TW201400884A - 極化結構、製造極化結構之方法以及包含極化結構之顯示裝置 - Google Patents

極化結構、製造極化結構之方法以及包含極化結構之顯示裝置 Download PDF

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Abstract

極化結構可包含至少一黏接層、安置在黏接層上的相位延遲層、安置在相位延遲層上的極化層、以及安置在極化層之外圍部分上方、在極化層之外圍部分下方或相位延遲層之外圍部分下方的光阻隔部件。當顯示裝置包含具有光阻隔部件的極化結構時，即使顯示裝置具有最小化表框或不具任何表框，顯示裝置仍可在整個顯示區顯示具有改良之能見度與均勻性的影像。

Description

極化結構、製造極化結構之方法以及包含極化結構之顯示裝置
相關申請案之交互參照
本申請案主張於2012年6月20日提出之韓國專利申請號10-2012-0066168之優先權，其全部內容係於此併入作為參考。
本揭露係有關於一種極化結構、製造極化結構的方法以及包含極化結構的顯示裝置。
顯示裝置例如有機發光顯示器(OLED)裝置或液晶顯示器(LCD)裝置通常可包含覆蓋顯示影像之顯示面板的外圍部分的前蓋。此外，後蓋可安置在顯示面板之後側上，使得前蓋可與後蓋結合。顯示裝置之顯示面板模組可與前蓋與後蓋的其中之一緊扣(fastened)以固定在前蓋與後蓋之間。前蓋與後蓋主要可以金屬或塑膠所構成。
隨著顯示裝置的尺寸增加，凸轂(boss part)通常可安置在前蓋或後蓋上，以提供顯示面板模組與蓋體之間的充分結合力。當顯示面板模組使用凸轂而扣緊前蓋或後蓋時，覆蓋顯示面板之外圍部分的表框(bezel)尺寸可能會增加。亦即，具增加之尺寸的表框可能會部份地覆蓋顯示影像的顯示面板之一部份，致使顯示裝置之有效顯示區可能减少。此問題對顯示裝置尺寸增加上可能有不良影響，且亦可能造成顯示裝置重量增加。進一步，因為用於結合具蓋體之顯示面板的凸轂以及相關部件，顯示裝置可能具有相對複雜的構造，使得製造顯示裝置的成本可能會增加。
同時，如韓國公開專利號2009-0122138所描述，在極化層附著至顯示面板之整個區域後，光可能會滲透至未安置反射部件的顯示面板之外圍部分。因為入射光之透射，在顯示面板外圍部分的影像可能模糊化，使得顯示面板之整個區域中影像的均勻性與能見度(visibility)可能惡化。為了改進影像之均勻性，具有相對大寬度的表框係安置以覆蓋顯示面板中未配置例如金屬線路、驅動電路以及控制器之反射元件的外圍部分。然而，伴隨著表框具有增加之尺寸，顯示裝置可能無法確保大尺寸與輕重量。
近年來，有機發光顯示裝置已經發展為具有最小化表框的大尺寸顯示裝置。然而，金屬線路與驅動電路部份地存在或不存在於顯示面板之外圍部分(例如，無接線的面板部分(dead panel portion)，使得顯示面板之整個顯示區上的影像可能無法均勻，且在顯示面板之外圍部分的影像的能見度亦可能惡化。此外，將極化層附著在顯示面板上後，因為在顯示面板之外圍部分中有入射光透入，顯示裝置可能具有不良的外觀。
實施例係提供一種包含光阻隔部件的極化結構，以在改進顯示面板上的影像之能見度與均勻性下減少表框的尺寸或除去表框。
實施例係提供一種製造包含光阻隔部件的極化結構的方法，以在改進顯示面板上的影像之能見度與均勻性下減少表框的尺寸或除去表框。
實施例係提供一種透過包含光阻隔部件的極化結構來改進影像之能見度與均勻性的顯示裝置，以減少表框的尺寸或除去表框。
一態樣係提供一種極化結構，其包含第一黏接層；安置在第一黏接層上的相位延遲層；安置在相位延遲層上的極化層；以及安置在極化層之外圍部分上方的光阻隔部件。
在實施例中，光阻隔部件可具實質上框狀或實質上環狀。光阻隔部件可包含金屬、合金、金屬化合物、黑色材料、絕緣樹脂、光阻隔漆等。例如，光阻隔部件可包含碳化鈷(CoCx)、氧化鐵(FeOx)、铽(Tb)系化合物、類鑽碳、鈦黑、鉻(Cr)、鉬(Mo)、氧化鉻(CrOx)、氧化鉬(MoOx)、伸苯黑(phenylene black)、苯胺黑(aniline black)、菁黑(cyanine black)、苯胺酸黑(nigrosine acid black)、黑色樹脂、含有聚對苯二甲酸乙二醇酯系(polyethyleneterephthalate(PET)-based)樹脂的墨水、含有尿烷樹脂的墨水等。
在實施例中，保護層可額外安置在極化層上方。在此，光阻隔部件可安置在保護層之外圍部分上。在一些實施例中，低反射層可額外安置在保護層與光阻隔部件上方。
在一些實施例中，第二黏接層可額外安置在極化層上方。在此，光阻隔部件可安置在第二黏接層之外圍部分上。進一步，保護層可安置在光阻隔部件與第二黏接層上方，且低反射層可安置在保護層上方。
在一些實施例中，第一保護層可安置在相位延遲層與極化層之間，且第二保護層可安置在光阻隔部件與第二黏接層上方。此外，低反射層可安置在第二保護層上方。
另一態樣提供一種極化結構，其包含黏接層；安置在黏接層之外圍部分上方的光阻隔部件；安置在光阻隔部件與黏接層上方的相位延遲層；安置在相位延遲層上方的極化層；安置在極化層上方的保護層；以及安置在保護層上方的低反射層。
再另一態樣提供一種極化結構，其包含第一黏接層；安置在第一黏接層上方的相位延遲層；安置在相位延遲層上方的第二黏接層；安置在第二黏接層之外圍部分上方的光阻隔部件；安置在光阻隔部件與第二黏接層上方的極化層；安置在極化層上方的保護層；以及安置在保護層上方的低反射層。
再另一態樣提供一種製造極化結構的方法。在此方法中，提供基膜後，第一黏接層可形成在基膜上方。相位延遲層可形成在第一黏接層上方。極化層可形成在相位延遲層上方。光阻隔部件可形成在極化層之外圍部分上方。低反射層可形成在光阻隔部件與極化層上方。
根據實施例之光阻隔部件的形成中，光阻隔層可形成在極化層上方。在遮罩可形成在光阻隔層上方之後，光阻隔層可使用遮罩而圖案化。
根據實施例之光阻隔部件之形成中，初步光阻隔部件可形成在極化層之外圍部分上方。初步光阻隔部件可進行熱處理。
在實施例中，光阻隔部件可用包含黑色染料的黏著劑形成。
在實施例中，保護層可額外形成在極化層上方。在此，光阻隔部件可安置在保護層之外圍部分上。
在一些實施例中，第二黏接層可額外形成在極化層上方。在此，光阻隔部件可安置在第二黏接層之外圍部分上。保護層可額外形成在光阻隔部件與第二黏接層上方。
在一些實施例中，第一保護層可額外形成在相位延遲層與極化層之間。第二保護層可額外形成在光阻隔部件與第二黏接層上方。
再一態樣提供一種製造極化結構的方法。在此方法中，可提供基膜。黏接層可形成在基膜上方。光阻隔部件可形成在黏接層之外圍部分上方。相位延遲層可形成在光阻隔部件與黏接層上方。極化層可形成在相位延遲層上方。保護層可形成在極化層上方。低反射層可形成在保護層上方。
一態樣提供一種製造極化結構的方法。在此方法中，提供基膜後，第一黏接層可形成在基膜上方。相位延遲層可形成在第一黏接層上方。第二黏接層可形成在相位延遲層上方。光阻隔部件可形成在第二黏接層之外圍部分上方。極化層可形成在光阻隔部件與第二黏接層上方。保護層可形成在極化層上方。低反射層可形成在保護層上方。
一態樣提供一種包含極化結構的顯示裝置。顯示裝置可包含具有開關裝置的第一基板、電性連接至開關裝置的第一電極、安置在第一電極上方且具有暴露第一電極的開口的像素定義層、安置在暴露之第一電極上方的發光結構、安置在發光結構上方的第二電極，安置在第二電極上方的第二基板、以及安置在第二基板上方的極化結構。極化結構可包含安置在外圍部分的光阻隔部件。
根據實施例，極化結構可包含安置在極化層之外圍部分上方或下方，或在相位延遲層之外圍部分下方的光阻隔部件。透過光阻隔部件，可避免顯示面板之外圍部分入射光之渗透，如此可改良顯示面板之外觀且亦可加强在顯示裝置之整個顯示區中影像之均勻性與能見度。
10、50、100、150、200：基膜
15、155：黏接層
55、105、205：第一黏接層
20、60、110、165、210：相位延遲層
25、65、125、170、220：極化層
35、75、120、160、230：光阻隔部件
40、85、135、180、240：低反射層
45、90、140、185、245：保護板
70、115、225：第二黏接層
30、80、130、175：保護層
215：第一保護層
235：第二保護層
300：第一基板
305：緩衝層
310：主動圖樣
315：閘極絕緣層
320：閘極電極
325：層間絕緣層
330：源極電極
335：汲極電極
340：絕緣層
345：第一電極
350：像素定義層
355：發光結構
360：第二電極
365：第二基板
370：極化結構
配合附圖由下列描述可更詳細地理解實施例，其中：
第1圖至第3圖係繪示根據實施例製造極化結構的方法之剖面圖。
第4圖至第6圖係繪示根據一些實施例製造極化結構的方法之剖面圖。
第7圖與第8圖係繪示根據實施例製造極化結構的方法之剖面圖。
第9圖與第10圖係繪示根據實施例製造極化結構的方法之剖面圖。
第11圖與第12圖係繪示根據實施例製造極化結構的方法之剖面圖。
第13圖係繪示根據實施例具有極化結構之顯示裝置之剖面圖。
下文中實施例將參考附圖而更完整地描述。然而，本發明可以許多不同形式體現且不應詮釋為受限於此處所述之實施例。於附圖中，層與部位之尺寸及相對尺寸係為了清晰而誇大。
將瞭解的是當一元件或一層係指在另一元件或另一層「上」，「連接至」或「耦接至」另一元件或另一層時，其可直接位在另一元件或另一層上，直接連接或直接耦接至另一元件或另一層，或者可存在中介元件或中介層。相反的，當一元件係指「直接」在另一元件或另一層「上」，「直接連接至」或「直接耦接至」另一元件或另一層時，並不存在中介元件或層。說明書中相同或相似之參考符號係指相同或相似之元件。當在此使用時，「及/或」之用語包含一或多個相關條列項目之任意或所有組合。
將理解的是，雖然在此可使用第一、第二、第三等之用語描述各種元件、構件、區域、層、圖樣及/或部分，然而這些元件、構件、區域、層、圖樣及/或部分不應被這些用語所限制。這些用語僅用於區別一元件、構件、區域、層、圖樣或部分與另一區域、層、圖樣或部分。因此，以下討論的第一元件、第一構件、第一區域、第一層、或第一部分可在未脫離實施例之教示下改稱為第二元件、第二構件、第二區域、第二層、或第二部分。
空間相關詞彙，例如「下(beneath)」、「下(below)」、「下(lower)」、「上(above)」、「上(upper)」以及其他相似詞彙，在此可為了描述方便而使用以描述如圖所示之一元件或特徵與另一元件或另一特徵的關係。將理解的是，除了圖式中繪示的方位之外，空間相關詞彙係旨在包含於使用或操作時裝置之不同方位。例如，如果圖式中的裝置翻轉，描述在其他元件或特徵「下(below)」或「下(under)」的元件則將定向為其他元件或特徵的「方(over)」。如此，例示性用語「下(below)」可涵蓋上方與下方的方向。裝置可為其他方位(旋轉90度或其他方位)，而在此使用的空間相關描述係作相對應的解釋。
在此所用之術語係僅為描述特定實施例之目的而非旨在限制本發明。當在此使用時，除非文中另行明確地表示，否則「一(a)」、「一(an)」、「此(the)」之單數型式亦旨在包含複數型式。將理解的是，當用語「包含(comprises)」及/或「包含(comprising)」用於說明書中時，係指明所述特性、整數、步驟、操作、元件及/或構件的存在，但是不排除一或多個其他特性、整數、步驟、操作、元件、構件及/或及其群組的存在或增添。
實施例係參考本發明的說明性理想化實施例(及其中間結構)之示意圖的剖面圖而在此說明。因此，繪圖形狀作為例如製造技術及/或公差之結果之變化係為可預期的。因此，實施例不應詮釋為受限於在此所繪示之區域之特定形狀，而是包含形狀例如來自製造結果的偏差。圖式中繪示的區域係為性質上示意且其形狀非旨在繪示裝置之區域的實際形狀，且非旨在限制本發明的範圍。
除非有其他定義，否則在此使用的所有用語(包含技術用語與科學用語)係具有與此發明所屬技術領域中的通常知識者所通常理解之相同意義。將更理解的是，例如那些定義在通常使用之字典的用語應該解釋成具有相關技術領域內容中相符意義的意義，且除非於此表述地定義，否則將不作理想化或過度正式性地解釋。
第1圖至第3圖係繪示根據實施例製造極化結構的方法之剖面圖。
參閱第1圖，黏接層15可形成在基膜10上。基膜10可保護其上形成的黏接層15。因為基膜10的特性，所以黏接層15可輕易地從基膜10脫離。例如，基膜10可包含塗佈有矽氧樹脂(silicon resin)、氟塑料(fluoroplastics)等的離型紙(release paper)(即，分隔紙)。當極化結構附著至例如液晶顯示器(LCD)裝置、有機發光顯示器(OLED)裝置、電泳顯示裝置等的顯示裝置之顯示面板時，基膜10可從黏接層15移除。如此，極化結構可直接地附著至顯示裝置之顯示面板。例如，基膜10可具有大約5μm至大約20μm之範圍的厚度。
黏接層15可結合極化結構與顯示裝置之顯示面板。例如，黏接層15可包含橡膠系(rubber-based)黏著劑、丙烯醯系(acryl-based)黏著劑、乙烯基醚系(vinyl ether-based)黏著劑、矽系黏著劑、尿烷系(urethane-based)黏著劑等。從基膜10之上表面起測量，黏接層15可具有大約5μm至大約20μm之厚度。當黏接層15包含例如丙烯醯系聚合物黏著劑或乙烯基醚系聚合物黏著劑之壓敏黏著劑(pressure-sensitive adhesive)時，因為作為壓力的黏接層15被施加至極化結構及/或顯示面板，所以極化結構與顯示面板之間的黏接強度可增強。
相位延遲層20可形成在黏接層15上。相位延遲層20可包含含有聚合物之雙折射薄膜(birefringent film)、液晶定向膜(liquid crystal alignment film)、形成在預設基底材料上的液晶聚合物之定向層等等。在雙折射薄膜中的聚合物之示例可包含聚碳酸酯(polycarbonate)、聚乙烯醇(polyvinylalcohol)、聚苯乙烯(polystyrene)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate)、聚丙烯(polypropylene)、聚烯烴(polyolefine)、聚芳酯(polyarylate)、聚醯胺(polyamide)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate)、三醋酸纖維素(triacetylcellulose)等等。相位延遲層20可包含單軸薄膜或雙軸薄膜。
在實施例中，相位延遲層20可直接地形成在黏接層15上，使得相位延遲層20的厚度可減少。例如，以黏接層15之上表面為基準，相位延遲層20可具有大約5μm至大約50μm之範圍內之厚度。相位延遲層20可包含λ/4延遲膜(retardation film)或波板(wave plate)。λ/4延遲膜相對入射光之二正交極化分量可造成λ/4之相位延遲，所以λ/4延遲膜可將線極化分量轉換成圓極化分量，或者將圓極化分量改變成線極化分量。例如，相位延遲層20可將來自顯示裝置之顯示面板入射的圓極化光轉換成線極化光，或可將線極化光轉換成圓極化光。在一些實施例中，根據具有極化結構之顯示裝置的構造，相位延遲層20可包含λ/4延遲膜以及λ/2延遲膜。
參閱第2圖，極化層25或偏振層可形成在相位延遲層20上。極化層25可讓入射光沿著預設極化方向的極化分量通過。例如，極化層25可包含碘系材料、含有染料的材料、多烯系(polyene-based)的材料等。此外，從相位延遲層20之上表面進行測量，極化層25可具有大約10μm至大約50μm的相對大之厚度。
在實施例中，極化層25可具有吸收軸與極化軸。極化層25之吸收軸可實質上對應於兩色染料(dichromatic dye)或碘離子鏈之拉伸取向軸(drawing orientation axis)。在此，沿著吸收軸振盪的入射光之極化分量可與極化層25所包含的電子相互作用而消滅。同時，極化軸可實質上垂直於吸收軸，如此沿著極化軸振盪的入射光之極化分量可通過極化層25。
保護層30可形成在極化層25上。保護層30可保護極化層25且亦可作為讓光阻隔部件35(參見第3圖)形成於其上的基膜。保護層30包含光學等向性薄膜(optically isotropic film)，使得保護層30對入射光的極化特性不會具有任何實質影響。例如，保護層30可包含三醋酸纖維素(triacetylcellulose，TAC)、環烯烴聚合物(cycloolefin polymer)、環烯烴共聚合物(cycloolefin copolymer)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯、聚碳酸酯、聚碸(polysulfone)、聚甲基丙烯酸甲酯等。
在實施例中，以極化層25之上表面為基準，保護層30可具有低於20μm之相對小的厚度。在一些實施例中，根據顯示裝置之構造，保護層30可具有在大約20μm至大約50μm之範圍內的相對大厚度。
參閱第3圖，光阻隔部件35可形成在保護層30上。在實施例中，光阻隔部件35可具有實質上多邊形框狀或是實質上多邊形環狀。例如，從保護層30之上表面進行測量，光阻隔部件35可具有大約3μm至大約10μm之相對小厚度。
光阻隔部件35可安置在保護層30之外圍部分或是保護層30之邊界(亦即極化結構之外圍部分或邊界)。因此，當極化結構與顯示面板相結合時，光阻隔部件35可實質上覆蓋住實質對應於極化結構之邊界或外圍部分的顯示面板之邊界或外圍部分(例如顯示面板之邊緣部分)。例如，根據顯示面板的形狀，光阻隔部件35可為實質上多邊形環狀，例如實質上矩形環狀。然而，光阻隔部件35的形狀可根據顯示面板的形狀及/或極化結構的形狀而變化。在此情況中，光阻隔部件35可具有根據顯示面板的尺寸、位於顯示面板之外圍部分的線路之尺寸而變化之寬度。亦即，光阻隔部件35的寬度可根據顯示裝置之構造而增加或降低。
在實施例中，光阻隔部件35可阻隔來自外部入射至顯示面板之外圍部分的光之穿透。因此，光阻隔部件35可減少表框的寬度以改進在顯示面板上顯示之影像的整體能見度。進一步，在顯示裝置可能不包含表框時，因為光阻隔部件35，影像可均勻地顯示在顯示面板之整個顯示區域中。因此，可改進在顯示面板之外圍部分的影像的均勻性與能見度。
在實施例中，光阻隔部件35可使用金屬化合物、黑色材料、具有相對低反射率之金屬、絕緣樹脂、光阻隔漆(light blocking paint)等來形成。例如，光阻隔部件35可包含碳化鈷(CoCx)、氧化鐵(FeOx)、鋱(Te)系化合物、碳(C)、類鑽碳(diamond-like carbon)、鈦黑(titanium black)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、氧化鉻(CrOx)、氧化鉬(MoOx)、伸苯黑(phenylene black)、苯胺黑(aniline black)、菁黑(cyanine black)、苯胺酸黑(nigrosine acid black)、黑色樹脂、含有聚對苯二甲酸乙二醇酯系(polyethyleneterephthalate-based)樹脂的墨水、含有尿烷(urethane)樹脂的墨水等。這些材料可單獨使用或以其組合使用。此外，光阻隔部件35可透過印刷製程(printing process)、旋轉塗佈製程(spin coating process)、噴塗製程(spray process)、化學氣相沉積製程(chemical vapor deposition process)等而形成在保護層30上。
在根據實施例之光阻隔部件35之形成中，可形成光阻隔層(未繪示)在保護層30上，且接著可形成遮罩(未繪示)在光阻隔層上。在此，遮罩可包含光阻圖樣或含有矽化合物之另一蝕刻遮罩。透過使用遮罩作為蝕刻遮罩，光阻隔層可被圖案化以在保護層30上形成光阻隔部件35。在此情況中，光阻隔部件35可根據顯示面板的形狀而具有預設形狀。
在根據一些實施例之光阻隔部件35之形成中，可在保護層30之外圍部分上形成初步光阻隔部件(未繪示)，且接著初步光阻隔部件可經過熱處理以在保護層30上提供光阻隔部件35。在此情況中，根據顯示面板之形狀，光阻隔部件35可具有各種形狀，例如實質上多邊形環狀、實質上圓環狀、實質上橢圓環狀等。
在根據其他實施例之光阻隔部件35之形成中，光阻隔部件35可使用含有黑色染料的黏著劑而形成在保護層30上。例如，具有預設形狀的光阻隔部件35可透過在其中插入黏著劑而附著於保護層30之外圍部分。在此情況中，光阻隔部件35可防止在顯示面板之外圍部分的光之穿透，且光阻隔部件35可將保護層30附著於接續形成的低反射層40。用於光阻隔部件35的黏著劑可包含黏著樹脂，例如丙烯醯系樹脂、尿烷系(urethane-based)樹脂、聚異丁烯系(polyisobutylene-based)樹脂、苯乙烯-丁二烯橡膠系(styrene-butadiene rubber-based)樹脂、橡膠系樹脂、聚乙烯基醚系(polyvinylether-based)樹脂、環氧系(epoxy-based)樹脂、三聚氰胺系(melamine-based)樹脂、聚酯系(polyester-based)樹脂、苯酚系(phenol-based)樹脂、矽系樹脂等。這些材料可單獨使用或以其組合使用。此外，黑色染料之示例可包含碳黑、氧化鉻、氧化鉬、氧化鐵、鈦黑、伸苯黑、苯胺黑、菁黑、苯胺酸黑、黑色樹脂等。這些材料可單獨使用或者以其組合使用。
現參閱第3圖，低反射層40可形成在保護層30上以覆蓋光阻隔部件35。低反射層40可使用氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)、金屬化合物等來形成。例如，以保護層30之上表面為基準，低反射層40可具有大約0.1μm至大約5.0μm的相對小之厚度。
在實施例中，低反射層40可具有含有微小凹入及突起之結構之表面，以減少入射光之反射率。在一些實施例中，低反射層40可另外包含硬質塗佈薄膜(hard coating film)、防黏薄膜(sticking prevention film)、反眩光薄膜(anti-glare film)等。
當低反射層40包含硬質塗佈薄膜時，低反射層40使用例如矽系樹脂之紫外光固化聚合物時可具有良好硬度與滑動特性，使得低反射層40可將極化結構之表面的損壞或刮痕最小化。在低反射層40包含防黏薄膜之情況中，因為可避免低反射層40與保護板45之間之緊密黏合，使保護板45可輕易地與低反射層40分離。當低反射層40包含反眩光薄膜時，低反射層40透過粗化製程(roughening process)可具有含有微小凹入結構與微小突起結構的表面，例如噴砂製程(sand blast process)或壓印製程(embossing process)、或透明微粒混合製程(transparent fine particles mixing process)。如此，低反射層40可防止外部光之反射，從而改進顯示面板上影像的能見度。透明微粒之例子可包含二氧化矽(silica)、氧化鋁(alumina)、二氧化鈦(titania)、氧化鋯(zirconia)、氧化銦(InOx)、氧化鎘(CdOx)、導電性無機粒子、含有透明聚合物粒子的有機粒子等。
如第3圖所繪示，保護板45可形成在低反射層40上。極化結構包含基膜10、黏接層15、相位延遲層20、極化層25、保護層30、光阻隔部件35、低反射層40以及保護板45。從低反射層40之上表面進行測量，保護板45可具有大約5μm至大約20μ之相對大的厚度。例如，保護板45可包含聚酯系(polyester-based)樹脂、聚烯烴系(polyolefine-based)樹脂、聚丙烯系(polypropylene-based)樹脂等。保護板45可保護低反射層40以及光阻隔部件35。將極化結構與顯示面板結合後，保護板45可從低反射層40移除。亦即，在極化結構與顯示面板之結合後，基膜10與保護板45可從極化結構移除。
在顯示裝置中，即使極化層25可附著至顯示面板，入射光仍可能穿透至顯示面板之外圍部分。因此，在顯示面板之外圍部分上的影像可能模糊，且顯示裝置之外觀亦不佳。特別地，對於目前透過減少表框的尺寸或移除表框來可達到優雅外觀與可放大其顯示區之具有大尺寸之有機發光顯示裝置來說，那些問題可能相當嚴重。根據實施例之極化結構可包含安置在極化層25上的光阻隔部件35，而光阻隔部件35可阻隔在顯示面板之外圍部分的入射光滲透。因此，含有極化結構的顯示裝置可確保改良外觀且在顯示裝置之整個顯示區中的影像亦可具有改良的均勻性與能見度。
第4圖至第6圖係繪示根據一些實施例製造極化結構的方法之剖面圖。在第4圖至第6圖中，為簡潔起見，將省略與參照第1圖至第3圖所描述的元件與流程實質上相同的元件與元件形成流程的相關詳細描述。
參閱第4圖，第一黏接層55可形成在基膜50上。基膜50可包含塗佈矽樹脂、氟塑料等的離型紙。當極化結構附著至顯示裝置的顯示面板時，基膜50可從第一黏接層55移除，然後極化結構之第一黏接層55可附著至顯示面板之上表面。例如，第一黏接層55可包含橡膠系黏著劑、丙烯醯系黏著劑、乙烯基醚系黏著劑、矽系黏著劑、尿烷系黏著劑等。第一黏接層55可具有相對小的厚度。
相位延遲層60可形成在第一黏接層55上。相位延遲層60可具有相對大於基膜50及/或第一黏接層55之厚度。例如，相位延遲層60與基膜50或第一黏接層55之間的厚度比率可在大約1.0：0.1至大約1.0：1.0之範圍內。相位延遲層60可包含含有聚合物的雙折射薄膜、液晶定向膜、形成在預設基底材料上的液晶聚合物之定向層等。在實施例中，相位延遲層60可包含λ/4延遲膜以及/或λ/2延遲膜，且可將從顯示面板入射之圓極化光轉換成線極化光，或可將線極化光轉換成圓極化光。
在一些實施例中，當相位延遲層60直接塗佈在第一黏接層55上時，相位延遲層60可具有相對小的厚度。例如，相位延遲層60可具有與第一黏接層55實質相同或實質相似之厚度，或者相位延遲層60的厚度可實質上小於第一黏接層55。
現參閱第4圖，極化層65可形成在相位延遲層60上。極化層65可包含碘系材料、含有染料的材料、聚烯系(polyene-based)材料等。極化層65可讓入射光之預設極化分量通過，且從相位延遲層60之上表面起算可具有相對大的厚度。例如，極化層65與基膜50或第一黏接層55之間的厚度比率可在大約1.0：0.1至大約2.5：1.0之範圍內。
參閱第5圖，第二黏接層70可形成在極化層65上。在此，第二黏接層70可包含與參考第1圖所描述之黏接層15所含之材料實質上相同或實質上相似的材料。例如，第二黏接層70可包含與第一黏接層55實質上相同或實質上相似的材料。此外，第一黏接層55與第二黏接層70可使用黏接層15所包含之不同材料而分別地形成。
光阻隔部件75可形成在第二黏接層70之外圍部分上(亦即，第二黏接層70之邊界或邊緣部分)。在實施例中，光阻隔部件75可安置在第二黏接層70上以提高光阻隔部件75與第二黏接層70之間的黏接強度以及第二黏接層70與保護層80(參見第6圖)之間的黏接強度。因此，光阻隔部件75可穩定地位於第二黏接層70之期望位置。
在第二黏接層70之外圍部分(亦即，極化結構之外圍部分)上的光阻隔部件75可具有實質上多邊形框狀、實質上多邊形環狀等。光阻隔部件75可具有根據顯示面板之尺寸、及/或位於顯示面板之外圍部分之線路或電路之尺寸而實質上變化之尺寸。光阻隔部件75可包含與參考第3圖所描述之光阻隔部件35實質上相同或實質上相似的材料。另外，光阻隔部件75可透過與參考第3圖所描述的流程實質上相同或實質上相似之流程來取得。有了光阻隔部件75，光的穿透可被阻隔在顯示面板之外圍部分且可改良顯示裝置之外觀。進一步，可改進在顯示面板之整個顯示區中的影像之能見度與均勻性。
在實施例中，光阻隔部件75可部份地或完全地隱藏於第二黏接層70之外圍部分。例如，保護層80可形成在光阻隔部件75與第二黏接層70上，然後保護層80可按壓以在第二黏接層70之外圍部分中部份地或完全地將光阻隔部件75埋蔽。在此情況中，因為保護層80可附著至第二黏接層70，所以光阻隔部件75可具有改良的定位穩定性。
參閱第6圖，保護層80與低反射層85可形成在光阻隔部件75與第二黏接層70上。保護層80與低反射層85可分別地包含與參考第3圖所描述之保護層30以及低反射層40實質上相同或實質上相似的材料。
保護板90可附著至低反射層85從而製造出包含基膜50、第一黏接層55、相位延遲層60、極化層65、第二黏接層70、光阻隔部件75、保護層80、低反射層85以及保護板90的極化結構。保護板90可具有相對小的厚度。在極化結構結合顯示面板之後，保護板90可從低反射層85移除。
第7圖與第8圖係繪示根據一些實施例製造極化結構的方法之剖面圖。在第7圖與第8圖中，為簡潔起見，將省略與參考第1圖至第3圖所描述的元件與流程實質上相同的元件與元件形成流程的相關詳細描述。
參閱第7圖，第一黏接層105可形成在基膜100上。相位延遲層110可形成在第一黏接層105上。根據顯示裝置之類型，相位延遲層110可包含λ/4延遲膜及/或λ/2延遲膜。
第二黏接層115可形成在相位延遲層110上，而光阻隔部件120可形成在第二黏接層115之外圍部分上(例如第二黏接層115之邊界或邊緣部分)。在光阻隔部件120位於第二黏接層115上之情況中，因為極化層125(參見第8圖)可透過插入光阻隔部件120於其間而與第二黏接層115相結合，所以光阻隔部件120可具有改良的定位穩定性。換句話說，光阻隔部件120可精確地放置在極化結構之期望位置。例如，光阻隔部件120在第二黏接層115之外圍部分(例如極化結構之外圍部分)上可具有實質上多邊形環狀或實質上多邊形框狀。包含在光阻隔部件120內的材料可與參考第3圖描述之光阻隔部件35中的材料實質上相同或實質上相似。當顯示裝置包含具有光阻隔部件120之極化結構時，顯示裝置可具有優雅的外觀，且可透過在其外圍部分阻隔光的穿透而在顯示面板之整個顯示區顯示均勻的影像。
在實施例中，光阻隔部件120可一部份地或完全地隱藏在第二黏接層115之外圍部分。這樣的光阻隔部件120可透過與參考第5圖描述之製程實質上相同或實質上相似的製程而取得。
參閱第8圖，極化層125可形成在第二黏接層115與光阻隔部件120上。極化層125可讓入射光之預設極化分量通過，且以第二黏接層115之上表面為基準可具有相對大的厚度。
保護層130與低反射層135可形成在極化層125上。保護層130與低反射層135可分別地使用與參考第3圖描述之保護層30以及低反射層40實質上相同或實質上相似的材料來形成。
保護板140可形成在低反射層135上，如此可取得極化結構。保護板140可具有相對小的厚度。在極化結構與顯示面板結合之前或之後，保護板140可從極化結構移除。
第9圖與第10圖係繪示根據一些實施例製造極化結構的方法之剖面圖。在第9圖與第10圖中，為簡潔起見，將省略與參考第1圖至第3圖描述的元件與流程實質上相同的元件與元件形成流程之相關詳細描述。
參閱第9圖，黏接層155可形成在基膜150上。例如，基膜150可包含含有樹脂之分隔紙，而黏接層155可包含壓敏黏著劑。
光阻隔部件160可形成在黏接層155之外圍部分上。在此情況中，光阻隔部件160可完全地或部份地隱藏在黏接層155中。例如，光阻隔部件160與黏接層155之上表面可配置為相同平面。光阻隔部件160可使用金屬化合物、絕緣樹脂、黑色材料、具有相對低反射率的金屬、光阻隔漆等來形成。光阻隔部件160可透過與參考第3圖或第5圖描述之製程實質上相同或實質上相似的製程而取得。
相位延遲層165可形成在光阻隔部件160與黏接層155上。相位延遲層165可直接地安置在具有光阻隔部件160之黏接層155上，使得相位延遲層165的厚度可降低。相位延遲層165可透過參考第1圖描述之製程實質上相同或實質上相似的製程來取得。
參閱第10圖，極化層170與保護層175可形成在相位延遲層165上。入射光之特定極化分量可穿過極化層170，且藉由保護層175可保護含有光阻隔部件160之下層結構。
低反射層180與保護板185可形成在保護層175上，從而製造出極化結構。低反射層180可使用矽化合物及/或金屬化合物來形成。在附著極化結構至顯示面板之後或以前，保護板185可從低反射層180移除。
第11圖與第12圖係繪示根據一些實施例製造極化結構的方法之剖面圖。在第11圖與第12圖中，為簡潔起見，將省略與參考第1圖至第3圖描述的元件與流程實質上相同的元件與元件形成流程的相關詳細描述。
參閱第11圖，第一黏接層205與相位延遲層210可形成在基膜200上。例如，第一黏接層205可包含壓敏黏著劑，而相位延遲層210可包含含有聚合物的雙折射薄膜、液晶定向膜、形成在預設基底材料上的液晶聚合物之定向層等。在實施例中，相位延遲層210可包含λ/4延遲膜及/或λ/2延遲膜。
第一保護層215與極化層220可形成在相位延遲層210上。第一保護層215可包含醋酸系(acetate-based)樹脂，但不以此為限。在實施例中，第一保護層215可包含使用鹼(alkali)而具有皂化表面的三醋酸纖維素，以改進第一保護層215之耐久性。極化層220可包含碘系材料、含有染料的材料、聚烯系材料等。
參閱第12圖，第二黏接層225可形成在極化層220上，而光阻隔部件230可形成在第二黏接層225之外圍部分上。光阻隔部件230可完整地或部份地隱藏在第二黏接層225之外圍部分中，使得光阻隔部件230可精確地安置在極化結構之期望位置(即顯示裝置之期望位置)。當具有光阻隔部件230的極化結構應用在顯示裝置時，即使顯示裝置在其顯示面板上不具任何表框，顯示裝置仍可確保具有改良均勻性與能見度之影像。
第二保護層235可形成在光阻隔部件230與第二黏接層225上。第二保護層235可包含與第一保護層215實質上相同或實質上相似的材料。另外，第一保護層215與第二保護層235可分別地包含不同材料。
低反射層240與保護板245可形成在第二保護層235上。低反射層240可使用矽化合物或金屬化合物來形成。保護板245可使用透明樹脂或半透明樹脂來形成。形成了低反射層240與保護板245，便可完成極化結構之製造。
第13圖係繪示根據實施例包含極化結構之顯示裝置的剖面圖。繪示在第13圖中的顯示裝置可包含具有與參考第3圖、第6圖、第8圖、第10圖或第12圖描述之極化結構實質上相同或實質上相似之構造的極化結構370。另外，第13圖中係繪示有機發光顯示裝置作為顯示裝置，然而，極化結構370可應用在其他顯示裝置中，例如液晶顯示裝置、電泳顯示裝置等。
參閱第13圖，顯示裝置可包含第一基板300、開關裝置、第一電極345、發光結構355、第二電極360、第二基板365、極化結構370等。
緩衝層305可安置在第一基板300上。第一基板300可包含玻璃基板、石英基板、透明樹脂基板等。透明樹脂基板之示例可包含聚醯亞胺系(polyimide-based)樹脂、丙烯醯系樹脂、聚丙烯酸酯系(polyacrylate-based)樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、磺酸系(sulfonic acid-based)樹脂、聚醚系(polyether-based)樹脂等。
緩衝層305可防止來自第一基板300的金屬原子、金屬離子及/或雜質之擴散。另外，緩衝層305可在用以形成實質上均勻的主動圖樣310之連續結晶製程中控制傳熱率。此外，當第一基板300具有不規則表面時，緩衝層305可改進第一基板300之平坦程度。緩衝層305可使用矽化合物來形成。例如，緩衝層305可包含氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)、氮氧化矽(SiOxNy)、碳氧化矽(SiOxCy)、矽氮化碳(SiCxNy)等。這些材料可單獨使用或以其組合使用。緩衝層305可透過旋轉塗佈製程、化學氣相沉積(CVD)製程、電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)製程、高密度電漿化學氣相沉積(HDP-CVD)製程、印刷製程等來取得。緩衝層305可具有包含至少一矽化合物薄膜的單層結構或多層結構。例如，緩衝層305可包含氧化矽薄膜、氮化矽薄膜、氮氧化矽薄膜、碳氧化矽薄膜及/或矽氮化碳薄膜。
主動圖樣310可安置在緩衝層305上。在實施例中，半導體層(未繪示)可形成在緩衝層305上，然後半導體層可被圖案化以形成在緩衝層305上的初步主動圖樣(未繪示)。在初步主動圖樣上可執行結晶製程以提供緩衝層305上的主動圖樣310。半導體層可使用化學氣相沉積製程、電漿輔助化學氣相沈積製程、濺鍍製程、低壓化學氣相沉積(LPCVD)製程、印刷製程等。當半導體層包含非晶矽時，主動圖樣310可包含多晶矽。進一步，用以形成主動圖樣310的結晶製程可包含雷射照射製程、熱處理製程、使用催化劑的熱處理製程等。
閘極絕緣層315可安置在緩衝層305上以覆蓋主動圖樣310。閘極絕緣層315可透過化學氣相沉積製程、旋轉塗佈製程、電漿輔助化學氣相沈積製程、濺鍍製程、真空蒸鍍製程、高密度電漿化學氣相沉積製程、印刷製程等來形成。閘極絕緣層315可包含氧化矽、金屬化合物等。例如，閘極絕緣層315可使用金屬化合物來形成，例如氧化鉿(HfOx)、氧化鋁(AlOx)、氧化鋯(ZrOx)、氧化鈦(TiOx)、氧化鉭(TaOx)等。這些材料可單獨使用或以其組合使用。
現參閱第13圖，閘極電極320可安置在閘極絕緣層315上。閘極電極320可位於其下座落主動圖樣310的閘極絕緣層315之一部分上。在實施例中，第一導電層(未繪示)可形成在閘極絕緣層315上，然後第一導電層可透過光刻製程或使用額外蝕刻遮罩的蝕刻製程來圖案化。因此，閘極電極320可形成在閘極絕緣層315上。第一導電層可透過印刷製程、化學氣相沉積製程、脈衝雷射沉積(PLD)製程、真空蒸鍍製程、原子層沉積(ALD)製程等來形成。閘極電極320可包含金屬、合金、金屬氮化物、導電性金屬氧化物、透明導電性材料等。例如，閘極電極320可使用鋁(Al)、含有鋁的合金、氮化鋁(AlNx)、銀(Ag)、含有銀的合金、鎢(W)、氮化鎢(WNx)、銅(Cu)、含有銅的合金、鎳(Ni)、鉻(Cr)、氮化鉻(CrNx)、鉬(Mo)、含有鉬的合金、鈦(Ti)、氮化鈦(TiNx)、鉑(Pt)、鉭(Ta)、氮化鉭(TaNx)、釹(Nd)、鈧(Sc)、鍶釕氧化物(strontium ruthenium oxide, SRO)、氧化鋅(ZnOx)、氧化銦錫(ITO)、氧化錫(SnOx)、氧化銦(InOx)、氧化鎵(GaOx)、氧化銦鋅(IZO)等來形成。這些材料可單獨使用或以其組合使用。進一步，閘極電極320可具有單層結構或多層結構，其可包含金屬層、合金層、金屬氮化物層、導電性金屬氧化物層、及/或透明導電性材料層。
雖然在第13圖中未繪示，但當在閘極絕緣層315上形成閘極電極320時，閘極線可形成在閘極絕緣層315上。閘極電極320可接觸閘極線，且閘極線可在閘極絕緣層315上沿著第一方向延伸。
使用閘極電極320作為離子植入遮罩，雜質可摻雜至主動圖樣310之一部分，如此可在主動圖樣310之側邊部分形成源極區與汲極區。在此，雜質不會植入閘極電極320所在的主動圖樣310之中央部分，使得主動圖樣310之中央部分可定義作為源極區與汲極區之間的通道區。
覆蓋閘極電極320的層間絕緣層325可安置在閘極絕緣層315上。層間絕緣層325實質上可沿著閘極電極320的輪廓均勻地形成。層間絕緣層325可包含矽化合物。例如，層間絕緣層325可使用氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、碳氧化矽、矽氮化碳等來形成。這些材料可單獨使用或以其組合使用。此外，層間絕緣層325可透過旋轉塗佈製程、化學氣相沉積製程、電漿輔助化學氣相沈積製程、高密度電漿化學氣相沉積製程等來形成。層間絕緣層325可將閘極電極320與接續形成的源極電極330及汲極電極335電性絕緣。
如第13圖所繪示，源極電極330與汲極電極335可穿過層間絕緣層325。源極電極330與汲極電極335可鄰近於閘極電極320，且可以閘極電極320為中心而相分隔。源極電極330與汲極電極335可分別地穿透層間絕緣層325接觸源極區與汲極區。
在實施例中，層間絕緣層325可被部分地蝕刻以形成暴露部分源極區與汲極區的開孔。在第二導電層(未繪示)可形成在層間絕緣層325上以填充開孔之後，第二導電層可被圖案化以形成源極電極330與汲極電極335，如第13圖所繪示。在此，第二導電層可透過濺鍍製程、化學氣相沉積製程、脈衝雷射沉積製程、真空蒸鍍製程、原子層沉積製程、印刷製程等來獲得。各源極電極330與汲極電極335可包含金屬、合金、金屬氮化物、導電性金屬氧化物、透明導電性材料等。例如，各源極電極330與汲極電極335可使用鋁、含有鋁的合金、銀、含有銀的合金、鎢、氮化鎢、銅、含有銅的合金、鎳、鉻、氮化鉻、鉬、含有鉬的合金、鈦、氮化鈦、鉑、鉭、氮化鉭、釹、鈧、鍶釕氧化物、氧化鋅、氧化銦錫、氧化錫、氧化銦、氧化鎵、氧化銦鋅、氧化銦鎵等來形成。這些材料可單獨使用或以其組合使用。
雖然在第13圖中未繪示，當源極電極330與汲極電極335形成在層間絕緣層325上時，可在層間絕緣層325上形成數據線。數據線可沿著實質上垂直於第一方向的第二方向延伸。數據線可連接至源極電極330。
當在層間絕緣層325上形成源極電極330與汲極電極335時，便可在第一基板300上提供開關裝置。在此情況中，開關裝置可為包含主動圖樣310、閘極絕緣層315、閘極電極320、源極電極330與汲極電極335的薄膜電晶體(TFT)。
絕緣層340可安置在層間絕緣層325上以覆蓋源極電極330與汲極電極335。絕緣層340可具有能充分地覆蓋源極電極330與汲極電極335的相對大厚度。絕緣層340可包含有機材料或無機材料。例如，絕緣層340可使用光阻、丙烯醯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、矽氧烷系(siloxane)樹脂、含有光敏丙烯酸羧基(photo sensitive acryl carboxyl group)的樹脂、酚醛樹脂(novolac resin)、鹼溶性樹脂(alkali-soluble resin)、氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、碳氧化矽、矽氮化碳等來形成。這些材料可單獨使用或以其組合使用。根據絕緣層340中的成分，絕緣層340可透過旋轉塗佈製程、濺鍍製程、化學氣相沉積製程，原子層沉積製程、電漿輔助化學氣相沈積製程、高密度電漿化學氣相沉積製程、真空蒸鍍製程等來取得。
透過光刻製程或使用額外蝕刻遮罩的蝕刻製程，接觸孔可穿過絕緣層340而形成以暴露汲極電極335之一部分。第一電極345可安置在絕緣層340上以填充接觸孔。如此，第一電極345可接觸汲極電極335。在一些實施例中，可在汲極電極335上提供觸點(contact)、插體(plug)或墊片(pad)以填充接觸孔。在此，第一電極345可透過觸點、插體或墊片而電性連接至汲極電極335。
第一電極345可包含具有反射性的金屬、具有反射性的合金等。例如，第一電極345可使用鋁、銀、鉑、金、鉻、鎢、鉬、鈦、鈀、銥、及其合金等來形成。這些材料可單獨使用或以其組合使用。進一步，第一電極345可透過印刷製程、濺鍍製程、化學氣相沉積製程，原子層沉積製程、脈衝雷射沉積製程等來形成。
像素定義層350可安置在第一電極345與絕緣層340上。像素定義層350可包含有機材料或無機材料。例如，像素定義層350可使用光阻、聚丙烯醯系(polyacryl-based)樹脂、聚醯亞胺系樹脂、丙烯醯系樹脂、矽化合物等來形成。另外，像素定義層350可透過旋轉塗佈製程、噴塗製程、印刷製程、化學氣相沉積製程等來形成在第一電極345上。
像素定義層350可被部份蝕刻以形成露出部分第一電極345的開口。像素定義層350之開口可定義出顯示裝置之發光區與非發光區。亦即，具有像素定義層350之開口的區域可為顯示裝置之發光區。
發光結構355可安置在露出的第一電極345以及像素定義層350之一部分上。發光結構355可具有含有有機發光層(EL)、電洞注入層(HIL)、電洞傳輸層(HTL)、電子傳輸層(ETL)、電子注入層(ETL)等的多層結構。根據顯示裝置的像素，發光結構355之有機發光層可包含產生紅色光的材料、產生綠色光的材料或產生藍色光的材料。在一些實施例中，有機發光層可具有包含用以發射紅色光、綠色光以及藍色光的材料薄膜的多層堆疊結構，從而產生白色光。
第二電極360可安置在發光結構355與像素定義層350上。第二電極360可包含透明導電性材料，例如氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化錫、氧化鋅、氧化銦鎵、氧化鎵等。這些材料可單獨使用或以其組合使用。進一步，第二電極360可透過濺鍍製程、化學氣相沉積製程、原子層沉積製程、脈衝雷射沉積製程、印刷製程等來取得。
第二基板365可安置在第二電極360上。第二基板365可包含透明絕緣基板。例如，第二基板365可包含玻璃基板、石英基板、透明樹脂基板等。
極化結構370可安置在第二基板365上。在此情況中，極化結構370可為第3圖繪示之極化結構、第6圖繪示之極化結構、第8圖繪示之極化結構、第10圖繪示之極化結構、或第12圖繪示之極化結構中的任何一種。當顯示裝置包含極化結構370時，顯示裝置可包含具有最小化尺寸之表框或可不包含表框。進一步，可改善在顯示裝置之顯示面板的所有區域中顯示裝置所顯示的影像之均勻性。
根據實施例，當具有光阻隔部件的極化結構應用在顯示裝置時，顯示裝置可包含顯著地減少之尺寸的表框，或顯示裝置在顯示面板上可不需要任何表框。如此，顯示裝置可確保優美的外觀且顯示裝置在整個顯示區中亦可顯示具有改良的均勻性及能見度的影像。此顯示裝置可使用作為各種顯示裝置，例如電視、監視器、筆記型電腦、手機、可攜式顯示裝置、可攜式多媒體播放器等。
上述內容係實施例之说明而非詮釋為其限制。雖然描述了一些實施例，但是熟悉此領域之技術者將輕易體認到，在不實質上脫離本發明的新穎教示與優點下，對實施例之許多修改係為可能的。因此，所有修改係旨在包含於申請專利範圍所定義的本發明之範圍內。在申請專利範圍中，手段功能附加用語係旨在涵蓋在此所述執行所述功能的結構，且不僅涵蓋結構的等效物而亦涵蓋等效結構。因此，應理解的是前述內容係各種實施例之說明且並非詮釋為受所揭露之特定實施例所限制，而對所揭露之實施例的修改以及其他實施例係旨在包含於附加申請專利範圍之範疇內。
10：基膜
15：黏接層
20：相位延遲層
25：極化層
30：保護層
35：光阻隔部件
40：低反射層
45：保護板

Claims (22)

  1. 一種極化結構，其包含：
    一第一黏接層；
    一相位延遲層，係安置在該第一黏接層上；
    一極化層，係安置在該相位延遲層上；以及
    一光阻隔部件，係安置在該極化層之一外圍部分上方。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之極化結構，其中該光阻隔部件具一框狀或一環狀。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之極化結構，其中該光阻隔部件包含選自由金屬、合金、金屬化合物、黑色材料、絕緣樹脂與光阻隔漆所組成的群組之其中之一。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之極化結構，其中該光阻隔部件包含選自由碳化鈷(CoCx)、氧化鐵(FeOx)、铽(Tb)系化合物、類鑽碳、鈦黑、鉻(Cr)、鉬(Mo)、氧化鉻(CrOx)、氧化鉬(MoOx)、伸苯黑、苯胺黑、菁黑、苯胺酸黑、黑色樹脂、含有聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂的墨水以及含有尿烷樹脂的墨水所組成的群組之其中之一。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之極化結構，進一步包含安置在該極化層上方的一保護層，其中該光阻隔部件係安置在該保護層之一外圍部分上。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之極化結構，進一步包含安置在該保護層與該光阻隔部件上方的一低反射層。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之極化結構，進一步包含安置在該極化層上方的一第二黏接層，其中該光阻隔部件係安置在該第二黏接層之一外圍部分上。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之極化結構，其進一步包含：
    一保護層，安置在該光阻隔部件與該第二黏接層上方；以及
    一低反射層，安置在該保護層上方。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之極化結構，其進一步包含：
    一第一保護層，安置在該相位延遲層與該極化層之間；
    一第二保護層，安置在該光阻隔部件與該第二黏接層上方；以及
    一低反射層，安置在該第二保護層上方。
  10. 一種極化結構，其包含：
    一黏接層；
    一光阻隔部件，係安置在該黏接層之一外圍部分上方；
    一相位延遲層，係安置在該光阻隔部件與該黏接層上方；
    一極化層，係安置在該相位延遲層上方；
    一保護層，係安置在該極化層上方；以及
    一低反射層，係安置在該保護層上方。
  11. 一種極化結構，其包含：
    一第一黏接層；
    一相位延遲層，係安置在該第一黏接層上方；
    一第二黏接層，係安置在該相位延遲層上方；
    一光阻隔部件，係安置在該第二黏接層之一外圍部分上方；
    一極化層，係安置在該光阻隔部件與該第二黏接層上方；
    一保護層，係安置在該極化層上方；以及
    一低反射層，係安置在該保護層上方。
  12. 一種製造一極化結構的方法，其包含：
    提供一基膜；
    在該基膜上方形成一第一黏接層；
    在該第一黏接層上方形成一相位延遲層；
    在該相位延遲層上方形成一極化層；
    在該極化層之一外圍部分上方形成一光阻隔部件；以及
    在該光阻隔部件與該極化層上方形成一低反射層。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中形成該光阻隔部件包含：
    在該極化層上方形成一光阻隔層；
    在該光阻隔層上方形成一遮罩；以及
    使用該遮罩圖案化該光阻隔層。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中形成該光阻隔部件包含：
    在該極化層之該外圍部分上方形成一初步光阻隔部件；以及
    熱處理該初步光阻隔部件。
  15. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中該光阻隔部件係用包含一黑色染料的一黏著劑形成。
  16. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其進一步包含在該極化層上方形成一保護層，其中該光阻隔部件係安置在該保護層之一外圍部分上。
  17. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其進一步包含在該極化層上方形成一第二黏接層，其中該光阻隔部件係安置在該第二黏接層之一外圍部分上。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之方法，其進一步包含在該光阻隔部件與該第二黏接層上方形成一保護層。
  19. 如申請專利範圍第17項所述之方法，其進一步包含：
    在該相位延遲層與該極化層之間形成一第一保護層；以及
    在該光阻隔部件與該第二黏接層上方形成一第二保護層。
  20. 一種製造一極化結構的方法，其包含：
    提供一基膜；
    在該基膜上方形成一黏接層；
    在該黏接層之一外圍部分上方形成一光阻隔部件；
    在該光阻隔部件與該黏接層上方形成一相位延遲層；
    在該相位延遲層上方形成一極化層；
    在該極化層上方形成一保護層；以及
    在該保護層上方形成一低反射層。
  21. 一種製造一極化結構的方法，其包含：
    提供一基膜；
    在該基膜上方形成一第一黏接層；
    在該第一黏接層上方形成一相位延遲層；
    在該相位延遲層上方形成一第二黏接層；
    在該第二黏接層之一外圍部分上方形成一光阻隔部件；
    在該光阻隔部件與該第二黏接層上方形成一極化層；
    在該極化層上方形成一保護層；以及
    在該保護層上方形成一低反射層。
  22. 一種包含一極化結構的顯示裝置，其包含：
    一第一基板，係包含一開關裝置；
    一第一電極，係電性連接至該開關裝置；
    一像素定義層，係安置在該第一電極上方，該像素定義層具有暴露該第一電極的一開口；
    一發光結構，係安置在該第一電極之該開口上方；
    一第二電極，係安置在該發光結構上方；
    一第二基板，係安置在該第二電極上方；以及
    一極化結構，係安置在該第二基板上方，該極化結構包含安置在一外圍部分的一光阻隔部件。
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