TW201245408A - Electronic device - Google Patents

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201245408 六、發明說明： · 【相關申請案資料】 本專利申請案依據35 U.S.C. § 119(e)主張於 2011 月8日中請之美國臨時專射請案第61/473,323號 之優先權，其以引用方式完整併人本文作參考。 【發明所屬之技術領域】 本文一般係關於有機電子裝置。 【先前技術】 士f如有機發光二極體(OLED)等構成OLED顯示器 之電'舌性電子裝置中’將有機活性層夾在OLED靡 =中的兩個電接觸層間。在一議中，在施加一電 等電接觸層時，該有機電活性層發射光，穿過 該透光電接觸層。 =所皆知’使財機電致發光化合 金屬錯合物已經使^齡子、共絲合物及有機 $用電活性材料之襄置常包括一或多個電荷傳輸 入接觸：二電活性(如發光)層與一接觸層（電洞注 入接觸層）間。一裝署a 置了包含兩個或多個接觸層。一電 ί洞二接活性層與該電洞注入接觸層間。該 該電活傳輸層可位於 ==。。電荷傳輸材料亦可用作與該卿 201245408 對用於電子襄置之新材料與組成物仍持續有需求0 【發明内容】 本發明提供一種電子I置，其包括❺電接觸層及^ ;丨於其間之光活性層，其中該光活性層實質上係由一具 有式I之化合物所組成：

其中： R1至R8在每次出現時係相同或不同，且係選自由 Η、D、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基矽氧烷 及矽基所組成之群組；

Afl及Af2係相同或不同，且係選自由芳基基團所 組成之群組；以及

Ar3及Ar4係相同或不同，且係選自由h、d及芳 基基團所組成之群組。 前述一般性描述及以下詳細描述僅為例示性及說 明性的，且不限制如隨附申請專利範圍所定義之本發 201245408 ^ 【實施方式】 _ 上述所描述的各種態樣與實施例僅為例示性且非 限制性。在閱讀本說明書後，熟習此項技術者瞭解在不 偏離本發明之範疇下，亦可能有其他態樣與實施例。 根據下述之詳細說明與申請專利範圍，易使該等實 施例中之一個成多個實施例的其他特徵及益處更加彰 顯。本實施方式先提出術語的定義及闡明，接著是光活 性層、電子裝置，而最終為實例。 1.術語的定義和闡明 在提出下述實施例之細節前，先對某些術語加以定 義或闡明。 術語「院基」意指一衍生自脂族烴的基團。在某此 實施例中，烷基具有1至個碳原子》 〜 術語「芳基J意指一衍生自芳族烴的基團。術語「〜 族化合物」意指一包含至少一個具有未定位π電子之= 飽和環狀基團的有機化合物。該術語係旨在涵蓋具 原子及氫原子㈣族化合物和其中在環狀基團内= 或多個碳原子被另U，如氮、氧、硫或類似者置: 的雜環方族化合物兩者。在某些實施例中，、 至30個碳原子。 土、有4 傳輸材财助於負電荷。雖騎騎料也能具ί某】 傳輪材斜右肋助於正電荷；電子 電 201245408 ' 声 何傳輪性質，# d「 並非旨在荷傳輸層、材料、構件或結構」 構。q主要功能為發光的-層、材料、構件或結 扭Γ t 氘化」意指至少一個H已被D所置換。 ;中^ =:」係指一化合物或基團之結構‘ 化類=，該㈣在至少為自然豐;或氣 術摻雜劑」意指位於包含一主體材料 射一^料，與不存有此種材料之層的電子特性或輻^ 性咬4:波之波長相比，該材料改變該層之電子特 r生1射發射、接收或遽波的目標波長。 竹 性有電活性」指一層或材料時’該術語意指電 有助於裝置運作的—層或材料。電活性材料之 ，但=限於料、注人、傳輸或遮斷電荷之材料，其中 錢荷可為電子或電洞，或包括接受H射時發出輕射或 展現電子之濃度變化之材料。惰崎料之實^ 包括但不限於平坦化材料、絕緣材料及環境阻障材料γ 術語「電致發光(electr〇iuminescence)」係指來自一 材料之光發射，該發射係響應一流經此材料之電流。「電 致發光(electroluminescent)」係指具有電致發光能力之 一材料。 術語「發光最大值」意指所發光之輻射的最大強 度。發光最大值具有一對應的波長。 術語「稠合芳基」係指一具有兩個或多個芳族稠環 的芳基基團。 201245408

劑的材料，通常係為一層的形式。 該主體材料可具有或 子被一不同原与取 、N、S或其組合。 一摻雜 不具有電子躲或發射、魏或過$_的能力、。 讲银Γ麻 η以一「一 一·· 術語「層」及術語「臈」可替換地使用，且指被覆 所要區域之塗層。該術語不受尺寸料卜魏域可與一 整個裝置-樣大或與—特定功能區域（例如實際視覺顯 示器）一樣小，或者與一單一次像素一樣小。可藉由任 何習知沉積技術，包括氣相沉積、液相沉積（連續及不 連續技術)及熱傳遞，來形成層及膜。液相沉積技術包 括但不限於旋轉塗佈、凹印塗佈、簾塗佈、浸塗、狹縫 模具式塗佈、喷塗及連續喷嘴塗佈、喷墨印刷、凹印印 刷及網版印刷。 術語「有機電子裝置」或有時候僅以「電子裝置」 表示，意指一包括一或多個有機半導體層或半導體材料 的裝置。 術語「光活性」指一在以外加電壓活化時發光（例 如在一發光二極體或化學電池中）的材料，或在有或無 外加偏壓下響應輻射能並產生訊號（例如在一光偵測器 中）的材料。 術語「矽氧烷」指(RO)3Si-基團，其中R為H、D、 C1-20烷基或氟烷基。 術語「矽基」指基團-SiR3，其中R在每次出現時 為相同或不同並且為一烷基基團或一芳基基團。 201245408 、 ， · 字首「雜」表示一或多個碳原子被一不 ，二在某些實施例中，該不同原子為N、〇或s'。、字首 「氟」表不一或多個氫原子被一氟原子置換。子 除非另有指明，否則所有的基團皆可為未經取 為另有指明’否則所有的基團於可能的情 I下白可為直鍵、支鏈或環狀。在某些實施例中，該取 代基為D、燒基、院氧基、芳基、梦基或石夕氧燒。/ 如本文所用之術語「包含」、「包括」、「具有」或苴 任何其他變型意欲涵蓋非排他性的包括物。例如，含& 清單列出的複數元件的一製程、方法、製品或裝置不一 定僅限於清單上所列出的這些元件而已，而是可以包括 該製程、方法、製品或裝置未明確列出或固有的其他元 件。本文所揭露之標的之另一實施例係描述為主要由某 些特徵或元件所組成，其中並不存在會本質上改變該實 施例之操作原理或的區別性特點的特徵或元件。本文所 3己載之4示的之又一實施例係描述為由某些特徵或元件 所組成，在此實施例或其非實質變化中，僅存在明確指 出或描述的特徵或元件。 此外’除非另有明確地相反陳述，否則「或」係指 包含性的「或」，而不是指排他性的「或」。例如，以下 任何一種情況均滿足條件Α或Β:Α是真實的（或存在 的）且Β是虛假的（或不存在的），a是虛假的（或不 存在的）且B是真實的（或存在的），以及a和B都是 真實的（或存在的）。 . 此外’使用「一」或「一個」來描述本文所述的元 件和組件。這樣做僅僅是為了方便，並且對本發明範疇 201245408 k供一般性的意義。除非很明顯地另指他意，否則‘種 描述應被理解為包括一個或至少一個，並且該單數也同 時包括複數。 對應於元素週期表中各欄的族編號使用如匸及匸 o/C/zew⑽P；⑽第 81 版(2000-2001) 中記載之「新符號」慣用語。 本文所使用的所有技術和科學術語具有與本發明 所屬領域中一般技術人員通常理解的含義相同的含 義，除非另行定義。儘管類似或同等於本文所述内容之 方法及材料可用於本發明之實施例的實施或測試，但合 適的方法與材料仍如下所述。除非特別引用一特定段 落，否則此處提及的所有刊物、專利申請案、專利案及 其他參考文獻皆全部併入本文中作參考。在發生矛盾的 情況下，以本說明書（包括定義在内）為準。此外，該 等材料、方法及實例僅係說明性質’而不意欲為限制拘 束。 在本文未描述之範圍内，許多關於特定材料、加工 行為(processing act)及電路的細節係習知的，且可在有 機發光二極體顯示器、光貞測器、光伏打及半導性構件 技術領域的教科書及其他來源中找到。 2.光活性層 在許多習知的裝置中，光活性層包括至少一種發光 摻雜劑材料分散於一或多個主體材料中。本文所述之光 活性層為一單一組分層。具有本文所述之單一組分光活 201245408 ' 參 性層的裝置可具有改善的效率、改善的壽命及改善的色 彩飽和度。 光活性層實質上係由一具有式I之化合物所組成：

其中： R1至R8在每次出現時係相同或不同，且係選自由 Η、D、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、矽氧烷 及矽基所組成之群組；

Ar1及Ar2係相同或不同，且係選自由芳基基團所 組成之群組；以及

Ar3及Ar4係相同或不同，且係選自由Η、D及芳 基基團所組成之群組。 在某些實施例中，具有式I之化合物係經氘化。在 某些實施例中，該化合物係至少10%氘化。這代表至少 10%的Η被D置換。在某些實施例中，該化合物係至少 20%氘化；在某些實施例中，至少30%氘化；在某些實 施例中，至少40%氘化；在某些實施例中，至少5〇%氘 化；在某些實施例中，至少60%氘化；在某些實施例中， 至少70%氘化；在某些實施例中，至少8〇〇/0氘化；在某 201245408 些實施财，至少9()%Μ。 物係100%氣化。 頁q甲錢合 其=b實施例中Hr8之至少-者係選自尸 f8、：氧基、芳基、芳氧基、矽氧烷及矽基，及R1 : R之其餘部分係選自H及D。 至 ^某些實施例中’ R2係選自垸基、燒氧基 方氧基、矽氧烷及矽基。 土 在某些實施例中，R2係選自絲及芳基。 i=:R22係選自拠基及氣化芳基。 化若in係選自具有至少1崎化的氖 例中，R2係選自具有至少20%氣化 $在某些實施例中’至少30%氛化;在某也 某些實施例中，至少6崎化；在某些實= 至^〇%%化；在某些實施财，至少游 ^某^實施例中，至少9叫化。在某些實施例’2 係選自具有100%氘化的氘化芳基。 在式I的某些實施例中，&!至Ar4之至少— 氘化芳基。 节马 在某些實施例中，Ar3與Ar4係選自D與說化芳基。 在某些實施例中，Ari及Ar2係選自由苯基、萘基、 菲基、蒽基、咔唑基、二苯基咔唑基、苯并呋喃、二笨 并°夫味及其氣化類似物所組成之群組。 在某些實施例中，Ar1及Ar2係選自由苯基、萘基 及其氘化類似物所成之群組。 201245408 在某些實施例中，Ar3及Ar4係選自由苯基、萘基、 菲基、恩基、苯基伸萘基、萘基伸苯基、咔唑基、二苯 基味嗤基、苯并料、二苯并料ϋ化類似物以及 一具有式π之基團所組成之群組：

其中： R在每次出現時係相同或不同，且係選自由H、D、 烷基、烷氧基、矽氧烷及矽基所組成之群組， 或可將相鄰r9基聯集在一起以形成一芳族 環；以及 在某些實施例中， m在每次出現時為相同或不同’且為1至6之整數。 本基伸秦基、秦基伸苯基 III之基團所組成之群組：

Ar3及Ar4係選自由苯基、萘基、 基、其氘化類似物以及一具有式

13 201245408 其中R9及m如前述式Π所定義。在某些實施例中，，出 為1至3之整數。 在某些實施例中，八1^至Ar4之至少一者為雜芳基。 在某些實施例中，該雜芳基係經氘化。在某些實施&例 中，該雜芳基係選自咔唑、苯并呋喃、二苯并呋 氘化類似物。 ' 在不彼此互斥的情形下，上述實施例之任一者可與 一或多個其他實施例結合。 ' 具有式I之化合物可藉由已知的偶合及取代反應製 備。氘化類似物化合物可藉由使用氘化前驅物材料的類 似方法製備，或更概略來說，在一路易士酸H/D交換催 化劑（例如二氣化銘或氣化乙基銘）或酸（例如 CFsCOOD、DC1等等）的存在下，以氘化溶劑（例如 d6-苯）處理未氘化化合物而製備之。例示性製備方法 可見實例。氘化程度可藉由NMR分析或質譜法確認 之’例如大氣壓力固態分析探針質譜法。 具有式I之化合物的某些非限制性實例如下。 化合物E1 :

14 201245408

化合物E3 :

化合物E4 :

化合物E5 :

15 201245408 化合物E6 :

化合物E7 :

化合物E8 :

其中，x + y + z + p + n= 1-30 化合物E9 : 16 201245408

其中，x + y + z + p + n + r= 1-32 化合物E10 :

其中，x + y + z + p + n= 1-18 化合物Ell :

其中，x + y + z + p + n + q= 1-34 17 201245408 化合物E12 :

其中，x + y + z + n= 1-18 化合物E13 :

όχ όζ 其中，x + y + z + p + n= 1-28 化合物E14 :

化合物E15 : 201245408 v ·

D7 Dg 其中「D/H」表示H或D在此原子位置的可能性約 略相等 化合物E16 :

化合物E17 :

19 201245408 化合物E18 :

化合物E19 :

3.電子裝置 能受益於具有本文中所述之光活性層的有機電子 裝置包括但不限於，（1)轉換電能為輻射的裝置（例如發 光二極體、發光二極體顯示器、二極體雷射、發光照明 器具或照明面板）、（2)使用電子學方法偵測信號的裝置 (例如光偵測器、光導電池、光敏電阻、光控開關、光 電晶體、光電管、紅外線(IR)偵測器或生物感測器）、（3) 201245408 轉換輻射為電能的裝置（例如光伏裝置或太陽能電 池）、一(4)包括-或多個之包含—或多層有機半導體層之 電子元件的裝置（例如電晶體或二極體）或上述⑴至 之裝置的任一種組合。 在某些實施例中’一種有機發光裝置包括： 一陽極； 一電洞傳輸層； 一光活性層； 一電子傳輸層；以及 一陰極； 其中該光活性層實質上係由上述具有式丨之化合物所組 成。 上述實施例、具體實施例及實施例之組合中任一種 式I所示之化合物皆可用於裝置中。 有機電子裝置結構之態樣如圖i所示。該裝置 ⑽具有-第-電接觸層、一陽極層11〇與一第^接 =層、-陰極層⑽及-介於其間的光活性層14〇 者可為-電職人層12G。鄰接該電洞注入層 降極者ΤΙ傳輸層130，其包含電洞傳輸材料。鄰接該 =極者可為—電子傳輸们5G，其包含—電 之額It要而定’裝置可使用一或多個緊鄰該陽極110 額外電洞注入或電洞傳輸層（圖未示）及/ 個^該陰極16G之額外電子注人或電子傳輸層（圖^ 層U0至層150個別地及統稱為活性層。 201245408 在某些實施例中’該光活性層係經像素化，如•圖2‘ 所示。在裝置200中’將層140劃分成在該層上重複的 像素或次像素單元141、142及143。每一像素或次像 素單元代表一種不同的顏色。在某些實施例中，該等次 像素單元係紅色、綠色及藍色。雖然圖中顯示三種次像 素單元，但亦可使用兩種或超過三種。 在一實施例中’不同的層所具有的厚度範圍如下·· 陽極110為500-5000 A，在一實施例中為1000-2000 A; 電洞注入層120為50-3000 A，在一實施例中為200-1000 A ;電洞傳輸層130為50-2000 A，在一實施例中為 200-1000 A ;光活性層140為10-2000 A，在一實施例 中為100-1000 A ;層150為50-2000 A，在一實施例中 為 100-1000 A ;陰極 160 為 200-10000 A，在一實施例 中為300-5000 A。每一層之相對厚度可影響電子·電洞 再結合區在裝置中的位置，及因而影響該裝置之發射光 譜。所需之層厚度比例將取決於所用材料之實際性質。 取決於裝置100的應用，該光活性層140可為一由 外施電壓活化的發光層（例如在一發光二極體中或發光 電化電池中），或為一在具有或不具有一外施偏壓下回 應輻射能量及產生信號之材料層（例如在一光偵測器 中）。光偵測器之實例包括光導電池、光敏電阻器、光 控開關、光電晶體、光電管及光伏電池，此等術語描述 於 John Markus 所著之五/ec卜M/c/eomcs

DzWowizry 中第 470 頁及第 476 頁（McGraw-Hill, Inc.出 版，1966 年）。 22 201245408 a. 光活性層 光活性層實質上係由上述一具有式Z之化合物所組 成。 在某些實施例中，該具有式I之化合物具有一深藍 光發射(deep blue emission)。「深藍光」係意指420-475 nm的發光波長。這是有利的且可得以藉由色座標進行 深飽和藍色的發光。 在某些實施例中，該光活性層之發光顏色具有小於 〇_1〇 的 y 座標，根據 C.I.E.色度（Commission Internationale de L’Eclairage，1931)。在某些實施例中， y座標小於0_7。X座標之範圍為0.135-0.165。 可使用任何已知作成層的方法形成該光活性層。 在某些實施例中’係藉由液相組成物的液相沉積來 形成該光活性層，如下所述。 在某些實施例中’該光活性層係藉由氣相沉積形 成。 b. 其他裝置層 在該裝置中之其它層可以由有用於這樣的層之任 何已知材料所製成。 合物或其混合物。適合的金屬包括第 至6族金屬與第8至1〇 的’則可使用第12族、 該陽極11〇係對於注入正電荷栽子特別有效的電 極。其可由例如含有金屬、混合金屬、合金、金屬氧化 物或混合金屬氧化物的材料所製成，或其可為導電性聚 11族金屬、第4

23 201245408 金屬氧化物。適合材料的實例包括但不限於氧化ia錫 (“ιτο”）、氧化銦鋅(“IZ0”）、氧化鋁錫(“AT〇”）、氧化鋁 鋅(“azo”)及氧化锆錫(“ζτσ>陽極11〇亦可包括一有 機材料’例如聚苯胺，其係記載於「Flexible light-emitting diodes made from soluble conducting polymerj Nature vol. 357, pp 477-479 (11 June 1992) 〇 在某些實施例中，該陽極包括一氟化酸聚合物及導電奈 米粒子。此等材料已記載於例如美國專利第7,749,4〇7 號中。陽極與陰極之至少一者理想上為至少部分透光 者，以利於觀察所產生的光。 §亥電洞注入層120包括電洞注入材料，且可在一有 機電子裝置内具有一或多個功能，其包括但不限於，使 其下之層平坦化、電荷傳輸及/或電荷注入特性、像氧 或金屬離子之雜質的清除以及其他有助於增進或改善 該有機電子裝置之性能的功能。電洞注入材料可為聚合 物、寡聚物或小分子。其可為氣相沉積或由溶液、分散 液、懸浮液、乳化液、膠體混合物或其他組成物形式之 液體予以沉積。 該電洞注入層可用聚合材料如聚苯胺(PANI)或聚 伸乙二氧嗟吩(PEDOT)加以形成，該等聚合材料經常摻 雜有質子酸。質子酸可以是例如聚（苯乙烯磺酸）、聚(2_ 丙烯酿胺基-2-甲基-1-丙續酸)及類似者。 該電洞注入層可包括電荷傳輸化合物及類似者，如 銅酞青（copper phthalocyanine)與四硫雜富瓦烯_四氰寬 對酿二 甲烧系 24 201245408 (tetrathiafulvalene-tetracyanoquinodimethane TTF-TCNQ)。 在某些實施例中，該電洞注入層包括至少一導電聚 合物及至少一氟化酸聚合物。此等材料已記載於例如已 公開之美國專利申請案US 2004/0102577、US 2004/0127637、US 2005/0205860 及已公開之 PCT 申請 案 W0 2009/018009 中。 在某些實施例中，該電洞注入層包括一氟化酸聚合 物及導電奈米粒子。此等材料已記載於例如美國專利第 7,749,407 號中。 舉例而言，用於層130之電洞傳輸材料的實例已概 述於 Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology， Fourth Edition，Vol. 18, p. 837-860, 1996, by Y. Wang。電 洞傳輸分子及聚合物兩者皆可使用。一般使用的電洞傳 輸分子為：二苯基-Ν,Ν’-雙(3-甲基苯基)-[1，1，-聯苯 基]-4,4’-二胺(TPD)、1，1-雙[(二-4-曱苯基胺基)苯基]環 己烷(TAPC)、Ν，Ν··雙(4-甲基苯基)-Ν，Ν·-雙(4-乙基苯 基)-[1，Γ·(3,3·-二甲基)聯苯基]-4,4'-二胺(ETPD)、四-(3-甲基苯基)->^,1^,1^’-2,5-苯二胺(?0八）、3-苯基-4->^-二苯基胺基苯乙烯(TPS)、對-(二乙基胺基)苯曱醛二苯 腙(DEH)、三苯胺(ΤΡΑ)、雙[4-(Ν,Ν-二乙基胺基)·2-甲 基苯基](4-甲基苯基）甲烷(MPMP)、1-苯基-3-[對-(二乙 基胺基）本乙稀基]-5-[對-(二乙基胺基）苯基]α比嗤淋 (PPR 或 DEASP)、1,2-反-雙（9Η-咔唑-9·基）環丁烷 (DCZB)，Ν，Ν，Ν',Ν’-四（4-甲基苯基)-(1，Γ-聯苯基)_4,4'-二胺(ΤΤΒ)、Ν，Ν，-雙（萘-1-基)-Ν，Ν，-雙·(苯基）聯苯胺 25 201245408 (α-ΝΡΒ)及紫質化合物，例如銅酞青。一般常用之*電洞 傳輸聚合物為聚乙烯咔唑、（苯基曱基)_聚矽烷及聚苯 胺。藉由將上述的電洞傳輸分子摻雜至例如聚苯乙烯及 聚碳酸酯之聚合物中，亦可能獲得電洞傳輸聚合物。在 某些情況中，係使用三芳胺聚合物，特別是三芳胺_苐 共聚合物。在某些情況中，該等聚合物及共聚合物係可 交聯的。在某些實施例中，該電洞傳輸層進一步包括一 Ρ型摻雜劑。在某些實施例中，該電洞傳輸層係摻雜有 一 Ρ型摻雜劑。ρ型摻雜劑的實例包括但不限於四氟四 氰寬對醒二甲烷（F4-TCNQ)及茈·3,4 91〇_四羧 -3,4,9，10_KPTCDA)。 可用於層150之電子傳輸材料之實例包括但不限 於金屬螯合類【口 +咢】辛化合物，包含金屬喹啉衍生 物，例如三(8-羥基喹啉)銘(AIQ)、雙(2_甲基-8_啥琳)(對 -苯基苯酚)鋁(BAIq)、四-(8-羥基喹啉)铪(HfQ)及四_(8_ Μ基啥琳）錯 (ZrQ);以及σ坐化合物，例如2_(4_聯苯 基)-5-(4-第二丁基苯基)-ΐ，3,4-【π +号】二峻(pbd)、3-(4_ 聯本基)-4-苯基-5-(4-第三丁基苯基)_1,2,4-三唾(丁八2)及 二(苯基-2-苯井味*»坐)苯(TPBI);啥【口+号】你衍 生物，例如2,3-雙(4-氟苯基)喹【口 +号】啉；啡啉，例 如4,7- —苯基-1，10-啡琳(DPA)及2,9-二甲基·4 7-二苯基 琳(DDPA);及其混合物。在某些實施例中，該 電子傳輸層進一步包括一 η型摻雜劑。n型摻雜劑材料 係為已知。η型摻雜劑包括但不限於第丨及2族金屬； 第1及2族金屬鹽’如LiF、CsF以及Cs2C03 ;第1及 2族金屬有機化合物’例如喧咐經；及η型分子摻雜劑， 26 201245408 例^^料二^錯合物（例如％_4，其 -1，3,4,6,7,8_六氫抓錢師，2卯 四硫稠四苯、雙(乙烯二硫代)_丄密啶及-戊鈷）、 m ““灿Γ 硫雜富瓦烯、雜環自由 „由基及雜環自由基或雙自由基之二聚 物、聚合物、二螺環化合物及多環。 1 該陰極160係-電極，其對於注入電子或 子而言特職減率。雖極可叫 纽= 更低之功函㈣金屬或非金屬。用於陰極财= 第1族驗金屬（如1^、⑶、第2族（驗土）金屬= 12族金屬，包括稀土元素及鑭系元素與⑽元素。可 使用例如1S、銦、㉖、鋇、釤和鎂以及其組合的材料。 2可在有機層及陰極層之間沉積含u有機金屬化合 LiF、Li20、含Cs有機金屬化合物、CsF、Cs2〇及

Cs2C03’以降低操作錢。此層可稱為—電子注入層。 已知可在有機電子襄置中具有其它層。例如，在續 陽極no和電洞注入層12〇之間可具有一層(圖未示)了 以調控所注入之正電荷的量’及/或提供該等層之帶隙 匹配(band-gap matching)，或者作為一保護層。可使用 本技術領域巾已知之層，例如舰青、氮氧切、氟碳 化物m例如Pt之超薄金屬層。或者，可對陽極 ^ 110、活性層120、130、140、150或陰極層16〇之部 分或全部進行表面處理，以增加電荷載子傳輸效率。每 -，成層的材料選擇，較佳係藉由平衡射極層中的正負 電荷來決定，以提供具有高電致發光效率的裝置。 應理解各功能性層可由多於一層所構成。 27 201245408 C.裝置製造 裝置之層可利用任何沉積技術形成，或利用不同技 術的組合形成，包括氣相沉積、液相沉積及熱傳。可使 用例如玻璃、塑膠及金屬的基材。可使用例如熱蒸鍵、 化學氣相沉積與類似者之習用氣相沉積技術。可使用習 用的塗佈或印刷技術，自合適溶劑中的溶液或分散液施 用有機層，該等技術包括但不限於旋轉塗佈、浸潰塗 佈、輥對輥技術、喷墨印刷、連續喷嘴印刷、網版印刷、 凹版印刷及類似者。 在某些實施例中，用於製造一有機發光裝置之方法 包括： 提供一基材’於其上具有一圖案化陽極； 沉積一實質上係由（a) —具有式I之化合物以及(b) 一液體媒介所組成之第一液體組成物以形成一 光活性層；以及 形成一陰極罩衣(cathode overall)。 術語「液體組成物」包括其巾—衫材料係 於液體媒介而形成之溶液、其中—或多材料係經 介分散而形成之分散體、或其中—或多材料係 、 介懸浮形浮液或乳狀液之。 在某些實施例中，該製程進一步包含： 在形成該光活性層之前先形成一電洞注入層，其 傳輸層係藉由沉積一第二液體J成物而 2银該第二液體組成物包括一電洞傳輸材料 於一第二液體媒介中。 在某些實施例中，該製程進一步包含： 28 201245408 在形成該光活性層之前先形成一電洞傳輸層，其中 該電洞傳輸層係藉由沉積一第三液體組成物而 形成，該第三液體組成物包括一電洞傳輸材料 於一第三液體媒介中。 在某些實施例中，該製程進一步包含： 在形成該光活性層之後形成一電子傳輸層，其中該 電子傳輸層係藉由沉積一第四液體組成物而形 成，該第四液體組成物包括一電子傳輸材料於 一第四液體媒介中。 在某些實施例中，用於製造一有機發光裝置之方法 包括： 提供一基材，於其上具有一圖案化陽極； 於該陽極上形成一電洞注入層，其中該電洞傳輸層 係藉由沉積一第二液體組成物而形成，該第二 液體組成物包括一電洞傳輸材料於一第二液體 媒介中 於該電洞注入層上形成一電洞傳輸層，其中該電洞 傳輸層係藉由沉積一第二液體組成物而形成， 該第二液體組成物包括一電洞傳輸材料於一第 二液體媒介中 沉積一實質上係由（a) —具有式I之化合物以及(b) 一液體媒介所組成之第一液體組成物以於該電 洞傳輸層上形成一光活性層；以及 形成一陰極罩衣(cathode overall)。 於本文中，「在上」表示一層之相對位置，但不必 然代表其存在直接接觸。在第一層上的第二層可直接位 29 201245408 於第層上且與其接觸，或者第二層可位於在第」及第 一層之間的一或多個中介層之一者上。 可使用任-種已知的液相沉積技術或其組合來形 成該光活性層，包括連續式及非連續式技術^液相沉積 技術的實地括但秘於旋轉塗佈、凹印塗佈、簾幕塗 佈、改塗、狹縫模具式塗佈、噴、塗、連續喷嘴印刷、喷 墨印刷、凹版印刷及網版印刷。在某些實施例中，係利 7選自連射嘴印刷及喷騎刷之方法將光活性層形 。儘管喷嘴印刷可視為—種連續式技術，但可只 2嘴放在用於形成層的特定區域上來形成圖案。舉例 而吕’可形成連續列的圖案。 可於'讀之歡絲性組成物的適合液體媒介 中，、較理相^有通常知識者所輕易確認。在某些應用 水性溶劑可被容劑中。此等非 相對非極二類= 化口物，例如甲苯、二甲苯、三 .製備包含該新賴化合物之： =:=:或::液)氣的苯，但不限於氣化 或未取代之甲苯或二甲苯，族烴(例如取代 =娜HF)、”基…_Mp))、醋類 戊二芳：酿7類(例如異丙醇)、_ (例如環 = _)、、芳_或其任域合物。祕發光材 利申請案第扇_747^於例如已公開之美國專 201245408 在沉積後，將材料乾燥以形成層。可使用任一種傳 統的乾燥技術，包括加熱、真空或其組合。 在某些實施例中，藉由液相沉積該電洞注入層、該 電洞傳輸層及該光活性層與氣相沉積該陽極、該電子傳 輸層、該電子注入層及該陰極以製造該裝置。 實例 此處所描述的概念將以下列實例進一步說明之，該 等實例不限制申請專利範圍中所描述發明之範疇。 合成實例1 此實例說明化合物E1之製備。

可根據下列方法製備此化合物： 31 201245408

化合物2之合成： 將溶於1.5 L無水二氯甲烷的54 g (275.2 mmol)蒽 酮添加至設有機械式攪拌器、滴液漏斗、溫度計及n2 起/包器的3 L燒瓶中。在冰浴中冷卻燒瓶，並藉由滴液 漏斗歷時15小時滴加83.7 ml (559.7 mmol)的1，8-二吖 雙環[5.4.0]十一-7-烯(“dbU”）。溶液轉橙色並變的不透 明，之後轉深紅色。在靜置的冷卻溶液中，藉由注射器 歷時約15小時加入58 ml (345.0 mmol)的三氟曱續酸 針’並維持溶液溫度低於5°C。於室溫進行反應3小時， 之後加入1 mL的額外三氟甲磺酸酐，並持續在室溫攪 拌30分鐘。緩緩加入5〇〇 mL的水，並使層分離。以3x 200 mL的二氣甲烷(“dcm”)沖洗水層，並將合併之有機 物質用硫酸鎂乾燥、過濾並去除以得到紅色的油。 將該紅色的油於DCM中取起、以梦膠吸收並乾 燥。將其施用至矽膠墊上，並依序使用數公升的淨己烷 及3 L的95/5己烷/DCM進行沖提。收集數份沖提物並 32 201245408 以己烷43.1 g, (43%)進行再結晶。利用NMR確認產物 及其純度。 化合物3之合成： 在設有攪拌棒且置於氮氣填充手套箱的200 mL Kjeldahl反應燒瓶中，加入蒽_9_基三氟甲磺酸(6.0 g, 18.40 mm〇i)、萘_2·基硼酸(3 I g 22.1 mmol)、磷酸三 卸(17.50 g，82.0 mmol)、醋酸纪(II) (0.41 g, 1.8 mmol)、 三環己基膦(0.52 g, 1.8 mmol)及THF (100 mL)。在從乾 燥箱中移出後，將反應混合物以氮氣吹洗，並將除氣水 (50 mL)以注射器加入其中。之後添加冷凝器並使反應 回流過夜。進行TLC。於完成後，將反應混合物冷卻至 室溫。將有機層分離，並以DCM萃取水層。將有機部 分合併、用鹽水沖洗並以硫酸鎂乾燥。於減壓條件下去 除溶劑。以丙酮與己烷沖洗所得固體並過濾之。以管枉 層析法純化以得到4.03 g (72%)的產物，其為淡黃色結 晶狀材料。 化合物4之合成： 將 11.17 g (36_7 mmol)的 9·(蔡-2-基)蒽懸浮於 1〇〇 mL DCM中。加入6.86 g (38.5 mmol)的N-漠琥珀醯亞 胺，並於100 W燈的照明下攪拌混合物。會先形成黃色 澄清溶液，之後發生沉澱。在約1.5小時後進行TLC， 85/10/5 Hex/EtOAc/DCM顯示反應完畢。去除部分 DCM，並加入熱乙腈直到開始沉澱。加入少量DCM以 33 201245408 於溫熱條件下恰好溶解沉澱物，之後將溶液冷卻以$寻到 淡黃色晶體。產率=12.2 g (87%) 化合物7之合成： 在設有攪拌棒且置於氮氣填充手套箱的5〇〇 mL圓 底燒瓶中’加入萘-1_基_1_硼酸(14.2 g，82.6 mmol)、1-溴-2-埃苯(25.8 g，91.2 mmol)、四（三苯基膦)把(〇) (1.2 g， 1.4 mmol)、碳酸鈉(25.4 g，240 mmol)及甲苯(120 mL)。 從乾燥箱中移出後，將反應混合物以氮氣吹洗，並將除 氣水(120 mL)以注射器加入其中。裝上冷凝器並使反應 回流15小時。進行TLC顯示反應完畢。將反應混合物 冷卻至室溫。將有機層分離，並以DCM萃取水層。將 有機部分結合’並於減壓條件下去除溶劑以得到黃色的 油。使用矽膠及10% DCM/己烷藉由管柱層析法純化。 於高度真空下進行乾燥以得到澄清的油，13.6 g (%)。 化合物6之合成： 在設有磁性攪拌器、連接至氮氣管線的回流冷凝器 及油浴的1公升燒瓶中，加入4-溴苯基-1·萘(28.4 g，10.0 mmol)、雙(頻哪醇)二硼(4〇_8g, 16.0mmol)、Pd(dppf)2Cl2 (1_64 g，2_0 mmol)、醋酸鉀(19.7 g，200 mmol)及 DMSO (350 mL)»以氮氣將混合物起泡15分鐘，之後加入 Pd(dppf)2Cl2 (1.64 g，0.002 mol)。其間，混合物逐漸轉 成深褐色。於氮氣中在120°C (油浴）攪拌反應18小 時。於冷卻後，將混合物倒入冰水中，並以氯仿(3χ)萃 取。將有機層以水(3χ)及飽和鹽水(lx)沖洗，並以MgS04 34 201245408 — 4 乾燥之°在過濾並移除溶劑後，使用矽膠管柱並利用己 烷/氯仿梯度（19:1、2:8、5:5及〇:1〇)作為沖提液，以層 析法純化殘餘物。將含有產物的部分合併，並以旋轉蒸 發法移除溶劑。使用己烷/氣仿對所得白色固體進行結 晶’並於真空烘箱中在4〇«c進行乾燥，以獲得產物’ 其為白色結晶狀片體（15.0 g，產率45%)。1H及 13C_NMR光譜與所預期的結構相符。 化合物E1之合成： 於手套箱内的250 mL燒瓶中，加入(2.00 g，5.23 mmol) 4,4,5,5-四甲基-2-(4-(萘-4-基）苯基)-l，3,2-二【口 + 咢】硼烷（1·90 g，5.74 mmol)、三(二亞苄基丙酮）二鈀(〇) (0.24笆，0.26 111111〇1)及甲苯(5〇1111^)。自乾燥箱移出，並 裝上氮氣進氣口及冷凝器。利用注射器加入除氣碳酸鈉 水溶液(2 M, 20 mL)。將反應攪拌並加熱至90C過夜。 LC顯示反應完畢。冷卻至室溫並分離有機層。以dcm 沖洗水層兩次。將有機層合併並移除溶劑以得到灰色粉 末。利用DCM將其過濾通過中性礬土。在移除溶劑後， 可得到極淡黃色固體。再次於DCM中取起DCM並於 己烷中沉澱。於高度真空下乾燥之。使用矽膠並利用氣 仿/己烧梯度沖提來藉由管柱層析法進一步純化該材 料，以得到產物，其為白色粉末，2.28 g (86%)。 進一步純化所得之產物，如在已公開之美國專利申 請案第2008-0138655號中所述般’以達到至少99.9% 的HPLC純度且雜質吸光度不大於0.01。 35 201245408 合成實例2 此實例說明化合物E15之合成。

於氮氣環境中，將AICI3 (0.48 g，3.6 mm〇i)添加至 化合物El (5 g，9.87 mmol)的全氘化苯或笨_〇6 (C6D6) (100 mL)溶液中。於室溫攪拌所得混合物六小時，之後 添加D20 (50 mL)。使層分離’之後以CH2C12 (2x30 mL；) 沖洗水層。將合併之有機層以硫酸鎂乾燥之，並以旋轉 蒸發法移除揮發物質。以管柱層析法純化粗產物。獲得 氘化產物（即化合物E15) (4.5 g)，其為白色粉末。 將產物進一步純化，如描述於已公開之美國專利申 請案第2008-0138655號中所述者，以達到至少99.9% 的HPLC純度且雜質吸光度不大於0.01。此材料經測定 具有如同以上中間物1之相同純度程度。該結構藉由4 NMR，13C NMR、2D NMR 與1H-13C HSQC (Heteronuclear Single Quantum Coherence)所確認。 合成實例3 36 201245408 此實例說明主體化合物的製備，即後述之主體。

於500 mL圓底燒瓶中，加入4,4^二漠-1，Γ-聯萘 (4.12 g, 10 mmol)、3-(萘-1-基)苯基硼酸(5.21 g, mmol)、 碳酸納(2 M，30 mL, 60 mmol)、甲苯（120 mL)及 Aliquat 336 (0.5 g)。將混合物於氮氣下攪拌20分鐘。之後，加 入四（三苯膦）（462 mg，0.4 mmol)，並將混合物於氮氣下 再攪拌15分鐘。攪拌反應並使其於氮氣中於95°C的油 浴下回流18小時。在冷卻至環境溫度後，可見到某些 固體的形成，使用過濾法收集這些固體。分離有機相， 以水(60 mL)、稀釋HC1 (10%，60 mL)及飽和鹽水(60 mL) 沖洗’並以MgS〇4乾燥之。以矽膠塞過濾溶液，並以 旋轉蒸發法移除溶劑。利用己烷將先前收集的固體磨 碎，將其過濾並與液體部分的殘餘物結合。將材料再溶 解於DCM/己烷中’並通過矽膠管柱，再以DCM/己燒 沖提。收集含有產物的沖提部分，並以旋轉蒸發法移除 溶劑。利用甲苯/Et0H將產物結晶兩次以獲得產物，其 為白色結晶狀材料，產率為2.60 g (39.52%)。NMR光 譜與該結構相符。 合成實例4 37 201245408 以已公開之PCT申請案WO 2009/067419所記^的 方法合成下述電洞傳輸化合物HT-1、HT-2及HT-3。 HT-1

HT-i可含有至多2G%的第二異構物，其中星號代表連 接點：

c8h17 201245408 - 丨 , HT-2可含有至多20%的第二異構物：

ΗΤ-3 ΗΤ-3可含有至多20%的第二異構物：

39 201245408 其他材料 ’ HLN1為一氟化磺酸聚合物摻雜的導電聚合物。此種材 料已記載於例如已公開之美國專利申請案us 2004/0102577、US 2004/0127637、US 2005/0205860 及已公開之PCT申請案WO 2009/018009中。 ET-1為啡琳衍生物。 ET-2為金屬喹啉化合物。

裝置實例1及比較實例A至B 此等實例說明OLED裝置的製造及效能，此等 0LED裝置具有一光活性層，其實質上由化合物E15所 組成。對於比較實例而言，化合物E15以主體化合物内 的摻雜劑形式存在。 該裝置在一玻璃基材上具有下列結構： 陽極=銦錫氧化物(ITO)，50 nm 電洞注入層=HIJ-1 (50 nm)。 電洞傳輸層可見於表1 (20 nm)。 光活性層係如表1 (40 nm)中所示。 電子傳輸層=ET-1 (10 nm)。 電子注入層/陰極=CsF/Al (0.7(如沉積)/100 nm)。 結合使用溶液處理法及熱蒸鍍技術來製造OLED 裝置。使用圖案化之氧化銦錫(ITO)被覆的玻璃基材， 其係得自Thin Film Devices，Inc。此等ITO基材係基於 塗布有ITO之Coming 1737玻璃，其具有30歐姆/平方 的薄片電阻及80%的光透射率。在水性清潔劑溶液中超 音波式地清潔該等圖案化之ITO基材，並以蒸餾水加以 201245408 汉/閏。隨後，在丙酮中超音波式地清潔該圖案化之 ITO，以異丙醇加以浸潤之，然後在氮氣流中乾燥。

就在要製造該裝置前，以UV臭氧處理該等已清潔 之圖案化ITO基材1〇分鐘。於冷卻之後，隨即在該ιτο 表面上焚轉塗布之水性分散液，然後再加熱以移 除溶劑。在冷卻之後，用一電洞傳輸材料之溶液旋轉塗 佈該等基材，然後加熱去除溶劑。在冷卻後，用一該光 活性層材料之苯曱酸曱酯溶液旋轉塗佈該等基材，=加 熱去除溶劑。遮罩該等基材，並將其放入—真空室中。 藉由熱蒸鍵法沉積該電子傳輸層，接著是一 CsF屛。 著在真空中更換遮罩，並藉由熱蒸鑛法沉積一 A1声。 ，該真空室排氣，及使卜賴蓋、乾_Uu^固 化環氧化物封裝該等裝置。 U 量測下列數據來描述OLED樣本之特徵. 味 電壓(mo曲線、（2)電致發光輕射強度對電壓及 發光光譜對電壓。以上三侧量皆於同時間執^電致 :電腦調控。該裝置在某一特定電壓處的電流：率並: 韁由將LED之電致發光輻射強度除以該裝置運 '、 之電流密度而得。其單位為cd/Α。結果如表2所示所需 -1¾% Λ

光活性層比為重量比 表1.裝置材料 電洞傳輸層 HT-1 HT-2 HT-2 ~

41 201245408 表2.裝置之結果值 實例 C.E. (cd/A) e.q.e (%) V PE. (lm/W) CIEx CIEY T50 化合物A 1 1.9 5.3 0.5 0.15 0.061 96 化合物B 0.8 1.7 5.3 0.4 0.151 0.050 24 1 2.4 3.9 3.6 1.9 0.151 0.063 394 所有結果皆於1000 nits下，除非另有指明。 C E.-電流效率；V =於150 mA/cm2下之電壓；P.E.=功率效率；CIEX 及 CIEY 為根據 c.i.e.色度（Commission Internationale de L'Eclairage, 1931)之x及y色座標；T5〇為裝置達到二分之一初始亮度所需時間， 以小時計。 由表中可發現，若使用本文所述之光活性層，則效 率及壽命皆可提升。 裝置實例2至7 此等實例說明OLED裝置的製造及效能，此等 OLED裝置具有一光活性層，其實質上由化合物e15所 組成。 該裝置在一玻璃基材上具有下列結構： 陽極=銦錫氧化物(ITO)，50 nm 電洞注入層=HIJ_1 (52nm)。 電洞傳輸層可見於表3 (20 nm)。 光活性層=E15 (40 nm)。 電子傳輸層如表3 (10 nm)所示。 電子注入層/陰極=CsF/Al (0.7(如沉積)/100 nm) 42 201245408 ^ * , 如裝置實例1所述般製造及測試OLED裝置。結果 如表4所示。 表3.裝置材料 裝置實例 電洞傳輸層 電子傳輸層 2 HT-1 ET-1 3 HT-3 ET-1 4 HT-2 ET-1 5 HT-1 ET-2 6 HT-3 ET-2 7 HT-2 ET-2 表4.裝置之結果值 實例 C.E. (cd/A) E.Q.E (%) V P.E. (lm/W) CIEx CIEY T50 2 3.4 3.4 3.4 2.9 0.149 0.119 2958 3 2.5 2.5 4.0 2.2 0.149 0.069 638 4 2.3 2.3 3.8 1.8 0.151 0.066 277 5 2.1 2.1 2.2 1.3 0.148 0.112 2417 6 0.6 0.6 1.0 0.4 0.151 0.069 216 7 0.3 0.3 0.4 0.2 0.156 0.079 19 所有結果皆於1000 nits下，除非另有指明。 C.E.=電流效率；V =於150 mA/cm2下之電壓；P.E.=功率效率；CIEX 及 CIEY 為根據 C.I.E.色度（Commission Internationale de L’Eclairage， 1931)之x及y色座標；T50為裝置達到二分之一初始亮度所需時間， 以小時計。 應留意的是，並非上文一般性描述或實例中所述之 動作都是必要的，特定動作之一部分可能並非需要的， 並且除了所描述之動作外，可進一步執行一或多個其他 43 201245408 動作。此外， 次序。 所列動作之次序不必然是執行該等步驟之 在上述朗中，已描述關於特定實施例之概念。坎 ，技術領域中具有通f知識者應理解，在不偏離下^ =4專利範圍所提出之本發明的範♦下，可進行各式修 訂和變更。因此’應將本說明書朗式視為說明性而非 限制性之觀念，且所有這類修改皆意欲涵括於本發明 範鳴中。 刖文已針對特定實施例之效益、其他優點及問題解 決方案加以闡述。然而，不可將效益、優點、問題解決 方案以及任何可使這些效益、優點或問題解決方案更為 突顯的特徵解讀為是任何或所有專利申請範圍之關 鍵、必需或必要特徵。 應當理解為了清楚說明起見’本文所述之各實施例 内容中的某些特徵，亦可以組合之方式於單獨實施例中 加以提供。反之，為了簡明扼要之故，本說明書所描述 各別實例之各種特徵亦可以分別提供，或以任何子組合 的方式提供。此外，範圍内描述的數值包括所述範圍内 的各個及每個值。 【圖式簡單說明】 實施例係說明於所附圖式中’以增進本文中所呈現 之概念的理解。 圖1包括一例示性有機裝置之說明。 圖2包括一例示性有機裝置之說明。 44 201245408 熟習此項技術者應瞭解，圖式中之物件係為達成簡 單及清楚之目的而說明，且不一定按比例繪製。例如， 在該等圖式中，某些物件的尺寸相對於其他物件可能有 所放大，以有助於對實施例的暸解。 45 201245408 【主要元件符號說明】 100.. .裝置 110·· .陽極層 120.. 電洞注入層 130.. 電洞傳輸層 140.· 光活性層 150.. 電子傳輸層 160·· 陰極層 200·. 裝置 141.· 次像素單元 142·· 次像素單元 143·. 次像素單元 46

Claims (1)

1. 201245408 七、申請專利範圍·· 1. 一種電子裝置，包括兩電接觸層及一介於其間之光活性 層’其中譚光活性層實質上係由一異有式I之化合物所組 成：

   其中： R至R8在每次出現時係相同或不同’且係選自由Η、 D、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、矽氧烷及矽基 所組成之群組； Ar及Ar2係相同或不同，且係選自由芳基基團所組成 之群組；以及 Ar及Ar4係相同或不同，且係選自由η、D及芳基基 團所組成之群組。 2.如請求項1所述之裝置，其中該具有式丨之化合物係至少 10%氛化。 3.如請求項1所述之裝置，其中…至以之至少一者係選自 炫基、燒氧基、芳基、芳氧基、石夕氧貌及石夕基。 47 201245408 4. 如請求項i所述之裝置，其中R2係選自烷基、烷氧基、 芳基、芳氧基、矽氧烷及矽基。 5. 如請求項i所述之裝置，其中Ar1及Ar2係選自由苯基、 萘基、菲基、蒽基及其氘化類似物所組成之群組。 6·如請求項1所述之裝置’其中Ar3及Ar4係選自由苯基、 萘基、菲基、忽基、苯基伸萘基、萘基伸苯基、其気4化類 似物以及一共有式II之基團所組成之群組：

   其中： R9在每次出現時係相同或不同，且係選自由Η、D、烷 基、烷氧基、矽氧烷及矽基所組成之群組，或可將 相鄰R9基聯集在一起以形成一芳族環；以及 m在每次出現時為相同或不同，且為1至6之整數。 7.如請求項1所述之裝置，其中該具有式I之化合物係選自 由化合物E1至化合物E15所組成之群組： 化合物E1 : 48 201245408

   化合物E2 :

   化合物E3 :

   化合物E4 :

   49

   201245408 化合物E5 : 化合物E6 : 化合物E7 : 化合物E8 :

   50 201245408

   其中，x + y + z + p + n= 1-30 化合物E9 :

   其中，x + y + z + p + n + r= 1-32 化合物E10 :

   其中，x + y + z + p + n= l-18 化合物Ell : 51 201245408

   其中，x + y + z + p + n + q= 1-34 化合物E12 :

   其中，x + y + z + n= l-18 化合物E13 :

   其中，x + y + z + p + n= 1-28 化合物E14 : 52 \ 201245408 »

   化合物E15 :

   d7 d8 其中的「D/Η」表示Η或D於此相同原子位置大約相等之 可能性。 53