TW201306160A - 允許多個載台非常鄰近地操作的方法和裝置 - Google Patents

Abstract

根據本發明的其中一項觀點提供一種載台裝置，其包含：一第一載台(104)；一第一磁鐵排列(112a、112b)；以及一定子排列(120)，其包含一具有一第一寬度的第一線圈。該第一磁鐵排列和該第一載台相關聯，並且包含一第一象限(112a)與一第二象限(112b)，或者，更明確地說，包含一第一子陣列與一第二子陣列。該第一象限具有被排列成平行於一第一軸線的至少一第一磁鐵，而該第二象限具有被排列成平行於一第二軸線的至少一第二磁鐵。該第一象限以該第一軸線為基準相鄰於該第二象限，並且以該第二軸線為基準和該第二象限分隔一距離。該定子排列會被配置成用以協同該第一磁鐵排列來驅動該第一載台。

Description

允許多個載台非常鄰近地操作的方法和裝置

本發明大體上關於使用在半導體處理中的設備。更明確地說，本發明係關於一允許一整體載台裝置中的兩個載台共同緊密操作的平面馬達的磁鐵及/或線圈的配置。

許多載台裝置皆包含會因彼此非常鄰近地操作而獲得好處的載台。舉例來說，在微影系統中(例如，浸沒式微影系統)，讓兩個載台(舉例來說，兩個晶圓載台或是一晶圓載台與一測量載台)能夠彼此非常鄰近地操作會增強該系統的效能。

一微影系統之一部分的載台(舉例來說，移動磁鐵載台)通常會運用線性或平面馬達來驅動該等載台。一線性或平面馬達通常包含一動子(mover)與一定子(stator)，其中一者含有一由線圈所組成的陣列而另一者含有一由永久磁鐵所組成的陣列。「移動線圈(moving coil)」通常係指動子含有該線圈陣列而定子含有該磁鐵陣列的馬達。「移動磁鐵(moving magnet)」則通常係指定子含有該線圈陣列而動子含有該磁鐵陣列的馬達。於一受到一移動磁鐵平面馬達驅動的載台之中，被鑲嵌在該載台之上的磁鐵可能會被配向成使得一實質上連續的陣列中的某些磁鐵(舉例來說，X磁鐵)會被配向成用以在至少一X方向中創造一作用力，而且該陣列中的其它磁鐵(舉例來說，Y磁鐵)會被配向成用以在至少一Y方向中創造一作用力。一定子可能包含被配向成 用以在至少一X方向中產生作用力的數個線圈(舉例來說，X線圈)以及被配向成用以在至少一Y方向中產生作用力的其它線圈(舉例來說，Y線圈)。該等磁鐵與該定子通常可用來產生所希的作用力，舉例來說，當一適當的X磁鐵與一X線圈相互作用時可能會在一X方向中產生一所希的作用力，其亦可能會產生通常具有較小強度的非所希額外作用力。

當一微影系統中的兩個載台比此非常緊密時，雖然可以產生一所希望的作用力來驅動其中一個載台；但是，非所希望的作用力亦可能會被產生，其對另一個載台會有負面作用。換言之，當兩個載台被一移動磁鐵平面馬達系統驅動時，在產生一所希望的作用力來驅動其中一個載台中，可能會創造出對另一個載台有非常明顯之負面作用的干擾作用力。為避免產生此等干擾作用力，該等兩個載台可能會分隔更遠，從而會影響該等兩個載台共同緊密操作的能力。

本發明和一種移動磁鐵平面馬達排列有關，其包含堆疊線圈及/或磁鐵陣列，它們包含分隔的磁鐵象限。此種移動磁鐵平面馬達排列允許兩個載台於一微影系統(例如，一浸沒式微影系統)之中非常緊密地共同操作。應該明白的係，於一載台上分隔的磁鐵象限可能有利於促成一實質上單一載台的精確控制。

根據本發明的其中一項態樣，一載台裝置包含一第一 載台、一第一磁鐵陣列以及一定子排列。該第一磁鐵陣列與該第一載台相關聯。該定子排列會協同該第一磁鐵陣列來驅動該第一載台並且包含多個線圈。該等多個線圈包含：一第一種類型的第一線圈與一第二種類型的第二線圈，其中，該第一線圈會被堆疊在該第二線圈的上方；以及一第一種類型的第三線圈與一第二種類型的第四線圈，其中，該第四線圈會被堆疊在該第三線圈的上方。該等第一線圈與第四線圈係在一第一平面之中，而該等第二線圈與第三線圈係在一第二平面之中。於其中一實施例中，該第一線圈會被堆疊在該第二線圈的上方並且沿著一第一軸線於一第一方向中支援一作用力而該第二線圈則會沿著一第二軸線於一第二方向中支援一作用力。

根據本發明的另一項態樣，一載台裝置包含一第一載台、一第一磁鐵排列以及一包含一具有第一寬度之第一線圈的定子排列。該第一磁鐵排列與該第一載台相關聯，並且包含一第一象限與一第二象限，或者，更明確地說，包含一第一子陣列與一第二子陣列。該第一象限具有被排列成平行於一第一軸線的至少一第一磁鐵，而該第二象限具有被排列成平行於一第二軸線的至少一第二磁鐵。該第一象限以該第一軸線為基準相鄰於該第二象限，並且以該第二軸線為基準和該第二象限分隔一距離。該定子排列會被配置成用以協同該第一磁鐵排列來驅動該第一載台。於其中一實施例中，該第一磁鐵排列係一線性磁鐵陣列，而且該第一象限會被排列成用以協同該定子排列沿著該第二軸 線來產生一第一作用力，而該第二象限則會被排列成用以協同該定子排列沿著該第一軸線來產生一第二作用力。

根據本發明的又一項態樣，一載台裝置包含一第一載台、一第二載台、一第一磁鐵陣列、一第二磁鐵陣列以及一定子排列。該第一磁鐵陣列與該第一載台相關聯，並且包含一具有至少一第一磁鐵的第一象限以及一具有至少一第二磁鐵的第二象限。該第一象限會被排列成用以在一第一方向中產生一作用力，而該第二象限會被排列成用以在一第二方向中產生一作用力。該第二磁鐵陣列與該第二載台相關聯，並且包含一具有至少一第三磁鐵的第三象限以及一具有至少一第四磁鐵的第四象限。該第三象限會被排列成用以在該第一方向中產生一作用力，而該第四象限會被排列成用以在該第二方向中產生一作用力。該定子排列包含至少一線圈，並且會協同該第一磁鐵陣列來驅動該第一載台以及會協同該第二磁鐵陣列來驅動該第二載台。相較於該第三象限接近相鄰於該第一象限，當該第四象限接近相鄰於該第一象限時，該第二載台可以移動更緊密地鄰近於該第一載台。

下面會參考各種圖示來討論本發明的範例實施例。然而，熟習本技術的人士便很容易明白，本文中針對此等圖示所提出的詳細說明僅係為達解釋的目的，因為本發明會延伸超越此等實施例。

一包含一具有於其中一方向(舉例來說，X方向或Y方 向)中分隔之子陣列(舉例來說，象限)的磁鐵陣列的載台會有效地確保一協同該磁鐵陣列來驅動該載台的定子排列中之一部分的線圈群會在任何給定的時間處配合實質上唯一象限之中的磁鐵產生一非常強的作用力。換言之，一磁鐵陣列中的象限之間的間隔會有效地防止一線圈在某一時間處配合一個以上的象限產生一強大的作用力。應該明白的係，為方便討論起見，本文說明磁鐵象限；但是，磁鐵並不受限於分成四個象限，一般來說，可以分成任何數量的子陣列。

於一運用一個以上載台的整體載台系統裡，舉例來說，於一浸沒式微影系統裡(其中，一晶圓載台可能會和一具有各種感測器或測量工具的測量載台及/或一用以支撐被連接至該晶圓載台之爐管或管線的爐管攜載載台一起移動)或者於一兩個晶圓載台會週期性地一起移動的系統中，將和該等載台相關聯的磁鐵陣列排列成使得具有一特殊磁性配向的其中一個載台的一象限接近鄰近於具有一實質上垂直磁性配向的一第二載台的一象限會允許該等兩個載台非常鄰近地操作。舉例來說，將一晶圓載台中被排列成用以在一X方向中產生一作用力的一磁鐵象限(也就是，「X象限」)定位成接近鄰近於一測量載台、一爐管攜載載台、或是另一晶圓載台中被排列成用以在一Y方向中產生一作用力的一磁鐵象限(也就是，「Y象限」)會允許該等兩個載台非常鄰近地操作，因為和兩個載台重疊的已被供能X線圈會配合該第一載台的X象限產生一強大的作用力，但是卻 不會和該第二載台的Y象限進行強烈地互動。同樣地，和兩個載台重疊的已被供能Y線圈會配合該第二載台的Y象限產生一強大的作用力，但是卻不會和該第一載台的X象限進行強烈地互動。

於其中一實施例中，作為一平面馬達之一部分的一定子可能包含一堆疊線圈排列。一堆疊線圈排列係一種線圈配置，其中，一由X線圈所組成的實質均勻層可能會堆疊在一由Y線圈所組成的實質均勻層的頂端，及/或，反之亦同。堆疊線圈會提供一定子，在該定子裡面的實質上每一個位置皆具有一X線圈與一Y線圈。

首先，參考圖1，其將說明根據本發明一實施例的一包含一平面馬達的載台排列，該平面馬達具有一堆疊線圈排列以及磁鐵陣列，該等磁鐵陣列具有分隔的磁鐵象限。應該明白的係，圖1中所示的載台排列100雖然包含一堆疊線圈排列以及具有分隔之磁鐵象限的磁鐵陣列；但是，取而代之的係，載台排列100亦可能包含一堆疊線圈排列或是具有分隔之磁鐵象限的磁鐵陣列。

載台排列100包含一第一載台104以及一第二載台108。於其中一實施例中，第一載台104可能係一晶圓載台，而第二載台108可能係一測量載台、一爐管攜載載台或是另一晶圓載台108。一般來說，載台108可能係任何類型的載台。雖然載台108可能係任何類型的載台；不過，為方便討論起見，載台108將被稱為測量載台。晶圓載台104與測量載台108會被配向在一堆疊線圈排列120之上，該 堆疊線圈排列120包含以一Z方向為基準被堆疊的X線圈(圖中並未顯示，舉例來說，被排列成用以在一X方向之中產生一作用力的線圈)以及Y線圈(圖中並未顯示，舉例來說，被排列成用以在一Y方向之中產生一作用力的線圈)。然而，應該明白的係，於某些應用中，一載台排列(例如，載台排列100)可能會以重力為基準而有不同的配向，舉例來說，被配向成上下顛倒或是垂直狀，舉例來說，重力會作用在X方向之中或是Y方向之中。晶圓載台104會被耦合至一包含磁鐵象限112a、112b的磁鐵陣列，該等磁鐵象限112a、112b會被排列成用以協同堆疊線圈排列120而如同一平面馬達般地操作，用以驅動晶圓載台104。測量載台108會被耦合至一包含磁鐵象限116a、116b的磁鐵陣列，該等磁鐵象限116a、116b會被排列成用以同樣協同堆疊線圈排列120而如同一平面馬達般地操作，用以驅動測量載台108。

如圖所示，磁鐵象限112a會沿著一y軸或者以一y軸為基準與磁鐵象限112b分隔，而磁鐵象限116a會沿著該y軸與磁鐵象限112b分隔。磁鐵象限112a與磁鐵象限112b分隔的數額以及磁鐵象限116a與磁鐵象限116b分隔的數額可以改變。於其中一實施例中，磁鐵象限112a與磁鐵象限112b分隔的數額以及磁鐵象限116a與磁鐵象限116b分隔的數額可能大於或是約略等於堆疊線圈排列120之中所包含的一線圈(圖中並未顯示)在一Y方向之中的長度。應該明白的係，於某些實施例中，磁鐵象限可能會分個一線圈之 寬度或長度中的較長者。

堆疊線圈排列120通常包含：至少一X線圈(圖中並未顯示)，其會被排列成用以協同X磁鐵(圖中並未顯示)或是協同磁鐵象限112a、112b、116a、116b之中所包含之被配向成用以在一X方向之中創造一作用力的磁鐵；以及至少一Y線圈(圖中並未顯示)，其會被排列成用以協同Y磁鐵(圖中並未顯示)或是協同磁鐵象限112a、112b、116a、116b之中所包含之被配向成用以在一Y方向之中創造一作用力的磁鐵。堆疊線圈排列120較佳的係包含由線圈所組成的均勻層(圖中並未顯示)，且該均勻的線圈層可能較佳的係會被排列成實質上為矩形或方形的線圈群。換言之，堆疊線圈排列120會被配置成使得堆疊線圈排列120會沿著至少一x軸在堆疊線圈排列裡面的實質上每一個位置處皆包含一X線圈(圖中並未顯示)以及一Y線圈(圖中並未顯示)。參考圖2A至C，現在將說明根據本發明一實施例在一堆疊線圈排列(舉例來說，一定子的一堆疊線圈排列)裡面的線圈的不同配置。於其中一實施例中，如圖2A中所示，於一包含一堆疊線圈排列120’的載台排列200’裡，X線圈120a會被堆疊在Y線圈120b的頂端，俾使得X線圈120a會比Y線圈120b更接近磁鐵象限112a、112b、116a、116b。當X線圈120a以z軸為基準比Y線圈120b更接近磁鐵象限112a、112b、116a、116b時，X線圈120a的操作效率通常會優於Y線圈120b。

當X線圈120a會被堆疊在Y線圈120b的頂端時，X 線圈120a會以z軸為基準實質上被定位在Y線圈120b的上方。應該明白的係，X線圈120a雖然可能會接觸Y線圈120b；但是，取而代之的係，X線圈120a亦可能會被定位成使得以z軸為基準在X線圈120a與Y線圈120b之間會有一微小的間隙。

當一系統要使得和Y線圈相關聯的效率比和X線圈相關聯的效率更重要時，Y線圈則可能會被堆疊在X線圈的頂端。圖2B所示的便係根據一實施例的一包含一平面馬達的載台排列的代表圖，該平面馬達具有一堆疊線圈排列，其中，於該堆疊線圈排列之中會有Y線圈被堆疊在X線圈的頂端。一載台排列200”包含一堆疊線圈排列120”，其具有被堆疊在X線圈120a之頂端的Y線圈120b，俾使得Y線圈120b會比X線圈120a更接近磁鐵象限112a、112b、116a、116b。因此，由於當Y線圈120b以z軸為基準比X線圈120a更接近磁鐵象限112a、112b、116a、116b的關係，所以，Y線圈120b的操作效率會優於X線圈120a。

於其中一實施例中，一定子的一堆疊線圈排列可能會使得該堆疊線圈排列的某些區域的X線圈係被堆疊在Y線圈的頂端，而該堆疊線圈排列的其它區域的Y線圈則係被堆疊在X線圈的頂端。圖2C所示的係根據一實施例的一包含一平面馬達的載台排列的代表圖，該平面馬達具有一堆疊線圈排列，於該堆疊線圈排列之中會有數個X線圈被堆疊在數個Y線圈的頂端而其它Y線圈則會被堆疊在X線圈的頂端。一載台排列200’”包含一堆疊線圈排列120’”，其 具有多個X線圈120a以及多個Y線圈120b。在一x軸中，X線圈120a以及多個Y線圈120b會被排列成線圈對，其中，至少一X線圈120a會被定位在至少一Y線圈120b的頂端且至少一Y線圈120b會被定位在至少一X線圈120a的頂端。於X線圈120a被定位在Y線圈120b的頂端的區域中，X線圈120a的操作效率可能會優於Y線圈120b。或者，於Y線圈120b被定位在X線圈120a的頂端的區域中，Y線圈120b的操作效率則會優於X線圈120a。於其中一實施例中，倘若該等線圈對遠小於該等磁鐵陣列的尺寸的話，那麼，該等線圈對中一半的X線圈120a被定位在Y線圈120b之頂端的排列方式則可以為X線圈與Y線圈兩者提供實質上相同的效率。

如前面所提，一實質上被分割或是被分離成象限的磁鐵陣列可能會讓該等象限在至少其中一個方向中(舉例來說，在x軸方向中)分隔。於一磁鐵陣列裡面提供間隔可以有效地確保線圈群可以協同該磁鐵陣列中實質上唯一象限的磁鐵來產生一非常強烈的作用力。當多個已被供能的X線圈以及一延伸在Y方向之中的磁鐵象限重疊時，舉例來說，XZ象限，可以在X方向之中及Z方向之中產生實質上獨立受控的作用力。出現在磁鐵象限之間的空間實際上係一可讓一已被供能的線圈(舉例來說，一已被供能的X線圈)和該空間重疊但實質上卻不會造成任何作用力之生成的區域。

圖3A所示的係根據本發明一實施例之和兩個載台的磁 鐵陣列相關聯的磁鐵象限的代表圖，其中，一被排列成用以產生一X作用力的線圈會在時間t1處對齊一X磁鐵象限與一Y磁鐵象限。一和一第一載台相關聯的磁鐵陣列306包含磁鐵象限312a、312b，而一和一第二載台(舉例來說，一會週期性地非常鄰近於一第一載台來操作或是配合一第一載台進行集團並列(scrum)操作的第二載台)相關聯的磁鐵陣列310則包含磁鐵象限316a、316b。當一第二載台係一配合一第一載台的集團並列載台時，該等兩個載台可能會以同步的方式非常緊密的靠在一起，以便保持它們之間非常小的分離距離。每一個象限312a、312b、316a、316b皆會被配置成用以提供垂直作用力(也就是，在一Z方向中的作用力)以及垂直於每一個象限312a、312b、316a、316b之中所包含的磁鐵之軸線的水平作用力。

如圖中所示，一實質上空白的空間328(也就是，一沒有於其中放置磁鐵的空間)會沿著一x軸被併入象限312a、312b之間；而一實質上空白的空間332則會沿著該x軸被併入象限316a、316b之間。空白的空間328會被排列成用以沿著該x軸來實質上分離象限312a與實質上相鄰的象限312b。同樣地，空白的空間332會被排列成用以沿著該x軸來實質上分離象限316a與實質上相鄰的象限316b。

磁鐵象限312a、316a包含X磁鐵，或者，被排列成用以在一X方向之中提供作用力的磁鐵；而磁鐵象限312b、316b則包含Y磁鐵，或者，被排列成用以在一Y方向之中提供作用力的磁鐵。也就是，磁鐵象限312a、316a為X配 向，而磁鐵象限312b、316b為Y配向。於其中一實施例中，一為X配向的象限312a會有效地鄰近於一為Y配向的象限316b；而一為Y配向的象限312b則會有效地鄰近於一為X配向的象限316a。應該明白的係，X磁鐵通常會被排列成平行於一y軸，而Y磁鐵則通常會被排列成平行於一x軸。於圖中所示的實施例中，每一個磁鐵象限312a、316a包含X磁鐵且不包含Y磁鐵，而每一個磁鐵象限312b、316b包含Y磁鐵且不包含X磁鐵。

磁鐵象限312a、316a會被配置成用以協同一線圈336a在一X方向之中提供一作用力，而磁鐵象限312b、316b則會被配置成用以協同一線圈336b在一Y方向之中提供一作用力。線圈336a係一X線圈而線圈336b係一Y線圈，兩者都是一被磁鐵陣列306與磁鐵陣列310有效共用的定子(圖中並未顯示)的一部分，並且會被排列成用以在線圈336a、336b中的至少其中一者完全或部分重疊磁鐵象限312a及/或磁鐵象限316a時被供能。

如圖中所示，在時間t1處，線圈336a會被排列成用以使得一部分的線圈336a會部分重疊磁鐵陣列306的一象限312b以及磁鐵陣列310的一象限316a。當線圈336a被供能時，線圈336a會協同磁鐵陣列310的一象限316a來驅動和磁鐵陣列310耦合的第二載台(圖中並未顯示)。雖然部分的線圈336a也會有效地重疊磁鐵陣列306的一象限312b，但是，因為線圈336a係一X線圈，所以，和磁鐵陣列306耦合的第一載台(圖中並未顯示)並不會在時間t1處利用線圈 336來驅動。應該明白的係，在時間t1處，倘若線圈336b被供能的話，線圈336b則會協同磁鐵陣列306的一象限312b來驅動和磁鐵陣列306耦合的第一載台(圖中並未顯示)。於其中一實施例中，線圈336b實質上位於線圈336a的底下。

於圖中所示的實施例中，在x軸中，線圈336a具有線圈寬度C且線圈336b具有線圈長度L，而空白空間328、336則具有寬度W。寬度W通常會被選擇為大於或是約略等於線圈長度L，並且同樣大於或是約略等於線圈寬度C。藉由選擇寬度W使其大於或是約略等於線圈寬度C，線圈336a便不會同時重疊兩個象限312a。同樣地，當寬度W大於或是約略等於線圈寬度C時，線圈336a亦同樣不會同時重疊兩個象限316a。此外，線圈336a亦不會同時重疊一象限312a以及一象限316a。

藉由選擇寬度W使其大於或是約略等於線圈長度L，線圈336b便不會同時重疊兩個象限312b。同樣地，藉由選擇寬度W使其大於或是約略等於線圈長度L，線圈336b亦同樣不會同時重疊兩個象限316b。此外，線圈336b亦不會同時重疊一象限312b以及一象限316b。

當寬度W的尺寸被設計成大於或是約略等於線圈寬度C時，那麼，和磁鐵陣列306、310相關聯的每一個載台(圖中並未顯示)相關聯的作用力產生區域通常不會重疊，而且磁鐵陣列306與磁鐵陣列310之間的實質上最小操作距離可能會小至約略為零毫米(mm)。應該明白的係，圖中所示 的空白空間328與空白空間332兩者雖然具有相同的寬度W；但是，每一個空白空間328、332可能具有不同的寬度，每一個寬度皆大於或等於線圈寬度C。應該明白的係，倘若其中一個載台上的空白空間寬於線圈336a、336b在一X方向之中的寬度或是長度的話，該等載台(圖中並未顯示)便可以它們之間在一Y方向之中幾乎為零的間隔來操作，但實質上並不會在該X方向之中精確地相互跟隨。進一步言之，該等載台能夠以它們之間幾乎為零的間隔沿著該Y方向移動。

在時間t2處，線圈33a會被定位成使得一部分的線圈336a會重疊空白空間328而且一部分的線圈336a會重疊空白空間332，如圖3B中所示。因此，線圈336a和在時間t2處之任何作用力的生成並不相關。應該明白的係，當線圈336a被定位成用以部分重疊空白空間328並且部分重疊空白空間332時，線圈336a可以被取消。

圖3C所示的係根據本發明一實施例，在時間t3處的線圈336a、336b的代表圖。在時間t3處，一部分的線圈336a會重疊磁鐵陣列306的一象限312a以及磁鐵陣列310的一象限316b。當線圈336a重疊一象限312a時，線圈336a與象限312a會協同操作用以驅動和磁鐵陣列306相關聯的地一載台(圖中並未顯示)。

如上面所提，一系統(例如，浸沒式微影系統)之中所包含的多個載台可能包含一晶圓載台以及一第二載台，該第二載台可能係一測量載台、一爐管攜載載台或是一第二晶 圓載台。應該明白的係，一爐管攜載載台係一被排列成用以支撐或是攜載用來供給該晶圓載台的纜線或軟管的載台。一般來說，該第二載台較佳的係可以在至少某段時間處以非常鄰近於一晶圓載台的方式來操作。於其中一實施例中，當一被排列成用以在一X方向之中產生作用力的第二載台的一磁鐵象限實質上相鄰於一被排列成用以在一Y方向之中產生作用力的晶圓載台的一磁鐵象限時，該第二載台可以非常緊密地接近該晶圓載台，及/或反之亦然。每一個載台的每一個象限上的作用力可以大體上獨立的方式受到控制，因為一被排列成用以在一X方向之中產生作用力的象限並不會和任何重疊的Y線圈進行強烈地互動而且一被排列成用以在一Y方向之中產生作用力的象限並不會和任何重疊的X線圈進行強烈地互動。

參考圖4，現在將說明的係根據本發明一實施例的一包含多個載台(舉例來說，一晶圓載台以及一測量載台或是一爐管攜載載台)的載台排列，每一個載台之上皆實質上耦合一磁鐵陣列，該磁鐵陣列包含磁鐵象限。一載台排列400包含：一第一磁鐵陣列406，其實質上會被耦合至一晶圓載台(圖中並未顯示)；以及一第二磁鐵陣列410，其實質上會被耦合至一測量載台(圖中並未顯示)或是一爐管攜載載台(圖中並未顯示)。

如圖中所示，第一磁鐵陣列406包含四個象限412a、412b。X象限412a包含X磁鐵(圖中並未顯示)，它們會被配向成實質上平行於一y軸，俾使得該等X磁鐵可以協同 一定子(圖中並未顯示)之重疊的已被供能X線圈(圖中並未顯示)沿著一x軸於一方向之中(或者，更一般的說法係，在一實質上垂直於該等X磁鐵之縱軸的方向之中)產生作用力。Y象限412b包含Y磁鐵(圖中並未顯示)，它們會被配向成實質上平行於一x軸，俾使得該等Y磁鐵可以協同一定子(圖中並未顯示)之重疊的已被供能Y線圈(圖中並未顯示)沿著一y軸於一方向之中(或者，更一般的說法係，在一實質上垂直於該等Y磁鐵之縱軸的方向之中)產生作用力。於其中一實施例中，象限412a、412b具有一落在介於約50mm與約120mm之間的範圍之中的間距，舉例來說，約60mm；而且第一線性磁鐵陣列406可能為約600mm乘約480mm。應該明白的係，象限412a包含X磁鐵(圖中並未顯示)且不包含Y磁鐵，而象限412b包含Y磁鐵(圖中並未顯示)且不包含X磁鐵。

應該明白的係，每一個象限412a、412b皆能夠沿著一z軸於一方向之中產生作用力。也就是，每一個象限412a皆會被排列成用以產生X作用力與Z作用力，而每一個象限412b皆會被排列成用以產生Y作用力與Z作用力。

象限412a、412b實質上會沿著一x軸分離一實質上空白的空間428。如上面所述，空白空間428在該x軸中的寬度可能大於或約略等於一定子(圖中並未顯示)的一線圈(圖中並未顯示)的長度，該定子會協同第一線性磁鐵陣列406來有效形成一平面馬達。於其中一實施例中，一線圈(圖中並未顯示)的尺寸(舉例來說，該線圈的長度)係象限412a、 412b之中所包含的磁鐵的間距的倍數。舉例來說，當象限412a、412b、416a、416b的間距為約60mm時，一線圈長度可能會約為該間距的兩倍而為約120mm，並且因此，空白空間428以該x軸為基準的寬度可能會約為該間距的兩倍而為約120mm。於圖中所示的實施例中，象限412a、412b可能各為約240mm乘約240mm，而且第一線性磁鐵陣列406裡面所包含的實質上空白的空間428以一x軸為基準的寬度可能會約為120mm。

第二磁鐵陣列410包含：X象限416a，其每一者皆包含至少一X磁鐵(圖中並未顯示)；以及Y象限416b，其每一者皆包含至少一Y磁鐵(圖中並未顯示)。每一個象限416a、416b之中所包含的磁鐵的數量雖然可以改變；但是，於本文中所述的實施例中，象限416a、416b通常各包含介於約4個與約32個之間的磁鐵。象限416a、416b實質上會沿著一x軸分隔一實質上空白的空間432。於其中一實施例中，象限416a、416b的間距等於約60mm，空白空間432以一x軸為基準的寬度可能為約120mm，而且第二磁鐵陣列410可能為約360mm乘約240mm。象限416a、416b可能各為約120mm乘約120mm。

為讓實質上被耦合至第二磁鐵陣列410的一測量載台(圖中並未顯示)或是一爐管攜載載台(圖中並未顯示)可以移動至非常靠近一實質上被耦合至第一磁鐵陣列406的晶圓載台(圖中並未顯示)，實質上相鄰於第一磁鐵陣列406之象限412a、412b的第二磁鐵陣列410的象限416a、416b會被 排列成相反的配向。如圖中所示，以一y軸為基準，一X象限412a實質上相鄰於一Y象限416b，而一Y象限412b則實質上相鄰於一X象限416a。所以，於其中一實施例中，一晶圓載台(圖中並未顯示)與一測量載台(圖中並未顯示)或是一爐管攜載載台(圖中並未顯示)可以有效地相互接觸。換言之，介於第一磁鐵陣列406與第二磁鐵陣列410之間的實質上最小操作距離可能約為零mm，舉例來說，距離S可能小至約為零mm。

圖5所示的係根據本發明一實施例的一平面馬達的代表圖，該平面馬達包含一具有一堆疊線圈排列的定子。一平面馬達564包含一通常會被耦合至一載台(圖中並未顯示)(例如，一晶圓載台、測量載台或是爐管攜載載台)的磁鐵排列514。於其中一實施例中，該磁鐵排列514可能會被排列在沿著至少一軸線分隔的象限之中，每一個象限皆係一線性磁鐵陣列。然而，應該明白的係，磁鐵排列514可能通常為任何合宜的磁鐵排列。

平面馬達564還包含一堆疊線圈排列520，其係一定子的一部分。堆疊線圈排列520包含堆疊的至少一X線圈520a以及至少一Y線圈520b。圖中雖然顯示至少一X線圈520a被堆疊在至少一Y線圈520b的上方；但是，取而代之的係，至少一Y線圈520b亦可被堆疊在至少一X線圈520a的上方。

和載台相關聯的該等磁鐵陣列可能具有各式各樣不同的配置。如前面所提，線性磁鐵陣列通常包含方形象限或 是矩形象限；但是，應該明白的係，磁鐵陣列並不僅受限於包含方形象限或是矩形象限。進一步言之，本文中所述的磁鐵陣列雖然在至少某些相鄰的象限之間包含實質上空白的空間；但是，某些磁鐵陣列亦可能不包含位於相鄰象限之間的空白空間。

如即將參考圖6A至D所述般，和晶圓載台、測量載台、爐管載台或是其它類型的平面馬達驅動載台相關聯的磁鐵陣列可能包含各式各樣不同的配置。圖6A所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一載台或是一爐管載具之中的一第一磁鐵陣列的代表圖。一磁鐵陣列668包含多個矩形形狀的象限616a、616b，它們會被排列成使得在相鄰的象限616a、616b之間實際上沒有任何空白的空間，舉例來說，沒有任何非常明顯的間隙。於其中一實施例中，磁鐵陣列668可能為約240mm乘約480mm；不過，應該瞭解的係，磁鐵陣列668的維度可能會有各種變化。

圖6B所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一載台或是一爐管載具之中的一第二磁鐵陣列的代表圖。一磁鐵陣列670包含多個矩形形狀的象限616a’、616b’。實質上空白的空間632’會被排列在相鄰的Y象限616b’或是包含被排列成用以在一Y方向之中產生一作用力之磁鐵的象限616b’的旁邊或是之間並且會被排列在相鄰的X象限616a’或是包含被排列成用以在一X方向之中產生一作用力之磁鐵的象限616a’的旁邊或是之間。於圖中所示的實施例中，磁鐵陣列670可能為約360mm乘約480mm；不過，應該瞭 解的係，磁鐵陣列670的維度可能會有各種變化。

圖6C所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一載台或是一爐管載具之中的一第三磁鐵陣列的代表圖。一磁鐵陣列672包含多個象限616a”、616b”。一實質上空白的空間632”會被排列成使得象限616a”與616b”會以一x軸基準來分隔，如圖中所示。X象限616a”或是包含被排列成用以在一X方向之中產生一作用力之磁鐵的象限616a”以及Y象限616b”或是包含被排列成用以在一Y方向之中產生一作用力之磁鐵的象限616b”實質上為方形的形狀。於圖中所示的實施例中，磁鐵陣列672可能為約240mm乘約360mm；不過，應該瞭解的係，磁鐵陣列672的維度可能會有各種變化。

圖6D所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一載台或是一爐管載具之中的一第四磁鐵陣列的代表圖。一磁鐵陣列674包含多個矩形形狀的象限616a’”、616b’”。一實質上空白的空間632’”會被排列成使得象限616a’”與616b’”會以一x軸基率來分隔，如圖中所示。X象限616a’”或是包含被排列成用以在一X方向之中產生一作用力之磁鐵的象限616a’”以及Y象限616b’”或是包含被排列成用以在一Y方向之中產生一作用力之磁鐵的象限616b’”實質上為矩形的形狀。於圖中所示的實施例中，磁鐵陣列674可能為約240mm乘約600mm；不過，應該瞭解的係，磁鐵陣列674的維度可能會有各種變化。

如上面所提，一作用力被產生的方向可能會相依於一 線圈相對於一磁鐵陣列中之磁鐵的位置而改變。圖10所示的係根據本發明一實施例之和用以將一X線圈定位在一X磁鐵陣列上方相關聯的作用力方向的代表圖。一X線圈720a會被定位在一X磁鐵陣列712a的上方。如圖中所示，線圈720a包含一第一側邊780與一第二側邊782。X磁鐵陣列712a包含至少一第一磁鐵786以及一第二磁鐵788。

X線圈720a會被定位成使得第一側邊780被定位在第一磁鐵786的上方並且使得第二側邊782被定位在第二磁鐵788的上方。明確地說，第一側邊780會與第一磁鐵786互動以便在一以一x軸為基準的正向方向之中產生一作用力784，而第二側邊782則會與第二磁鐵788互動以便在一以該x軸為基準的正向方向之中產生一作用力790。

圖11所示的係根據本發明一實施例之和用以將一X線圈定位在一Y磁鐵陣列上方相關聯的作用力方向的代表圖。一X線圈820a會被定位在一Y磁鐵陣列812b的上方。如圖中所示，線圈820a包含一第一側邊880與一第二側邊882。Y磁鐵陣列812b包含南向磁鐵886a、886b以及一北向磁鐵888。

當X線圈820a被定位成如圖中所示般時，第一側邊880會與南向磁鐵886a、886b互動以便在一以一x軸為基準的正向方向之中產生作用力890。第一側邊880會與北向磁鐵888互動，俾使得會在一以該x軸為基準的負向方向之中產生作用力884。當X線圈820a被定位成如圖中所示般時，第二側邊882會與南向磁鐵886a、886b互動以便在一以一 x軸為基準的負向方向之中產生作用力884；並且與北向磁鐵888互動，俾使得會在一以該x軸為基準的正向方向之中產生作用力890。

圖12所示的係根據本發明一實施例之和用以將一X線圈定位在一X磁鐵陣列上方相關聯的通量方向以及作用力方向的代表圖。一X線圈920a會被定位在一X磁鐵陣列912a的上方。當X線圈920a被定位成如圖中所示般時，通量線992表示所產生的磁通量的方向，而箭頭984、990則表示所產生的作用力方向。作用力984、990係沿著相同的方向，舉例來說，沿著一x軸的正向方向。

圖13所示的係根據本發明一實施例之和用以將一Y線圈定位在一X磁鐵陣列上方相關聯的通量方向以及作用力方向的代表圖。一Y線圈1320b會被定位在一X磁鐵陣列1312a的上方。當Y線圈1320b被定位成如圖中所示般時，通量線1392表示所產生的磁通量的方向，而箭頭1398則表示所產生的作用力方向。

圖14所示的係根據一實施例的一移動磁鐵平面馬達線圈陣列以及一磁鐵陣列的代表圖。一移動磁鐵平面馬達線圈陣列1420包含一實質上「棋盤狀」的線圈配置。如圖中所示，X線圈群1420a以及Y線圈群1420b(其每一者實質上皆為方形的形狀)會有效地被排列在一棋盤狀的圖樣之中。每一個線圈群1420a、1420b可能具有約「N」乘「N」的維度，舉例來說，約100毫米乘約100毫米。

一整體的磁鐵陣列1412(其可能會被耦合至一載台(圖 中並未顯示)，例如，一測量載台)包含X磁鐵群1412a以及Y磁鐵群1412b。一般來說，每一個磁鐵群或子陣列1412a、1412b的尺寸可能大於或是約略等於兩個相鄰線圈群1420a、1420b的尺寸。於其中一實施例中，每一個磁鐵群1412a、1412b可能具有約「N」乘約「2N」的維度，舉例來說，約100毫米乘約200毫米。

一被耦合至整體磁鐵陣列1412的載台(圖中並未顯示)可能以一x軸以及一y軸為基準具有和整體磁鐵陣列1412實質上相同的維度，或者，可能以該x軸以及該y軸為基準具有大於整體磁鐵陣列1412的維度。因此，於其中一實施例中，一載台(圖中並未顯示)可能具有至少約「3N」乘約「3N」的維度。

圖15所示的係根據一實施例的一磁鐵陣列的代表圖，其具有適合配合一移動磁鐵平面馬達線圈陣列(舉例來說，圖14的平面馬達線圈陣列1420)來使用的實質上最小尺寸的配置。一磁鐵陣列1512包含：兩個X磁鐵群1512a，它們含有X磁鐵；以及一Y磁鐵群1512b，其含有Y磁鐵。磁鐵陣列1512會被配置成用以對高達三個垂直作用力(舉例來說，沿著一z軸的作用力)提供獨立的控制。磁鐵陣列1512可能具有約「3N」乘約「2N」的整體維度。

參考圖7，現在將說明的係根據一實施例的一光微影裝置，其可能包含平面馬達，該等平面馬達具有一堆疊線圈配置及/或磁鐵，該等磁鐵會被排列在象限之中，在該等象限之間具有至少數個實質上空白的空間，以便讓兩個載台 可以如上面的討論般彼此非常鄰近地有效操作。此種平面馬達可以作為一用於定位一晶圓的晶圓載台以及一用於定位一主光罩(光罩)的主光罩載台的一部分。於圖7中，一平面馬達係用於該晶圓載台中，而且一光微影裝置(曝光裝置)40包含一晶圓定位載台52(其可能由一平面馬達(圖中並未顯示)來驅動)以及一晶圓工作台51。該用於驅動晶圓定位載台52的平面馬達通常會使用一由被排列在兩個維度之中的磁鐵以及對應的轉子線圈所產生的電磁作用力。

一晶圓64會被固持在一晶圓固持器或夾盤74上的正確地方，該晶圓固持器或夾盤74會被耦合至晶圓工作台51。晶圓定位載台52會被排列成用以在一控制單元60以及一系統控制器62的控制下在自由度之中(舉例來說，在高達六個自由度之中)移動。於其中一實施例中，晶圓定位載台52可能包含多個啟動器並且具有如上面所述的配置。晶圓定位載台52的移動允許晶圓64被定位在一相對於一投射光學系統46的所希位置與配向處。

晶圓工作台51可以藉由任何數量的音圈馬達(圖中並未顯示)，舉例來說，三個音圈馬達，於一z方向10b之中升高。於其中一已述的實施例中，至少三個磁性軸承(圖中並未顯示)會沿著一y軸10a、沿著一x軸10c、以及繞著一z軸10b來耦合並且移動晶圓工作台51。於另一實施例中，晶圓工作台51可以如同一精細載台(其會被排列成用以在自由度之中(舉例來說，在高達六個自由度之中)移動)般來移動，以便以精細的運動來定位一晶圓。晶圓定位載台52 的平面馬達的定子通常會受到一基底70支撐。基底70可能會透過隔絕器54被支撐至一接地。因晶圓載台52的運動所產生的反作用力可經由一框架66以機械方式釋放至一接地表面。其中一種合宜的框架66已在JP Hei 8-166475以及美國專利案第5,528,118號之中說明過，本文以引用的方式將它們的完整內容併入。於較佳的實施例中，基底70係充當一反質量(countermass)，用以吸收來自該定位載台52的反作用力。

一照射系統42會受到一框架72支撐。框架72會透過隔絕器54被支撐至接地。照射系統42包含一照射源，其可以提供一光射束，其可能會被一主光罩反射或是透射穿過一主光罩。於其中一實施例中，照射系統42可能會被排列成用以經由一主光罩68上的一光罩圖樣來投射輻射能量(舉例來說，光)，該主光罩68會受到一主光罩載台44支撐並且利用主光罩載台44來掃描，該主光罩載台44可能包含一粗略載台與一精細載台或者可能係單一載台。該輻射能量會經由投射光學系統46被聚焦，投射光學系統46會被支撐在一投射光學元件框架50之上並且可能會經由隔絕器54被支撐至接地。合宜的隔絕器54包含在JP Hei 8-330224以及美國專利案第5,874,820號之中所束的隔絕器，本文以引用的方式將它們的完整內容併入。

一第一干涉計56會被支撐在投射光學元件框架50之上並且具有偵測晶圓工作台51之位置的功能。干涉計56會輸出和偵測晶圓工作台51之位置有關的資訊給系統控制 器62。一第二干涉計58會被支撐在投射光學系統46之上並且會偵測用以支撐主光罩68的主光罩載台44的位置。干涉計58同樣會輸出位置資訊給系統控制器62。於某些實施例中，可能會使用額外的干涉計或是其它感測器(例如，位置編碼器)來監視該晶圓工作台51相對於該投射光學元件框架50的位置。

應該明白的係，有數種不同類型的光微影裝置或是器件。舉例來說，光微影裝置40或是一曝光裝置可作為一掃描類型光微影系統，其會讓主光罩68與晶圓64以實質上同步的方式移動而將來自主光罩68的圖樣曝光至晶圓64之上。於一掃描類型微影器件中，主光罩68會藉由主光罩載台44而以一透鏡組件(投射光學系統46)或是照射系統42的一光軸為基準垂直地移動。晶圓64會藉由一晶圓載台52而以投射光學系統46的該光軸為基準垂直地移動。主光罩68與晶圓64的掃描通常係發生在主光罩68與晶圓64以實質上同步的方式移動的時候。

或者，光微影裝置或是曝光裝置40可能係一步進重複類型(step-and-repeat type)的光微影系統，其會在主光罩68與晶圓64靜止時(也就是，每秒約零公尺的實質上恆定的速度)曝光主光罩68。於其中一步進重複製程中，晶圓64會在一個別場域的曝光期間處在一相對於主光罩68與投射光學系統46為實質上恆定的位置之中。接著，在連續的曝光步驟之間，晶圓64會被晶圓定位載台52以垂直於投射光學系統46之光軸的方式移動，俾使得半導體晶圓64的下 一個場域會被帶至相對於照射系統42、主光罩68以及投射光學系統46的正確定位處，以便進行曝光。於此曝光之後，此等步驟會重複進行，俾使得主光罩68上的影像可以依序地被曝光在晶圓64的該等場域之上。

應該瞭解的係，如上面所述的光微影裝置或是曝光裝置40的使用並不受限於使用在用於半導體製造的光微影系統之中。舉例來說，光微影裝置40可以作為一用以將一LCD器件圖樣曝光在一矩形玻璃板之上的液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)光微影系統的一部分或是作為一用以製造一薄膜磁頭的光微影系統的一部分。

照射系統42的照射源可能係g-line(436奈米(nm))、i-line(365nm)、KrF準分子雷射(248nm)、ArF準分子雷射(193nm)以及F2型雷射(157nm)。或者，照射系統42可能還會使用帶電粒子射束，例如，x射線以及電子射束。舉例來說，於使用電子射束的情況中，可能會使用熱離子放射類型的六硼化鑭(LaB6)或是鉭(Ta)作為一電子槍。再者，於使用電子射束的情況中，該結構可能還會使用一光罩，或者一圖樣可能會直接被形成在一基板之上而不使用光罩。

以投射光學系統46來說，當使用遠紫外光射線(例如，準分子雷射)時，較佳的係，使用玻璃材料，例如，會透射遠紫外光射線的石英以及氟石。當使用F2型雷射或是x射線時，投射光學系統46可能為折反射式或是反射式(一主光罩可能係一對應的反射式類型)，而且當使用電子射束時，電子光學元件可能包括電子透鏡以及偏光器。熟習本技術 的人士便會明白，該等電子射束的光學路徑通常係處於真空中。

此外，若利用一運用波長約200nm或更低之真空紫外線(Vacuum Ultra-Violet，VUT)輻射的曝光器件，可以考慮使用折反射類型的光學系統。一折反射類型光學系統的範例包含，但是並不受限於，在日本專利特許公開申請案公報之中所發表的日本專利申請案第8-171054號及其對應案美國專利案第5,668,672號以及日本專利申請案第10-20195號及其對應案美國專利案第5,835,275號之中所述的折反射類型光學系統，本文以引用的方式將它們的完整內容併入。於此等範例中，該反射光學器件可能係一併入一射束分歧器與一凹面鏡的折反射式光學系統。本文中同樣以引用的方式將在日本專利特許公開申請案公報之中所發表的日本專利申請案(Hei)第8-334695號及其對應案美國專利案第5,689,377號以及日本專利申請案第10-3039號及其對應案美國專利案第5,892,117號的完整內容併入。此等範例說明一種併入一凹面鏡但是沒有射束分歧器的反射-折射類型的光學系統，並且可能同樣適合配合本發明來使用。

於其中一實施例中，倘若採用合宜的手段來容納一流體的話，本發明則可以運用在一浸沒類型的曝光裝置之中。舉例來說，PCT專利申請案第WO 99/49504號(本文以引用的方式將其完整內容併入)便說明一種會在一曝光製程期間供應一液體至一介於一基板(晶圓)與一投射透鏡系統之間的空間的曝光裝置。PCT專利申請案第WO 99/49504 號的觀點可以被用來容納和本發明有關的流體。

接著，將說明的係根據一實施例的一種浸沒類型曝光裝置。圖16所示的係根據一實施例的一浸沒類型曝光裝置(下文中簡稱為曝光裝置)210的概略代表圖。該曝光裝置210包含一框架212、一照射系統(發光裝置)214、一主光罩載台組件218、一光學組件216、一晶圓載台組件220、一測量系統222、一控制系統224(圖16中並未顯示，請參考圖19)、以及一流體環境系統226(圖16中並未顯示，請參考圖19)、以及類似物。該曝光裝置210會被安裝在一地板表面F之上。

曝光裝置210係一種掃描類型曝光裝置，其會讓一主光罩R與一晶圓W以同步的方式移動而將一被形成在主光罩R之上的圖樣轉印至晶圓W之上。於一掃描類型曝光裝置中，主光罩R會藉由主光罩載台組件218以垂直於光學組件216的一光軸的方式(於一Y軸方向之中)來移動，而晶圓W則會藉由晶圓載台組件220以垂直於光學組件216的該光軸的方式(於該Y軸方向之中)來移動。主光罩R與晶圓W的掃描係發生在主光罩R與晶圓W以實質上同步的方式移動的時候。

框架212會被安裝在地板表面F之上。框架212會支撐曝光裝置210的元件，換言之，其會支撐照射系統214、光學組件216、主光罩載台組件218、以及晶圓載台組件220。

照射系統214包含一照射源234與一照射光學組件236。照射源234會發出一光射束。照射光學組件236會將 該光射束從照射源234處引導至主光罩R。該光射束會照射主光罩R中選擇性的不同部分。

照射源234可能係g-line照射源(436nm)、i-line照射源(365nm)、KrF準分子雷射(248nm)、ArF準分子雷射(193nm)、或是F2雷射(157nm)。或者，照射源234可能會產生帶電粒子射束或是X射線。

主光罩載台組件218包含：一主光罩載台238，其會固持主光罩R；以及一主光罩載台動子組件240，其會驅動主光罩載台238。舉例來說，該主光罩載台動子組件240會利用一驅動器(例如，一線性馬達以及類似物)在至少三個自由度的方向(它們係X軸方向、Y軸方向以及繞著Z軸的旋轉方向(θ z方向))中移動主光罩載台238。

光學組件216會發出通過晶圓W上之主光罩R的光射束，並且將被形成在主光罩R之上的圖樣的縮小影像投射在晶圓W之上。光學組件216未必受限於一縮小系統，其亦可能係一相同放大倍數或是更大放大倍數的系統。

晶圓載台組件220包含：一基底部件232，其係被鑲嵌在地板表面F之上；一晶圓載台264，其會在將晶圓W固持在基底部件232之上時移動；一測量儀器，例如，一空中影像測量儀器以及類似物；一測量載台266，其上會提供測量部件，例如，基準標記以及類似物；以及一載台動子組件244，其會驅動晶圓載台264以及測量載台266。

此處將詳細說明晶圓載台264中每一個部分的配置，尤其是會移動晶圓載台264的載台動子組件244。圖17所 示的係晶圓載台組件220，明確地說，圖中顯示出一由位於基底部件232裡面的轉子線圈238X(238Y)以及位於晶圓載台264裡面的磁鐵單元255X₁、255X₂、255Y₁以及255Y₂所組成的排列的平面圖。圖18A所示的係沿著圖17中的直線A-A所取得的剖視圖。

晶圓載台264包含一動子251、一Z驅動機制(圖中並未顯示)以及類似物。動子251係被固定至晶圓載台264的底部部分，而且稍後將會說明的係，動子251以及一位於基底部件232之上方部分之中的定子260會構成一平面馬達(晶圓載台動子組件)244W。舉例來說，晶圓W會藉由真空夾盤被固定在晶圓載台264之上。附帶一提的係，晶圓載台動子組件244W以及稍後將作說明的測量載台動子組件244M將被統稱為載台動子組件244。

如圖17中所示的動子251分別在一第一象限(也就是，在+X側半邊以及+Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元255X₁以及在一第三象限(也就是，在-X側半邊以及-Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元255X₂。進一步言之，動子251分別在一第二象限(也就是，在-X側半邊以及+Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元255Y₁以及在一第四象限(也就是，在+X側半邊以及-Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元255Y₂。此處，預設寬度的空間會分別被設置在磁鐵單元255X₁與磁鐵單元255Y₁之間以及磁鐵單元255X₂與磁鐵單元255Y₂之間。也就是，磁鐵單元255X₁與255X₂會被排列成用以在X軸方向中隔開，該空間會等於或大於多個轉 子線圈238X的每一個寬度(X軸方向之中的維度)；且同樣地，磁鐵單元255Y₁與255Y₂會被排列成用以在X軸方向之中隔開，該空間會等於或大於多個轉子線圈238Y的每一個長度(X軸方向中的維度)。磁鐵單元255X₁與255X₂係由多個矩形實心形狀的磁鐵所構成，該等矩形實心形狀的磁鐵會被排列成使得在該X軸方向之中的相鄰磁極表面具有互不相同的極性而且它們的縱向方向係在Y軸方向之中。磁鐵單元255Y₁與255Y₂係由多個矩形實心形狀的磁鐵所構成，該等矩形實心形狀的磁鐵會被排列成使得在該Y軸方向之中的相鄰磁極表面具有互不相同的極性而且它們的縱向方向係在X軸方向之中。進一步言之，動子251具有一空氣滑槽(air slider)(圖中並未顯示)，而且晶圓載台264會透過一空隙(舉例來說，約5μm)飄浮支撐在基底部件232的上表面之上(請參考圖18A)。

雖然在本實施例所述之情況的範例中，平面馬達(晶圓載台動子組件)244W係會在X方向、Y方向、以及θ z方向之中產生推力的3DOF類型；不過，該平面馬達(晶圓載台動子組件)的配置並不受限於此種類型。舉例來說，該平面馬達(晶圓載台動子組件)可能係除了會在X方向、Y方向、以及θ z方向之中產生推力之外還會在Z方向、θ x方向、以及θ y方向之中產生推力的6DOF類型。於6DOF類型的平面馬達的情況中，Z方向的推力分量可能係由藉由利用該等X線圈所產生的X分量與Z分量以及藉由利用該等Y線圈所產生的Y分量與Z分量所組成。進一步言之，於利用 6DOF類型的平面馬達的情況中，一動子(該晶圓載台)可能會藉由該平面馬達在該Z方向之中所產生的推力而以磁性方式飄浮在該基底部件的上方，且所以，並不需要任何空氣滑槽。

如圖18A中所示，在基底部件232中面向動子251的上表面之上會形成動子251的一移動平面。進一步言之，從圖17與18A中可以看見，在基底部件232的一內部空間之中，轉子線圈238X會在該X軸方向之中沿著該移動平面被排列在該上層側上的複數列之中。此等轉子線圈238X會建構一X線圈單元260X。一矩形線圈會被用來作為轉子線圈238X，其較長邊的長度係較短邊的長度的三倍。進一步言之，轉子線圈238Y會在該Y軸方向之中沿著該移動平面被排列在內部空間41裡面的下層側上的複數列之中。此等轉子線圈238Y會建構一Y線圈單元260Y。(圖17之中並未顯示轉子線圈238Y以及Y線圈單元260Y。請參考圖21以及類似圖示。)和轉子線圈238X雷同，一矩形線圈會被用來作為轉子線圈238Y，其較長邊的長度係較短邊的長度的三倍。藉由被垂直堆疊的X線圈單元260X以及Y線圈單元260Y會建構一堆疊類型的定子260。附帶一提的係，如前面所述，各種經修正之排列的範例皆可運用於堆疊類型的定子260。

在上面所述的排列之中，如先前利用圖10所述般，X線圈單元260X會藉由激發(產生一激發電流的流動)構成X線圈單元260X的該等多個轉子線圈238X而在X軸方向(非 掃描方向)之中提供一驅動作用力給磁鐵單元255X₁與255X₂。同樣地，Y線圈單元260Y會藉由激發(產生一激發電流的流動)構成Y線圈單元260Y的該等多個轉子線圈238Y而在Y軸方向(非掃描方向)之中提供一驅動作用力給磁鐵單元255Y₁與255Y₂。這會在基底部件232上的二維方向(X方向與Y方向)之中驅動晶圓載台264。

附帶一提的係，如先前利用圖10所述般，即使該等多個轉子線圈238X被激發，其仍然不會在該X軸方向之中產生該驅動作用力給磁鐵單元255Y₁與255Y₂。同樣地，即使該等多個轉子線圈238Y被激發，其仍然不會在該Y軸方向之中產生該驅動作用力給磁鐵單元255X₁與255X₂。

其次，將詳細說明建構測量載台266的每一個部分，尤其是會驅動測量載台266的載台動子組件244。圖17所示的係晶圓載台組件220，明確地說，圖中顯示出一由位於測量載台266裡面的磁鐵單元285X₁、285X₂、285Y₁以及285Y₂所組成的排列的平面圖。圖18B所示的係沿著圖17中的直線B-B所取得的剖視圖。

測量載台266包含一動子281、該Z驅動機制(圖中並未顯示)、以及類似物。動子281係被固定至測量載台266的底部部分，而且動子281以及定子260會構成平面馬達(測量載台動子組件)244M。測量載台動子組件244M以及先前所述的晶圓載台動子組件244W會被統稱為載台動子組件244。

各種測量部件會被提供在測量載台266之中(舉例來 說，請參考美國專利申請公開案第2011/0025998號)。舉例來說，其提供一照射不平整感測器、一空中影像測量儀器、一波前像差測量儀器、一照射監視器(圖中並未顯示上述之中的任何一者)以及類似物，作為該等測量部件。

如圖17中所示，動子281分別在一第一象限(也就是，在+X側半邊以及+Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元285X₁以及在一第三象限(也就是，在-X側半邊以及-Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元285X₂。進一步言之，動子281分別在一第二象限(也就是，在-X側半邊以及+Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元285Y₁以及在一第四象限(也就是，在+X側半邊以及-Y側半邊的部分)之中具有一磁鐵單元285Y₂。此處，預設寬度的空間會分別被設置在磁鐵單元285X₁與磁鐵單元285Y₁之間以及磁鐵單元285X₂與磁鐵單元285Y₂之間。也就是，磁鐵單元285X₁與285X₂會被排列成用以在X軸方向中隔開，該空間會等於或大於該等多個轉子線圈238X的每一個寬度(X軸方向之中的維度)；且同樣地，磁鐵單元285Y₁與285Y₂會被排列成用以在X軸方向之中隔開，該空間會等於或大於該等多個轉子線圈238Y的每一個長度(X軸方向中的維度)。磁鐵單元285X₁與285X₂係由多個矩形實心形狀的磁鐵所構成，該等矩形實心形狀的磁鐵會被排列成使得在該X軸方向之中的相鄰磁極表面具有互不相同的極性而且它們的縱向方向係在Y軸方向之中。磁鐵單元285Y₁與285Y₂係由多個矩形實心形狀的磁鐵所構成，該等矩形實心形狀的磁鐵會被排列成使得 在該Y軸方向之中的相鄰磁極表面具有互不相同的極性而且它們的縱向方向係在X軸方向之中。進一步言之，動子281具有一空氣滑槽(圖中並未顯示)，而且測量載台266會透過一空隙(舉例來說，約5μm)飄浮支撐在基底部件232的上表面之上(請參考圖18B)。

雖然在本實施例所述之情況的範例中，平面馬達(測量載台動子組件)244M係會在X方向、Y方向、以及θ z方向之中產生推力的3DOF類型；不過，平面馬達(測量載台動子組件)244M的配置並不受限於此種類型，並且和前面的平面馬達(晶圓載台動子組件)雷同，舉例來說，可以使用6DOF類型的平面馬達。

在上面所述的排列之中，如先前利用圖10所述般，X線圈單元260X會藉由激發(產生一激發電流的流動)構成X線圈單元260X的該等多個轉子線圈238X而在X軸方向之中提供一驅動作用力給磁鐵單元285X₁與285X₂。同樣地，Y線圈單元260Y會藉由激發(產生一激發電流的流動)構成Y線圈單元260Y的該等多個轉子線圈238Y而在Y軸方向之中提供一驅動作用力給磁鐵單元285Y₁與285Y₂。這會在基底部件232上的二維方向(X方向與Y方向)之中驅動測量載台266。

附帶一提的係，如先前利用圖11所述般，即使該等多個轉子線圈238X被激發，其仍然不會在該X軸方向之中產生該驅動作用力給磁鐵單元285Y₁與285Y₂。同樣地，即使該等多個轉子線圈238Y被激發，其仍然不會在該Y軸方向 之中產生該驅動作用力給磁鐵單元285X₁與285X₂。

測量系統222會監視主光罩載台238(主光罩R)以及晶圓載台264(晶圓W)移動至光學組件216(或是特定的其它參考體)。舉例來說，在測量系統222之中，可能會使用雷射干涉計、編碼器、以及類似物。

環境系統226會控制光學組件216與晶圓W之間的一間隙之中的環境。該間隙包含一投射場，於該投射場之中會投射一圖樣的影像。環境系統226會利用噴灑噴嘴、電動力式海綿(electro-kinetic sponge)、多孔式材料、...等來傳遞及/或注射浸沒流體至該間隙之中，並且利用真空唧筒、海綿、以及類似物從該間隙處移除該浸沒流體，這會允許在該間隙裡面形成一充滿該浸沒流體的浸沒區Lq(舉例來說，請參考圖20)。

圖19所示的係控制系統224的輸入/輸出關係的方塊圖，該控制系統224主要係建構曝光裝置210的控制系統並且對建構該曝光裝置的每一個部分擁有整體的控制力。控制系統224包含一工作站(或是一微電腦)以及類似物。

控制系統224會從測量系統222處接收測量資訊，並且驅動用以控制主光罩R的主光罩載台組件218以及驅動用以控制晶圓W的晶圓載台組件220，以便以同步的方式精確地驅動主光罩R以及晶圓W。進一步言之，控制系統224可以控制環境系統226的操作。

其次，將說明的係在已經完成晶圓W之掃描曝光之後所進行之晶圓載台264與測量載台266的集團並列操作， 以便利用測量載台266來繼續進行晶圓交換以及各種測量。

圖20A所示的係當已經完成晶圓W之掃描曝光之後的晶圓載台264以及測量載台266。於此時點處，晶圓W(晶圓載台264)係被定位在光學組件216的正下方。也就是，浸沒區Lq係被定位在晶圓W(晶圓載台264)之上。測量載台266係被定位在晶圓載台264附近。

當掃描曝光已經完成之後，控制系統224會在如圖20B中所繪之簡略箭頭所示的方向(-Y方向)之中驅動測量載台266，並且移動測量載台266的-Y邊緣部分使其透過一微小的間隙(舉例來說，0.1至1.0mm)來靠近晶圓載台264的+Y邊緣部分。這會建構一具有晶圓載台264之表面以及測量載台266之表面的表面，其會和晶圓W的表面齊平並且似乎完全平坦。

在晶圓載台264以及測量載台266非常鄰近時，控制系統224會在-Y方向之中驅動晶圓載台264以及測量載台266同時保持非常鄰近的狀態，如圖20C中所示。在圖20C中所示的狀態中，晶圓載台264會在黑箭頭所示的方向(-Y方向)之中被驅動，而測量載台266則會在簡略箭頭所示的方向(-Y方向)之中被驅動。藉由此種操作，晶圓載台264會從光學組件216的正下方處撤出，並且取而代之的係，測量載台266會被排列在光學組件216的正下方。因為載台264與266兩者於此時點處透過一微小的間隙非常地靠近，所以，形成浸沒區Lq的浸沒液體並不會從兩個載台處漏出，而且浸沒區Lq會從晶圓載台264的上方移動至測量 載台266的上方。

此處，當晶圓載台264以及測量載台266非常鄰近並且兩個載台在保持該非常鄰近狀態下被驅動時，於該實施例之中，兩個載台會非常地靠近俾使得僅會在定子260裡面的該等多個轉子線圈238Y中的每一者以及晶圓載台264(動子251)裡面的磁鐵單元255Y₁與255Y₂或是測量載台266(動子281)裡面的磁鐵單元285Y₁與285Y₂中的任一者之間產生一驅動作用力，並且僅會在定子260裡面的該等多個轉子線圈238X中的每一者以及晶圓載台264裡面的磁鐵單元255X₁與255X₂或是測量載台266裡面的磁鐵單元285X₁與285X₂中的任一者之間產生一驅動作用力。也就是，於晶圓載台264裡面的磁鐵單元255Y₁與255Y₂被設置成在該X軸方向之中或是該Y軸方向之中與測量載台266裡面的磁鐵單元285Y₁與285Y₂分隔的距離等於或是大於該等多個轉子線圈238Y的每一個寬度以及晶圓載台264裡面的磁鐵單元255X₁與255X₂被設置成在該X軸方向之中或是該Y軸方向之中與測量載台266裡面的磁鐵單元285X₁與285X₂分隔的距離等於或是大於該等多個轉子線圈238X的每一個寬度的狀態之中，兩個載台會非常地靠近。

更明確地說，根據晶圓載台264以及測量載台266的該等磁鐵單元的對稱性排列，如圖21中所示，兩個載台於該X軸方向之中的中心會一致，而晶圓載台264的+Y邊緣部分則會非常靠近測量載台266的-Y邊緣部分。這會使得晶圓載台264裡面的磁鐵單元255X₁靠近測量載台266裡面 的磁鐵單元285Y₂並且使得晶圓載台264裡面的磁鐵單元255Y₁靠近測量載台266裡面的磁鐵單元285X₂。於此時點處，晶圓載台264裡面的磁鐵單元255Y₁與255Y₂會分別面向區域260Y₁₁與260Y₂₁裡面的轉子線圈238Y，而測量載台266裡面的磁鐵單元285Y₁與285Y₂會分別面向區域260Y₁₂與260Y₂₂裡面的轉子線圈238Y。此處，區域260Y₁₁、260Y₂₁、260Y₁₂、以及260Y₂₂並沒有彼此重疊。也就是，磁鐵單元255Y₁與255Y₂以及磁鐵單元285Y₁與285Y₂會各自一直面向一不同的轉子線圈238Y。據此，從該等多個轉子線圈238Y中的每一者處，僅會在晶圓載台264裡面的磁鐵單元255Y₁與255Y₂以及測量載台266裡面的磁鐵單元285Y₁與285Y₂中的任一者之間產生一驅動作用力。

附帶一提的係，在上面的說明中，晶圓載台264的+Y邊緣部分和測量載台266的-Y邊緣部分雖然係藉由讓該等兩個載台於該X軸方向之中的中心彼此一致而非常靠近；但是，這並沒有任何限制意義。更明確地說，晶圓載台264的+Y邊緣部分和測量載台266的-Y邊緣部分亦可以藉由讓該等兩個載台於該X軸方向之中的中心在符合上面所述之條件的範圍內(舉例來說，在磁鐵單元285Y₂與磁鐵單元255Y₁彼此不相向的範圍內)於該X軸方向之中產生偏離而非常靠近。

同樣地，如圖22中所示，晶圓載台264裡面的磁鐵單元255X₁與255X₂會分別面向區域260X₁₁與260X₂₁裡面的轉子線圈238X，而測量載台266裡面的磁鐵單元285Y₁與 285X₂會分別面向區域260X₁₂與260X₂₂裡面的轉子線圈238X。此處，區域260X₁₁、260X₂₁、260X₁₂、以及260X₂₂並沒有彼此重疊。也就是，磁鐵單元255X₁與255X₂以及磁鐵單元285X₁與285X₂會各自一直面向一不同的轉子線圈238X。據此，從該等多個轉子線圈238X中的每一者處，僅會在晶圓載台264裡面的磁鐵單元255X₁與255X₂以及測量載台266裡面的磁鐵單元285X₁與285X₂中的任一者之間產生一驅動作用力。

附帶一提的係，如前面所述，即使磁鐵單元255Y₁與255Y₂以及285Y₁與285Y₂面向轉子線圈238X仍不會在每一個磁鐵單元之中產生該驅動作用力，而且即使磁鐵單元255X₁與255X₂以及285X₁與285X₂面向轉子線圈238Y仍不會在每一個磁鐵單元之中產生該驅動作用力。

據此，如前面利用圖3A至3C所述般，即使於晶圓載台264如同上面所述之集團並列操作中般非常靠近測量載台266的情況中，藉由激發定子260裡面的該等多個轉子線圈238X與238Y中的每一者，便可以獨立地實施兩個載台的驅動控制。

在浸沒區Lq已經移動之後，控制系統224會在黑色箭頭所示的方向(-Y方向)之中僅驅動晶圓載台264，而測量載台266則仍被定位在光學組件216的正下方，如圖20D中所示。晶圓載台264會移往一晶圓交換區(圖中並未顯示)，而一已經曝光的晶圓W則會被置換成一新的晶圓。於此操作的同時，會在浸沒區Lq保持在測量載台266之上的狀態 中利用被定位在光學組件216之正下方的測量載台266來實施各種測量，例如，空中影像測量以及類似的操作。

在該晶圓交換以及該等各種測量已經完成之後，控制系統224會實施上面所述之集團並列操作的反向操作，並且從光學組件216的正下方撤出測量載台266，並且取而代之的係，將晶圓載台264定位在光學組件216的正下方。藉由此項操作，浸沒區Lq會從測量載台266之上移到晶圓載台264(新的晶圓)之上。於已經移動浸沒區Lq之後，便會在該新的晶圓上實施晶圓對齊以及掃描曝光。

附帶一提的係，於上面所述的實施例中，在晶圓載台264(動子251)裡面的磁鐵單元255X₁與255X₂以及255Y₁與255Y₂雖然運用到讓相同類型的磁鐵單元被分隔設置在該X軸方向之中的排列；但是，亦可以運用讓相同類型的磁鐵單元被分隔設置在該Y軸方向之中的排列。一般來說，任何合宜的排列皆可以運用，例如，圖3A、圖4、圖6A至6D、圖14、圖15之中所示的排列或是類似的排列，只要相同類型的磁鐵單元分隔排列的距離等於或是大於該等對應轉子線圈238X與238Y的寬度即可。於此情況中，因為面向單一轉子線圈238X或238Y的相同類型的磁鐵為兩個或更少，所以，可以獨立地實施兩個載台的驅動控制。

進一步言之，本發明雖然運用到擺放晶圓載台264之中相同類型的磁鐵單元255X₁與255X₂以及255Y₁與255Y₂之中的兩個相同類型磁鐵單元的排列；但是，亦可以運用擺放其中一個X磁鐵單元與其中一個Y磁鐵單元的排列。 同樣地，本發明雖然運用到擺放測量載台266之中相同類型的磁鐵單元285X₁與285X₂以及285Y₁與285Y₂之中的兩個相同類型磁鐵單元的排列；但是，亦可以運用擺放其中一個X磁鐵單元與其中一個Y磁鐵單元的排列。即使於此情況中，晶圓載台264以及測量載台266仍可以在XY二維方向之中被驅動。

進一步言之，除了在該實施例中上面所述的堆疊類型定子260之外，於基底部件232的內部空間之中亦可以使用定子(平面馬達線圈陣列)1420，其X線圈單元(X線圈群)1420b以及Y線圈單元(Y線圈群)1420a會如圖14中所示般地被交替排列在該X軸方向之中以及該Y軸方向之中。然而，X線圈單元1420b(Y線圈單元)1420a雖然係被建構成一四個邊彼此相等的矩形形狀線圈單元；但是，其僅具有作為轉子線圈238X(238Y)的三個線圈，其縱向方向係在該Y軸方向(X軸方向)之中並且係被排列在該X軸方向(Y軸方向)之中。

進一步言之，在上面所述的實施例之中所述的情況中，當在晶圓載台264以及測量載台266的集團並列操作之中(也就是，於晶圓載台264以及測量載台266在該Y軸方向之中非常靠近而且兩個載台會在保持該鄰近狀態時於該方向之中以非常鄰近的方式被驅動的情況中)，可以獨立地實施兩個載台的驅動控制。然而，同樣地，於兩個載台在保持該鄰近狀態時於和非常鄰近的方向相交的方向之中(也就是，在該X軸方向之中)被驅動的情況中，或者，於兩 個載台在該X軸方向之中非常地靠近並且兩個載台於該非常鄰近的方向之中被驅動或是於和該非常鄰近的方向相交的方向之中被驅動的情況中，磁鐵單元255Y₁與255Y₂以及285Y₁與285Y₂會各自面向一不同的轉子線圈238Y，而且磁鐵單元255X₁與255X₂以及285X₁與285X₂會各自面向一不同的轉子線圈238X，這允許獨立地實施兩個載台的驅動控制。

圖8所示的係根據本發明一實施例之和製作一半導體器件相關聯的步驟的製程流程圖。用以製作一半導體器件的製程係從步驟1101處開始，於該步驟中會設計或是決定一半導體器件的功能以及效能特徵。其次，於步驟1102中，會以該半導體器件的設計為基礎來設計一其中會有一圖樣的主光罩或是光罩。應該明白的係，於一實質上平行的步驟1103中，通常會利用一矽材料來製造一晶圓。於步驟1104中，於步驟1102中所設計的光罩圖樣會利用一微影系統被曝光在於步驟1103中所製作的晶圓之上。下面將參考圖9來說明一種用以將一光罩圖樣曝光在一晶圓之上的製程。於步驟1105中，該半導體器件會被組裝。該半導體器件的組裝通常包含，但是並不僅限於包含晶圓切割製程、黏著製程、以及封裝製程。最後，會於步驟1106中檢查該已完成的器件。當於步驟1106中成功完成該檢查時，該已完成的器件便可被視為準備運送。

圖9所示的係根據本發明一實施例之和在製作半導體器件的情況中的晶圓處理相關聯的步驟的製程流程圖。於 步驟1211中，一晶圓的表面會被氧化。於步驟1212中，於其中一實施例中，其係一化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，CVD)步驟，一絕緣膜可能會被形成在該晶圓表面上。於步驟1213中，電極會藉由氣相沉積被形成在該晶圓之上。離子可能會於步驟1214中利用實質上任何合宜的方法被植入該晶圓之中。熟習本技術的人士便會明白，步驟1211至1214通常會被視為晶圓處理期間用於晶圓的前置處理步驟。此等前置處理步驟可能為連續或者可以個別實施。進一步言之，應該瞭解的係，每一道步驟之中所作的選擇(舉例來說，用以於步驟1212之中形成一絕緣膜的各種化學藥劑的濃度)可能係以處理需求為基礎來進行。

於晶圓處理的每一個載台處，當前置處理步驟完成之後，便可以施行後置處理步驟。在後置處理期間，首先，於步驟1215中，會將光阻塗敷至一晶圓。接著，於步驟1216中，可能會使用一曝光器件將一主光罩的電路圖樣轉印至一晶圓。

於一主光罩上的電路圖樣被轉印至一晶圓之後，該已曝光的晶圓便會於步驟1217中被顯影。一旦該已曝光的晶圓被顯影之後，便可於步驟1218中藉由蝕刻移除殘餘光阻以外的部分(舉例來說，已曝光的材料表面)。最後，於步驟1219中，在蝕刻之後所殘留的任何不必要光阻皆可能會被移除。熟習本技術的人士便會明白，經由重複進行該等前置處理步驟和後置處理步驟可以形成電路圖樣。

雖然本文中僅說明本發明的數個實施例；但是，應該 瞭解的係，本發明亦可以許多其它特定的形式來具現，其並不會脫離本發明的精神或範疇。舉例來說，本文中所述的磁鐵陣列實質上會被耦合至一載台並且會與一包括一線圈陣列的定子分離。該定子(其可能包含一堆疊線圈排列)通常會被耦合至一接地或是一反質量。除了讓一磁鐵陣列被耦合至一載台同時一線圈陣列被耦合至一接地或是一反質量之外，取而代之的方式係，該磁鐵陣列可能被耦合至一接地或是一反質量而一線圈陣列則係被耦合至一載台。

上面所述之馬達的用途雖然大體上被描述成適合使用在一微影系統之中，例如，一浸沒式微影系統；但是，上面所述的馬達並不僅限於使用在一浸沒式微影系統之中。換言之，一運用一磁鐵陣列(其中，會有象限被分隔在至少一個方向之中)及/或一定子(其包含一堆疊線圈排列)的平面馬達可以被使用在任何合宜的系統之中。

本文中所述的一堆疊線圈排列中的線圈對的交替排列中所包含之讓一X線圈被定位在一Y線圈頂端的線圈對可以替換成讓一Y線圈被定位在一X線圈頂端的線圈對。應該明白的係，除了交替排列的線圈對之外，取而代之的方式係，一堆疊線圈排列亦可被配置成使得該堆疊線圈排列有效地包含一或多個第一區域以及一或多個第二區域，其中，於該等第一區域之中，X線圈會被定位在Y線圈的頂端，且其中，於該等第二區域之中，Y線圈會被定位在X線圈的頂端。

應該明白的係，即使在實質上僅包含一個載台的系統 之中，在磁鐵象限之間納入一空間(舉例來說，圖3A中所示的空間「w」)仍可以獲得好處。在實質上僅包含一個載台的系統之中所運用的空間「w」可以確保不會有任何線圈重疊單一載台之上的該等兩個X象限或是該等兩個Y象限，從而有助於達成載台運動的精確控制。

10a‧‧‧Y軸

10b‧‧‧z軸

10c‧‧‧x軸

40‧‧‧光微影裝置(曝光裝置)

41‧‧‧內部空間

42‧‧‧照射系統

44‧‧‧主光罩載台

46‧‧‧投射光學系統

50‧‧‧投射光學元件框架

51‧‧‧晶圓工作台

52‧‧‧晶圓定位載台

54‧‧‧隔絕器

56‧‧‧第一干涉計

58‧‧‧第二干涉計

60‧‧‧控制單元

62‧‧‧系統控制器

64‧‧‧晶圓

66‧‧‧框架

68‧‧‧主光罩

70‧‧‧基底

72‧‧‧框架

74‧‧‧晶圓固持器或夾盤

100‧‧‧載台排列

104‧‧‧第一載台

108‧‧‧第二載台

112a‧‧‧磁鐵象限

112b‧‧‧磁鐵象限

116a‧‧‧磁鐵象限

116b‧‧‧磁鐵象限

120‧‧‧堆疊線圈排列

120’‧‧‧堆疊線圈排列

120”‧‧‧堆疊線圈排列

120’”‧‧‧堆疊線圈排列

120a‧‧‧X線圈

120b‧‧‧Y線圈

200’‧‧‧載台排列

200”‧‧‧載台排列

200’”‧‧‧載台排列

210‧‧‧浸沒類型曝光裝置

212‧‧‧框架

214‧‧‧照射系統(發光裝置)

216‧‧‧光學組件

218‧‧‧主光罩載台組件

220‧‧‧晶圓載台組件

222‧‧‧測量系統

224‧‧‧控制系統

226‧‧‧環境系統

232‧‧‧基底部件

234‧‧‧照射源

236‧‧‧照射光學組件

238‧‧‧主光罩載台

238X‧‧‧轉子線圈

238Y‧‧‧轉子線圈

240‧‧‧主光罩載台動子組件

244‧‧‧載台動子組件

244M‧‧‧測量載台動子組件

244W‧‧‧晶圓載台動子組件

251‧‧‧動子

255X1‧‧‧磁鐵單元

255X2‧‧‧磁鐵單元

255Y1‧‧‧磁鐵單元

255Y2‧‧‧磁鐵單元

260‧‧‧定子

260X‧‧‧X線圈單元

260Y‧‧‧Y線圈單元

260X11‧‧‧區域

260X12‧‧‧區域

260X21‧‧‧區域

260X22‧‧‧區域

260Y11‧‧‧區域

260Y12‧‧‧區域

260Y21‧‧‧區域

260Y22‧‧‧區域

264‧‧‧晶圓載台

266‧‧‧測量載台

F‧‧‧地板表面

R‧‧‧主光罩

W‧‧‧晶圓

Lq‧‧‧浸沒區

S‧‧‧距離

281‧‧‧動子

285X1‧‧‧磁鐵單元

285X2‧‧‧磁鐵單元

285Y1‧‧‧磁鐵單元

285Y2‧‧‧磁鐵單元

306‧‧‧磁鐵陣列

310‧‧‧磁鐵陣列

312a‧‧‧磁鐵象限

312b‧‧‧磁鐵象限

316a‧‧‧磁鐵象限

316b‧‧‧磁鐵象限

328‧‧‧空白的空間

332‧‧‧空白的空間

336a‧‧‧線圈

336b‧‧‧線圈

400‧‧‧載台排列

406‧‧‧第一磁鐵陣列

410‧‧‧第二磁鐵陣列

412a‧‧‧X象限

412b‧‧‧Y象限

416a‧‧‧X象限

416b‧‧‧Y象限

428‧‧‧空白的空間

432‧‧‧空白的空間

514‧‧‧磁鐵排列

520‧‧‧堆疊線圈排列

520a‧‧‧X線圈

520b‧‧‧Y線圈

564‧‧‧平面馬達

616a‧‧‧磁鐵象限

616a’‧‧‧磁鐵象限

616a”‧‧‧磁鐵象限

616a’”‧‧‧磁鐵象限

616b‧‧‧磁鐵象限

616b’‧‧‧磁鐵象限

616b”‧‧‧磁鐵象限

616b’”‧‧‧磁鐵象限

632’‧‧‧空白的空間

632”‧‧‧空白的空間

632’”‧‧‧空白的空間

668‧‧‧磁鐵陣列

670‧‧‧磁鐵陣列

672‧‧‧磁鐵陣列

674‧‧‧磁鐵陣列

712a‧‧‧X磁鐵陣列

720a‧‧‧X線圈

780‧‧‧第一側邊

782‧‧‧第二側邊

784‧‧‧作用力

786‧‧‧第一磁鐵

788‧‧‧第二磁鐵

790‧‧‧作用力

812b‧‧‧Y磁鐵陣列

820a‧‧‧X線圈

880‧‧‧第一側邊

882‧‧‧第二側邊

884‧‧‧作用力

886a‧‧‧南向磁鐵

886b‧‧‧南向磁鐵

888‧‧‧北向磁鐵

890‧‧‧作用力

912a‧‧‧X磁鐵陣列

920a‧‧‧X線圈

984‧‧‧作用力方向

990‧‧‧作用力方向

992‧‧‧通量線

1101‧‧‧步驟

1102‧‧‧步驟

1103‧‧‧步驟

1104‧‧‧步驟

1105‧‧‧步驟

1106‧‧‧步驟

1211‧‧‧步驟

1212‧‧‧步驟

1213‧‧‧步驟

1214‧‧‧步驟

1215‧‧‧步驟

1216‧‧‧步驟

1217‧‧‧步驟

1218‧‧‧步驟

1219‧‧‧步驟

1312a‧‧‧X磁鐵陣列

1320b‧‧‧Y線圈

1392‧‧‧通量線

1398‧‧‧作用力方向

1412‧‧‧磁鐵陣列

1412a‧‧‧X磁鐵群

1412b‧‧‧Y磁鐵群

1420‧‧‧移動磁鐵平面馬達線圈陣列

1420a‧‧‧X線圈群

1420b‧‧‧Y線圈群

1512‧‧‧磁鐵陣列

1512a‧‧‧X磁鐵群

1512b‧‧‧Y磁鐵群

圖1所示的係根據本發明一實施例的一包含一平面馬達的載台排列的代表圖，該平面馬達具有一堆疊線圈排列以及磁鐵陣列，該等磁鐵陣列具有分隔的磁鐵子陣列(舉例來說，磁鐵象限)。

圖2A所示的係根據本發明一實施例的一包含一平面馬達的載台排列的代表圖，該平面馬達具有一堆疊線圈排列以及磁鐵陣列，於該堆疊線圈排列之中會有X線圈被堆疊在Y線圈的頂端，而該等磁鐵陣列具有分隔的磁鐵象限。

圖2B所示的係根據本發明一實施例的一包含一平面馬達的載台排列的代表圖，該平面馬達具有一堆疊線圈排列以及磁鐵陣列，於該堆疊線圈排列之中會有Y線圈被堆疊在X線圈的頂端，而該等磁鐵陣列具有分隔的磁鐵象限。

圖2C所示的係根據本發明一實施例的一包含一平面馬達的載台排列的代表圖，該平面馬達具有一堆疊線圈排列以及磁鐵陣列，於該堆疊線圈排列之中會有數個X線圈被堆疊在數個Y線圈的頂端而其它Y線圈則會被堆疊在X線圈的頂端，而該等磁鐵陣列具有分隔的磁鐵象限。

圖3A所示的係根據本發明一實施例之和兩個載台的磁 鐵陣列相關聯的磁鐵象限的代表圖，其中，一被排列成用以產生一X作用力的線圈會在時間t1處對齊一X磁鐵象限與一Y磁鐵象限。

圖3B所示的係根據本發明一實施例之和兩個載台的磁鐵陣列相關聯的磁鐵象限的代表圖，其中，一被排列成用以產生一X作用力的線圈(舉例來說，圖3A的線圈336)會在時間t2處對齊一X磁鐵象限與一Y磁鐵象限之間的一空白空間。

圖3C所示的係根據本發明一實施例之和兩個載台的磁鐵陣列相關聯的磁鐵象限的代表圖，其中，一被排列成用以產生一X作用力的線圈(舉例來說，圖3A的線圈336)會在時間t3處對齊一X磁鐵象限與一Y磁鐵象限。

圖4所示的係根據本發明一實施例的一包含多個載台的載台排列的代表圖，每一個載台皆具有磁鐵象限。

圖5所示的係根據本發明一實施例的一具有一堆疊線圈排列的平面馬達的代表圖。

圖6A所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一測量載台或是一爐管載具之中的一第一磁鐵陣列的代表圖。

圖6B所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一測量載台或是一爐管載具之中的一第二磁鐵陣列的代表圖。

圖6C所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一測量載台或是一爐管載具之中的一第三磁鐵陣列的代表圖。

圖6D所示的係根據本發明一實施例之適合使用在一測量載台或是一爐管載具之中的一第四磁鐵陣列的代表圖。

圖7所示的係根據本發明一實施例的一光微影裝置的代表圖。

圖8所示的係根據本發明一實施例之和製作一半導體器件相關聯的步驟的製程流程圖。

圖9所示的係根據本發明一實施例之和處理一晶圓相關聯的步驟(也就是，圖8的步驟1104)的製程流程圖。

圖10所示的係根據本發明一實施例之和用以將一X線圈定位在一X磁鐵陣列上方相關聯的作用力方向的代表圖。

圖11所示的係根據本發明一實施例之和用以將一X線圈定位在一Y磁鐵陣列上方相關聯的作用力方向的代表圖。

圖12所示的係根據本發明一實施例之和用以將一X線圈定位在一X磁鐵陣列上方相關聯的通量方向以及作用力方向的代表圖。

圖13所示的係根據本發明一實施例之和用以將一Y線圈定位在一X磁鐵陣列上方相關聯的通量方向以及作用力方向的代表圖。

圖14所示的係根據一實施例的一移動磁鐵平面馬達線圈陣列以及一磁鐵陣列的代表圖。

圖15所示的係根據一實施例的一磁鐵陣列的代表圖，其具有適合配合一移動磁鐵平面馬達線圈陣列來使用的實質上最小尺寸的配置。

圖16所示的係根據一實施例的一浸沒類型曝光裝置的概略代表圖。

圖17所示的係根據一實施例的一晶圓載台組件的排列 的平面圖，明確地說，圖中所示的係一由構成一載台動子組件(平面馬達)的一晶圓載台與一測量載台裡面的磁鐵單元(磁鐵)所組成的排列，以及一由一基底部件裡面的線圈單元(轉子線圈)所組成的排列。

圖18A所示的係根據一實施例之沿著圖17中的直線A-A所取得的剖視圖，而圖18B所示的係根據一實施例之沿著圖17中的直線B-B所取得的剖視圖。

圖19所示的係根據一實施例的控制系統的輸入/輸出關係的方塊圖，該控制系統主要係建構圖16中的曝光裝置的控制系統。

圖20A至20D所示的係根據一實施例用以說明介於一晶圓載台與一測量載台之間的集團並列操作的一系列代表圖。

圖21所示的係根據一實施例之介於Y磁鐵單元(它們會在一晶圓載台與一測量載台裡面建構一動子)與轉子線圈(Y線圈單元)(當兩個載台靠近時它們會被激發)之間的位置關係代表圖。

圖22所示的係根據一實施例之當一晶圓載台與一測量載台靠近時介於X磁鐵單元(它們會在兩個載台裡面建構一動子)與會被激發的轉子線圈(X線圈單元)之間的位置關係代表圖。

100‧‧‧載台排列

104‧‧‧第一載台

108‧‧‧第二載台

112a‧‧‧磁鐵象限

112b‧‧‧磁鐵象限

116a‧‧‧磁鐵象限

116b‧‧‧磁鐵象限

120‧‧‧堆疊線圈排列

Claims (56)

1. 一種載台裝置，其包括：一第一載台；一第一磁鐵陣列，該第一磁鐵陣列和該第一載台相關聯；以及一定子排列，該定子排列會協同該第一磁鐵陣列來驅動該第一載台，其中，該定子排列包含多個線圈，該等多個線圈包含一第一種類型的第一線圈、一第二種類型的第二線圈、一第一種類型的第三線圈以及一第二種類型的第四線圈，該第一線圈與該第四線圈係在一第一平面之中，而該第二線圈與該第三線圈係在一第二平面之中，其中，該第一線圈會被堆疊在該第二線圈的上方，而該第四線圈會被堆疊在該第三線圈的上方。
2. 如申請專利範圍第1項的載台裝置，其中，該第一線圈與該第三線圈會被排列成用以沿著一第一軸線於一第一方向中提供一作用力，而該第二線圈與該第四線圈會被排列成用以沿著一第二軸線於一第二方向中提供一作用力，且其中，該第一線圈會以一第三軸線為基準被堆疊在該第二線圈的上方。
3. 如申請專利範圍第2項的載台裝置，其中，該第一磁鐵陣列至少包含一第一象限與一第二象限，該第一象限與該第二象限之間具有一空白的空間，俾使得該第一象限會與該第二象限在該第一軸線中分隔一距離。
4. 如申請專利範圍第3項的載台裝置，其中，該第一線 圈具有一第一線圈長度，而且該距離會大於或是約略等於該第一線圈長度。
5. 如申請專利範圍第3項的載台裝置，其中，該第一象限包含一第一磁鐵而該第二象限包含一第二磁鐵，該第一磁鐵會被排列成用以協同該定子排列以便在該第一方向之中產生該作用力，該第二磁鐵會被排列成用以協同該定子排列以便在該第二方向之中產生該作用力。
6. 如申請專利範圍第3項的載台裝置，其中，該第一象限包含一第一磁鐵而該第二象限包含一第二磁鐵，其中，該等第一磁鐵與第二磁鐵會被排列成用以協同該定子排列以便在該第一方向之中產生該作用力。
7. 如申請專利範圍第5項的載台裝置，其中，該第一象限會進一步被排列成用以協同該定子排列以便在該第三軸線之中產生一第一作用力。
8. 如申請專利範圍第7項的載台裝置，其中，該第二象限會進一步被排列成用以協同該定子排列以便在該第三軸線之中產生一第二作用力。
9. 如申請專利範圍第1項的載台裝置，其進一步包含：一第二載台；以及一第二磁鐵陣列，該第二磁鐵陣列和該第二載台相關聯，其中，該第二磁鐵陣列會被排列成用以協同該定子排列來驅動該第二載台。
10. 如申請專利範圍第9項的載台裝置，其中，該第一磁鐵陣列的一第一部分會週期性地被定位在該第二磁鐵陣 列的一第二部分附近，該第一磁鐵陣列的該第一部分會被排列成用以協同該定子排列以便在一第一軸線之中於該第一載台上產生一第一作用力，該第二磁鐵陣列的該第二部分會被排列成用以協同該定子排列以便在一第二軸線之中於該第一載台上產生一第二作用力。
11. 一種曝光裝置，其包括如申請專利範圍第1項的載台裝置。
12. 一種利用如申請專利範圍第11項的曝光裝置所形成的晶圓。
13. 一種載台裝置，其包括：一第一載台；一第一磁鐵排列，該第一磁鐵排列與該第一載台相關聯，該第一磁鐵排列包含一第一象限與一第二象限，該第一象限具有被排列成平行於一第一軸線的至少一第一磁鐵，該第二象限至少具有被排列成平行於一第二軸線的一第二磁鐵，其中，該第一象限以該第一軸線為基準相鄰於該第二象限，該第一象限會進一步以該第二軸線為基準和該第二象限分隔一距離，該距離會大於或是約略等於該第一線圈長度；以及一定子排列，該定子排列包含一第一線圈，該第一線圈具有一第一線圈長度，其中，該定子排列會被配置成用以協同該第一磁鐵排列來驅動該第一載台。
14. 如申請專利範圍第13項的載台裝置，其中，該第一象限包含一線性磁鐵陣列，其中，該第一象限會被排列成 用以協同該定子排列沿著該第二軸線來產生一第一作用力，且其中，該第二象限會被排列成用以協同該定子排列沿著該第一軸線來產生一第二作用力。
15. 如申請專利範圍第14項的載台裝置，其中，該第一象限會進一步被排列成用以協同該定子排列以便在一第三軸線之中產生一第三作用力。
16. 如申請專利範圍第13項的定子排列，其中，該定子排列進一步包含一第二線圈，而且該第一線圈會以一第三軸線為基準被堆疊在該第二線圈的上方。
17. 一種曝光裝置，其包括如申請專利範圍第13項的載台裝置。
18. 一種利用如申請專利範圍第17項的曝光裝置所形成的晶圓。
19. 一種載台裝置，其包括：一第一載台；一第二載台；一第一磁鐵陣列，該第一磁鐵陣列與該第一載台相關聯，該第一磁鐵陣列包含一至少具有一第一磁鐵的第一象限以及一至少具有一第二磁鐵的第二象限，該第一象限會被排列成用以在一第一方向中產生一作用力，該第二象限會被排列成用以在一第二方向中產生一作用力；一第二磁鐵陣列，該第二磁鐵陣列與該第二載台相關聯，該第二磁鐵陣列包含一具有至少一第三磁鐵的第三象限以及一具有至少一第四磁鐵的第四象限，該第三象限會 被排列成用以在該第一方向中產生一作用力，而該第四象限會被排列成用以在該第二方向中產生一作用力；以及一定子排列，該定子排列包含至少一線圈，該定子排列會被排列成用以協同該第一磁鐵陣列來驅動該第一載台，該定子排列會進一步被排列成用以協同該第二磁鐵陣列來驅動該第二載台，其中，相較於該第三象限接近相鄰於該第一象限，當該第四象限接近相鄰於該第一象限時，該第二載台會移動更緊密地鄰近於該第一載台。
20. 如申請專利範圍第19項的載台裝置，其中，該第一載台係一被排列成用以攜載一晶圓的晶圓載台，該第二載台係一選擇自一包含一測量載台與一爐管攜載載台的群之中的其中一者。
21. 如申請專利範圍第19項的載台裝置，其中，該第一載台係一第一晶圓載台，而該第二載台係一第二晶圓載台。
22. 如申請專利範圍第19項的載台裝置，其中，該第一象限相鄰於該第二象限並且以一第一軸線為基準和該第二象限分隔一第一距離，且其中，該第三象限相鄰於該第四象限並且以該第一軸線為基準分離一第二距離。
23. 如申請專利範圍第22項的載台裝置，其中，該至少一線圈具有一線圈長度，且其中，該第一距離會大於或是約略等於該線圈長度，且其中，該第二距離會大於或是約略等於該線圈長度。
24. 如申請專利範圍第19項的載台裝置，其中，該至少一線圈包含一第一線圈以及一第二線圈，該第一線圈會被 堆疊在該第二線圈的頂端。
25. 一種曝光裝置，其包括如申請專利範圍第19項的載台裝置。
26. 一種利用如申請專利範圍第25項的曝光裝置所形成的晶圓。
27. 一種載台裝置，其包括：一第一載台；一定子排列，該定子排列至少包含一第一線圈群以及一第二線圈群，該第一線圈群包含一第一X線圈而該第二線圈群包含一第一Y線圈，其中，該第一X線圈具有一個單位的尺寸而該第一Y線圈具有該相同單位的尺寸；以及一第一磁鐵陣列，該第一磁鐵陣列與該第一載台相關聯並且會被排列成用以協同該定子排列來驅動該第一載台，該第一磁鐵陣列包含一至少具有一第一X磁鐵的第一子陣列、一至少具有一第一Y磁鐵的第二子陣列、以及一至少具有一第二X磁鐵的第三子陣列，其中，該第一子陣列具有至少約略兩個單位的尺寸，該第二子陣列具有至少約略兩個單位的尺寸，以及該第三子陣列具有至少約略兩個單位的尺寸，且其中，該第一子陣列會提供一第一垂直作用力的獨立控制，該第二子陣列會提供一第二垂直作用力的獨立控制，以及該第三子陣列會提供一第三垂直作用力的獨立控制。
28. 一種曝光裝置，用以照射一能量射束並且在一物體之上形成一圖樣，該裝置包括： 一第一與第二可移動的主體，該等第一與第二可移動的主體會沿著一被設置在一基底部件之上的平面移動；以及一驅動器件，該驅動器件會利用一定子與一第一動子來驅動一第一可移動的主體，該定子包含被排列在該平面裡面的多個線圈而該第一動子包含被設置在該第一可移動的主體裡面面向該等多個線圈的至少一第一磁鐵以及至少一第二磁鐵，而且該驅動器件會利用該定子與一第二動子來驅動一第二可移動的主體，該第二動子包含被設置在該第二可移動的主體裡面面向該等多個線圈的至少一第三磁鐵以及至少一第四磁鐵，其中，該第一可移動的主體與該第二可移動的主體會彼此靠近用以在該等多個線圈中的每一個線圈以及該等第一磁鐵與第三磁鐵中的單獨其中一個磁鐵之間產生一驅動作用力，並且用以在該等多個線圈中的每一個線圈以及該等第二磁鐵與第四磁鐵中的單獨其中一個磁鐵之間產生一驅動作用力。
29. 如申請專利範圍第28項的曝光裝置，該裝置進一步包括：一光學系統，用以將該能量射束照射在該物體之上；以及一液體供應器件，該液體供應器件會供應液體至一介於該光學系統與該物體之間的空間，其中，該液體會藉由在一非常鄰近於該等第一與第二可移動的主體的方向之中驅動該等第一與第二可移動的主體同時維持固持著該物體 的該第一可移動的主體與該第二可移動的主體的非常鄰近的狀態而在該等第一與第二可移動的主體之間移動。
30. 如申請專利範圍第28項的曝光裝置，其中，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該等第一磁鐵與第三磁鐵會各自面向該等多個線圈中的一不同的線圈而且該等第二磁鐵與第四磁鐵會各自面向該等多個線圈中的一不同的線圈。
31. 如申請專利範圍第28項的曝光裝置，其中，該驅動器件會在一第一方向之中配合該第一磁鐵來驅動該第一可移動的主體並且會在一與該第一方向相交的第二方向之中配合該第二磁鐵來驅動該第一可移動的主體，以及會在該第一方向之中配合該第三磁鐵來驅動該第二可移動的主體並且會在該第二方向之中配合該第四磁鐵來驅動該第二可移動的主體。
32. 如申請專利範圍第31項的曝光裝置，其中，一空間會被提供，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該空間會係下面至少其中一者：一維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在介於該第一磁鐵與該第三磁鐵之間的第一方向與第二方向中的其中一者之中的方向中會比較大；以及一維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在介於該第二磁鐵與該第四磁鐵之間的第一方向與第二方向中的其中一者之中的方向中會比較大。
33. 如申請專利範圍第31項的曝光裝置，其中，由該等第一磁鐵與第二磁鐵中至少其中一者所組成的多個磁鐵會 於一維度之中被分隔擺放排列，該維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在該第一可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的其中一者之中會比較大。
34. 如申請專利範圍第31項的曝光裝置，其中，多個該等第一磁鐵與第二磁鐵會被設置在一排列之中，其中，該等第一磁鐵與第二磁鐵會於該第一可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的每一個方向之中彼此相鄰。
35. 如申請專利範圍第33項的曝光裝置，其中，在該等第一與第二可移動的主體非常鄰近的方向中，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該第三磁鐵會非常鄰近於該第二磁鐵且該第四磁鐵會非常鄰近於該第一磁鐵。
36. 如申請專利範圍第31項的曝光裝置，其中，由該等第三磁鐵與第四磁鐵中至少其中一者所組成的多個磁鐵會於一維度之中被分隔擺放排列，該維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在該第二可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的其中一者之中會比較大。
37. 如申請專利範圍第31項的曝光裝置，其中，多個該等第三磁鐵與第四磁鐵會被設置在一排列之中，其中，該等第三磁鐵與第四磁鐵會於該第二可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的每一個方向之中彼此相鄰。
38. 如申請專利範圍第36項的曝光裝置，其中，在該等第一與第二可移動的主體非常鄰近的方向中，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該第一磁鐵會非常鄰近於該第四磁鐵且該第二磁鐵會非常鄰近於該第三磁鐵。
39. 如申請專利範圍第31項的曝光裝置，其中，該驅動器件會藉由供應一激發電流至該等多個線圈中的一第一線圈而於該第一方向之中施加一驅動作用力至該等第一動子與第二動子，並且會藉由供應一激發電流至該等多個線圈中的一第二線圈而於該第二方向之中施加一驅動作用力至該等第一動子與第二動子。
40. 如申請專利範圍第39項的曝光裝置，其中，該等第一線圈與第二線圈會各自被排列在該基底部件裡面彼此不相同的層之中。
41. 如申請專利範圍第39項的曝光裝置，其中，該等第一線圈與第二線圈會被交替排列在該基底部件裡面相同的層之中。
42. 一種曝光方法，用以照射一能量射束並且於一物體之上形成一圖樣，該方法包括：利用一定子與一第一動子來驅動一第一可移動的主體，該定子包含被排列在一基底部件裡面的多個線圈而該第一動子包含被設置在該第一可移動的主體裡面的至少一第一磁鐵以及至少一第二磁鐵，其會面向該等多個線圈沿著一平面移動，以及利用該定子與一第二動子來驅動一第二可移動的主體，該第二動子包含被設置在該第二可移動的主體裡面的至少一第三磁鐵以及至少一第四磁鐵，其會面向該等多個線圈沿著一平面移動，其中，該第一可移動的主體與該第二可移動的主體會彼此靠近用以在該等多個線圈中的每一個線圈以及該等第一磁鐵與第三磁鐵中的單 獨其中一個磁鐵之間產生一驅動作用力並且用以在該等多個線圈中的每一個線圈以及該等第二磁鐵與第四磁鐵中的單獨其中一個磁鐵之間產生一驅動作用力。
43. 如申請專利範圍第42項的曝光方法，其中，一液體會藉由在一非常鄰近於該等第一與第二可移動的主體的方向之中驅動該等第一與第二可移動的主體同時維持固持著該物體的該第一可移動的主體與該第二可移動的主體的非常鄰近的狀態而在該等第一與第二可移動的主體之間移動。
44. 如申請專利範圍第42項的曝光方法，其中，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該等第一磁鐵與第三磁鐵會各自面向該等多個線圈中的一不同的線圈而且該等第二磁鐵與第四磁鐵會各自面向該等多個線圈中的一不同的線圈。
45. 如申請專利範圍第42項的曝光方法，其中，該第一可移動的主體會在一第一方向之中由該第一磁鐵來驅動並且會在一與該第一方向相交的第二方向之中由該第二磁鐵來驅動，以及該第二可移動的主體會在該第一方向之中由該第三磁鐵來驅動並且會在該第二方向之中由該第四磁鐵來驅動。
46. 如申請專利範圍第45項的曝光方法，其中，一空間會被提供，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該空間會係下面至少其中一者：一維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在介於該第一磁鐵與該第三磁鐵之 間的第一方向與第二方向中的其中一者之中的方向中會比較大；以及一維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在介於該第二磁鐵與該第四磁鐵之間的第一方向與第二方向中的其中一者之中的方向中會比較大。
47. 如申請專利範圍第45項的曝光方法，其中，由該等第一磁鐵與第二磁鐵中至少其中一者所組成的多個磁鐵會於一維度之中被分隔擺放排列，該維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在該第一可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的其中一者之中會比較大。
48. 如申請專利範圍第45項的曝光方法，其中，多個該等第一磁鐵與第二磁鐵會被設置在一排列之中，其中，該等第一磁鐵與第二磁鐵會於該第一可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的每一個方向之中彼此相鄰。
49. 如申請專利範圍第47項的曝光方法，其中，在該等第一與第二可移動的主體非常鄰近的方向中，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該第三磁鐵會非常鄰近於該第二磁鐵且該第四磁鐵會非常鄰近於該第一磁鐵。
50. 如申請專利範圍第45項的曝光方法，其中，由該等第三磁鐵與第四磁鐵中至少其中一者所組成的多個磁鐵會於一維度之中被分隔擺放排列，該維度會等於該等多個線圈中的每一個線圈並且在該第二可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的其中一者之中會比較大。
51. 如申請專利範圍第45項的曝光方法，其中，多個該等第三磁鐵與第四磁鐵會被設置在一排列之中，其中，該 等第三磁鐵與第四磁鐵會於該第二可移動的主體裡面的該等第一方向與第二方向中的每一個方向之中彼此相鄰。
52. 如申請專利範圍第50項的曝光方法，其中，在該等第一與第二可移動的主體非常鄰近的方向中，當該等第一與第二可移動的主體非常鄰近時，該第一磁鐵會非常鄰近於該第四磁鐵且該第二磁鐵會非常鄰近於該第三磁鐵。
53. 如申請專利範圍第45項的曝光方法，其中，一驅動作用力會藉由供應一激發電流至該等多個線圈中的一第一線圈而於該第一方向之中施加至該等第一動子與第二動子，並且一驅動作用力會藉由供應一激發電流至該等多個線圈中的一第二線圈而於該第二方向之中施加至該等第一動子與第二動子。
54. 如申請專利範圍第53項的曝光方法，其中，該等第一線圈與第二線圈會各自被排列在該基底部件裡面彼此不相同的層之中。
55. 如申請專利範圍第53項的曝光方法，其中，該等第一線圈與第二線圈會被交替排列在該基底部件裡面相同的層之中。
56. 一種器件製造方法，其包含：利用如申請專利範圍第42項的曝光方法於一物體上形成一圖樣；以及對已於其上形成一圖樣的物體進行顯影。