TWI471433B - 殼體及其製作方法 - Google Patents

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殼體及其製作方法
本發明涉及一種殼體及其製作方法，尤其涉及一種具有藍色外觀的殼體及其製作方法。
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要藉由陽極氧化、烤漆、烤瓷等工藝製備裝飾塗層。相比這些傳統工藝，PVD鍍膜技術更加綠色環保，且採用PVD鍍膜技術可在產品外殼表面形成具有金屬質感的裝飾色彩層。
然習知技術中，利用PVD鍍膜技術於殼體表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛製備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黑色、藍色等色系，能夠穩定生產的顏色更少之又少。
有鑒於此，本發明提供一種能夠穩定生產的藍色的PVD鍍膜的殼體。
另外，本發明還提供一種上述殼體的製作方法。
一種殼體，其包括基體及形成於基體表面的色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於40至50之間，a*座標介於-25至-15之間，b*座標介於-45至-35之間。
一種殼體的製作方法，其包括如下步驟：
提供一基體；
在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，形成所述色彩層採用磁控濺射法，以錫靶為靶材，以氧氣為反應氣體，控制氧氣的流量為50~150sccm，濺射的溫度為50~100℃；所述色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於40至50之間，a*座標介於-25至-15之間，b*座標介於-45至-35之間。
相較於習知技術，所述殼體的製備方法在形成色彩層時，藉由對靶材的選取、反應氣體氧氣流量的設計和對濺射溫度的控制，從而達到使色彩層呈現藍色的目的。以該方法所製得的殼體可呈現出具有吸引力的藍色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產品的外觀競爭力。
請參閱圖1，本發明一較佳實施例的殼體10包括基體11及形成於基體11表面的色彩層13。
基體11可為金屬、玻璃或陶瓷。
色彩層13可以磁控濺射的方式形成於基體11的表面。該色彩層13為氧化亞錫(SnO)層。該色彩層13的厚度可為200~400nm。該色彩層13由肉眼直觀呈現藍色，而其呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於40至50之間，a*座標介於-25至-15之間，b*座標介於-45至-35之間。
本發明殼體10的製作方法包括以下步驟：
提供一基體11。該基體11可為金屬、玻璃或陶瓷。
將基體11放入無水乙醇中進行超聲波清洗並烘乾備用。
在基體11的表面形成一色彩層13。該色彩層13為氧化亞錫層。該色彩層13採用磁控濺射的方式形成。形成該色彩層13的具體操作方法可為：將基體11固定於一磁控濺射鍍膜機(圖未示)的轉架上，設置轉架的公轉轉速為3rpm(轉/分鐘)，抽真空使該鍍膜機的腔體的真空度為3×10-5 Pa，加熱該腔體使溫度為50~100℃；以錫靶為靶材，開啟錫靶，設定錫靶的功率為8~12kw，設定施加於基體11的偏壓為-250~-500V，佔空比為50~100%；通入反應氣體氧氣，氧氣的流量可為50~150sccm(標準狀態毫升/分鐘)；通入工作氣體氬氣，氬氣的流量可為100~300sccm，沉積所述色彩層13，沉積所述色彩層13的時間可為20~40min。所述色彩層13的厚度可為200~400nm。
該色彩層13於CIE LAB表色系統的L*座標介於40至50之間，a*座標介於-25至-15之間，b*座標介於-45至-35之間。
本發明殼體10可為筆記型電腦、個人數位助理等電子裝置的殼體，或為其他裝飾類產品的殼體。
相較於習知技術，所述殼體10的製備方法在形成色彩層13時，藉由對靶材的選取、反應氣體氧氣流量的設計和對濺射溫度的控制，從而達到使色彩層13呈現藍色的目的。以該方法所製得的殼體10呈現出具有吸引力的藍色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產品的外觀競爭力。
10．．．殼體
11．．．基體
13．．．色彩層
圖1為本發明一較佳實施例殼體的剖視圖。
10．．．殼體
11．．．基體
13．．．色彩層

Claims (8)

  1. 一種殼體，其包括基體及形成於基體表面的色彩層，其改良在於：該色彩層為氧化亞錫層，該色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於40至50之間，a*座標介於-25至-15之間，b*座標介於-45至-35之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之殼體，其中所述色彩層的厚度為200~400nm。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之殼體，其中所述色彩層呈現藍色。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之殼體，其中所述基體為金屬、玻璃或陶瓷。
  5. 一種殼體的製作方法，其包括如下步驟：
    提供一基體；
    在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為氧化亞錫層，形成所述色彩層採用磁控濺射法，以錫靶為靶材，以氧氣為反應氣體，控制氧氣的流量為50~150sccm，濺射的溫度為50~100℃；所述色彩層呈現的色度區域於CIE LAB表色系統的L*座標介於40至50之間，a*座標介於-25至-15之間，b*座標介於-45至-35之間。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之殼體的製作方法，其中形成該色彩層的工藝參數為：真空度為3×10-5 Pa，錫靶的功率為8~12kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100~300sccm，施加於基體的偏壓為-250~-500V，佔空比為50~100%，鍍膜時間為20~40min。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之殼體的製作方法，其中該基體為金屬、玻璃或陶瓷。
  8. 如申請專利範圍第5項所述之殼體的製作方法，其中該色彩層的厚度為200~400nm。
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