TW201248338A - Exposure apparatus, exposure method, inspecting method of exposure apparatus and manufacturing method of display panel substrate - Google Patents

Description

201248338 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種曝光裝置、曝光方法及使用這些曝光 裝置、曝光方法的顯示用面板基板的製造方法，所述曝光 裝置是在液晶顯示器（display )裝置等的顯示用面板 (panel)基板的製造中，對塗佈有光阻劑（ph〇t〇resist) 的基板照射光束，藉由光束來掃描基板，以在基板上描繪 圖案（pattern )。 而且，本發明涉及一種曝光裝置的檢查方法，所述曝 光裝置是對塗佈有光阻劑的基板照射光束，藉由光束來掃 描基板，以在基板上描繪圖案。 【先前技術】 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本專利特開2〇1〇_44318號公報 專利文獻2 :日本專利特開2〇1〇_6〇99〇號公報 專利文獻3 :日本專利特開2〇1〇_1〇2〇84號公報 被用作顯示用面板的液晶顯示器裝置的薄膜電晶體 (Thin Film Transistor ’ TFT)基板或彩色濾光器（color filter)基板、等離子體（piasma)顯示器面板用基板、有 機電致發光（Electroluminescence，EL)顯示面板用基板 專的製疋使用曝光裝置，藉由光刻（photolithography) 技術在基板上形成圖案而進行。作為曝光裝置，先前有投 影（projection)方式及接近（pr〇ximity)方式，所述投影

S 4 201248338 41924ρΐί' =式是使用透鏡（lens)或鏡子將光罩（mask)的圖案投 衫至基板上，所述接近方式是在光罩與基板之間設置微小 的間隙（接近間隙（pr〇ximitygap)) *將光罩的圖案轉印 至基板上。 近年來，開發出一種曝光裝置，其對塗佈有光阻劑的 基板照射光束，藉由光束來掃描基板，以在基板上描緣圖 案。由於是藉由光束來掃描基板以在基板上直接描繪圖 案，因此不需要昂貴的光罩。而且，藉由變更描繪資料 (data)及掃描程式（pr〇gram)，能夠應對多種顯示用面 板基板。作為此種曝光裝置，例如有專利文獻1、專利文 獻2及專利文獻3中公開的曝光裝置。 當藉由光束在基板上描繪圖案時，在光束的調制時使 用數位微鏡器件（Digital Micromirror Device，DMD )等的 空間光調制器。DMD是將反射光束的多個微小的反射鏡 (mirror)沿兩方向排列而構成，驅動電路基於描繪資料 來變更各反射鏡的角度，從而對從光源供給的光束進行調 制。經DMD調制後的光束從光束照射裝置的頭（head) 部照射至基板’所述頭部包含投影透鏡等的照射光學系統。 在光束照射裝置内，如果在從光源向空間光調制器供 給光束的光學系統、或在將經空間光調制器調制後的光束 戶、?、射至基板的照射光學系統中產生光路的偏移等則從光 束照射裝置關的絲會產生變形。；^其在騎光學系統 中’如果投影透鏡存在變形，·影絲板賴形的形狀 會產生桶形或梭形等的變形。一旦從光束照射裝置照射的 201248338 .i 光束存在變形，則藉由光束而描繪的圖案會產生變形。先 前，此種圖案變形的檢查是以對實際上進行了曝光的基板 進行分析的方式進行。因此，光束變形的檢測及修正要耗 費較多時間及工夫。 【發明内容】 本發明的課題在於容易地檢測從光束照射裝置照射的 光束的變形。而且，本發明的課題在於抑制從光束照射裝 置照射的光束的’史形，以提南描繪精度。進而，本發明的 課題在於製造高品質的顯示用面板基板。 本發明的曝光裝置包括：夾盤（chuck)，支撐塗佈有 光阻劑的基板；光束照射裝置，具有空間光調制器、驅動 電路以及包含照射光學系統的頭部，所述空間光調制器對 光束進行調制，所述驅動電路基於描繪資料來驅動空間光 凋制器，所述照射光學系統照射經空間光調制器調制後的 光束；以及移動機構，使夾盤與光束照射裝置相對移動， 藉由移動機構使夾盤與光束照射裝置相對移動，藉由來自 光束照射裝置的光束來掃描基板，以在基板上描繪圖案， 此曝光裝置包括：描繪控制機構，將檢查用的描繪資料及 曝光用的描繪資料供給至光束照射裝置的驅動 圖像獲取裝置，設在爽盤上；標線片（她;^置= 束照射裝置的頭部與第丨圖像獲取裝置之間，且設有檢查 用圖案；以及圖像處理裝置，從第i圖像獲取裝置所獲取 的標線片的檢查用圖案的圖像及光束照射裝置照射的^束 的像中’檢測光束的位置偏移，描繪控制機構將檢查用的

S 6 201248338 Hiyz^pif 照射裝置的驅動電路，並基於由圖像 :曝檢測光束的… 昭Μ㈣射裝置相對移動，所述光束 系統二二d光剩器、驅動電路以及包含照射光學 腺其二戶!述，間光調制11對光束進行調制，所述驅 來驅毅間光調制11，所述照射光學 射間光調制器調制後的光束，藉由來自光束照 j置的光束掃描基板，以在基板上騎圖案，此曝光方 =中’在夾盤上設置第丨圖像獲轉置，在光束照射裝置 =頭部與η圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案的 fc線片，將檢查㈣描㈣料供給至光束麟裝置的驅動 電路，藉由第1圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖案 巧圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第1圖像 後取裝置所獲取的標線》的檢錢圖案的圖像及光束的像 中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形，基於光束 ’憂形的檢測結果’對曝光用的描I會資料的座標進行修正， 並供給至光束照射裝置的驅動電路。 由於在夾盤上6又置第1圖像獲取裝置，在光束照射褒 置的頭部與第1圖像獲取裝置之間，配置設有檢查用圖案 的標線片，將檢查用的描繪資料供給至光束照射裝置的驅 動電路，藉由第1圖像獲取裝置，獲取標線片的檢查用圖 案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從由第1圖 201248338 像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像及光束的 像中’檢測光束的位置偏移’因此無須實際上進行基板的 曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變 形。而且，當僅從光束的像來檢測光束的位置偏移時，必 須使用鐳射（laser)測長系統等來另行測定第1圖像獲取 裝置的位置，但在本發明中，從標線片的檢查用圖案的圖 像及光束的像中檢測光束的位置偏移，因此可使用高精度 的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏 移，從而精度良好地檢測光束的變形。並且，基於光束變 形的檢測結果來對曝光用的描繪資料的座標進行修正，並 供給至光束照射裝置的驅動電路，因此可抑制從光束照射 裝置照射的光束的變形，描繪精度提高。 進而，本發明的曝光裝置中，標線片具有多個位置確 認用圖案，且所述曝光裝置具備多個第2圖像獲取裝置， 所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置確認用 圖案的圖像，圖像處理裝置從多個第2圖像獲取裝置所獲 取的標線片的多個位置確認用圖案的圖像中，檢測標線片 的位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結果進行修正。 而且，本發明的曝光方法中，在標線片上設置多個位置確 認用圖案，且設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2 圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置確認用圖案的圖像， 從由多個第2圖像獲取裝置所獲取的標線片的多個位置確 認用圖案的圖像中’檢測標線片的位置偏移，以對光束的 位置偏移的檢測結果進行修正。由於對標線片的位置偏移

S 8 201248338 4iy24pif 進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結果進行修正，因 此光束的位置偏移的檢測結果的精度提高，可進一步精度 良好地檢測光束的變形。 本發明的顯示用面板基板的製造方法是使用上述任一 種曝光裝置或曝光方法來進行基板的曝光。藉由使用上述 曝光裝置或曝光方法’可抑制從光束照射裝置照射的光束 的變形，提高麟精度，因此可製造高品質的顯示用 面板 基板。 本發明的曝光裝置的檢查方法是利用夾盤來支撐塗佈 有光阻劑的基板，使夾盤與光束照射裝置相對移動，光束 照射裝置具有空間光調制器、驅動電路以及包含照射光學 系統的頭部，所述空間光調制器對光束進行調制，所述驅 動電路基於描繪資料來驅動空間光調制器，所述照射光學 系統照射經空間光調制器調制後的光束，藉由來自光束照 射裝置的光束掃描基板，以在基板上描繪圖案，此曝光裝 置的檢查方法中，在夹盤上設置第丨圖像獲取裝置，在光 束照射裝置的頭部與第i圖像獲取裝置之間，配置設有檢 查用圖案的標線片，將檢查用的描繪資料供給至光束照射 裝置的驅動電路，藉由第i圖像獲取裝置，獲取標線片的 檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從 由第1圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像 及光束的像中，檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形。 無須實際上進行基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射 裝置照射的光束的變形。而且，由於從標線片的檢查用圖 201248338 A1史/爲1 案的圖像及光束的像中檢測光束的位置偏移，因此可使用 高精度的標線片的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位 置偏移，從而精度良好地檢測光束的變形。 進而’本發明的曝光裝置的檢查方法中，在標線片上 設置多個位置確認用圖案’且設置多個第2圖像獲取褒 置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個^置^ s忍用圖案的圖像’從由多個第2圖像獲取裂置所獲取的朽 線片的多個位置確認用圖案的圖像中，檢測標線片的位置 偏移，以對光束的位置偏移的檢測結果進行修正。由於對 標線片的位置偏移進行檢測，並以對光束的位置偏移的檢 測結果進行修正’因此光束的位置偏移的檢測結果的精度 提高，可進一步精度良好地檢測光束的變形。 (發明的效果） 根據本發明的曝光裝置及曝光方法，在夾盤上設置第 1圖像獲取裝置，在光束照射裝置的頭部與第1圖像獲取 裝置之間，配置設有檢查用圖案的標線片，將檢查用的描 繪資料供給至光束照射裝置的驅動電路，藉由第1圖像獲 取裝置’獲取標線片的檢查用圖案的圖像及從光束照射裝 置照射的光束的像，從由第1圖像獲取裝置所獲取的標線 片的檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏 移，以檢測光束的變形，由此，無須實際上進行基板的曝 光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的變形。 而且，由於從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的像中檢 測光束的位置偏移，由此可使用高精度的標線片的檢查用 201248338 4iy^4pif 圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而可精度良好 地檢測光束的變形。並且，基於光束變形的檢測結果來對 曝光用的描繪資料的座標進行修正，並供給至光束照射震 置的驅動電路，由此可抑織光束照射裝置照射的光束^ 、憂形’以提南描|會精度。 進而，根據本發明的曝光裝置及曝光方法，對標線片 的位置偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結果進 饤修正，從而可提高光束的位置偏移的檢測結果的精度， 以進一步精度良好地檢測光束的變形。 根據本發明的顯示用面板基板的製造方法，可抑制從 光束照射裝置照射的光束的變形，以提高描繪精度，因此 可製造高品質的顯示用面板基板。 根據本發明的曝光裝置的檢查方法，無須實際上進行 基板的曝光，而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束 的支形。而且，由於從標線片的檢查用圖案的圖像及光束 的像中檢測光束的位置偏移，由此可使用高精度的標線片 的檢查用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而可 精度良好地檢測光束的變形。 進而’根據本發明的曝光裝置方法，對標線片的位置 偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測結果進行修 正’從而可提高光束的位置偏移的檢測結果的精度，以進 一步精度良好地檢測光束的變形。 【實施方式】 圖1是表示本發明的一實施方式的曝光裝置的概略結 11 201248338 構的圖。而且，圖2是本發明的一實施方式的曝光裝置的 側視圖，圖3是本發明的一實施方式的曝光裝置的正視 圖。曝光裝置是包含底座（base) 3、X導軌（guide) 4 ' X平臺（stage) 5、Y導軌6、Y平臺7、0平臺8、夾盤 10、門閘（gate) 11、光束照射裝置2〇、線性尺規（linear scale) 31、33、編碼器（enc〇der) 32、34、鐳射測長系統、 鐘射測長系統控制裝置40、圖像處理裝置50、電荷耦合器 件（Charge Coupled Device，CCD)相機（camera) 51、 52、平臺驅動電路60及主控制裝置7〇而構成。另外，在 圖2及圖3中，省略了鐳射測長系統的鐳射光源41、鐳射 測長系統控制裝置40、圖像處理裝置5〇、平臺驅動電路 60及主控制裝置70。除了這些以外，曝光裝置還具備基板 搬送機器人（robot)、溫度控制單元（unit)等，所述基板 搬送機器人將基板1搬入至夾盤1〇且從夾盤1〇搬出基板 1，所述溫度控制單元進行裝置内的溫度管理。 另外，以下說明的實施方式中的χγ方向為例示，也 可將X方向與γ方向調換。 在圖1及圖2中’夾盤1G位於進行基板丨的交接的交 接位置。在交齡置’由未㈣的基板搬送機器人將基板 1搬入至央盤H)，而且，由未圖示的基板搬送機器人從爽 盤H) «基板卜夾盤1G #由真空吸附而支撐基板i的 背面。在基板1的表面，塗佈有光阻劑。 在進行基板1的曝光的曝光位置的上空，設越底 座3的⑽⑴在⑽u上搭財多個光束照射裝置2〇:

S 12 201248338 4iy/4pif 另外，本實施方式雖示出了使用8個光束照射裝置加的暖 光裝置關子’但絲騎裝置量並不限於此，本發 明適用於㈣或2飢X切光束闕裝置的曝光裝^ 圖4是表示光束照射震置的概略結構 裝置2〇是包含錢⑽e〇22、透鏡23、反射鏡 (Dlgltal M1Cromirror Device)乃、投影透鏡 ％ 及 dmd 驅 動電路27而構成。光纖22將從鐳射光源單元21產生的紫 外光的光束導人光束照姆置2G内。從光纖22射出的光 束經由透鏡23及反射鏡24而照射至DMD25。DMD25是 將反射光束的多個微小的反射鏡沿正交的兩方向排列而構 成的空間光調㈣’變更各反射義肢來_光束。經 DMD25調制後的光束從照射絲系賴頭部施進行照 射所迷頭。卩20a包含投影透鏡％。DMD驅動電路27基 於從主控魏置70供給的描繪㈣來變更DMD25的各反 射鏡的角度。 ,在圖2及圖3中，夾盤1〇搭載於0平臺8上，在0 平臺8之下対Υ平臺7及X平臺5。X平臺5被搭載於 底座,3上所設的Χ導執4上，沿著X導執4朝X方向移 ，。Υ(平臺7被搭載於χ平臺5上所設的Υ導軌6上，沿 著Υ導軌6朝Υ方向移動。0平臺8被搭載於Υ平臺7 上朝β方向旋轉。在X平臺5、γ平臺7及β平臺$ 十’ δ又有滚珠螺桿及馬達（motor)或線性馬達（Hnear motor) 專未圖卞的驅動機構，各驅動機構由圖1的平臺驅動電路 60來驅動。 13 201248338 平臺8朝向β方向的旋轉，搭載於夾盤ι〇 ί 正交的兩邊朝向Χ方向及丫方向的方式而旋 :二臺5朝向χ方向的移動，夾盤10在交接位 置之間移動。在曝光位置處，籍由χ平臺5朝 移動，從各光束照射裝置20的頭部加照射 向來掃描基板1。而且，藉由γ平臺7朝向 移動，從各光束照射裝置20的頭部20a照射的光 束對基板1的掃描區域朝Y方向移動。在圖i中，

制平臺驅動電路6〇來進行0平臺8朝向：方 =動x平臺5朝向x方向的移動及Y平臺7朝向Y 梦晉表*画的反射鏡部的—例的圖。光束照射 t ^Γ"25相對於來自光束照财置20的光束對 =1的㈣方向（又方向）僅傾斜規定的角度0而配置。 备使DMD25相對於掃描方向而傾斜地配置時，沿正交的 =向:列的多個反射鏡25a中的任—者將覆蓋（_r) 對應鄰接的反射鏡25a間的間隙的部位 地進行圖案的鱗。 _，、，、_ 2 ’本實施方式中，藉由X平臺5使夾盤1〇朝χ 行來自光束騎裝置2G的光束對基板1 物描，但也可#由移動光賴姆置2G來進行來 照射裝置20㈣束對基板i的掃描。而且，本實施方式中， =Y平臺7使夾盤1G朝γ方向移動，由此來變更來自 光束照射裝置2〇的絲雜板丨的掃描區域，但也可藉由 201248338 4iyZ4pif 移動光束照射裝置20來變更來自光束照射裝置20的光束 對基板1的掃描區域。 在圖1及圖2中，在底座3上，設置有朝X方向延伸 的線性尺規31。在線性尺規31上標注有刻度，所述刻度 用於檢測X平臺5朝向X方向的移動量。而且，在X平 臺5上，設置有朝γ方向延伸的線性尺規33。在線性尺規 33上標注有刻度，所述刻度用於檢測Y平臺7朝向Y方 向的移動量。 在圖1及圖3中，在X平臺5的一側面’與線性尺規 31相向地安裝著編碼器32。編碼器32檢測線性尺規31 的刻度並將脈衝（pulse)信號輸出至主控制裝置70。而且， 在圖1及圖2中，在Y平臺7的一側面，與線性尺規33 相向地安裝著編碼器34。編碼器34檢測線性尺規33的刻 度並將脈衝信號輸出至主控制裝置7〇。主控制裝置7〇對 編碼器32的脈衝信號進行計數（c〇unt),以檢測X平臺$ 朝向X方向的移動量，並對編碼器34的脈衝信號進行計 數’以檢測Y平臺7朝向Y方向的移動量。 圖6是說明鐳射測長系統的動作的圖。另外，在圖6 中，省略了圖1所示的門閘11、光束照射裝置2〇及圖像 處理裝置5 0。_測長祕是公知_軒涉式的測長系 統，是包含鐳射光源41、鐳射干涉儀42、44及條狀反射 鏡（bar mirror) 43、45而構成。條狀反射鏡43安裝於夾 盤ίο的朝γ方向延伸的-側面。而且，條狀反射鏡45安 裝於夾盤10的朝X方向延伸的一側面。 15 201248338^ T-l 鐳射干涉儀42將來自鐳射光源41的鐳射照射至條狀 反射鏡43，並接收被條狀反射鏡43反射後的鐳射，以對 來自鐳射光源41的鐳射與被條狀反射鏡43反射後的鐳射 的干涉進行測定。該測定是在Y方向的兩處部位進行。鐳 射測長系統控制裝置40藉由主控制裝置70的控制，由鐳 射干涉儀42的測定結果來檢測失盤1 〇在X方向上的位置 及旋轉。 另一方面，鐳射干涉儀44將來自鐳射光源41的鐳射 照射至條狀反射鏡45，並接收被條狀反射鏡45反射後的 鐳射，以對來自鐳射光源41的鐳射與被條狀反射鏡45反 射後的鐘射的干涉進行測定。鐳射測長系統控制裝置4〇 藉由主控制裝置70的控制，由鐳射干涉儀44的測定結果 來檢測炎盤10在Y方向上的位置。 在圖4中，主控制裝置7〇具有描繪控制部，所述描綠 控制部向光束照射裝置20的DMD驅動電路27供給描繪 資料。圖7是表示描繪控制部的概略結構的圖。描繪控制 部71是包含記憶體（memory) 72、76、帶寬設定部73、 中心點座標決定部74、座標決定部75、描繪資料製 77及座標運算部78而構成。 ° 在記憶體76中保存有設計值映射圖（map)。在設計 值映射圖中’ αχγ坐標示出㈣資料。騎資料製 77由保存在記憶體76 +的設計值映射圖，來製作曝: 的描繪資料’所述曝絲的描纟特料被供給至各光 裝置20的DMD驅動電路27。惜碑μ祖从， 、 电崎z/ 。己隱體72對於描繪資料製 201248338 41924pif =77所製作_糾的鱗㈣嘴其灯鋪作為位 =(address)來加以存儲。而且，記憶體72财有檢查 輸W斤述檢查用的描繪資料用於檢測後述的光 术的變形。 帶=定部73藉由決定從記憶體乃讀出的描繪資料 日召麻Λ的把圍，從而對從光束照射裝置20的頭部遍 <、、、射的光束的Υ方向的帶寬進行設定。 =測長系統控難置4G對在曝光位置處的基板i 二ίί!的夾盤10在灯方向上的位置進行檢測。中 方向上的位置，決定開始基板1的曝光之 中心點的χγ座標。在圖1中，當藉由來自 置7〇二二喜20的光束來進行基板1的掃描時，主控制裝 1電路6G，藉由χ平臺5使爽盤10朝χ 基板1的掃描區域移動時，主控制裝置70 =^動電路6G，藉由Υ平臺7使錢方向 34的7中’中心、點座標決定部74對來自編碼器32、 錢餅賴，㈣χ平臺5畅 朝向Υ方向的移動量進行制，從而決定 夹盤10的t心點的χγ座標。 盤所決定的夹 ，，，的 座裇，來決定曝光用的描繪資料的 置20 述曝光用的描綠資料被供給至各光束照射裝 、 驅動電路27。記憶體72輸入座標決定部75 17 201248338 *---·ΐ-*ί 所決定的χγ座標作為地址，將所輸入的χγ座標的位址 上存儲的曝光用的描繪資料輸出至各光束照射裝置2〇的 DMD驅動電路27。 以下，對本發明的一實施方式的曝光方法進行說明。 圖8〜圖10是說明本發明的一實施方式的曝光方法的圖。 另外，圖9是圖8所示的夾盤的放大圖，在圖8及圖9中， 省略了圖1所示的門閘u、光束照射裝置20及CCD相機 52 ’並以虛線示出光束照射裝置20的頭部20a。而且，圖 10是門閘的局部剖面側視圖。 在圖9及圖10中’在夾盤10上設有切口部l〇a，在 切口部10a處設置有2個CCD相機51。各光束照射裝置 20的頭部20a是沿γ方向等間隔地配置，2個ccd相機 51以各光束照射裴置2〇的頭部2〇a的間隔的整數倍的間 隔而設在爽盤1〇上。各CCd相機51的焦點與夾盤1〇上 搭載的基板的表面的高度一致。另外，本實施方式中，在 夾盤10中設有2個CCD相機51，但也可在夾盤10上設 置3個以上的CCD相機51。 本實施方式中’在開始基板的曝光之前，使用夾盤10 上所設的CCD相機51，獲取後述的標線片2的檢查用圖 案的圖像及從各光束照射裝置2〇照射的光束的像，並從所 獲取的標線片2的檢查用圖案的圖像及光束的像中，預先 檢測從各光束照射裝置2〇照射的光束的變形。 在圖10中，在門閘11的内部設置有2個CCD相機 52。當對從各光束照射装置2〇照射的光束的變形進行檢測

18 S 201248338 4I924pif 時，在門閘11的下侧安裝標線片架（h〇lder) 53，在標線 片架53上t裝標線片2。標線2以下表面的高度與搭載 於夾盤10上的基板的表面的高度相同的方式而設置。 圖11 (a)是標線片的底視圖。在標線片2的下表面， 設有與光束照射裝置2G的數量對應的數量的檢查用圖案 群加和2個位置確認用_❿。各檢查用圖案群μ 以與各光束照射裝置2〇的頭部施的間隔相同的間隔而 設° 2個位置賴關案办以與門閘u的内部所設的2 個CCD相機52的間隔相同的間隔而設。 在圖10中，各CCD相機52的焦點與標線片2的下 表面的南度-致。各CCD相機52獲取標線片2的下表面 的各位置確認用圖案2b的圖像。標線片2是基於2個ccd 相機52所獲取的2個位置確認用圖案％的圖像，以 查用圖案群2aG的中心與各光束照射裂置2〇的頭部2加 的中心一致的方式而定位。 一圖u (b)疋檢查用圖案群的一例的放大圖。圖u (b) 示出了在1個檢查用圖案群2aG中設有9個檢查用圖案2a 的例子。本_各檢制_ 2a呈正謂的框形。在圖 11㈤_ ’以虛線表示的大四角26a表示經DMD25調制 後從投影透鏡26騎的光束_射區域。而且，以虛線表 不的小四角51a表示CCD相機51的視野的大小。 壯’主控制裝置7G在夾盤1G上未搭載基板的 4下，基於鐳射測長系統㈣裝置4G的檢測結果來控制 平臺驅動電路60，||由X平臺5及¥平臺7使爽盤轉 19 201248338 動、’使安震在夾盤l〇上的CCD相機51位於對光束的變 形進行檢測的光束照射裝置2〇的頭部2〇a的正下方。圖8 圖10表不CCD相機51位於對光束的變形進行檢測的 光束照射裝置20的頭部2〇a的正下方的狀態。 在此狀態下，主控制裝置70從描繪控制部71將檢查 用的描綠資料供給輯光束的變形進行檢_光束照射褒 置2〇的DMD驅動電路27。被供給檢查用的描输資料的 光束照射裝置20從其頭部施照射檢查用的光束。基於檢 查用的描繪資料而經DMD25 _後的檢錢的光束在無 文升/時’分別照射至圖U (b)所示的各檢查關案2 中心。 接下來’主控制裝置7〇基於鐳射測長系統控制裝置 40的檢測結果來控制平臺驅動電路6〇，藉由X平臺$及 ^平臺7使爽盤10移動’使CCD相機51移動到檢查用圖 案群2aG中的i個檢查用圖案2a的正下方。咖相機μ 使焦點與標線片2的下表面的高度—致，獲取標線片2的 檢查用圖案2a的圖像及從光束照射襄置2()照射的光 像0 圖11 (c)是表示檢查用圖案的圖像與光束的像的一 例的圖。當從光束照射裝置2G照_光束無變形時，光束 的像2c出現在檢查用圖案2_中心。當光束存在變形時， 光束的像2c如圖11 (c)所示’偏離檢查用圖案％的中 心。在圖11 (e)所示的例子中’檢查用圖案2&盘光束的 像2c的位置偏移量為dX、dYe在圖i中，圖像處理裝置

S 20 201248338 41924pif 5〇對CCD相機51 _像信號進行處理，以檢測檢 案2a與光束的像2c的位置偏移量。 圖 當僅從光束的像2c中檢測光束的位置偏移時，必 用，射測長系統等來另行測定CCD相機51的位置，^ 本實施方式中，從標線片2的檢查用圖案2&的圖像及 的像以巾制絲的位置偏移，因此可制高精度的棒、^ 片2的檢查用圖案2a來精度良好地檢測光束的位置偏^。 然後，圖像處理裝置50對2個CCD相機52所獲取 的標線片2的2個位置確認用圖案的圖像的圖像信號^ 處理，以檢測標線ϋ 2的位置偏移量，並對光束的位置^ 移里進行修正。由於對標線片2的位置偏移進行檢測，並 對光束的位置偏移的檢測結果進行修正，因此光束的位置 偏移的檢測結果的精度提高。 同樣地，主控制裝置7〇基於鐳射測長系統控制裝置 40的檢測結果來控制平臺驅動電路6〇，藉由χ平臺$及 Υ平臺7使夾盤10移動，使CCD相機51依序移動到檢查 用圖案群2aG中的其他檢查用圖案2a的正下方。CCD相 機51使焦點與標線片2的下表面的高度一致，分別蒋 檢查用圖案像及各光束的像2“彳^= 對CCD相機51的圖像信號進行處理，分別檢測各檢查用 圖案2a與各光束的像2c的位置偏移量。然後，圖像處理 裝置50對2個CCD相機52所獲取的標線片2的2個位 置確認用圖案的圖像的圖像信號進行處理，以檢測標線片 2的位置偏移量，並分別對各檢測部位的光束的位置偏移 21 201248338 ^Τ1 量進行修正。 在圖7中’描繪控制部71的座標運算部78藉由圖像 處理裝置50檢測出的9個檢測部位的各檢查用圖案2a盘 各光束的像2c的位置偏移量，來檢測從光束照射裝置2〇 照射的光束的變形。 由於在夾盤10上設置CCD相機51，在光束照射裝置 20的頭部20a與CCD相機51之間配置設有檢查用圖^2a 的標線片2，將檢查用的描繪資料供給至光束照射裝置 的DMD驅動電路27，藉由CCD相機51來獲取標線片2 的檢查用圖案2a的圖像及從光束照射裝置照射的光束的 像2c ’從由CCD相機51所獲取的標線片2的檢查用圖案 2a的圖像及光束的像2e中，檢測光束的位置偏移，以檢 測光束的變形’因此無須實際上進行紐的曝光，可容易 地檢測從光束照射裝置2 〇照射的光束的變形。 同樣地’主控制裳置70使CCD相機51依序位元 各光束照射裝置20的頭部2〇a的正下方 資料依序供給至各光賴縣置2㈣DMD鶴電^ 以檢測從各光束照射裝置2〇騎喊束的 光束照射裝置20檢敢光束_職，從⑽n = 面拆除標線片2及標線片架53。 在，7中，描繪控制部71的描綠資料製作7某 座標運算部78對光束變形的檢測結果，對存儲°在^ 7板2 料的χγ座標進行修正。在進^ 板1的曝光時，描繪控制部71將修正了座標的曝光用的

S 22 201248338 41924pif 繪資料供給至各光束照射裝置20的DMD驅動電路27。 基於從各光束照射裝置20照射的光束的變形的檢測结 果，對曝光用的描繪資料的座標進行修正，並供給至各光 束照射裝置20的DMD驅動電路27，因此可抑^從各光 束照射裝置20照射的光束的.變形，提高描綠精度。 % f外，ί以上說明的實施方式中，在光束‘射區域 施内的9處部位檢測光束的位置偏移，但 ^匕，也可在光束的照射區域26a的其他多個部位檢: =位置偏移量’_峨絲騎打2q照射的光束的 〜圖^^5^"藉由光束來掃描基板的圖。圖U 來進行4次美板曰l 個光束照射裝置20的8個光束 例子。在圖^ L 向的掃描’以掃描整個基板1的 加的頭部咖。:=，以虛_ 了各光束照射装置 束在γ方向上具有帶寬;射:由置二= 移動’朝箭頭所示的方向來掃描基板（。方向的 當第1次掃描結束時’二的知描區域中進行圖案的描綠。 基板1朝γ方向僅移動^ ^平臺7朝向γ方向的移動’ 第2次掃描，與帶寬w相同的距離。圖13表示 以灰色表示的^朝向X方向的第2次掃描，在圖13中 結束時，藉由^1域7中者進行圖案_會。當第2次掃插 至7朝向Y方向的移動，基板1朝γ 23 201248338 夢二::動與帶寬〜相同的距離。圖14表示笫u 藉由朝向X方向的第3次 第3 ：：人掃插， 中進行圖案物會c示的 Υ千臺7朝向γ方向的移 ，、。束時’藉由 寬W相同的轉 ^ 向僅移動與帶 向的4次掃描，在二中’藉由朝向X方 案的描綠，整體基板i的掃^財了 1描區域中進行圖 陆，隹藉^利用來自多個光束照射裝置2G的多個光击 =丁基板1的掃描，能夠 =同 時間，從而能夠縮短作業時間(tac叫的一耗的 另外’圖12〜圖15中，表示了進行4次 方向的~描崎描整個基板1關子，但掃^次數並^ 祕此，也可以進行3次以下或5次以上基板Μ 的掃描以掃描整個基板丨。 向 根據以上說明的實施方式，由於在夾盤10上設置CCD 相機51，在光束照射裝置2〇的頭部2〇a與CCD相機Μ =間配置設有檢查用圖案2a的標線片2，將檢查用的描繪 資料供給至光束照射裝置2〇的DMD驅動電路27，藉由 CCD相機51來獲取標線片2的檢查用圖案2a的圖像及從 光束照射裝置照射的光束的像2C，從由CCD相機51所獲 取的標線片2的檢查用圖案2a的圖像及光束的像2C中， 檢測光束的位置偏移，以檢測光束的變形，由此，無須實 際上進行基板的曝光，可容易地檢測從光束照射裴置2〇 照射的光束的變形。而且，藉由從標線片2的檢查用圖案

S 24 201248338 4iy/4pif 像2e中制光束的位置偏移，能夠使 ==線片2的檢查用圖案㈣精度良好地檢測光 束的位置偏移’從而能夠精度良好地檢測光束的變形。並 i推基：„的檢測結果，對曝光用的描綠資料的座 二=並供給至光束照射裝置20的DMD驅動電路 ’由此’能_制從光束騎裝置 形，從而能夠提高描綠精度。 綱〇光束的免 位晋標線片2的位置偏移進行檢測，並對光束的 2偏移的檢測結果進行修正，由此能夠提高衫的位置 光=:結果的精度，從而能夠進-靖良好地檢測 藉由^本發明的曝錄置或曝光方法來進行基板的 *:提束照射裝置照射的光束的變形，從而 ^夠“鱗精度，因此能夠製造高品質的顯示用面板基 、A ft，圖16是表示液晶顯示器裝置的TFT基板的製 例的流程圖。在薄膜形成工程(步驟1〇1)中， 广賤鐘(S_er)法或等離子體化學氣相沉積 動用的透明電極的導電體膜或絕緣體膜等的=為= =ί=ΐ(Γ^2)中，借由滾塗法等來塗佈光阻劑， 在薄膜形虹程（步驟1G1)中所形成的薄膜上= 劑膜。在曝光工程（步驟⑽）+，使用曝光裝置 阻劑膜上形成圖案。在顯紅程（步驟 t 25

201248338 * L· ^ I 將顯影液供給Μ,上，以 去除九卩細的多餘部分。在韻刻工程（ 借由濕由式蝕刻（_⑽㈣）來將在 驟 除。在剝離工程(步驟106)中，以去 工程（步驟1G5)巾完成了鮮作㈣光㈣^以剝^刻 ^所述各工程之前或之後，根據f要來實施基板的清洗/

乾無工程。將這些工程重複多次’在基板上軸聊 (array) 〇 J 而且’圖17是表示液晶顯示器裝置的彩色渡光器基板 的製造工程的-綱流程圖。在黑矩陣⑴缝贈⑻形 成工程（步驟201)中，借由抗钱劑塗佈、曝光、顯影、 名虫刻、剝離等的處理來在基板上形成黑矩陣。在著色圖案 形成工程（步驟202)中，借由染色法或顏料分散法等^ 在基板上开>成著色圖案。針對r、G、B的著色圖案而重 複該工程。在保護膜形成工程（歩驟203)中，在著色圖 案上形成保遵膜’在透明電極膜形成工程（步驟204)中， 在保護膜上形成透明電極膜。在所述各工程之前、中途或 之後，根據需要來實施基板的清洗/乾燥工程。 在圖16所示的TFT基板的製造工程中，可將本發明 的曝光裝置或曝光方法適用於曝光工程（步驟103);在圖 17所示的彩色濾光器基板的製造工程中，可將本發明的曝 光裝置或曝光方法適用於黑矩陣形成工程（步驟201)及 著色圖案形成工程（步驟202)的曝光處理。

S 26 201248338 、，本發明的曝絲置的檢查方法是_夾盤來支樓塗佈 有光阻劑的基板，使夾盤與光束照射I置相對移動，光束 照射裝置具有㈣光調彻、轉電路以及包含照射光學 系統的頭部’所述空間光調繼對光束物調制，所述驅 動電路基於描㈣料來驅動空間_制器，所述照射光學 系統照射經空間光調制器調制後的光束， 射裳置的光束掃描基板，以在基板上描^ 置的檢查方法中，在爽盤上設置第,圖像=裝= 束照射裝置的頭部與第1圖像獲取裝置之間，配置設有檢 查用圖案的標線片，將檢查用的描繪資料供給至光束照射 裝置的驅動電路，藉由第1圖像獲取裝置，獲取標線片的 檢查用圖案的圖像及從光束照射裝置照射的光束的像，從 由第1圖像獲取裝置所獲取的標線片的檢查用圖案的圖像 及光束的像中’檢測光束的位置偏移。無須實際上進行基 板的曝光’而可容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的 變形。而且’藉由從標線片的檢查用圖案的圖像及光束的 像中檢測光束的位置偏移’可使用向精度的標線片的檢查 用圖案來精度良好地檢測光束的位置偏移，從而可精度良 好地檢測光束的變形。 進而，本發明的曝光裝置的檢查方法中，在標線片上 設置多個位置確認用圖案’且设置多個第2圖像獲取裝 置，所述多個第2圖像獲取裝置獲取標線片的多個位置; 認用圖案的圖像，從由多個第2圖像獲取裝置所獲取的標 線片的多個位置確認用圖案的圖像中，檢測標線片的位置 27 201248338 ，移’以對光束的位置偏移的檢測結果進行修正。藉由對 ^線片的位置偏移進行檢測，以對光束的位置偏移的檢測 結果進行修正’從而能夠提高光束的位置偏移的檢測結果 的精度’從而能夠進一步精度良好地檢測光束的變形。 【圖式簡單說明】 圖1是表示本發明的一實施方式的曝光裝置的概略結 構的圖。 圖2是本發明的一實施方式的曝光裝置的侧視圖。 圖3是本發明的一實施方式的曝光裝置的正視圖。 圖4是表示光束照射裝置的概略結構的圖。 圖5是表示DMD的反射鏡部的一例的圖。 圖6是說明鐳射測長系統的動作的圖。 圖7是表示描繪控制部的概略結構的圖。 圖8是說明本發明的一實施方式的曝光方法的圖。 圖9是說明本發明的一實施方式的曝光方法的圖。 圖10是說明本發明的一實施方式的曝光方法的圖。 圖11 (a)是標線片的底視圖，圖^ (b)是檢查用圖 案群的一例的放大圖’圖11 (c)是表示檢查用圖案的圖 像與光束的像的一例的圖。 圖12是說明藉由光束來掃描基板的圖。 圖13是說明藉由光束來掃描基板的圖。 圖14是說明藉由光束來掃描基板的圖。 圖15是說明藉由光束來掃描基板的圖。 圖16是表示液晶顯示器裝置的tft基板的製造工程 的一例的流程圖。

28 S 201248338 41924pif 圖17是表示液晶顯示器裝置的彩色濾光器基板的製 造工程的一例的流程圖。 【主要元件符號說明】 1 :基板 2 :標線片 2aG :檢查用圖案群 2a :檢查用圖案 2b :位置確認用圖案 2c :光束的像 3 底座 4 X導執 5 X平臺 6 Y導軌 7 Y平臺 8 :Θ平臺 10 :夾盤 10a :切口部 11 :門閘 20 :光束照射裝置 20a :頭部 21 :鐳射光源單元 22 :光纖 23 :透鏡

24、25a :反射鏡 25 ： DMD 29 201248338 26 :投影透鏡 26a :大四角 27 : DMD驅動電路 31、 33 :線性尺規 32、 34 :編碼器 40 :鐳射測長系統控制裝置 41 :鐳射光源 42、 44 :鐳射干涉儀 43、 45 :條狀反射鏡 50 :圖像處理裝置 51、52 : CCD 相機 51a :小四角 53 :標線片架 60 :平臺驅動電路 70 :主控制裝置 71 :描繪控制部 72、76 :記憶體 73 :帶寬設定部 74 :中心點座標決定部 75 :座標決定部 77 :描繪資料製作部 78 :座標運算部 dX、dY :位置偏移量 W :帶寬 X、Y、Z、Θ :方向

Claims (1)

1. 201248338 41924pif 七、申請專利範圍： 1、一種曝光裝置，包括： 夾盤’支撐塗佈有光阻劑的基板； 光束照射裝置，具有空間光調制器、驅動電路以及包 含照射光學系統的頭部，所述空間光調制器對光束進行調 制，所述驅動電路基於描繪資料來驅動所述空間光調制 器，所述照射光學系統照射經所述空間光調制器調制後的 光束；以及 ^動機構’使所述夾盤與所述光束照射裝置相對移動， 藉由所述移動機構使所述夾盤與所述光束照射裝置相 對移動’藉由來自所述光束照射褒置的光束來掃描所述基 板，以在所述基板上姆圖案’所述曝雜置的特徵在於 包括： ' 〜描綠控制機構，將檢查用的描綠資料及曝光用的描繪 貧料供給至所述光束照射裝置的所述驅動電路； 曰 第1圖像獲取裴置，設在所述夹盤上； 標線片’配置在所述光束照射裝置的 圖像獲取裝置之間，且設有檢查用圖案；以及叹弟1 理裝置’從所述第1圖像獲取裝置所獲取的所 的所述檢查關案的圖像及所縣賴射裝置照 射的光束的像中，檢測光束的位置偏移， 述控制機構將所述檢查用的描繪資料供給至所 ^ϊϋ 所述轉電路，並基於由所述圖像處理 裝置檢_的光束驗置偏移來檢測光束的變形，以對所 31 201248338 "Τΐ^ζ,-τριί 述曝光用的描纟會資料的座標進行修正。 2、 如申請專利範圍第1項所述之曝光裝置，其中， 所述標線片具有多個位置確認用圖案， 所述曝光裝置具備多個第2圖像獲取裝置，所述多個 第2圖像獲取裝置獲取所述標線片的所述多個位置確認用 圖案的圖像， ~ 所述圖像處理裝置從所述多個第2圖像獲取裝置所獲 取的所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像中，^ 測所述標線;i的位置偏移，以對光束的位置偏移的二 果進行修正。 σ 3、 一種曝財法，缝來支#塗佈有光阻劑的基 板， 使所述夾賴絲照錄置㈣移動，所述光束昭 裝置具有"光_1!、驅動電路以及 、 的頭部，所述空間光_器縣束進行調制、，、所述驅動 路基於t繪資料來轉所述空間光調制器，所述照射光 糸統照射㈣述空間光調㈣調制後的光 /所光束照射裝置的光束掃描所述基板， 圖Γ所述曝光方法的特徵在於， 在所述光束‘裝置’ 之間，配置設有檢查用圖= 二述第1圖像獲取裝 驅動=查用的描繪資料供給至所述先束照射裝置的所 S 32 201248338 4iyZ4plf 藉由所遂第i圖像獲取裝置’獲取所述標線片的所述 檢查用圖案的圖像及從所述光束照射裝置照射的光束的 像， 從由所述第1圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所 述檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏 移，以檢測光束的變形， 基於光束變形的檢測結果，對曝光用的描繪資料的座 標進行修正，並供給至所述光束照射裝置的所述驅動電路。 4、 如申請專利範圍第3項所述之曝光方法，更包括： 在所述標線片上設置多個位置確認用圖案， 設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取 裝置獲取所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像， 從由所述多個第2圖像獲取裝置所獲取的所述標線片 的所述多個位置確認用圖案的圖像中，檢測所述標線片的 位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結果進行修正。 5、 一種顯示用面板基板的製造方法，其特徵在於， 使用申請專利範圍1或2所述的曝光裝置來進行所述 基板的曝光。 6、 一種顯示用面板基板的製造方法，其特徵在於， 使用申請專利範圍3或4所述的曝光方法來進行所述 基板的曝光。 光阻7劑的綠置麟查紐，利⑽s來支撐塗佈有 裝置====動包含=: 33 201248338 的頭部’所述空間光調制器對光束進行調制，所述驅動電 路基於描繪資料來驅動所述空間光調制器，所述照射光學 系統照射經所述空間光調制器調制後的光束， 藉由來自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板，以 在所述基板上描繪圖案，所述曝光裝置的檢查方法的特徵 在於， 在所述夾盤上設置第1圖像獲取裝^置， 在所述光束照射裝置的頭部與所述第1圖像獲取裝置 之間，配置設有檢查用圖案的標線片， 將檢查用的描繪資料供給至所述光束照射裝置的所述 驅動電路， 藉由所述第1圖像獲取裝置，獲取所述標線片的所述 檢查用圖案的圖像及從所述光束照射裝置照射的光束的 像， 從由所述第1圖像獲取裝置所獲取的所述標線片的所 述檢查用圖案的圖像及光束的像中，檢測光束的位置偏 移，以檢測光束的變形。 8、如申請專利範圍7所述之曝光裝置的檢查方法，更 包括： 在所述標線片上設置多個位置確認用圖案， 設置多個第2圖像獲取裝置，所述多個第2圖像獲取 裝置獲取所述標線片的所述多個位置確認用圖案的圖像， 從由所述多個第2圖像獲取裝置所獲取的所述標線片 的所述多個位置確認用圖案的圖像中，檢測所述標線片的 位置偏移，以對光束的位置偏移的檢測結果進行修正。 S 34