TW201344172A - 衝擊裝置及具有該衝擊裝置之衝擊總成 - Google Patents

Abstract

本發明係關於一衝擊裝置，其係設置於一平台以進行一衝擊測試，衝擊裝置包含：一殼體、一衝擊單元及一承載部。殼體具有一開口及與開口相對之一第一斜面，以及設置於開口及第一斜面間之一腔室。衝擊單元係設置於殼體之腔室，並進行一往復式運動，以對平台提供一衝擊力。承載部係設置於平台之下側，以承載殼體。其中，當衝擊單元進行往復式運動時，衝擊單元之一部分適可外露於殼體之開口，以直接衝擊平台並產生衝擊力。

Description

衝擊裝置及具有該衝擊裝置之衝擊總成

本發明係關於一種衝擊裝置及使用該衝擊裝置之衝擊總成；特別是涉及一種直接施以一衝擊力於一衝擊平台或欲衝擊物品之衝擊裝置。

隨著各式各樣的電子產品問世，因應生產的產品規格以及工業標準也更趨嚴謹。其中，關於物件本身的可靠度測試更是電子產品出廠前不可避免的測試流程。可靠度測試不但可用以預估電子產品的使用年限、可以承受的運輸傷害等，更可於研發階段察覺產品結構上的缺點。在這當中較常被使用於可靠度測試之方式，便為衝擊測試。

習知所採用之衝擊測試裝置，多是將衝擊測試裝置之本體直接固鎖於衝擊平台底部，繼而將待測物如電子產品固定於衝擊平台上，以進行相關衝擊測試的流程。

如第1圖所示，習知用以進行衝擊測試之一衝擊測試裝置1包含一衝擊平台11以及具有特定傾斜角度之一衝擊單元12。其中，衝擊單元12包含一頂持部121、一鎖固裝置123及一衝擊部125，衝擊單元12係利用鎖固裝置123固定於一衝擊平台11的底部111，其中頂持部121係與鎖固裝置123一體成型，而鎖固裝置123係藉由其上所設置之一凸出部1231與衝擊平台11上之一卡扣槽113相搭配，以協助將衝擊單元12固定於衝擊平台11上。接著，當將一待測物13設置於衝擊平台11上後，衝擊部125便可進行一往復式運動，從而帶動衝擊平台11給予待測物13一特定方向之衝擊力。

由於上述之衝擊測試裝置1係鎖固於衝擊平台11，故其係直接接觸於衝擊平台11，且得以朝衝擊平台11的底部111施以一衝擊力。當衝擊部125通以電流而產生一往復式運動時，將同步推動頂持部121，從而使衝擊平台11產生平行於一水平面之一同步運動。於此同時，整個衝擊單元12亦隨著衝擊平台11的同步運動而作動，而非獨立於衝擊平台11，故將使測試結果出現無法評估的誤差，同時亦失去其精確性。

綜上所述，如何提供一種獨立於衝擊平台的衝擊測試裝置，使其於衝擊測試過程中無法隨著衝擊平台連動，進而避免衝擊力道之分散，以提升測試結果之精確性，便為此業界亟需努力之目標。

本發明之一目的在於提供一種可避免衝擊力道分散的衝擊裝置，以及與包含該衝擊裝置的衝擊總成，用以提升衝擊測試結果之精確性。

為達上述目的，本發明之一衝擊裝置係設置於一平台以進行一衝擊測試，衝擊裝置包含：一殼體、一衝擊單元及一承載部。殼體具有一開口及與開口相對之一第一斜面，以及設置於開口及第一斜面間之一腔室。衝擊單元係設置於殼體之腔室，並進行一往復式運動以對平台提供一衝擊力。承載部係設置於平台之下側，用以承載殼體。其中，當衝擊裝置進行往復式運動時，衝擊裝置之一部分適可外露於殼體之開口，以直接衝擊平台並相應產生衝擊力。

為了讓上述的目的、技術特徵和優點能夠更為本領域之人士所知悉並應用，下文係以本發明之數個較佳實施例以及附圖進行詳細的說明。

請參閱第2圖，其為本發明之衝擊總成2之示意圖。衝擊總成2包含一平台21及一衝擊裝置22，且一待測物3適可設置於平台21上，以進行一衝擊測試。於本實施例中，衝擊裝置22包含一殼體221、一衝擊單元223及一承載部225，以下將依序說明各元件之技術內容及相互的空間關係。

請同時參考第3圖，殼體221具有一開口2211、與開口2211相對之一第一斜面2213、一吸震部2215以及設置於開口2211及第一斜面2213之間的一腔室2217。更詳細地說，開口2211具有一第二斜面2211a，適與第一斜面2213相對，第一斜面2213與第二斜面2211a間具有一夾角θ，且夾角θ係介於0度～90度。吸震部2215設置於殼體221之第二斜面2211a上，以分別接觸平台21及殼體221，並用以避免衝擊裝置22隨著衝擊平台21的上下震動而有連動情形產生。此外，吸震部2215具有一原始長度d₁，且較佳係為一橡膠，而腔室2217則用以容置衝擊單元223。

衝擊單元223係設置於殼體221之腔室2217內，用以進行一往復式運動並對平台21提供一衝擊力，且該往復式運動實質係沿衝擊單元223之一軸向運動。其中，當衝擊裝置22進行往復式運動時，部分之衝擊單元223適可外露於殼體221之開口2211，以直接衝擊平台21之方式產生衝擊力。

請再次參閱第2圖，承載部225之一端係設置於殼體221上，而另一端係設置於平台21之底部211。承載部225適可利用卡扣裝置、螺接裝置或其他具有卡扣、螺接功用之等效結構或方式，將承載部225分別固定於殼體221與平台21之底部211上。於本實施例中，承載部225係藉由複數螺絲2251鎖固於殼體221以及平台21之底部211上，然於本領域具有通常知識者亦可推及本發明之殼體221與承載部225具有一體成型之實施態樣，藉以節省產品成本及增加結構強度。此外，藉由上述承載部225之可能結構之配合，殼體221亦可隨之對平台21進行衝擊方向之調整。

於本實施例中，衝擊總成2之衝擊單元223較佳係為一電子式衝擊產生器或是微型馬達。如第2圖及第3圖所示，當衝擊單元223（以電子式衝擊產生器為例）被容置於殼體221所具有之腔室2217內時，衝擊單元223將可藉由微小的電流變化，於腔室2217內進行一往復式運動，從而提供測試所需之衝擊力大小並推動殼體221。此時，由於吸震部2215及承載部225的設置，將導致衝擊裝置22係獨立於平台21進行作動，從而當平台21因衝擊單元223之撞擊而產生平行於一水平面之一同步運動時，衝擊裝置22將不會因此受到任何影響。

以下將進一步介紹本實施例之衝擊總成2的運作機制。

首先，如第2圖所示，衝擊總成2之衝擊單元223係呈現一穩定狀態或是無電流通過之狀態，且此時衝擊單元223係位於腔室2217之一底部2217a。之後，如第4圖所示，當施以衝擊單元223之電流變大時，衝擊單元223適可朝開口2211之方向（如箭頭A所示）移動，並針對平台21直接施予衝擊力，並藉由平台21將衝擊力傳遞至待測物3上。

詳細而言，為使衝擊單元223所產生之衝擊力道能完全施予平台21，因此在衝擊裝置22中，僅有衝擊單元223用以衝擊平台21之底部211，其他如承載部225僅用以支撐衝擊裝置22之殼體221及衝擊單元223，而吸震部2215則用於阻隔當衝擊施予平台21之底部211時，反作用力的回饋。

請一併參閱第5圖，當殼體221將衝擊施予平台21之底部211後，便會導致平台21產生一向上位移。此時，衝擊裝置22之殼體221將因為吸震部2215及承載部225的設置，而不隨平台21的向上位移產生移動。換言之，由於吸震部2215之長度自原始長度d₁伸長至一延展長度d₂，故其已吸收了平台21的位移對衝擊裝置22之影響。之後，隨著衝擊單元223之衝擊作用的結束，衝擊單元223將往一相反方向（即箭頭方向A’）滑落回腔室2217之一底部2217a。相似地，雖然衝擊單元223的滑落也會使得殼體221產生一向下位移，但同樣由於吸震部2215的設置，而得以避免該向下位移影響到平台21，從而提高震動測試的準確率。

因此，於本發明之衝擊總成2中，一方面可藉由改變電流大小，以精準地帶動衝擊單元223於腔室2217間進行往復式運動，提供平台21所需的震動參數；另一方面，亦可藉由吸震部2215及承載部225的設置，將殼體221與衝擊單元223的位移與平台21間產生區隔，從而降低兩者間的相互影響。

綜上所述，本發明係關於一種可防止衝擊裝置與平台有連動情形，以避免衝擊力道無法集中施予平台之衝擊總成，且該衝擊裝置之使用方式並不限制僅可透過平台方能對待測物施力，亦可將衝擊裝置直接接觸並衝擊待測物以進行測試。另外，衝擊總成並未限制其僅可容置一衝擊單元，當待測物相對於衝擊裝置之一面積遠大於該衝擊裝置時，為使待測物能平均受力，故腔室中亦可包含複數衝擊單元以一同撞擊平台，或也可考慮設置複數衝擊裝置於平台下方，將同樣可達到平均受力之目的。

上述之實施例僅用來例舉本發明之實施態樣，以及闡釋本發明之技術特徵，並非用來限制本發明之保護範疇。任何熟悉此技術者可輕易完成之改變或均等性之安排均屬於本發明所主張之範圍，本發明之權利保護範圍應以申請專利範圍為準。

1．．．衝擊測試裝置

11．．．衝擊平台

111．．．底部

113．．．卡扣槽

12．．．衝擊單元

121．．．頂持部

123．．．鎖固裝置

1231．．．凸出部

125．．．衝擊部

13．．．待測物

2．．．衝擊總成

21．．．平台

211．．．底部

22．．．衝擊裝置

221．．．殼體

2211．．．開口

2211a．．．第二斜面

2213．．．第一斜面

2215．．．吸震部

2217．．．腔室

2217a．．．底部

223．．．衝擊單元

225．．．承載部

2251．．．螺絲

3．．．待測物

A．．．箭頭方向

A’．．．箭頭方向

d₁．．．原始長度

d₂．．．延展長度

第1圖係為習知衝擊測試裝置之示意圖；

第2圖係為本發明之衝擊總成之示意圖；

第3圖係為本發明之衝擊裝置之示意圖；

第4圖係為本發明之衝擊裝置於移動時之示意圖；以及

第5圖係為本發明之衝擊裝置於移動時之另一示意圖。

2．．．衝擊總成

21．．．平台

211．．．底部

22．．．衝擊裝置

221．．．殼體

2211．．．開口

2213．．．第一斜面

2215．．．吸震部

2217．．．腔室

2217a．．．底部

223．．．衝擊單元

225．．．承載部

2251．．．螺絲

3．．．待測物

d₁．．．原始長度

Claims (8)

1. 一衝擊裝置，係設置於一平台以進行一衝擊測試，該衝擊裝置包含：
   　　一殼體，具有一開口及與該開口相對之一第一斜面，以及設置於該開口及該第一斜面間之一腔室；
   　　一衝擊單元，係設置於該殼體之該腔室，並進行一往復式運動以對該平台提供一衝擊力；以及
   　　一承載部，係設置於該平台之一下側，以承載該殼體；
   　　其中，當該衝擊單元進行該往復式運動時，該衝擊單元之一部分適可外露於該殼體之該開口，以直接衝擊該平台並產生該衝擊力。
2. 如請求項1所述之衝擊裝置，其中該開口具有一第二斜面，且該第一斜面與該第二斜面間具有一夾角，該夾角介於0度～90度之間。
3. 如請求項1所述之衝擊裝置，其中該殼體更包含一吸震部，設置於該殼體之該第二斜面上，以分別與該平台及該殼體接觸。
4. 如請求項3所述之衝擊裝置，其中該吸震部之一材料係為橡膠。
5. 如請求項1所述之衝擊裝置，其中該衝擊單元係為一微型馬達或一電子式衝擊產生器。
6. 如請求項1所述之衝擊裝置，其中該往復式運動實質係沿該衝擊單元之一軸向運動。
7. 如請求項1所述之衝擊裝置，其中該承載部係與該殼體一體成形。
8. 一衝擊總成，包含：
   　　一平台；以及
   　　至少一如請求項1至7任一項所述之衝擊裝置，各該衝擊裝置包含：
   　　　　一殼體，具有一開口及與該開口相對之一第一斜面，以及設置於該開口與該第一斜面間之一腔室；
   　　　　一衝擊單元，係設置於該殼體之該腔室，並進行一往復式運動以對該平台提供一衝擊力；以及
   　　　　一承載部，係設置於該平台之一下側，以承載該殼體；
   　　其中，當該衝擊單元進行該往復式運動時，該衝擊單元之一部分適可外露於該殼體之該開口，以直接衝擊該平台並產生該衝擊力。