TW201311527A - 搬運裝置 - Google Patents
搬運裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201311527A TW201311527A TW100131927A TW100131927A TW201311527A TW 201311527 A TW201311527 A TW 201311527A TW 100131927 A TW100131927 A TW 100131927A TW 100131927 A TW100131927 A TW 100131927A TW 201311527 A TW201311527 A TW 201311527A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- rotating shaft
- vacuum container
- cooling
- substrate
- cooling water
- Prior art date
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Mounting Of Bearings Or Others (AREA)
Abstract
本發明之課題在於提供一種已實現提高耐熱性能之搬運裝置。本發明的搬運裝置,於真空容器(31)內配置搬運基板(42)之搬運輥(18),以從真空容器(31)內向真空容器(31)外延伸之方式配置可與搬運輥(18)傳熱地固定之旋轉軸(16)。並且,藉由配置於真空容器(31)的貫穿孔(31f)之磁封(23),可旋轉地支撐旋轉軸(16)。並且,於旋轉軸(16)內形成從真空容器(31)外遍及容器(31)內而向軸線方向延伸之冷卻用通道(17a),使冷卻媒體流通至該通道。
Description
本發明係有關一種於真空容器內搬運基板之搬運裝置。
在真空氛圍下加熱基板的同時搬運基板之搬運裝置被廣泛使用。例如,在專利文獻1中,公開有與所謂的腔內分配方式的搬運裝置有關之技術,前述腔內分配方式的搬運裝置中,每台真空容器設置一台驅動馬達,將來自設置於真空容器外之驅動馬達的驅動力透過圓錐齒輪傳遞至設置於真空容器內之分配軸,再者,從該分配軸透過圓錐齒輪傳遞至分別安裝有搬運輥的複數個旋轉軸。
專利文獻1:日本實開平1-129258號公報
但是,在上述專利文獻1的搬運裝置中,設置於真空容器內之構成組件較多,其結構複雜。並且,存在從驅動馬達向各旋轉軸分配驅動力之圓錐齒輪磨損之類的課題。
針對這種課題,如第6圖及第7圖所示,可考慮到將藉由各旋轉軸56從驅動馬達52向搬運輥57分配驅動力之機構設置於真空容器61的外部之搬運裝置51。亦即,如第6圖及第7圖所示,搬運裝置51具備有驅動馬達52、同步帶輪53、同步帶54、磁封軸承55、旋轉軸56、搬運輥57、反射板58、水冷管59及左右連結軸60。
驅動馬達52設置於真空容器61的外部。每台真空容器1設置一台驅動馬達52。同步帶輪53設置於真空容器61的外部,且安裝於後述之旋轉軸56及驅動馬達52的旋轉軸56。同步帶54設置於真空容器61外,且架設於相互鄰接之同步帶輪53之間。藉由基於該同步帶54之連掛式連結,向相對於搬運方向(第7圖所示之A方向)配置於右側之各搬運輥57分配來自驅動馬達52的驅動力。並且,以上述之要領將驅動力傳遞至左右連結軸60,向相對於搬運方向配置於左側之各搬運輥57分配來自驅動馬達52之驅動力。
磁封軸承55配置於貫穿形成真空容器61之壁61a之貫穿孔61b。磁封軸承55可旋轉地支撐從真空容器61內向真空容器61外延伸之旋轉軸56,並且密封貫穿孔61b來維持真空容器61內的真空狀態。旋轉軸56在真空容器61的外部被供給來自驅動馬達52的驅動力,向真空容器61內的各搬運輥57傳遞驅動力。搬運輥57向鉛垂方向支撐載置有基板72的托盤71,並且藉由旋轉軸56所傳遞之驅動力旋轉來搬運托盤71。
反射板58固定於真空容器61的內壁。反射板58以覆蓋旋轉軸56及搬運輥57的方式配置,對旋轉軸56及搬運輥57進行防熱。水冷管59接觸配置於反射板58,藉由使冷卻媒體流通來冷卻反射板58。
依這種搬運裝置51,於真空容器61外設置向各搬運輥57分配來自驅動馬達52的驅動力之驅動力分配部份,藉此能夠使真空容器61內的結構簡化。另外,於真空容器61外設置驅動力分配部份,藉此能夠代替圓錐齒輪使用很難在真空環境下使用之用於驅動力傳遞的帶。藉此,還能夠消除圓錐齒輪磨損之類的課題。
但是,於真空容器61內加熱基板72的同時搬運載置基板72之托盤71之搬運裝置51中,為了對旋轉軸56及搬運輥57進行防熱,需要配置多層反射板58和複數個水冷管59。因此,要求提高耐熱性能來進一步使真空容器61內的結構簡化。
本發明係為了解決這種課題而完成者,其目的在於提供一種能夠提高耐熱性能之搬運裝置。
為了解決上述課題,本發明的搬運裝置是一種搬運在真空容器內加熱之基板之搬運裝置,其特徵為,具備:配置於真空容器內,搬運基板之搬運輥;可與搬運輥傳熱地固定,從真空容器內延伸至真空容器外之旋轉軸;配置於貫穿形成真空容器之壁之貫穿孔內,可旋轉地支撐旋轉軸,並且密封貫穿孔之磁封軸承;及沿著軸向形成於旋轉軸內,從真空容器外延伸至真空容器內,用於使冷卻媒體流通之冷卻用通道。
在這種搬運裝置中,使冷卻媒體流通至形成於旋轉軸內之冷卻用通道,藉此旋轉軸的熱傳導至冷卻媒體,從而冷卻旋轉軸。另外,由於搬運輥可傳熱地固定於旋轉軸,因此搬運輥的熱傳導至旋轉軸,使旋轉軸的熱傳導至於軸內流通之冷卻媒體。其結果,冷卻搬運輥及旋轉軸,從而能夠謀求提高耐熱性能。冷卻用通道例如由插通於旋轉軸的內部空間之冷卻媒體供給管和形成於冷卻媒體的外周面與旋轉軸的內周面之間的間隙構成。
另外,進一步具備對磁封軸承進行冷卻之冷卻機構為較佳。藉此,即使在高溫環境下也能夠將填充於磁封軸承之磁性流體保持為良好的狀態,因此能夠維持良好的旋轉性能。
另外,進一步具備相互接觸配置於搬運輥與旋轉軸之間,且調整搬運輥與旋轉軸之間的傳熱之溫度調整構件為較佳。當基板直接支撐於搬運輥上而被搬運時,若該基板接觸於搬運輥時,將基板的熱傳導至已冷卻之搬運輥,從而被冷卻。該搬運裝置中,由於藉由溫度調整構件調整從搬運輥向旋轉軸傳導之熱量,因此能夠防止基板被過度冷卻,維持基板的適當的加熱溫度。
依本發明的搬運裝置,能夠提高耐熱性能。
參考附圖對本發明之搬運裝置的較佳的第1實施形態進行說明。另外,在說明中,對相同要件或具有相同功能之要件,使用相同符號而省略重複說明。第1圖係表示第1實施形態之搬運裝置的結構之剖面圖。第2圖係沿著第1圖所示之搬運裝置的II-II線之俯視剖面圖。第3圖係表示第1圖所示之磁封軸承附近的結構之剖面圖。第4圖係表示第1圖所示之回轉接頭的結構之剖面圖。
第1圖及第2圖所示之搬運裝置10係例如應用於對基板進行成膜之成膜裝置,且搬運真空容器31內的基板42者。真空容器31呈箱形,具備有:形成於基板42的搬運路徑的入口側之正面壁31a(參考第2圖);形成於搬運路徑的出口側之背面壁31b;設置於搬運路徑的兩側(圖示左右方向的兩側)之一對側壁31c、31c;設置於搬運路徑的上方之頂板31d(參考第1圖);及設置於搬運路徑的下方之底板31e。並且,真空容器31藉由基座32從下方支撐。
另外,於正面壁31a及背面壁31b上設置有基板42通過之開閉出入口31g、31g(參考第2圖)。並且,真空容器31內因開閉出入口31g、31g被關閉而呈密封狀態,被未圖示之真空泵減壓而呈真空狀態。並且,於相互對置之側壁31c上,設置有用於插通後述之磁封軸承單元21之貫穿孔31f。
另外,於真空容器31的內部設置用於加熱基板42的加熱器6,加熱器6夾著基板42的搬運路徑而配置於上下方向的兩側。載置基板42之托盤41上,形成有使基板42的下面露出之開口部41a。另外,加熱器6被控制成基板42適於作為下一個製程之成膜製程之溫度(例如,550℃)為較佳。此時,真空容器31內的溫度達到550℃~600℃。
另外,如第1圖所示,於真空容器31的內部設置有反射由加熱器6引起之熱的反射板33(另外,第2圖中,省略反射板33的圖示)。反射板33以覆蓋真空容器31的內壁(例如,側壁31c、頂板31d)之方式形成,藉由螺栓等固定於該內壁。再者,反射板33以覆蓋後述之搬運輥18及旋轉軸16的方式形成,且關於與搬運輥18的周面相對向之位置,呈為了使與托盤41接觸之一側的搬運輥18的周面露出而配置反射板33之狀態。反射板33例如由不鏽鋼形成,本實施形態中呈雙重配置。並且,反射板33可以覆蓋其他部位的方式形成,例如亦可以覆蓋正面壁31a、背面壁31b、底板31e的方式形成。
另外,如第1圖所示,於真空容器31的內部設置有使冷卻水流通之冷卻水管34。冷卻水管34接觸配置於反射板33而呈可與反射板33傳熱之結構。反射板33的熱傳遞至於冷卻水管34內流通的冷卻水,冷卻反射板33。冷卻水管34固定於反射板33之真空容器31中的內側的一面,例如冷卻水管34配置於在搬運輥18與側壁31c之間設置的反射板33上。
搬運裝置10,具備:作為驅動源之驅動馬達12、於搬運方向的兩側沿著搬運方向A配置之複數個搬運驅動機構20和將由驅動馬達12產生之驅動力傳遞至複數個搬運驅動機構20之動力傳遞機構11。
驅動馬達12係接受電力的供給並產生旋轉轉矩者,搬運裝置10中,例如相對1個真空容器31設置有1台驅動馬達12。驅動馬達12配置於真空容器31外,例如配置於其中一方(例如圖示右側)的側壁31c的外側。並且,驅動馬達12的輸出軸12a上連接有複數個(例如2個)同步帶輪13。
動力傳遞機構11係在真空容器31外傳遞來自驅動馬達12的驅動力,具有配置於真空容器31的兩側之複數個捲繞傳動機構、及夾著真空容器31而配置於驅動馬達12的相反側且向一連串的捲繞傳動機構傳遞驅動力之左右連結軸15。動力傳遞機構11具備有同步帶輪13及同步帶14作為複數個捲繞傳動機構。同步帶輪13設置於驅動馬達12的輸出軸12a、左右連結軸15的兩端部、搬運驅動機構20的旋轉軸16。同步帶14架設在與搬運方向A鄰接之同步帶輪13,且將作為主動輪發揮作用之同步帶輪13的驅動力傳遞至作為従動輪發揮作用之同步帶輪13,並向複數個搬運驅動機構20分配驅動力。
搬運驅動機構20具備有連接上述同步帶輪13之旋轉軸16、與旋轉軸16一同旋轉並搬運托盤41之搬運輥18、旋轉自如地支撐旋轉軸16之磁封軸承單元21、及在軸線方向上配置於磁封軸承單元21的外側之回轉接頭35。
旋轉軸16例如為不鏽鋼製,從真空容器31內延伸至真空容器31外。另外,將真空容器31的內部側作為旋轉軸16的前端側、真空容器31的外部側作為旋轉軸16的後端側來進行說明。
另外,旋轉軸16上形成有向軸線方向延伸之內部空間17上,其內部空間17上插通有用於使冷卻水流通之冷卻水供給管45。亦即,旋轉軸16呈具備向軸線方向延伸之冷卻水供給管45之雙重管結構。另外,也可以使其他冷卻媒體代替冷卻水流通。
旋轉軸16具備有支撐於磁封軸承單元21之旋轉軸主體16A及連結於旋轉軸主體16A的後端側之轉子16B。旋轉軸主體16A從真空容器31內向真空容器31外延伸,旋轉軸主體16A的後端部比磁封軸承單元21更向外方配置。比該磁封軸承單元21更向外方(真空容器31的相反側)配置之旋轉軸主體16A的後端部上,嵌入有上述同步帶輪13。於旋轉軸主體16A的外周面及同步帶輪13的中央開口部的內周面形成鍵槽並安裝有鍵13k。並且,藉由鍵13k,成為從動輪之同步帶輪13的驅動力傳遞至旋轉軸16,從而使旋轉軸16旋轉。另外,藉由鍵13k,旋轉軸16的驅動力傳遞至成為主動輪之同步帶輪13。
另外,旋轉軸主體16A的後端部被開口,向軸線方向連續之內部空間17形成至旋轉軸16的前端部附近。另外,轉子16B呈圓筒狀且其兩端部被開口。並且,旋轉軸主體16A及轉子16B形成連續之內部空間17。旋轉軸16的內部空間17的內徑大於被插入之冷卻水供給管45的外徑。
如上所述,冷卻水供給管45係插通於旋轉軸16的內部空間17內且形成向旋轉軸16內供給冷卻水之通道。冷卻水供給管45與旋轉軸16配置於同軸上,藉由後述之回轉接頭35固定後端部而無法旋轉。另外,於冷卻水供給管45的外周面與旋轉軸16的內周面之間形成的間隙17a作為冷卻水的排水路徑而被利用。亦即,藉由冷卻水供給管45從後端側供給至前端側之冷卻水經冷卻水供給管45的外側,從旋轉軸16的前端側流向後端側。
搬運輥18例如為不鏽鋼製,安裝於旋轉軸16的前端部。搬運輥18的中央形成有插通旋轉軸16之開口,搬運輥18嵌入於旋轉軸16的前端部。如第3圖所示,旋轉軸16的外周面及搬運輥18的內周面,形成鍵槽並安裝有鍵18k。並且,搬運輥18利用螺栓被固定於旋轉軸16。搬運輥18透過鍵18k傳遞旋轉軸16的轉矩並與旋轉軸16一同旋轉。另外,搬運輥18的開口部的周面與旋轉軸16的前端部的周面由於金屬彼此直接接觸而固定,因此搬運輥18的熱被適當地傳遞至旋轉軸16。另外,搬運輥18與旋轉軸16亦可為不直接接觸之結構。例如,搬運輥18亦可以透過其他構件安裝於旋轉軸16來進行傳熱。
第3圖所示之磁封軸承單元21,具備:支撐旋轉軸16之一對軸承24、24;配置於一對軸承24、24之間的磁封23;及容納該些軸承24、24和磁封23之殼體22。
殼體22呈圓筒狀,由非磁性體材料形成。在殼體22的外周面,設置有用於將磁封軸承單元21固定於真空容器31的突緣22a。並且,磁封軸承單元21嵌入於真空容器31的側壁31c的貫穿孔31f內,貫穿孔31f的內周面與殼體22的外周面相抵接。另外,突緣22a的密封面上形成圓環狀的槽並安装有O環27。突緣22a利用螺栓等被固定於側壁31c,側壁31c的外面與突緣22a的密封面相抵接,藉由O環27,將側壁31c的外面與突緣22a的密封面之間的間隙密封。
磁封23為利用磁性流體之軸封裝置,具備與旋轉軸16的周面相對向而配置之永久磁鐵25、及於旋轉軸16的軸線方向上配置於永久磁鐵25的兩側之一對極片26A、26B。
永久磁鐵25以圓環狀形成且使旋轉軸16插通,從軸線方向的兩側被極片26A、26B夾住而保持。極片26A、26B係以圓環狀形成且使旋轉軸16插通,形成基於從永久磁鐵25產生之磁場的磁力線電路的構件。另外,極片26A、26B於外周面分別安裝O環28、28而嵌入於殼體22內。殼體22的內周面與極片26A、26B相抵接,藉由O環28、28,使殼體22的內周面與極片26A、26B的外周面之間的間隙密封。
另外,於旋轉軸16的外周面上,在與極片26A、26B的內周面相對向的部份,設置有形成保持磁性流體之間隙的複數個載台16f。載台16f周向上遍及全周而形成。旋轉軸16的外周面上,向周向形成與軸線方向鄰接之複數個槽部,形成於該槽部之間的突出部成為載台16f。並且,磁封23中,形成藉由永久磁鐵25流向極片26A、旋轉軸16、極片26B之磁力線迴路,藉由基於該磁力線迴路之磁性吸引力,於極片26A、26B與載台16f之間的間隙保持磁性流體。亦即,藉由磁性流體,使極片26A、26B的內周面與旋轉軸16的外周面之間的間隙密封。
另外,搬運驅動機構20具備有冷卻磁封軸承單元21之冷卻機構。於殼體22設置用於向內部導入冷卻媒體(冷卻水)的貫穿孔22b,經該貫穿孔22b供給冷卻媒體,冷卻磁封23。貫穿孔22b形成於永久磁鐵25附近,藉由所供給之冷卻媒體冷卻永久磁鐵25。
回轉接頭35係旋轉自如地支撐旋轉軸16的後端側,且支撐插通於旋轉軸16內之冷卻水供給管45。回轉接頭35具備有圓筒形狀之殼體36,於殼體36內容納有可旋轉地支撐旋轉軸16之軸承38及對旋轉軸16進行彈推之彈簧39。
殼體36呈大致圓筒狀,由銅合金等形成,殼體36的內部空間的一部份作為用於使冷卻媒體流通之流道而被利用。軸承38固定於殼體36的內周面,可旋轉地支撐旋轉軸16的轉子16B。彈簧39向旋轉軸16的軸線方向配置,對旋轉軸16進行彈推。
另外,於殼體36的後端部(真空容器31的相反側)上,設置有向軸線方向的後方突出之圓筒狀的凸台36a。凸台36a形成冷卻媒體的流道,並且支撐冷卻水供給管45的後端部。凸台36a的前端部的內周面上形成螺紋部,冷卻水供給管45的後端側藉由旋入接合。並且,凸台36a的後端側上接合用於供給冷卻水之配管46,配管46、凸台36a及冷卻水供給管45相互連通,形成供給冷卻水之冷卻用通道。
另外,彈簧39於旋轉軸16的後端面與凸台36a的前端面之間向旋轉軸16的軸線方向配置。容納彈簧39之殼體36的內部空間與在旋轉軸16的內周面與冷卻水供給管45的外周面之間形成的間隙17a連通,形成對冷卻水進行排水之流道37a。並且,於殼體36的周面上形成與對冷卻水進行排水之流道連通的開口部37b,該開口部37b上接合有用於對冷卻水進行排水之配管47。並且,旋轉軸16內的間隙17a、殼體36的流道37a、及配管47相互連通,形成對冷卻水進行排水之通道。
接著,對如上所述之結構的搬運裝置10的動作進行說明。首先,搬運輥18使載置於托盤41上之基板42朝向第2圖所示之搬運方向A搬運。加熱器6對載置於搬運中的托盤41上之基板42進行加熱。具體而言,加熱器6控制成基板42成為適於成膜之溫度。真空容器31內的溫度藉由基於加熱器6之加熱而達到550℃~600℃。並且,載置基板42之托盤41也被加熱,托盤41的熱傳導至與該托盤41接觸之搬運輥18。
托盤41的搬運中,旋轉軸16內供給有冷卻媒體。冷卻媒體從後端側向前端流過冷卻水供給管45內。冷卻媒體於旋轉軸16的前端部(搬運輥18的安裝部)附近,從冷卻水供給管45的前端流出。從冷卻水供給管45流出之冷卻媒體經形成於冷卻水供給管45的外周面與旋轉軸16的內周面之間的間隙17a,從前端側向後端側流過旋轉軸16內。藉此,旋轉軸16的熱傳遞至冷卻媒體,冷卻旋轉軸16。另外,冷卻媒體的流通基本上不會中斷而可連續地進行。
另外,本實施形態的搬運裝置10中,冷卻媒體供給至磁封軸承單元21。冷卻媒體經殼體22的貫穿孔22b導入至內部,冷卻磁封23。其結果,能夠以良好的狀態保持填充於磁封軸承55之磁性流體,且能夠維持良好的旋轉性能。
另外,本實施形態的搬運裝置10中,冷卻媒體供給至冷卻水管34,冷卻反射板33。反射板33的熱傳導至冷卻媒體,且向真空容器31外排出。並且,反射板33由於以覆蓋真空容器31的壁體、搬運輥18、及旋轉軸16的方式配置,因此可以緩和對該些構件的傳熱。
以上說明之第1實施形態的搬運裝置10中,使冷卻媒體流通至形成於旋轉軸16內之冷卻用通道17a,藉此將旋轉軸16的熱傳導至冷卻媒體,冷卻旋轉軸16本身。並且,搬運輥18由於可傳熱地固定於旋轉軸16,因此搬運輥18的熱傳導至已冷卻之旋轉軸16,搬運輥18也被冷卻。藉由該些,可以實現提高耐熱性能。並且,與在旋轉軸16內未具備冷卻用通道17a之搬運裝置相比,由於冷卻性能被提高,因此例如,能夠減少覆蓋旋轉軸16及搬運輥18之反射板33的張數,或者減少冷卻反射板33之冷卻水管34的數量,並能夠使真空容器31內簡化。
另外,第1實施形態的搬運裝置10中,於真空容器31的外部設置向各搬運輥18分配來自驅動馬達12的驅動力之驅動力分配部份,藉此使真空容器31內的結構簡化。並且,於真空容器31的外部設置驅動力分配部份,藉此能夠代替圓錐齒輪而使用很難在真空環境下使用之帶,還能夠消除圓錐齒輪的磨損之類的課題。
接著,利用第5圖對本發明之搬運裝置的第2實施形態進行說明。第5圖係放大第2實施形態之搬運裝置中所含之搬運輥18附近的剖面圖。另外,如第5圖所示,第2實施形態之搬運裝置與上述搬運裝置的不同點為:具備有相互接觸配置於搬運輥18與旋轉軸16之間,且調整搬運輥18與旋轉軸16之間的傳熱的溫度調整構件19。在此,對與上述實施形態中所述之搬運裝置10相同或相等的結構省略其說明,而對與上述第1實施形態的搬運裝置10不同之結構進行說明。
溫度調整構件19例如為由工程塑料或不鏽鋼形成之筒狀構件。溫度調整構件19的外周面19a直接與搬運輥18的內周面18a接觸。溫度調整構件19的內周面19b直接與旋轉軸16中的安裝部16b的外周面16e接觸。
溫度調整構件19的內周面19b上形成有凹凸部19c。因此,與在內周面19b未形成凹凸部19c時相比,溫度調整構件19的內周面19b與旋轉軸16中的安裝部16b的外周面16e相互接觸的面積變小。藉此,能夠調整透過溫度調整構件19從搬運輥18傳導至旋轉軸16之熱量。第2實施形態中,藉由降低從搬運輥18傳導至旋轉軸16的熱量,能夠防止搬運輥18被過度冷卻,且維持基板42的適當的加熱溫度。第2實施形態之搬運裝置在不使用托盤而由搬運輥18直接支撐並搬運基板42之無托盤式搬運等時尤其有效。
以上,依第1實施形態及第2實施形態對本發明進行了詳細說明。但是,本發明不限定於上述實施形態。本發明在不脫離其宗旨之範圍內能夠進行各種變形。
上述實施形態中,加熱器6配置於真空容器31內,且基板42被加熱之同時被搬運之例子進行了說明,但不限定於此。例如,還能夠應用於上游製程中搬運被加熱之基板42的搬運裝置。
再者,上述實施形態中,舉例說明基板42載置於托盤41被搬運之例子,但是不限定於此。例如,基板42可以直接載置於搬運輥18來搬運之方法。
另外,上述第2實施形態的溫度調整構件19可以相對旋轉軸16裝卸自如地安裝。藉此,能夠靈活地調整透過溫度調整構件19從搬運輥18傳導至冷卻之旋轉軸16的熱量。其結果,能夠按照基板42的種類或搬運方法,將基板控制成適當的溫度。
另外,舉出在內周面19b形成有半圓形狀的凹凸部19c之例子說明了上述第2實施形態之溫度調整構件19,但不限定於此。例如,亦可以矩形的凹凸部19c。並且,亦可以在溫度調整構件19的內周面19b形成有槽。
6...加熱器
10...搬運裝置
11...動力傳遞機構
12...驅動馬達
12a...輸出軸
13A~13G...同步帶輪
14A~14F...同步帶
15...左右連結軸
16...旋轉軸
16A...旋轉軸主體
16B...轉子
16f...載台
17...旋轉軸的內部空間
17a...排水路徑(冷卻用通道)
18...搬運輥
19...溫度調整構件
19b...內周面
19c...凹凸部
20...搬運驅動機構
21...磁封軸承單元
22...殼體
22a...突緣
22b...貫穿孔(冷卻機構)
23...磁封
24...軸承
25...永久磁鐵
26A、26B...極片
27、28...O環
31...真空容器
31a...正面壁
31b...背面壁
31c...側壁
31d...頂板
31e...底板
31f...貫穿孔
31g...開閉出入口
32...基座
33...反射板
34...冷卻水管
35...回轉接頭
36...殼體
36a...凸台
37a...排水流道
37b...開口部
38...軸承
39...彈簧
41...托盤
42...基板
45...冷卻水供給管
46、47...配管
第1圖係表示第1實施形態之搬運裝置的結構的剖面圖。
第2圖係沿著第1圖所示之搬運裝置的II-II線之平面剖面圖。
第3圖係表示第1圖所示之磁封軸承附近的結構之剖面圖。
第4圖係表示第1圖所示之回轉接頭的結構之剖面圖。
第5圖係放大第2實施形態之搬運裝置中所含之搬運輥附近之剖面圖。
第6圖係表示解決以往技術的課題之搬運裝置的結構的一例之剖面圖。
第7圖係沿著第6圖的搬運裝置的VII-VII線之平面剖面圖。
31d...頂板
33...反射板
6...加熱器
42...基板
32...基座
31e...底板
41...托盤
41a...開口部
18...搬運輥
15...左右連結軸
34...冷卻水管
16A...旋轉軸主體
31...真空容器
31c...側壁
31f...貫穿孔(冷卻機構)
17...旋轉軸的內部空間
21...磁封軸承單元
22b...貫穿孔
13...同步帶輪
16...旋轉軸
16B...轉子
14...同步帶
35...回轉接頭
10...搬運裝置
20...搬運驅動機構
45...冷卻水供給管
46...配管
47...配管
Claims (3)
- 一種搬運裝置,該裝置搬運在真空容器內加熱之基板,其特徵為,具備:搬運輥,配置於前述真空容器內,且搬運前述基板;旋轉軸,可與前述搬運輥傳熱地固定,且從前述真空容器內延伸至前述真空容器外;磁封軸承,配置於貫穿形成前述真空容器之壁的貫穿孔內,可旋轉地支撐前述旋轉軸,並且密封前述貫穿孔;及冷卻用通道,沿著軸向形成於前述旋轉軸內,且從前述真空容器外延伸至前述真空容器內,用於使冷卻媒體流通。
- 如申請專利範圍第1項記載之搬運裝置,其中,進一步具備冷卻前述磁封軸承之冷卻機構。
- 如申請專利範圍第1或2項記載之搬運裝置,其中,進一步具備溫度調整構件,前述溫度調整構件相互接觸地配置於前述搬運輥與前述旋轉軸之間,且調整前述搬運輥與前述旋轉軸之間的傳熱。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW100131927A TWI452001B (zh) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | Handling device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW100131927A TWI452001B (zh) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | Handling device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201311527A true TW201311527A (zh) | 2013-03-16 |
TWI452001B TWI452001B (zh) | 2014-09-11 |
Family
ID=48482334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100131927A TWI452001B (zh) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | Handling device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI452001B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111099252A (zh) * | 2018-10-29 | 2020-05-05 | 深圳市永盛隆科技有限公司 | 一种输送系统 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5205398A (en) * | 1990-07-27 | 1993-04-27 | Eltech Systems Corporation | Insulating roll cover |
JP2004331349A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | インライン式真空処理装置 |
CN100358098C (zh) * | 2005-08-05 | 2007-12-26 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 半导体工艺件处理装置 |
JP2010114107A (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
-
2011
- 2011-09-05 TW TW100131927A patent/TWI452001B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111099252A (zh) * | 2018-10-29 | 2020-05-05 | 深圳市永盛隆科技有限公司 | 一种输送系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI452001B (zh) | 2014-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI543855B (zh) | Industrial robots | |
JP4699312B2 (ja) | 搬送装置 | |
TWI551411B (zh) | Industrial robots | |
TWI452001B (zh) | Handling device | |
JP2011099532A (ja) | 攪拌機用ダブルメカニカルシールのシール流体循環装置 | |
WO2012081168A1 (ja) | スパッタリング装置 | |
KR101312962B1 (ko) | 반송장치 | |
JP6691088B2 (ja) | 熱処理装置 | |
CN109423629B (zh) | 圆盘类零件一次性全表面沉积用工件驱动装置及气相沉积炉 | |
JP6776214B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP5562734B2 (ja) | 搬送装置 | |
JP5687049B2 (ja) | 搬送装置及び真空処理装置 | |
CN206522251U (zh) | 一种机械密封式磁力泵系统 | |
JP2011047515A (ja) | 駆動装置及び真空処理装置 | |
JP5841382B2 (ja) | ワーク搬送装置 | |
KR101795439B1 (ko) | 인라인 스퍼터링 시스템 | |
JP6185863B2 (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
CN103000557B (zh) | 传送装置 | |
CN106678052A (zh) | 一种机械密封式磁力泵系统 | |
US10680496B2 (en) | Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus | |
KR20140005761A (ko) | 성막장치, 및 성막장치용 반송트레이 | |
CN206522250U (zh) | 一种外循环磁力泵系统 | |
JP2006038350A (ja) | 高温加熱混合装置の冷却装置 | |
KR100765049B1 (ko) | 가열로 장입측 이송롤 테이블의 롤 축수부 냉각장치 | |
JP6199656B2 (ja) | ローラハースキルン |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |