CN102469709A - 壳体及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种具有银灰色外观的壳体,其包括基体及形成于基体表面的色彩层,该色彩层为二硼化锆层,其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。该色彩层可使壳体呈现出银灰色的效果,从而丰富了真空镀膜层的颜色;且所述色彩层为ZrB2层,具有良好的抗磨损性能,可有效保护基体,相应地延长了壳体的使用寿命。本发明还提供一种上述壳体的制作方法。
Description
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制作方法,尤其涉及一种具有银灰色外观的壳体及其制作方法。
背景技术
为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳,或藉由喷漆方式在电子装置的外壳表面形成颜色层。然而,塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金属质感。采用PVD镀膜技术可在外壳表面形成具有金属质感的颜色层。
然而现有技术中,利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限,目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色等色系。与烤漆、阳极处理等工艺相比,真空镀膜层的颜色不够丰富,严重限制了其在装饰镀膜领域的竞争力。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种银灰色的PVD镀膜的壳体。
另外,本发明还提供一种上述壳体的制作方法。
一种壳体,其包括基体,及形成于基体表面的色彩层,该色彩层为二硼化锆层,其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。
一种壳体的制作方法,其包括如下步骤:
提供一基体;
在该基体的表面形成一色彩层,该色彩层为二硼化锆层,形成所述色彩层采用磁控溅射法,以ZrB2靶为靶材,所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。
相较于现有技术,所述壳体的制备方法在形成色彩层时,通过对靶材的选取,从而达到使色彩层呈现银灰色的目的。以该方法所制得的壳体可呈现出具有吸引力的银灰色的外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力;且所述色彩层为ZrB2层,具有良好的抗磨损性能,可有效保护基体,相应地延长了壳体的使用寿命。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图。
主要元件符号说明
壳体 10
基体 11
色彩层 13
具体实施方式
请参阅图1,本发明一较佳实施例的壳体10包括基体11、及形成于基体11表面的色彩层13。该色彩层13呈现银灰色。
基体11可为金属、玻璃或陶瓷。
色彩层13可以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该色彩层13为二硼化锆(ZrB2)层,其厚度可为500~700nm。该色彩层13呈现银灰色,其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。
本发明壳体10的制作方法包括以下步骤:
提供一基体11。该基体11可为金属、玻璃或陶瓷。
对该基体11进行预处理,该预处理可包括抛光、乙醇中超声波清洗及烘干等步骤。
在基体11的表面形成一色彩层13。该色彩层13为ZrB2层,其采用磁控溅射的方式形成。形成该色彩层13的具体操作方法可为:将基体11固定于一磁控溅射镀膜机(图未示)的转架上,设置转架的公转转速为3rpm(转/分钟),抽真空使该镀膜机的腔体的真空度为8×10-3Pa,加热该腔体使温度为80~120℃;以ZrB2靶为靶材,开启ZrB2靶,设定ZrB2靶的功率为7~10kw,设定施加于基体11的偏压为-80~-120V,占空比为30~60%;通入工作气体氩气,氩气的流量可为400~500sccm,沉积所述色彩层13。沉积所述色彩层13的时间可为15~65min。所述色彩层13的厚度可为500~700nm。
该色彩层13于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。
本发明壳体10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体,或为其他装饰类产品的壳体。
相较于现有技术,所述壳体10的制备方法在形成色彩层13时,通过对靶材的选取,从而达到使色彩层13呈现银灰色的目的。以该方法所制得的壳体10呈现出具有吸引力的银灰色的外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了壳体10的外观竞争力;且所述色彩层13为ZrB2层,具有良好的抗磨损性能,可有效保护基体11,相应地延长壳体10的使用寿命。
Claims (7)
1.一种壳体,其包括基体,及形成于基体表面的色彩层,其特征在于:该色彩层为二硼化锆层,其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。
2.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述色彩层的厚度为500~700nm。
3.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述基体为金属、玻璃或陶瓷。
4.一种壳体的制作方法,其包括如下步骤:
提供一基体;
在该基体的表面形成一色彩层,该色彩层为二硼化锆层,形成所述色彩层采用磁控溅射法,ZrB2靶为靶材,所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于50至75之间,a*坐标介于-1至1之间,b*坐标介于-1至1之间。
5.如权利要求4所述的壳体的制作方法,其特征在于:形成该色彩层的工艺参数为:ZrB2靶的功率为7~10kw,以氩气为工作气体,氩气的流量为400~500sccm,溅射的温度为80~120℃,施加于基体的偏压为-80~-120V,占空比为30~60%,镀膜时间为15~65min。
6.如权利要求4所述的壳体的制作方法,其特征在于:该基体为金属、玻璃或陶瓷。
7.如权利要求4所述的壳体的制作方法,其特征在于:该色彩层的厚度为500~700nm。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109334333A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-02-15 | 维沃移动通信有限公司 | 壳体的制备方法、壳体以及终端设备 |
CN114466537A (zh) * | 2020-11-09 | 2022-05-10 | Oppo广东移动通信有限公司 | 电子设备的壳体及其制备方法、电子设备 |
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US5447803A (en) * | 1990-06-29 | 1995-09-05 | Niigata Engineering Co., Ltd. | Method for forming titanium nitride film and vessel coated by same |
CN1278484A (zh) * | 1999-06-22 | 2001-01-03 | 普雷马克Rwp控股公司 | 用于耐磨层压板的涂敷压制表面以及用其制造的层压板 |
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2010
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20120523 |