TW201309151A

TW201309151A - 殼體及其製作方法

Info

Publication number: TW201309151A
Application number: TW100117133A
Authority: TW
Inventors: Hsin-Pei Chang; Wen-Rong Chen; Huann-Wu Chiang; Cheng-Shi Chen; Cong Li
Original assignee: Hon Hai Prec Ind Co Ltd
Priority date: 2011-05-13
Filing date: 2011-05-17
Publication date: 2013-02-16
Also published as: CN102774072A

Abstract

一種殼體，該殼體包括基體、結合層以及色彩層，所述結合層形成於基體的表面，所述色彩層形成於結合層的表面，所述色彩層為Ti-O-N膜，該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。本發明還提供一種上述殼體的製作方法。該殼體呈現出橙紅色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色。

Description

殼體及其製作方法

本發明涉及一種殼體及其製作方法。

隨著科技的不斷進步，行動電話、個人數位助理等各式電子裝置也迅速發展，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統上可利用彩色塑膠形成彩色塑膠外殼，或藉由噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。然而，塑膠外殼與噴漆外殼不能呈現良好的金屬質感。另一方面，由於真空鍍膜技術本身較為複雜而不易精密操控，習知技術中於殼體表面形成的金屬真空鍍膜層的色彩有限，與烤漆、陽極處理等工藝相比，真空鍍膜層的色彩不夠豐富，嚴重影響了其在裝飾鍍膜領域的競爭力。

有鑒於此，本發明提供一種具有橙紅色及金屬質感的殼體。

另外，本發明還提供一種上述殼體的製作方法。

一種殼體，包括基體、結合層以及色彩層所述結合層形成於基體的表面，所述色彩層形成於結合層的表面，所述色彩層為Ti-O-N膜，其中鈦的质量百分含量為85%-92%，氧的质量百分含量係在4%-6%，氮的质量百分含量係在2%-11%，該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。

一種殼體的製作方法，其包括如下步驟：

提供基體；

在該基體的表面磁控濺射結合層；

在該結合層的表面磁控濺射色彩層，磁控濺射所述色彩層以鈦為靶材，以氧氣及氮氣為反應氣體，氧氣的流量為8-15sccm，氮氣的流量為30~42sccm；所述色彩層為Ti-O-N膜，其中鈦的质量百分含量為85%-92%，氧的质量百分含量係在4%-6%，氮的质量百分含量係在2%-11%，所述色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。

所述殼體的製備方法，在形成色彩層時，採用鈦靶作為靶材，籍由對反應氣體氮氣和氧氣的流量的控制，實現所需的色彩層中各成分的比例關係及各成分間的微觀鍵合結構，從而達到使色彩層呈現出具有金屬光澤的橙紅色目的。以該方法所製得的殼體可呈現出具吸引力的橙紅色的金屬外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產品的外觀競爭力。

請參閱圖1，本發明一較佳實施例的殼體10以一手機殼體為例加以說明。該殼體10包括基體11、結合層13及色彩層15。該結合層13設置於基體11的表面，該色彩層15設置於結合層13的表面。

基體11為可以為金屬材料或玻璃、塑膠等非金屬材料。

參閱圖2，提供一鍍膜機100，該鍍膜機100包括一鍍膜室20及連接於鍍膜室20的一真空泵30，真空泵30用以對鍍膜室20抽真空。該鍍膜室20內設有轉架(未圖示)、中心對稱設置的鈦靶22，轉架帶動基體11沿圓形的軌跡21公轉，且基體11在沿軌跡21公轉時亦自轉。

結合層13以磁控濺射的方式形成於基體11的表面。該結合層13為鈦金屬膜，其厚度在0.1~0.2μm之間。

該結合層13的顏色為不影響色彩層15顏色的淺色調，比如可為銀色、白色及灰白色等淺色調。

色彩層15為Ti-O-N膜，其以磁控濺射的方式形成。該色彩層15的厚度在0.3~0.5μm之間。該色彩層15呈現出橙紅色，其中Ti的質量百分含量為85%-92%，O的質量百分含量係在4%-6%，N的質量百分含量係在2%-11%，其呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。

請一併參閱圖1與圖2，本發明殼體10的製作方法包括以下步驟：

提供基體11。該基體11可以為鋁、鋁合金、不銹鋼等金屬材料或玻璃、塑膠等非金屬材料。

對該基體11進行預處理。該預處理可包括常規的對基體11進行化學除油、除蠟、酸洗、超聲波清洗及烘乾等步驟。

在基體11的表面形成結合層13。該結合層13為鈦金屬膜，其可採用磁控濺射的方式形成。形成該結合層13的具體操作方法可為：將基體11固定於鍍膜機100的轉架上，抽真空該鍍膜機100至3×10^-5Torr，並加熱該基體至120℃左右，通入流量為400~450sccm（標準狀態毫升/分鐘）的氬氣；開啟鈦靶22的電源，設定鈦靶22的電源功率為8~10kw，對基體11施加150~200V的偏壓，並設置轉架的公轉轉速為2.5~3.5轉/每分鐘(revolution per minute，rpm)，沉積所述結合層13。沉積所述結合層13的時間可為5~10分鐘。

在該結合層13的表面形成色彩層15。在本發明的較佳實施例中，形成色彩層15的具體操作方法可為：在沉積所述結合層13後，向所述鍍膜機中通入氧氣與氮氣（反應氣體），其中氧氣的流量介於8~15sccm，氮氣的流量介於30~42sccm；設定鈦靶22電源功率為8~12kw，於基體11施加0~250V的偏壓，轉架的公轉轉速為2.5~3.5轉每分鐘(revolution per minute，rpm)，沉積所述色彩層15。沉積色彩層15的時間可為20~60分鐘。

該色彩層15為Ti-O-N膜，其於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。

本發明殼體10可為筆記型電腦、個人數位助理等電子裝置的殼體，或為其他裝飾類產品的殼體。

相較於現有技術，所述殼體10的製備方法，係籍由對靶材的選取及對反應氣體氧氣和氮氣流量的設計，該色彩膜屬於金屬陶瓷類薄膜，從而可以使色彩層15呈現出金屬質感的橙紅色。

應該指出，上述實施方式僅為本發明的較佳實施方式，本領域技術人員還可在本發明精神內做其他變化。這些依據本發明精神所做的變化，都應包含在本發明所要求保護的範圍之內。

10．．．殼體

11．．．基體

13．．．結合層

15．．．色彩層

100．．．鍍膜機

20．．．鍍膜室

21．．．軌跡

22．．．鈦靶

30．．．真空泵

圖1係本發明較佳實施例的殼體的剖視示意圖。

圖2係圖1產品的製作過程中所用鍍膜機俯視示意圖。

10．．．殼體

11．．．基體

13．．．結合層

15．．．色彩層

Claims

一種殼體，包括基體、結合層以及色彩層，所述結合層形成於基體的表面，所述色彩層形成於結合層的表面，其改良在於：所述色彩層為Ti-O-N膜，其中Ti的質量百分含量為85%-92%，O的質量百分含量係在4%-6%，N的質量百分含量係在2%-11%，該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。
如申請專利範圍第1項所述之殼體，所述結合層為鈦金屬膜，其厚度為0.1~0.3μm。
如申請專利範圍第1項所述之殼體，所述色彩層厚度為0.3~0.5μm。
如申請專利範圍第1項所述之殼體，所述基體為金屬、玻璃或塑膠。
一種殼體的製作方法，其包括如下步驟：
提供基體；
在該基體的表面磁控濺射結合層；
在該結合層的表面磁控濺射色彩層，磁控濺射所述色彩層以鈦為靶材，以氧氣及氮氣為反應氣體，氧氣的流量為8~15sccm，氮氣的流量為30~42sccm；所述色彩層為Ti-O-N膜，其中Ti的質量百分含量為85%-92%，O的質量百分含量係在4%-6%，N的質量百分含量係在2%-11%，所述色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標值介於42至55之間，a*座標值介於5至18之間，b*座標值介於6至15之間。
如申請專利範圍第5項所述之殼體的製作方法，形成該結合層的工藝參數為：設置鈦靶的電源功率為11-14kw，對基體施加的偏壓為150~200V，鍍膜時間為30~50分鐘。
如申請專利範圍第5項所述之殼體的製作方法，形成該色彩層的工藝參數為：設置鈦靶的電源功率功率為8-12kw，對基體施加的偏壓為0~250V，佔空比為0~100%，鍍膜時間為20~60分鐘。