CN102477533B - 壳体及其制作方法 - Google Patents

壳体及其制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102477533B
CN102477533B CN201010561023.1A CN201010561023A CN102477533B CN 102477533 B CN102477533 B CN 102477533B CN 201010561023 A CN201010561023 A CN 201010561023A CN 102477533 B CN102477533 B CN 102477533B
Authority
CN
China
Prior art keywords
color layer
housing
matrix
coordinate
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201010561023.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102477533A (zh
Inventor
张新倍
陈文荣
蒋焕梧
陈正士
李光辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN201010561023.1A priority Critical patent/CN102477533B/zh
Publication of CN102477533A publication Critical patent/CN102477533A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102477533B publication Critical patent/CN102477533B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

本发明提供一种具有蓝色外观的壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层为氧化亚锡层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。本发明还提供一种上述壳体的制作方法。该色彩层可使壳体呈现出蓝色。

Description

壳体及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有蓝色外观的壳体及其制作方法。
背景技术
为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰涂层。相比这些传统工艺，PVD镀膜技更加绿色环保，且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰色彩层。
然而现有技术中，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限，目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、蓝色等色系，能够稳定生产的颜色更是少之又少。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种能够稳定生产的蓝色的PVD镀膜的壳体。
另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。
一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层为氧化亚锡层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为氧化亚锡层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，以锡靶为靶材，以氧气为反应气体，控制氧气的流量为50～150sccm，溅射的温度为50～100℃；所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
相较于现有技术，所述壳体的制备方法在形成色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体氧气流量的设计和对溅射温度的控制，从而达到使色彩层呈现蓝色的目的。以该方法所制得的壳体可呈现出具有吸引力的蓝色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，极大地提高了产品的外观竞争力。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图。
主要元件符号说明
壳体    10
基体    11
色彩层  13
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括基体11及形成于基体11表面的色彩层13。
基体11可为金属、玻璃或陶瓷。
色彩层13可以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该色彩层13为氧化亚锡(SnO)层。该色彩层13的厚度可为200～400nm。该色彩层13由肉眼直观呈现蓝色，而其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
本发明壳体10的制作方法包括以下步骤：
提供一基体11。该基体11可为金属、玻璃或陶瓷。
将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。
在基体11的表面形成一色彩层13。该色彩层13为氧化亚锡层。该色彩层13采用磁控溅射的方式形成。形成该色彩层13的具体操作方法可为：将基体11固定于一磁控溅射镀膜机(图未示)的转架上，设置转架的公转转速为3rpm(转/分钟)，抽真空使该镀膜机的腔体的真空度为3×10-5Pa，加热该腔体使温度为50～100℃；以锡靶为靶材，开启锡靶，设定锡靶的功率为8～12kw，设定施加于基体11的偏压为-250～-500V，占空比为50～100％；通入反应气体氧气，氧气的流量可为50～150sccm(标准状态毫升/分钟)；通入工作气体氩气，氩气的流量可为100～300sccm，沉积所述色彩层13，沉积所述色彩层13的时间可为20～40min。所述色彩层13的厚度可为200～400nm。
该色彩层13于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
本发明壳体10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他装饰类产品的壳体。
相较于现有技术，所述壳体10的制备方法在形成色彩层13时，通过对靶材的选取、反应气体氧气流量的设计和对溅射温度的控制，从而达到使色彩层13呈现蓝色的目的。以该方法所制得的壳体10呈现出具有吸引力的蓝色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，极大地提高了产品的外观竞争力。

Claims (8)

1.一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，其特征在于：该色彩层为氧化亚锡层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层的厚度为200～400nm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层呈现蓝色。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体为金属、玻璃或陶瓷。
5.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为氧化亚锡层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，以锡靶为靶材，以氧气为反应气体，控制氧气的流量为50～150sccm，溅射的温度为50～100℃；所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于40至50之间，a*坐标介于-25至-15之间，b*坐标介于-45至-35之间。
6.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：真空度为3×10-5Pa，锡靶的功率为8～12kw，以氩气为工作气体，氩气的流量为100～300sccm，施加于基体的偏压为-250～-500V，占空比为50～100％，镀膜时间为20～40min。
7.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：该基体为金属、玻璃或陶瓷。
8.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：该色彩层的厚度为200～400nm。
CN201010561023.1A 2010-11-26 2010-11-26 壳体及其制作方法 Expired - Fee Related CN102477533B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201010561023.1A CN102477533B (zh) 2010-11-26 2010-11-26 壳体及其制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201010561023.1A CN102477533B (zh) 2010-11-26 2010-11-26 壳体及其制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102477533A CN102477533A (zh) 2012-05-30
CN102477533B true CN102477533B (zh) 2015-03-11

Family

ID=46090312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201010561023.1A Expired - Fee Related CN102477533B (zh) 2010-11-26 2010-11-26 壳体及其制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102477533B (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4887886A (en) * 1986-09-02 1989-12-19 Seikosha Co., Ltd. Colored articles with interference layers made of a composite of silicon dioxide and silicon carbide
CN1112461C (zh) * 1993-11-12 2003-06-25 Ppg工业俄亥俄公司 耐久的溅射金属氧化物镀层
TW201309826A (zh) * 2011-08-30 2013-03-01 Chung-Chih Wu 氧化亞錫薄膜的製作方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3626624B2 (ja) * 1999-04-19 2005-03-09 帝人株式会社 透明導電性積層体および透明タブレット

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4887886A (en) * 1986-09-02 1989-12-19 Seikosha Co., Ltd. Colored articles with interference layers made of a composite of silicon dioxide and silicon carbide
CN1112461C (zh) * 1993-11-12 2003-06-25 Ppg工业俄亥俄公司 耐久的溅射金属氧化物镀层
TW201309826A (zh) * 2011-08-30 2013-03-01 Chung-Chih Wu 氧化亞錫薄膜的製作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN102477533A (zh) 2012-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5889965B2 (ja) ハウジング及びその製造方法
CN102337501A (zh) 真空镀膜件及其制备方法
CN102453855B (zh) 壳体及其制造方法
CN102477533B (zh) 壳体及其制作方法
CN102477529B (zh) 真空镀膜件及其制造方法
CN102618825A (zh) 壳体及其制作方法
CN102560358A (zh) 壳体及其制备方法
CN102480863A (zh) 壳体及其制作方法
CN102373415A (zh) 真空镀膜件及其制备方法
CN102560340A (zh) 壳体及其制作方法
CN102458068A (zh) 壳体及其制作方法
TWI471433B (zh) 殼體及其製作方法
CN102612281A (zh) 壳体及其制作方法
CN102469709A (zh) 壳体及其制作方法
CN102333422A (zh) 壳体及其制作方法
CN102732825A (zh) 镀膜件的制备方法及由该方法制得的镀膜件
CN102676988A (zh) 壳体及其制作方法
CN102373430A (zh) 壳体的制作方法及由该方法制得的壳体
CN102413650A (zh) 壳体及其制作方法
CN215855797U (zh) 一种高透过率高反射率颜色薄膜
CN102477530A (zh) 壳体及其制作方法
CN102774072A (zh) 壳体及其制作方法
CN102443760A (zh) 壳体及其制作方法
CN102644047A (zh) 壳体及其制作方法
CN102312205B (zh) 卡其色真空镀膜件及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20150311

Termination date: 20181126

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee