蓋玻璃等所構成的顯示裝置用前面保護板50之間的構成的從前的顯示裝置200之一例之分解平面圖。
圖11(b)係注目於圖11(a)中的從前的靜電電容式觸控面板基板20的透明電極單位之部分擴大平面圖，圖11(c)係注目於圖11(b)中的透明電極單位間的接續部的部分擴大剖面圖。圖12為圖11(c)中之在C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
一般在靜電電容式觸控面板基板20，如圖11(b)及圖11(c)所示，具有被排列於在圖面為上下方向的Y方向的第1方向透明電極單位2a，以及被排列於在圖面為左右方向的X方向的第2方向透明電極單位2b。此處，也把Y方向稱為第1方向，把X方向稱為第2方向。
前述從前的靜電電容式觸控面板基板20，顯示將第1方向透明電極單位2a與第2方向透明電極單位2b形成於透光性基板1之同一面側的形態之例(參照專利文獻1)。此形態，具有可以提高第1方向透明電極單位2a與第2方向透明電極單位2b的相對位置精度的優點。
亦即，例示於前述圖面之從前的靜電電容式觸控面板基板20，於透光性基板1之第1面S1上，具有：被排列於第1方向(在圖面為Y方向)的第1方向透明電極單位2a、以與第1方向透明電極單位2a相同的材料形成於同一面，連接第1方向透明電極單位2a彼此之第1方向接續部3a、以與第1方向透明電極單位2a相同的材料形成於同一面，位於第1方向透明電極單位2a之 間同時位於第1方向接續部3a之間，被排列於與第1方向(Y方向)交叉的第2方向(在圖面為X方向)的第2方向透明電極單位2b、接續第2方向透明電極單位2b彼此，與第1方向接續部3a中介著絕緣層4而絕緣的第2方向接續部3b。
此時，第2方向接續部3b，因可得到透明性這點，與第1方向接續部3a同樣，亦有以與第2方向透明電極單位2b相同的材料形成之形態，但與各透明電極單位相比利用其面積小，作為謀求低成本化的形態，已知有與設在第1方向透明電極單位2a與第2方向透明電極單位2b排列的位置檢測區域之外周部的金屬材料所構成的配線7，以相同材料同時形成的形態(參照專利文獻1)。
亦即，如圖12之剖面圖所示，第2方向接續部3b，由金屬材料構成的反射性導電性層5所構成，此反射性導電性層5，由銀合金等金屬層所構成，呈現銀色的金屬反射性。
第2方向接續部3b，即使以與第2方向透明電極單位2b相同的材料來形成，在設置絕緣層4的關係上，第1方向透明電極單位2b及第2方向透明電極單位2b無法一起同時形成，必須要追加1個步驟。但是，使第2方向接續部3b，以與位置檢測區域的外周部的配線7相同的材料同時形成的話，可以因而減少步驟數。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-86122號公報
然而，如圖12之剖面圖所示，第2方向接續部3b，藉由反射性導電性層5形成的話，與透明電極不同，光線L照射時會反射，所以會很醒目。反射性導電性層5醒目的現象，在觸控面板的尺寸變得越小，透過此觀看顯示面板的觀察者，以至於與觸控面板的操作者的眼睛之間的距離變得很近，所以有變得顯著的傾向。
本發明之課題在於提供使相互交叉的排列於2方向的透明電極單位之間的接續部變得不易醒目之靜電電容式觸控面板基板。此外，為提供具備此之顯示裝置。
根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，具有：具第1面及與前述第1面為相反側的第2面之透光性基板；於前述透光性基板之前述第1面及第2面之任一方之面上，被排列於第1方向的複數第1方向透明電極單位；以與前述第1方向透明電極單位相同的材料被形成於同一面，接續前述第1方向透明電極單位彼此的第1方向接續部；以與前述第1方向透明電極單位相同的材料被形 成於同一面，位於前述第1方向透明電極單位之間，同時位於前述第1方向接續部之間，被排列於與前述第1方向交叉的第2方向之複數第2方向透明電極單位；接續前述第2方向透明電極單位彼此，與前述第1方向接續部係中介著絕緣層而絕緣，包含反射性導電性層的第2方向接續部；以及根據國際照明委員會CIE之使用標準光源C的Yxy表色系之Y值呈現10%以下的低反射性，由垂直於前述透光性基板之前述一方之面的方向來觀察時，與前述反射性導電性層之至少一部分重疊的低反射層。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，前述低反射層與前述反射性導電性層之重疊部分的面積，亦可為前述反射性導電性層的面積的30%以上。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，由垂直於前述透光性基板之前述一方之面的方向來觀察時之前述低反射層的外輪廓形狀，亦可將前述反射性導電性層的外輪廓形狀包含於內側。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，亦可以前述第1方向透明電極單位以及第2方向透明電極單位排列的位置檢測區域的外周部且為前述透光性基板之前述一方之面上，具有裝飾部，前述低反射層與前述裝飾部係以同一材料形成的。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，亦可以前述第1方向透明電極單位以及第2方向透明電極單位排列的位置檢測區域的外周部且為前述透光性基板之 前述一方之面上，具有配線，前述反射性導電性層與前述配線係以同一材料形成的。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，前述低反射層，亦可於厚度方向，對前述反射性導電性層被形成於前述透光性基板側。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，前述低反射層，亦可被形成於前述反射性導電性層與前述透光性基板之間。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，前述透光性基板之與前述一方之面相反側的面，亦可作為觸控面板的輸入面而發揮功能。
於根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，前述低反射層，亦可於厚度方向，被形成於從前述透光性基板起算的距離比前述反射性導電性層更遠之側。
此外，根據本發明之顯示裝置，包含：顯示面板，以及被配置於前述顯示面板的觀察者側的前述靜電電容式觸控面板基板。
根據本發明之靜電電容式觸控面板基板，可以使相互交叉的排列於2方向的透明電極單位之間的接續部變得不易醒目。
根據本發明的顯示裝置，具備彼之靜電電容式觸控面板基板具有前述效果。
1‧‧‧透光性基板
2a‧‧‧第1方向透明電極單位
2b‧‧‧第2方向透明電極單位
3a‧‧‧第1方向接續部
3b‧‧‧第2方向接續部
4‧‧‧絕緣層
5‧‧‧反射性導電性層
6‧‧‧低反射層
7‧‧‧配線
7a‧‧‧第1方向透明電極擴張部
10‧‧‧靜電電容式觸控面板基板
20‧‧‧靜電電容式觸控面板基板
30‧‧‧觸控面板
40‧‧‧顯示面板
Ap‧‧‧位置檢測區域
C‧‧‧標準光源
S1‧‧‧第1面
S2‧‧‧第2面
V‧‧‧觀察者
圖1(a)係說明根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之一實施形態(先形成的接續部)之模式平面圖，圖1(b)係圖1(a)中的C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
圖2(a)係說明根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之其他實施形態(後形成的接續部)之模式平面圖，圖2(b)係圖2(a)中的C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
圖3(a)係說明根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之其他實施形態(先形成的接續部，貫孔接續)之模式平面圖，圖3(b)係圖3(a)中的C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
圖4(a)係說明根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之其他實施形態(後形成的接續部，貫孔接續)之模式平面圖，圖4(b)係圖4(a)中的C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
圖5(a)係說明根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之其他實施形態(反射性導電性層由低反射層露出一部分)之模式平面圖，圖5(b)係圖5(a)中的C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
圖6(a)、(b)係於圖5的形態分別說明反射性導 電性層的露出狀況之例之平面圖。
圖7(a)係說明根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之其他實施形態(低反射層與裝飾部相同材料)之用的平面圖，圖7(b)係顯示紅外線透過窗的部分之部分擴大剖面圖，圖7(c)係對應於圖1(b)的接續部的部分擴大剖面圖。
圖8係顯示根據本發明的靜電電容式觸控面板基板之其他實施形態(附有保護膜(overcoat)層)之(對應於圖1(b)的構成之)部分擴大剖面圖。
圖9係說明根據本發明的顯示裝置之一實施形態之剖面圖。
圖10係說明根據本發明的顯示裝置之其他實施形態之剖面圖。
圖11(a)係顯示使用了從前的靜電電容式觸控面板基板之觸控面板、顯示面板，及具備顯示裝置用前面保護板的從前的顯示裝置之一例之分解平面圖，圖11(b)係顯示靜電電容式觸控面板基板的透明電極單位之一例之部分擴大平面圖，圖11(c)係顯示透明電極單位間的接續部之一例之部分擴大平面圖。
圖12為圖11(c)中之在C-C線之接續部的部分擴大剖面圖。
以下，參照圖面說明本發明之實施形態。 又，圖式為概念圖，因應說明上的方便而適當地誇張表現構成要素的比例尺關係、縱橫比等等。
[A]用語的定義：
以下，針對在本發明使用的主要用語，在此處先說明其定義。
所謂「表側」，是在靜電電容式觸控面板基板10或者其他構成要素，把靜電電容式觸控面板基板10與顯示面板40組合使用時，顯示光由顯示面板40射出光之側，意味著觀察顯示面板40的顯示之觀察者側。
此外，所謂「表側」，意味著於靜電電容式觸控面板基板10或者其他構成要素，操作使用了靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板30之操作者側。
所謂「背側」，意味著與前述「表側」為相反側，意味著於靜電電容式觸控面板基板10或者其他構成要素，顯示面板40的顯示光射入光之側。
「第1面」與「第2面」之中，何者為前述「表側」，何面為前述「表側」是任意的。
「第1面」與「第2面」之中，何面為「一方之面」，何面為「另一方之面」是任意的。
但是，於本說明書，把設有第1方向透明電極單位2a及第2方向透明電極單位2b之側的面稱為「一方之面」。此「一方之面」，會成為前述「表側」還是會成為「背側」，依存於關係到靜電電容式觸控面板基板 10的層構成之使用方式。靜電電容式觸控面板基板10，係以其低反射層6對反射性導電性層5成為表側的方式使用。
於本說明書，係以前述「一方之面」作為「背側」使用的形態為主體來進行說明，但也說明作為「表側」使用的形態。
[B]靜電電容式觸控面板基板10：
於各實施形態說明根據本發明之靜電容量式觸控面板基板10。
《第1實施形態：先形成的接續部》
圖1(a)係根據本發明的靜電電容式觸控面板基板10之第1實施形態之模式平面圖，圖1(b)係圖1(a)中的C-C線之部分擴大剖面圖。
本實施形態，係先形成第2方向接續部3b之後，藉由形成第1方向透明電極單位2a及第2方向透明電極單位2b而得到的構造的形態。
圖1所示的實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，構成為具有：透光性基板1；於此透光性基板1之一方之面上，被排列於第1方向的複數第1方向透明電極單位2a；以與第1方向透明電極單位2a相同的材料被形成於同一面，接續第1方向透明電極單位2a彼此的第1方向接續部3a；以與第1方向透明電極單位2a相同的 材料被形成於同一面，位於第1方向透明電極單位2a之間，同時位於第1方向接續部3a之間，被排列於與第1方向交叉的第2方向之複數第2方向透明電極單位2b；接續第2方向透明電極單位2b彼此，與第1方向接續部2a係中介著絕緣層4而絕緣，包含反射性導電性層5的第2方向接續部3b；以及根據國際照明委員會CIE之使用標準光源C的Yxy表色系之Y值呈現10%以下的低反射性，由垂直於透光性基板1之前述一方之面的第1面S1的方向來觀察時，與反射性導電性層5之至少一部分重疊的。
而且，於本實施形態，反射性導電性層5與低反射層6之前述重疊，是在由垂直於透光性基板1之前述一方之面的第1面S1的方向來觀察時，低反射層6的外輪廓形狀，成為把反射性導電性層5之外輪廓形狀包含於內側的重疊程度。此狀況，換句話說是反射性導電性層5的面積的100%，總之在全區域重疊著低反射層6。
於本實施形態，成為透光性基板1的一方之面的第1面S1，於圖1(b)的剖面圖為圖式上方之面。亦即，設想靜電電容式觸控面板基板10，於此剖面圖，把圖式下側的第2面S2做為表側，朝向觸控面板的操作者也就是顯示面板的觀察者V使用的形態。
在該圖，於XY直角坐標系，Y方向為第1方向，X方向為第2方向。
又，於本發明，相互交叉的第1方向與第2 方向沒有必要正交。
圖1(a)之模式平面圖，在位置檢測區域Ap內，沒有描繪出被排列於第1方向的複數第1方向透明電極單位2a，以及被排列於第2方向的複數第2方向透明電極單位2b之全部。注意接續第2方向透明電極單位2b彼此的第2方向接續部3b的部分，僅畫出一個第2方向接續部3b與其周邊為代表。此外，形成於位置檢測區域Ap的外周部的配線7，也作為接續於第1方向透明電極單位2a者僅模式描繪出1根，省略接續於第2方向透明電極單位2b之配線7的圖示。
又，在該圖中，以於位置檢測區域Ap的外周部重疊接續於配線7的方式，在位置檢測區域Ap的外周部，以與第1方向透明電極單位2a相同材料，同時於同一面形成圖案之第1方向透明電極擴張部7a。
圖1(a)係由反射性導電性層5、低反射層6等形成之側的「背側」所見到的靜電電容式觸控面板基板10的平面圖。於圖1(a)，第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b等透明層之另一側形成的絕緣層4、反射性導電性層5及低反射層6，因為在該透明層為不透明時應該是位在被遮住的層之位置關係，所以用虛線來表示。但是，以虛線來表示，只是為了要容易理解而以，並沒有正確表現出層的位置關係。
在圖1(a)的平面圖與圖1(b)的部分擴大剖面圖之間，圖式中左右方向等各構成要素間的尺寸並未 被維持大小關係。
關於這些圖式標示，對於相關於本發明的其他實施形態之圖式也是相同的。
於本實施形態，低反射層6，在由垂直於透光性基板1之前述一方之面亦即第1面S1的方向來觀察時的外輪廓形狀，只要是把反射性導電性層5的外輪廓形狀包含於內側即可，相同而完全重疊亦可。
於圖1所示的本實施形態，低反射層6的外輪廓形狀為長方形形狀，反射性導電性層5的外輪廓形狀也是長方形形狀。接著，低反射層6的外輪廓形狀，比反射性導電性層5的外輪廓形狀更大。而且，低反射層6的外輪廓形狀，在其全周圍，係對反射性導電性層5的外輪廓形狀往外側突出。又，於本發明，低反射層6的外輪廓形狀為任意形狀，不限定於長方形。反射性導電性層5也同樣。
低反射層6的外輪廓形狀，為了在位置對準精度上留有些許寬裕，對反射性導電性層5的外輪廓形狀於外側較大而全周圍突出0.5μm以上，較佳者為1μm以上，更佳者為2μm以上，又更佳者為4μm以上的形狀為佳。但是，即使突出，也以100μm以下，較佳為30μm以下，更佳為突出10μm以下是較佳的。太過突出的話，在低反射層6的部分，會影響到透過觸控面板所看到的顯示面板的顯示，對顯示品質有不好的影響。
於本實施形態，低反射層6，係於厚度方向， 被形成於對反射性導電性層5於透光性基板1之側，更具體地說，是被形成在反射性導電性層5與透光性基板1之間的形態。
但是，於本發明，所謂的「對反射性導電性層5在透光性基板1之側」，也包含透光性基板1之另一方之面，亦即在第2面S2上形成低反射層6的形態。重要的是，於本發明的靜電電容式觸控面板基板10，操作使用了靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板之操作者，也是觀察靜電電容式觸控面板基板10適用的顯示面板40的觀察者V，對此觀察者V，在比反射性導電性層5更近側具有低反射層6的構成。
[材料及形成法] [透光性基板1]
前述透光性基板1，可以使用習知的材料，代表性的是玻璃板，使用聚酯樹脂等樹脂材料亦可。
[第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b、及第1方向接續部3a]
前述第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b及第1方向接續部3a可以採用習知的材料及形成法。例如，可以使用光蝕刻法，將ITO(Indium Tin Oxide；銦錫氧化物)、IZO(Indium Zinc Oxide；銦鋅氧化物氧化物)、AZO(Aluminum Zinc Oxide；鋁鋅氧化物)等 透明導電體薄膜形成圖案者。
[第2方向接續部3b與反射性導電性層5]
第2方向接續部3b，至少包含反射性導電性層5。
於反射性導電性層5，可以採用前述透明導電體薄膜以外的金屬配線材料等，公知的材料及形成法。例如，於反射性導電性層5，可以使用銀、金、銅、鉻、鉑、鋁、鈀、鉬等金屬(包含其合金)等。例如可以使用作為由銀、鈀及銅所構成的合金(也稱為APC)之金屬層藉由濺鍍法製膜之後，藉由光蝕刻法形成圖案者。以這些金屬材料形成的反射性導電性層5，呈現金屬特有的反射性，此外，通常為不透明。因此，會反射光而容易變得醒目，而以低反射層6使其變得難以醒目。
反射性導電性層5的反射性，是反射率在可見光區域(380~780nm)之平均值呈現50%以上。例如，一般而言銀為90%以上，鋁為80%以上，金雖在短波長區域會降低至50%附近，但平均呈現50%以上。
反射性導電性層5，不限於金屬材料，例如可以使用呈現反射性的導電性高分子。
於本實施形態，反射性導電性層5，係被形成為藉由銀、鈀及銅所構成的銀合金(也稱為APC)，藉由光蝕刻法形成圖案之金屬層。
於本實施形態，反射性導電性層5與配線7係以同一材料形成的，而且同時被形成於同一面，具體而 言是同時被形成於透光性基板1之一方之面亦即第1面S1。
反射性導電性層5的外形形狀的尺寸，例如於圖1所示的本實施形態，為寬幅5~20μm，長度20~500μm之長方形。前述寬幅，係第1方向(圖面Y方向)之尺寸，前述長度，係第2方向(圖面X方向)之尺寸。
第2方向接續部3b，除反射性導電性層5以外，進而包含前述之ITO等透明導電體薄膜，亦可為透明導電體薄膜接續於反射性導電性層5的方式連接而層積的構造。
[絕緣層4]
絕緣層4，為電氣絕緣性之層，可以採用公知的材料及形成法。絕緣層4，例如，作為樹脂層，可以使用紫外線硬化型丙烯酸系樹脂藉由光蝕刻法形成圖案。
又，於本說明書，「絕緣」以及「接續」都是指是否導電之用語。
絕緣層4，無論透明、不透明皆可，而以透明為較佳。因為不會降低靜電電容式觸控面板基板10的透明性的緣故。於本實施形態，絕緣層4被形成為透明的層。
[低反射層6]
低反射層6，為根據國際照明委員會CIE之依據使用 標準光源C的JIS-Z8701之Yxy表色系之Y值，呈現10%以下的低反射性之層。又，測定當然是由低反射層6的層面2面之中遠離反射性導電性層5之面被觀察之側來進行。低反射層6同時也呈現遮光性(不透明性)。這是因為可以減少來自反射性導電性層5的反射光的緣故。亦即，低反射層6，也可以稱為呈現低反射性及遮光性而隱蔽反射性導電層5之「隱蔽層」。低反射層6，可以做為使前述反射性導電性層5變得不醒目之用的層而發揮功能。
前述遮光性，由使反射性導電性層5不醒目的觀點來看，以透過率來說最大也在10%以下(以光學濃度OD表示為1以上)，較佳者為透過率1%以下(光學濃度OD2.0以上)，進而更佳者為透過率0.01%以下(光學濃度OD4.0以上)。
低反射層6，為把碳黑等黑色顏料包含於硬化性樹脂等硬化物所構成的樹脂結合劑中的呈現黑色等暗色之層，可以藉由光蝕刻法形成圖案。於硬化性樹脂可以使用紫外線硬化型丙烯酸系樹脂等感光性樹脂。於本實施形態，低反射層6係藉由使用包含碳黑的紫外線硬化型丙烯酸系樹脂藉由光蝕刻法形成圖案。
為了使低反射層6呈現黑色等暗色，亦可使用複數種類除了碳黑以外之紅、黃、藍、綠等有彩色的顏料來呈現黑色之層。例如，使用紅、黃、藍3色之著色顏料成為黑色亦可。所謂暗色，意味著黑色以外，藏青色、 深綠色等明度低的有彩色，前述Y顯示10%以下之色。
亦即，作為使用於低反射層6的著色顏料，可以使用黑色顏料、白色顏料、紅色顏料、黃色顏料、藍色顏料、綠色顏料、紫色顏料等1種或者2種以上。
低反射層6，以氧氮化鉻等自身呈現暗色的無機材料來形成亦可。
低反射層6，以電氣絕緣性者為較佳。低反射層6若為導電性的話，會因為層構成及圖案形狀的組合而使得必須要有絕緣性的部分之絕緣性確保變得困難。例如，雖在圖1所示的本實施形態會沒有問題，但是在後述之圖2的第2實施形態，要確保第2方向透明電極單位2b與第1方向接續部3a之絕緣性會變得困難。
[配線7]
於配線7，可以採用公知的材料及形成法。例如，於配線7，可以使用銀、金、銅、鉻、鉑、鋁、鈀、鉬等金屬(包含其合金)等。例如可以使用作為由銀、鈀及銅所構成的合金(也稱為APC)之金屬層藉由濺鍍法製膜之後，藉由光蝕刻法形成圖案者。
於本實施形態，配線7，係藉由銀、鈀及銅所構成的銀合金(也稱為APC)形成為金屬層。總之，於本實施形態，前述反射性導電性層5與配線7係以同一材料形成的，而且同時被形成於同一面，具體而言是同時被形成於透光性基板1之一方之面亦即第1面S1。
〔製造方法〕
如以上所述之靜電電容式觸控面板基板10，可以如下述來製造。
首先，於透光性基板1之一方之面亦即第1面S1形成低反射層6。接著，作為第2方向接續部3b之反射性導電性層5，及配線7係以同一材料同時形成圖案。其次，絕緣層4被形成圖案。接著，第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b，以及第1方向接續部3a係以同一材料同時形成圖案。如此進行，可以製造靜電電容式觸控面板基板10。
[本實施形態之效果]
藉由製作如以上所述之構成，在本實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，可以使使用於透明電極單位之間的接續部之反射性導電性層5之全部，以低反射層6來隱藏的構造，所以可使接續部有效果地增加其難醒目的程度。
而且，於本實施形態，反射性導電性層5，係與配線7相同的材料來形成，反射性導電性層5可以在與配線7相同的步驟完成不需增加步驟數目，所以可以讓使反射性導電性層5變得不醒目的構造，在不增加成本的情況下實現。
《第2實施形態：後形成的接續部》
圖2(a)係根據本發明的靜電電容式觸控面板基板10之第2實施形態之模式平面圖，圖2(b)係圖2(a)中的C-C線之部分擴大剖面圖。
本實施形態，係先形成第1方向透明電極單位2a及第2方向透明電極單位2b之後，形成第2方向接續部3b而得到的構造的形態。
圖2所示的實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，除了對前述圖1所示的第1實施形態有著以下幾點不同以外，基本上是相同的。因此，相同部分的說明予以省略。
a)反射性導電性層5及配線7之形成、第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b、及第1方向接續部3a之形成的順序為顛倒這一點。(換句話說，中介著絕緣層4的表背之層的位置關係為相反)。
b)因為前述a)，而使得絕緣層4的形成、第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b、及第1方向接續部3a之形成的順序成為相反這一點，以及絕緣層4的形成，與反射性導電性層5及配線7之形成的順序為相反這一點。
〔製造方法〕
如以上所述之靜電電容式觸控面板基板10，可以如下述來製造。
首先，於透光性基板1之一方之面亦即第1面S1形成低反射層6。接著，第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b，以及第1方向接續部3a係以同一材料同時形成圖案。其次，絕緣層4被形成圖案。接著，作為第2方向接續部3b之反射性導電性層5，及配線7係以同一材料同時形成圖案。如此進行，可以製造靜電電容式觸控面板基板10。
[反射性導電性層5及配線7的材料]
在本實施形態，反射性導電性層5及配線7的圖案形成，係對第1方向透明電極單位2a、第2方向透明電極單位2b、及第1方向接續部3a同時形成圖案之後進行的，所以於反射性導電性層5及配線7的材料，可得沒有必要考慮到第1方向透明電極單位2a等在圖案形成時對蝕刻液的耐受性之優點。
因此，在本實施形態，作為反射性導電性層5及配線7之材料，可以採用鉬(Mo)、鋁(Al)、鉬(Mo)之3層構造的配線材料(被稱為MAM)。
[本實施形態之效果]
藉由製作如以上所述之構成，在本實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，可以使使用於透明電極單位之間的接續部之反射性導電性層5之全部，以低反射層6來隱藏的構造，所以可使接續部有效果地增加其難醒目的程 度。
而且，於本實施形態，反射性導電性層5，係與配線7相同的材料來形成，反射性導電性層5可以在與配線7相同的步驟完成不需增加步驟數目，所以可以讓使反射性導電性層5變得不醒目的構造，在不增加成本的情況下實現。
《第3實施形態：先形成的接續部、貫孔接續》
圖3(a)係根據本發明的靜電電容式觸控面板基板10之第3實施形態之模式平面圖，圖3(b)係圖3(a)中的C-C線之部分擴大剖面圖。
本實施形態，是先形成第2方向接續部3b之後，把具有貫孔4h的絕緣層4形成於位置檢測區域Ap之全區域，此後，形成第1方向透明電極單位2a及第2方向透明電極單位2b，以貫孔4h使第2方向透明電極單位2b與第2方向接續部3b接續而得的構造之形態。
圖3所示的實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，除了對前述圖1所示的第1實施形態有著以下幾點不同以外，基本上是相同的。因此，相同部分的說明予以省略。
a)絕緣層4，不僅接續部而已，也被形成於位置檢測區域Ap之全區域，進行第2方向透明電極單位2b與第2方向接續部3b之接續的貫孔4h的部分為不形成這一點。
b)因為前述a)，作為第2方向接續部3b的反射性導電性層5，在貫孔4h的部分，與第2方向透明電極單位2b接續這一點。
〔製造方法〕
如以上所述，靜電電容式觸控面板基板10，除了在圖案形成時把貫孔4h作為層之非形成部同時形成絕緣層4，形成於位置檢測區域Ap之全區域以外，能夠以與前述第1實施形態同樣地製造。
[本實施形態之效果]
藉由製作如以上所述之構成，在本實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，可以使使用於透明電極單位之間的接續部之反射性導電性層5之全部，以低反射層6來隱藏的構造，所以可使接續部有效果地增加其難醒目的程度。
而且，於本實施形態，反射性導電性層5，係與配線7相同的材料來形成，反射性導電性層5可以在與配線7相同的步驟完成不需增加步驟數目，所以可以讓使反射性導電性層5變得不醒目的構造，在不增加成本的情況下實現。
《第4實施形態：後形成的接續部、貫孔接續》
圖4(a)係根據本發明的靜電電容式觸控面板基板 10之第4實施形態之模式平面圖，圖4(b)係圖4(a)中的C-C線之部分擴大剖面圖。
本實施形態，是先形成第1方向透明電極單位2a及第2方向透明電極單位2b之後，把具有貫孔4h的絕緣層4形成於位置檢測區域Ap之全區域，此後，形成第2方向接續部3b，以貫孔4h與第2方向透明電極單位2b接續而得的構造之形態。
圖4所示的實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，除了對前述圖2所示的第2實施形態有著以下幾點不同以外，基本上是相同的。因此，相同部分的說明予以省略。
a)絕緣層4，不僅接續部而已，也被形成於位置檢測區域Ap之全區域，進行第2方向透明電極單位2b與第2方向接續部3b之接續的貫孔4h的部分為不形成這一點。
b)因為前述a)，作為第2方向接續部3b的反射性導電性層5，在貫孔4h的部分，與第2方向透明電極單位2b接續這一點。
〔製造方法〕
如以上所述，靜電電容式觸控面板基板10，除了在圖案形成時把貫孔4h作為層之非形成部同時形成絕緣層4，形成於位置檢測區域Ap之全區域以外，能夠以與前述第2實施形態同樣地製造。
[本實施形態之效果]
藉由製作如以上所述之構成，在本實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，可以使使用於透明電極單位之間的接續部之反射性導電性層5之全部，以低反射層6來隱藏的構造，所以可使接續部有效果地增加其難醒目的程度。
而且，於本實施形態，反射性導電性層5，係與配線7相同的材料來形成，反射性導電性層5可以在與配線7相同的步驟完成不需增加步驟數目，所以可以讓使反射性導電性層5變得不醒目的構造，在不增加成本的情況下實現。
《第5實施形態：反射性導電性層5由低反射層6露出一部分》
圖5(a)係根據本發明的靜電電容式觸控面板基板10之第5實施形態之模式平面圖，圖5(b)係圖5(a)中的C-C線之部分擴大剖面圖。
本實施形態，低反射層6與反射性導電性層5之一部分重疊，結果，為反射性導電性層5由低反射層6露出一部分而可以看見的形態。
圖5所示的實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，除了對前述圖1所示的第1實施形態有著以下幾點不同以外，基本上是相同的。因此，相同部分的說明 予以省略。
a)低反射層6，與反射性導電性層5之一部分重疊，反射性導電性層5由低反射層6露出一部分而可以看見這一點。
[低反射層6與反射性導電性層5之重疊程度]
到目前為止說明的各實施形態，低反射層6都是在反射性導電性層5的全區域重疊，低反射層6的外輪廓形狀包含於反射性導電性層5的外輪廓形狀的內側的形態。因此，反射性導電性層5在其全區域完全被低反射層6隱蔽，反射性導電性層5無法被看見。
在使反射性導電性層5變得不醒目這一點，反射性導電性層5在其全區域與低反射層6重疊為較佳，但是反射性導電性層5即使多少會被看到，在實用上對於反射性導電性層5導致的顯示品質的不良影響若是很輕微，或者是反射性導電性層5所導致的顯示品質的降低是可以容許的用途上的話，採用反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態也是可以的。
例如，即使說低反射層6也遮住顯示畫面，所以考慮到對顯示品質的不良影響的話，低反射層6以儘可能小者為較佳。亦即，也考慮到低反射層6自身導致的對顯示品質的不良影響的場合，也可以採用反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態。亦即，在完全隱蔽反射性導電性層5的觀點，低反射層6的最小形狀為與反 射性導電性層5相同形狀相同尺寸。然而，多多少少容許露出部E的產生的話，低反射層6的外輪廓形狀，採用比反射性導電性層5的外輪廓形狀更小者，即使有些許位置偏移產生，也可以使低反射層6的面積與露出部E的面積的合計面積減少。因此，可以減少遮住顯示畫面的要素。
此外，也應該要考慮到位置對準精度並不重分，反射性導電性層5與低反射層6之相對位置關係的位置偏移，導致反射性導電性層5的一部分由低反射層6露出的場合。
本第5實施形態，係在這樣的狀況下，反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態。
在圖5(a)及圖5(b)，顯示反射性導電性層5，對低反射層6在圖式中往右方向偏離位置的結果，反射性導電性層5由低反射層6露出一部分之產生露出部E的狀況。結果，露出部E成為觀察者V可以視覺確認到。該圖，雖然是反射性導電性層5於該線的延伸方向(X軸方向)位置偏離的場合，但反射性導電性層5與低反射層6之相對位置偏移的關係，在以反射性導電性層5為基準時，也於該線寬幅方向有位置偏移，在反射性導電性層5的線的延伸方向與線寬幅方向之雙方方向上也有位置偏移。
圖6係針對反射性導電性層5與低反射層6之相對位置偏移的方向，例示2方向的場合之圖。圖6(a)顯示反射性導電性層5的線的延伸方向(在該圖為 X軸方向)的場合，圖6(b)顯示反射性導電性層5的線的線寬幅方向(在該圖為Y軸方向)的場合。在圖6(a)及圖6(b)以兩個箭頭印顯示的方向為反射性導電性層5與低反射層6之相對位置偏移的方向。圖6(a)相當於前述圖5的位置偏移關係。
圖6(a)係低反射層6對反射性導電性層5在X軸方向往圖式右方向偏離位置的狀況，於反射性導電性層5的左側產生露出部E。圖6(b)係低反射層6對反射性導電性層5在Y軸方向往圖式下方向偏離位置的狀況，於反射性導電性層5的上側產生露出部E。在這些圖式，為了容易判斷，反射性導電性層5及低反射層6，分別於外輪廓形狀的內側不施以陰影，僅在露出部E的部分施加陰影。此外，藉由低反射層6遮蔽的部分的反射性導電性層5的外輪廓線以虛線表示。
(反射性導電性層5以低反射層6遮蔽的面積比率)
如此般，在低反射層6與反射性導電性層5的一部分重疊，反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態，低反射層6重疊於反射性導電性層5的部分的面積，為反射性導電性層5的面積的30%以上，較佳為50%以上，更佳為70%以上，進而更佳為80%以上的面積比率。
因為前述面積比例未滿前述值得話，會使顯示品質降低的緣故。
由圖6可知，反射性導電性層5由低反射層6 伸出的尺寸，例如為1μm等的話，不管伸出方向為何即使是相同尺寸，在反射性導電性層5之線方向(在圖式為X軸方向)伸出時，以及在線寬幅方向(在圖式為Y軸方向)伸出時，反射性導電性層5由低反射層6露出的露出部E的面積相對於反射性導電性層5的面積之面積比率是不同的。特別是，反射性導電性層5的露出部E對顯示品質造成之不良影響變大，會是在圖6(b)所示的線寬幅方向上位置偏移而伸出時。於這樣的狀況，也可以藉由使由低反射層6所遮蔽的前述面積比率成為前述值以上，而抑制顯示品質的降低。
顯示具體例的話，對反射性導電性層5的線的線寬幅15μm，在該線的全長在線寬幅方向上僅有3μm未藉由低反射層6隱蔽而伸出時，前述面積比率成為{(15μm-3μm)/15μm}×100=80%。
[本實施形態之效果]
藉由製作如以上所述之構成，在本實施形態之靜電電容式觸控面板基板10，可以使使用於透明電極單位之間的接續部之反射性導電性層5之一部分，以低反射層6來隱藏的構造，所以可使接續部增加其難醒目的程度。此外，也可以抑制低反射層6自身對顯示品質之不良影響。
而且，於本實施形態，反射性導電性層5，係與配線7相同的材料來形成，反射性導電性層5可以在與配線7相同的步驟完成不需增加步驟數目，所以可以讓使 反射性導電性層5變得不醒目的構造，在不增加成本的情況下實現。
進而，藉由容許某個程度之反射性導電性層5的露出，可以緩和位置對準的精度，抑制對顯示品質之不良影響而使製造變得更為容易，可以更低成本化。
《變形形態》
本發明之靜電電容式觸控面板基板10，可以採用前述形態以外之其他形態。以下，說明其一部分。
[反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態]
作為反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態進行說明的第5實施形態，為第1實施形態之變形形態。
但是於本發明，反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態，不限定於第1實施形態之變形形態。反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態，也可以是對第2實施形態、第3實施形態、第4實施形態、或者是後述的變形形態等其他形態之變形形態。
[把露出部E作為反射部來利用的形態]
在反射性導電性層5由低反射層6露出一部分的形態，由低反射層6露出的反射性導電性層5的部分亦即露出部E，亦可積極地利用作為反射部。
例如，於射擊遊戲等遊戲機器，對包含靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板被配置於顯示面板的觀察者側之顯示裝置，藉由來自槍型光控制器的光照射而指示該顯示畫面內的任意的位置，藉由接收由此槍型光控制器所放出的光在露出部E構成的反射部反射之反射光，而檢測出顯示畫面內之指示的位置的反射位置檢測手段，藉由附加可以攝影顯示畫面的CCD等二次元影像感測器等所構成的反射位置檢測手段，由此反射位置檢測手段與靜電電容式觸控面板基板10的露出部E構成的反射部來構成光學之非接觸指示位置檢測手段，而可以成為射擊遊戲機器。又，照射光使用紅外線的話，可以容易達成與可見光之辨別。
把反射性導電性層5作為反射部利用時，以不設置低反射層6反而可以增強反射光強度這一點來看是比較佳的，但是周圍環境的光照過來時反射性導電性層5會變得醒目。然而，藉由以低反射層6隱藏反射性導電性層5的一部分，可以更容易取得反射性導電性層5原本的作為電氣接續手段之基板的電氣性能、作為在顯示畫面內之光學的非接觸指示位置檢測手段的1個構成要素之反射光強度，作為顯示畫面品質之反射性導電性層5的難醒目性，關係到反射性導電性層5與低反射層6之位置對準精度的關係上之製造容易性以及成本等等各種性能的平衡，可以增加設計的自由度。
而且，把光學的非接觸指示位置檢測手段之 作為一個構成要素之反射部，與反射性導電性層5分別獨立設置的話，因而會增加步驟數目應該會提高成本，但藉由把反射性導電性層5的露出部E利用於反射部，反射部成為以與反射性導電性層5相同材料同時形成的構成，可以不增加步驟數目而設置。
作為如此之顯示畫面內的光學的非接觸指示位置檢測手段之一個構成要素，露出部E在反射部上之應用，除了遊戲機器用途以外，還可以作為藉由指示顯示畫面內的任意位置，以該部分為中心進行畫面的擴大或縮小等操作的控制器來應用。例如，藉由有規則地排列露出部E，露出部E可以擔任顯示畫面內的網格線(gridline)的功能。
又，於前述型態例，在區分作為光學的非接觸指示位置檢測手段之一個構成要素之使用，或是作為觸控面板機能使用的用途，操作者是位在雙手無法構到顯示畫面的位置來進行遙控，在併用兩種功能的用法時，操作者是在雙手可以碰到顯示畫面的位置而進行控制的。
[裝飾部8的附加，與顯示裝置用前面保護板之兼用]
如圖7所例示的，於本發明，靜電電容式觸控面板基板10，可以在位置檢測區域Ap的外周部具有裝飾部8。
裝飾部8，係於包含靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板，及使用此觸控面板的顯示裝置，使顯示裝置的觀察者V乃至於觸控面板的操作者，以無法看見位 於位置檢測區域Ap的外周部的配線7或控制電路等的方式予以隱藏，不損及外觀，同時表現出任意的新式樣的部份。
靜電電容式觸控面板基板10，藉由在位置檢測區域Ap的外周部具有裝飾部8，可以擔負圖11(a)所例示之從前的顯示裝置200之覆蓋玻璃等作為顯示裝置用前面保護板50的功能，可以兼用為顯示裝置用前面保護板50。
兼用顯示裝置用前面保護板50的構成之靜電電容式觸控面板基板10，也可以是顯示裝置用前面保護板一體型觸控面板基板。在此場合，透光性基板1之與第1方向透明電極2a及第2方向透明電極2b設置之面(一方之面，第1面S1)為相反側的面(另一方之面，第2面S2)，係作為操作者的手指等外部導體接觸(或者接近)於觸控面板感測器進行位置輸入的觸控面板的輸入面(觸碰面，接觸面)而發揮功能。
靜電電容式觸控面板基板10，藉由兼用顯示裝置用前面保護板50而一體化，進而可以得到減少零件數目、薄型化的效果。
[低反射層6，與裝飾部8之材料相同化]
靜電電容式觸控面板基板10也具有裝飾部8的型態，該裝飾部8具有與低反射層6同樣的低反射性及遮光性的構成要素時，低反射層6能夠以與裝飾部8相同材料 來形成。此外，低反射層6以與裝飾部8相同材料來形成為較佳。藉由使低反射層6以與裝飾部8相同材料來形成，低反射層6，可以不增加步驟數目而以與裝飾部8同一個步驟來設置，所以能夠不增加成本而實現使反射性導電性層5變成不醒目的構造。當然，在此場合，低反射層6與裝飾部8被形成於透光性基板1的同一面上(參照圖7(c))，能夠以同一步驟同時形成。又，圖7(c)，顯示圖1形態的低反射層6，與裝飾部8同時形成之例，但其他形態的低反射層6，與裝飾部8同時形成亦可。
裝飾部8，為了隱藏配線7等，至少有具有遮光性的遮光層8a，其他通常也具有紅外線透過窗8b等。紅外線透過窗8b，由於在通話時使行動電話抵在耳朵的時候，有必要防止觸控面板的錯誤動作，或者由使顯示面板的顯示消失而延長電池壽命的觀點等來看，被設置於作為感知人體肌膚的接近之人體感知感測器而設置的紅外線感測器的部分。
作為以與低反射層6相同材料形成的裝飾部8的構成要素，例如有遮光層8a，被形成於紅外線透過窗8b的部份的紅外線透過層8bL。
[遮光層8a]
遮光層8a的遮光性，隨著要求規格、顯示色而不同，以透過率來說最大也在3%以下(以光學濃度OD表示為1.5以上)，較佳者為透過率1%以下(光學濃度 OD2.0以上)，進而更佳者為透過率0.01%以下(光學濃度OD4.0以上)為較佳。透過率超過前述值的話，會使得應該隱蔽的零件等變成看得見。
遮光層8a，可以用公知的材料及形成法來形成。例如，遮光層8a，可以由使著色顏料包含於硬化性樹脂之硬化物所構成的樹脂結合劑中的層來形成。作為硬化性樹脂可以使用紫外線硬化型丙烯酸系樹脂等感光性樹脂。
作為使用於遮光層8a的著色顏料，只要使用因應於在遮光層8a表現的顏色者即可，沒有特別限制。例如，作為著色顏料，可以使用黑色顏料、白色顏料、紅色顏料、黃色顏料、藍色顏料、綠色顏料、紫色顏料等。著色顏料，可以單獨使用1種，也可以使用複數種類同種類之色，或者不同色的著色顏料。
以與低反射層6相同材料形成的場合的遮光層8a呈現的顏色，不是如白色那樣反射性的顏色，而是如黑色那樣的暗色之色。此外，黑色，作為在裝飾部8表現的新式樣色，也是較佳之色的一種。
[紅外線透過窗8b]
如圖7(a)及圖7(b)所例示的，於裝飾部8，在作為對可見光呈現遮光性同時對紅外光呈現透過性的紅外線透過窗8b的部分，設有紅外線透過層8bL。遮光層8a為黑色的場合，作為黑色顏料使用碳黑的話，不僅對可見 光，對紅外光也具有遮光性，所以作為與遮光層8a為材料不同之層，必須要紅外線透過層8bL。
作為紅外線透過窗8b的對紅外光的透過性，隨著適用於要求規格、顯示色、紅外光透過窗8b的紅外線感測器等之紅外線利用零件而有所不同，但顯示一例的話，只要在紅外線區域的透過率為70%以上即可。使前述透過率為70%以上的紅外線區域，不一定要是780nm以上的區域亦可，例如只要是850nm以上的區域，就可以充分發揮功能。又，使透過率為70%以上的紅外線區域的上限，只要滿足近紅外線區域，即便如此通常只要滿足至1300nm即可。
紅外線透過窗8b之對可見光的遮光性，隨著要求規格、顯示色而有所不同，但紅外線透過窗8b的部分，通常為點狀而且很小，不一定要配合紅外線透過窗8b與遮光層8a的遮光性的水平。因此，紅外線透過窗8b之對可見光的遮光性，呈現一例的話，以透過率來說最大也在50%以下(以光學濃度OD表示為0.2以上)，較佳者為透過率25%以下(光學濃度OD0.6以上)，進而更佳者為透過率10%以下(光學濃度OD1.0以上)為佳。
如此進行，紅外線透過窗8b，例如對紅外光區域，在波長850nm以上1300nm以下具有70%以上的透過率，對可見光區域具有10%以下的透過率。又，此透過率並不是平均值，而是各個波長之分別的值。
(紅外線透過層8bL)
紅外線透過層8bL，為了使紅外線透過窗8b的存在變得不醒目，通常以與遮光層8a類似的顏色形成的。接著，紅外線透過層8bL，對可見光呈現遮光性同時對紅外光呈現透過性。
以與低反射層6相同材料形成的場合的紅外線透過層8bL呈現的顏色，不是如白色那樣反射性的顏色，而是如黑色那樣的暗色之色。此外，黑色，作為在裝飾部8表現的新式樣色，也是較佳之色的一種。
紅外線透過層8bL，不使含有如碳黑那樣的黑色顏料，藉由使含有互異的有彩色的著色顏料之複數種類，例如使含有紅色、黃色、藍色，可以形成表現出黑色等暗色之層。
藉由使低反射層6以與紅外線透過層8bL相同材料來形成，低反射層6，可以不增加步驟數目而以與裝飾部8之紅外線透過層8bL同一個步驟來設置，所以能夠不增加成本而實現使反射性導電性層5變成不醒目的構造。
進而，也設置配線7的場合，為了以遮光層8a隱藏配線7，遮光層8a與配線7之對透光性基板1的形成順序，雖然靜電電容式觸控面板基板10被使用時之對觀察者V乃至於操作者的表背方向受到限制，但在配線7不重疊的紅外線透過層8bL的場合，紅外線透過層8bL與配線7之對透光性基板1的形成順序，不受到如前述遮 光層8a的場合那樣的限制。例如，可以採(a)同時形成低反射層6與遮光層8a之後，於遮光層8a上形成配線7之後，在遮光層8a之紅外線透過窗8b的部分形成紅外線透過層8bL，或者是與此相反，(b)同時形成低反射層6與遮光層8a之後，在遮光層8a的紅外線透過窗8b的部分形成紅外線透過層8bL之後，於遮光層8a上形成配線7。這一點，在以與紅外線透過層8bL相同材料形成低反射層6的型態，具有不會妨礙製品設計的自由度的優點。
[外塗層9]
靜電電容式觸控面板基板10，如圖8所例示，可以包含透明的外塗層9。該圖，係把外塗層9形成為透明性基板1的一方之面亦即第1面S1的面上之最上層之形態例。該圖，係對圖1的形態追加外塗層9的形態，但於其他形態追加外塗層9亦可。藉由外塗層9，可以提高可信賴性。
於外塗層9，可以採用公知的材料及形成法。例如，外塗層9以使用透明的樹脂，其中由耐熱性的觀點以使用硬化性樹脂為佳，可以使用熱硬化型環氧樹脂、紫外線硬化型丙烯酸系樹脂等。形成圖案的場合，可以用光蝕刻法來形成。
[C]顯示裝置：
根據本發明之顯示裝置，係至少包含顯示面板、被配 置於此顯示面板的觀察者側之前述靜電電容式觸控面板基板10之顯示裝置。以下，舉代表性之2形態為例進行說明。
《第1實施形態》
圖9所例示的根據本發明的顯示裝置100，係至少依序具備顯示面板40、於此顯示面板40之觀察者V側，包含前述之靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板30、覆蓋玻璃等顯示裝置用前面保護板50之構成例。
顯示面板40，以液晶顯示面板、電致發光(EL)面板為具有代表性的，其他亦可為電子紙面板、陰極射線管之顯示器裝置，亦可為公知的各種顯示面板。
觸控面板30，包含靜電電容式觸控面板基板10，進而包含為了實現觸控面板功能之用的控制電路、連接器等習知的必要零件。
在此構成，因為是具有與觸控面板30另外存在的顯示裝置用前面保護板50的形態，所以靜電電容式觸控面板基板10，只要是對該反射性導電性層5以低反射層6配置於接近觀察者V的方向之構成即可。亦即，反射性導電性層5與低反射層6之某一方，位於離透光性基板1之厚度方向上較遠的位置皆可，透光性基板1之一方之面亦即第1面S1，除了作為背側的方向以外，也可以做為表側的方向來配置。
於顯示裝置用前面保護板50，可以採用習知 之板，例如，可以採用把化學強化玻璃等玻璃板，丙烯酸樹脂等樹脂板作為透明的基材使用，此基材的中央部作為顯示用區域，於此顯示用區域的外周部以黑色等任意顏色以及模樣加飾出不透明的裝飾部8者。
做為顯示裝置用前面保護板50，包含靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板30，在位置檢測區域Ap的外周部包含裝飾部8的場合，裝飾部8省略的構成亦為可能。
藉由採這樣的構成，觸控面板30具備的靜電電容式觸控面板基板10之透明電極單位之間的接續部，可以是不容易醒目的顯示裝置。
《第2實施形態》
圖10所例示的根據本發明的顯示裝置100，係至少具備顯示面板40、以及於此顯示面板40的觀察者側，包含兼用覆蓋玻璃等顯示裝置用前面保護板50的形態之前述靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板30之構成例。
藉由採用這樣的構成，除了根據前述圖9的構成的效果以外，還可得到零件數目減低，以及薄型化的效果。
此外，使被形成於裝飾部8的配線7，與反射性導電性層5為相同材料，或者使低反射層6與裝飾部8為同一材料的形態，可以不增加步驟數目而以同一個步驟，設置用相同材料形成的層與層，所以可以不增加成本 而實現使反射性導電性層5成為不醒目的構造。
《黏著片等樹脂層的中介》
例如，在根據圖8例示的實施形態之顯示裝置100，係包含靜電電容式觸控面板基板10的觸控面板30與顯示面板40之間，以及前述觸控面板30與顯示裝置用前面保護板50之間，存在著具有空隙的空氣層的構造，但在本發明的顯示裝置100，各構成構件之間，以黏著劑層等公知的樹脂層來填埋亦可。藉由樹脂層來減少在構件表面的光反射，可以使顯示變得更容易看。
[D]用途：
根據本發明之靜電電容式觸控面板基板10，即顯示裝置100的用途沒有特別限定。例如可以使用於智慧型手機等行動電話、平板電腦等可攜資訊終端、個人電腦、汽車導航裝置、數位相機、電子手冊、遊戲機、自動售券機、ATM終端、POS終端等。
1‧‧‧透光性基板
2a‧‧‧第1方向透明電極單位
2b‧‧‧第2方向透明電極單位
3a‧‧‧第1方向接續部
3b‧‧‧第2方向接續部
4‧‧‧絕緣層
5‧‧‧反射性導電性層
6‧‧‧低反射層
7‧‧‧配線
7a‧‧‧第1方向透明電極擴張部
10‧‧‧靜電電容式觸控面板基板
Ap‧‧‧位置檢測區域
C‧‧‧標準光源
S1‧‧‧第1面
S2‧‧‧第2面
V‧‧‧觀察者

Claims (10)

  1. 一種靜電電容式觸控面板基板，其特徵為具有：具第1面及與前述第1面為相反側的第2面之透光性基板；於前述透光性基板之前述第1面及第2面之任一方之面上，被排列於第1方向的複數第1方向透明電極單位；以與前述第1方向透明電極單位相同的材料被形成於同一面，接續前述第1方向透明電極單位彼此的第1方向接續部；以與前述第1方向透明電極單位相同的材料被形成於同一面，位於前述第1方向透明電極單位之間，並且位於前述第1方向接續部之間，被排列於與前述第1方向交叉的第2方向之複數第2方向透明電極單位；接續前述第2方向透明電極單位彼此，與前述第1方向接續部係中介著絕緣層而絕緣，包含反射性導電性層的第2方向接續部；以及根據國際照明委員會CIE之使用標準光源C的Yxy表色系之Y值呈現10%以下的低反射性，由垂直於前述透光性基板之前述一方之面的方向來觀察時，與前述反射性導電性層之至少一部分重疊的低反射層。
  2. 如申請專利範圍第1項之靜電電容式觸控面板基板，其中前述低反射層與前述反射性導電性層之重疊部分的面積，為前述反射性導電性層的面積的30%以上。
  3. 如申請專利範圍第2項之靜電電容式觸控面板基板，其中由垂直於前述透光性基板之前述一方之面的方向來觀察時之前述低反射層的外輪廓形狀，係將前述反射性導電性層的外輪廓形狀包含於內側。
  4. 如申請專利範圍第1項之靜電電容式觸控面板基板，其中在排列有前述第1方向透明電極單位以及第2方向透明電極單位的位置檢測區域的外周部且為前述透光性基板之前述一方之面上，具有裝飾部，前述低反射層與前述裝飾部係以同一材料形成。
  5. 如申請專利範圍第1項之靜電電容式觸控面板基板，其中在排列有前述第1方向透明電極單位以及第2方向透明電極單位的位置檢測區域的外周部且為前述透光性基板之前述一方之面上，具有配線，前述反射性導電性層與前述配線係以同一材料形成。
  6. 如申請專利範圍第1~5項之任一項之靜電電容式觸控面板基板，其中於厚度方向，前述低反射層被形成於對前述反射性導電性層為前述透光性基板側。
  7. 如申請專利範圍第6項之靜電電容式觸控面板基板，其中前述低反射層，被形成於前述反射性導電性層與前述 透光性基板之間。
  8. 如申請專利範圍第1項之靜電電容式觸控面板基板，其中前述透光性基板之與前述一方之面相反側的面，係作為觸控面板的輸入面而發揮功能。
  9. 如申請專利範圍第1~5項之任一項之靜電電容式觸控面板基板，其中於厚度方向，前述低反射層被形成於從前述透光性基板起算的距離比前述反射性導電性層更遠之側。
  10. 一種顯示裝置，其特徵為包含：顯示面板，以及被配置於前述顯示面板的觀察者側的申請專利範圍第1~5項之任一項之靜電電容式觸控面板基板。
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