201226596 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 [0001] 本發明涉及一種真空鍍膜件及其製造方法，尤其涉及一 種具有藍色與金屬質感的真空鍍膜件及其製造方法。 【先前技林ί】 [0002] 隨著科技的不斷進步，手機、個人數位助理（PDA，Personal Digital Assistant)、 及電腦等各式電子裝置 亦迅速發展，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的 外殼具有豐富色彩，傳統上可利用彩色塑膠形成彩色塑 0 膠外殼，或藉由喷漆方式在電子裝置的外殼表面形成色 料層。然而，塑膠外殼與喷漆外殼不能呈現良好的金屬 質感。雖然以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度 ' 、高耐磨性、良好的化學穩定性、與基體結合牢固以及 亮麗的金屬外觀等優點，但由於真空鍍膜技術本身較為 複雜而不易精密操控，且習知技術中於外殼表面形成的 金屬真空鍍膜層的色彩有限。與烤漆、陽極處理等工藝 相比，真空鍍膜層的顏色不夠豐富，限制了其在裝飾鍍 〇 膜領域的競爭力。 【發明内容】 [0003] 有鑒於此，本發明提供一種具有藍色及金屬質感的真空 鍍膜件。 [0004] 另外，本發明還提供一種上述真空鍍膜件的製造方法。 [0005] —種真空鍍膜件，包括基體、結合層以及色彩層，所述 結合層形成於基體的表面，所述色彩層形成於結合層的 表面。所述色彩層為A1-N膜，該色彩層呈現的色度區域 099144583 表單編號A0101 第3頁/共12頁 0992077063-0 201226596 於CIE LAB表色系統的L*座標值介於48至83之間，a*座 標值介於~12至-5之間，b*座標值介於-45至-17之間。 [0006] [0007] [0008] [0009] [0010] [0011] [0012] 099144583 一種真空鍍膜件的製造方法，其包括如下步驟： 提供基體； 在該基體表面磁控濺射色彩層，磁控濺射所述色彩層的 工藝參數為：以鋁乾為靶材，以氮氣為反應氣體’其流 量為25~l〇〇sccm ;所述色彩層為A1-N膜’所述色彩層呈 現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於48至 83之間’ a*座標值介於-12至-5之間，b*座標值介於-45 至7之間. 所述真空鍍膜件的製備方法，在形成色彩層時，採用鋁 靶作為靶材，藉由對反應氣體氮氣的流量的控制，從而 實見所需的色彩層中各成分的比例關係及各成分間的微 觀鍵合結構，從而達到使色彩層呈現出藍色的目的。以 該方法所製得的真空鍍膜件可呈現出具吸引力的藍色的 金屬外觀’豐富了真空鍍膜層的顏色，大大地提高了產 品的外觀競爭力。 【實施方式] 本發明的真空鍍膜件可為電子裝置外殼，亦可為眼鏡邊 框、鐘錶外殼、金屬衛浴件及建築用件。 /閱圖1，本發明提供一真空鍵膜件1 Q，該真空鍍膜件 10包括基體11、結合層13及色彩層15。該結合層13設置 於基體11的表面，該色彩層15設置於結合層13的表面。 體11可為金屬材料或玻璃、塑膠等非金屬材料。 0992077063-0 _丨 帛4頁/共12頁 201226596 [0013] 結合層13以磁控濺射的方式形成於基體丨丨的表面。該結 合層13為鋁金屬膜，其厚度在20〇~4〇〇nm之間。該結合 層13的顏色為不影響色彩層顏色的淺色調，比如可為銀 色 '白色及灰白色等淺色調。 [0014] 色彩層15為A1-N膜，其以磁控濺射的方式形成。該色彩 層15的厚度在600〜800nm之間。該色彩層15由肉眼直觀 呈現出藍色’其呈現的色度區域於Cie LAB表色系統的 L*座標值介於48至83之間，a*座標值介於-12至-5之間 ’ b*座標值介於-45至-17之間。
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[0015] 本發明還提供了上述真空破膜件1 〇的製造方法包括以下 步驟： , [0016]提供基體11。該基體11可為金屬材料或玻璃、塑膠等非 金屬材料。 [0017] 對該基體11進行預處理。該預處理可包括常規的對基體 11進行化學除油、除蠟、酸洗、超聲波清洗及烘乾等步 驟。 ◎ [0018] 對基體11的表面進行電漿清洗，進一步去除基體11表面 的油污’以改善基體11表面與後續塗層的結合力。對基 體11的表面進行電漿清洗的方法包括如下步驟：將基體 11放入一磁控濺射鍍膜機的鍍膜室内的轉架上，對該鍍 膜室進行抽真空處理至真空度為3xlO_5Torr，以 300~600sccm (標準狀態毫升/ min)的流量向鑛膜室内 通入純度為99. 999%的氬氣，調節偏壓至-150〜-800V， 對基體11表面進行電漿清洗，清洗時間為3~l〇min。 099144583 表單編號A0101 第5頁/共12頁 0992077063-0 201226596 [0019] [0020] [0021] [0022] 099144583 在基體11的表面形成結合層13。該結合層13為鋁金屬膜 ，其可採用磁控濺射的方式形成。形成該結合層13的具 體操作方法可為：在所述電漿清洗完成後，以氬氣為工 作氣體，調節其流量至280〜370sccin，加熱該鍍膜室至 100°c左右，開啟已置於磁控濺射鍍膜機中的鋁靶的電源 ，設置其功率為8〜10kw，對基體11施加-10 — 350V的偏 壓’佔空比為40〜60%，並設置轉架的公轉轉速為3轉每 rain(revolution per minute，rpm)，沉積結合層 13 。沉積所述結合層13的時間可為10~20min。 在該結合層1 3的表面形成色彩.層15。在本發明的較佳實 施例中，形成色彩層15的具體操作方法可為：在沉積所 述結合層13後’向所述磁控減射鍵膜機中通入反應氣體 氮氣及工作氣體氬氣，並設定氬氣的流量為 350~420sccm、氮氣的流量為25〜lOOsccm ;設置銘乾電 源功率為8〜12kw，調節施加於基體11的偏壓至— 10~-350V、佔空比為40〜60%，轉架的公轉轉速為3轉每 min(revolution per minute，rpm)，沉積所述色彩 層15。沉積色彩層15的時間可為20〜60miη。 該色彩層15為Α1-Ν膜，其於CIE LAB表色系統的L*座標 值介於48至83之間，a*座標值介於-12至-5之間，b*座 標值介於-45至-17之間。 上述真空鍍膜件的製造方法，藉由對反應氣體氮氣氣體 的流量控制來改變色彩層15的成分，即改變色彩層丨5中 鋁原子與氮原子的比例，從而達到使色彩層15呈現出藍 控制氮原子與 0992077063-0 色的目的。同時，藉由選擇合適的偏壓 表單編號A0101 第6頁/共12頁 201226596 鋁原子的沉積速率，可增強色彩層15的緻密性。另外， 選擇合適的氮氣及氬氣的流量與偏壓，能夠保證較高的 沉積速率，還可提高該真空鍍膜件10的生產效率。 [0023] 下麵藉由實施例來對本發明進行具體說明。 [0024] 實施例1 [0025] (1)鍍膜前處理 [0026] 採用丙酮對基體11進行超聲波清洗大約5min。 [0027] 將清洗好的基體11放入磁控濺射鍍膜機的鍍膜室内的轉 架上。對基體11的表面進行電漿清洗。對鍍膜室進行抽 真空處理至真空度為3x10 5Torr，氬氣流量為500sscm ，施加基體11的偏壓為-150V，該電漿清洗時間為lOmin 。本實施例所使用的磁控濺射鍍膜機為南方創新公司生 產，型號為SM-1100H-D。 [0028] (2)磁控濺射形成結合層13 [0029] 在所述電漿清洗完成後，以氬氣為工作氣體，調節其流 〇 量至280sccm，加熱該鍍膜室至100°C，開啟已置於磁控 濺射鍍膜機中的鋁靶的電源，設置其功率為8kw，對基體 11施加-250V的偏壓，佔空比為40%，並設置轉架的公轉 轉速為3rpm，沉積結合層13。沉積所述結合層13的時間 為15miη。 [0030] (3)磁控濺射形成色彩層15 [0031] 在沉積所述結合層13後，向所述磁控濺射鍍膜機中通入 反應氣體氮氣及工作氣體氬氣，並設定氬氣的流量為 099144583 表單編號Α0101 第7頁/共12頁 0992077063-0 201226596 36〇sccm、氮氣的流量為35sccm ;設置鋁把電源功率為 8kw ’調節施加於基體π的偏壓至_25(^、佔空比為5〇 % ，轉架的公轉轉速為3rpm，沉積所述色彩層15。沉積色 彩層15的時間可為35min。 [0032] [0033] [0034] [0035] [0036] [0037] [0038] [0039] 該色彩層15為A1-N膜，其於CIE LAB表色系統的L*座標 值為48 ’ a*座標值為-5. 2 ’ b*座標值為-18。 實施例2 U)鍍膜前處理 採用丙酮對基體11進行超聲波清洗大約5min。 將清洗好的基體11放入磁控濺射鍍瞑機的鍍膜室内的轉 架上。對基體Π的表面進行電漿清洗。對鍍膜室進行抽 真空處理至真空度為3x10 —5T〇rr，氬氣流量為5〇〇sscm ，施加基體11的偏壓為-20〇V，該電漿清洗時間為1〇min 。本實施例所使用的磁控濺射鍍膜機為南方創新公司生 產’型號為SM-1100H-D。 (2) 磁控濺射形成結合層13 在所述電漿清洗完成後，以氬氣為工作氣體，調節其流 量至32〇SCCm，加熱該鍍膜室至15〇。(：，開啟已置於磁控 濺射鍍臈機中的鋁靶的電源，設置其功率為9kw，對基體 11施加-350V的偏壓，佔空比為5〇%，並設置轉架的公轉 轉速為3 rPm，沉積結合層13。沉積所述結合層13的時 間為 2Onii η。 (3) 磁控濺射形成色彩層15 099144583 表單編號Α0101 第8頁/共12頁 0992077063-0 201226596 [0040] 在沉積所述結合層13後，向所述磁控濺射鍍膜機中通入 反應氣體氮氣及工作氣體氬氣，並設定氬氣的流量為 41 0seem、氮氣的流量為55sccm ;設置銘乾電源功率為 8kw，調節施加於基體11的偏壓至-350V、佔空比為60% ，轉架的公轉轉速為3 rpm，沉積所述色彩層15。沉積色 彩層15的時間為35min。 [0041] 該色彩層15為A1-N膜，其於CIE LAB表色系統的L*座標 值為55，a*座標值為-7，b*座標值為-33。 【圖式簡單說明】 〇 [0042] 圖1為本發明較佳實施例的真空鍍膜件的結構示意圖。 【主要元件符號說明】 [0043] 真空鍍膜件：10 [0044] 基體：11 [0045] 結合層：13 [0046] 色彩廣：1 5 〇 099144583 表單編號A0101 第9頁/共12頁 0992077063-0