CN102732828A - 镀膜件及其制作方法 - Google Patents

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张新倍
陈文荣
蒋焕梧
陈正士
李聪
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种镀膜件，包括基体及形成于该基体上的色彩层，该色彩层为硼-碳-氮层，该色彩层呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。本发明还提供一种上述镀膜件的制作方法。该镀膜件的色彩层可使镀膜件呈现出黑色，从而丰富了真空镀膜层的颜色。

Description

镀膜件及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制作方法，尤其涉及一种具有黑色外观的镀膜件及其制作方法。
背景技术
黑色涂层的应用主要是为了消除或减小光线的影响，或作为产品表面的装饰涂层。目前最常用的制备黑色涂层的方法为电化学方法，如阳极氧化黑色膜，电镀黑镍或黑铬等，但该类方法污染重不环保。
真空镀膜技术是一个非常环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点，因此真空镀膜在装饰性表面处理领域的应用越来越广。但真空镀膜技术也具有一定的局限性，在制备纯黑色膜层过程中容易出现异色、黑中带蓝或黑中带红等现象，如此严重影响了黑色膜层的美观。目前已见报道的黑色膜层L*（即明度值）最佳只能达到35左右，为了得到更纯的黑色继续降低膜层的L*存在较大难度。因此，开发一种明度值较低的黑色镀膜件实为必要。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种可避免上述问题的PVD黑色镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制作方法。
一种镀膜件，包括基体及形成于该基体上的色彩层，该色彩层为硼-碳-氮层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用磁控溅射镀膜法，以氮化硼靶为靶材，以乙炔为反应气体，于该基体的表面形成色彩层；该色彩层为硼-碳-氮层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
所述镀膜件的制作方法在溅射所述色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体乙炔流量的设计及溅射时间的控制，从而达到使色彩层呈现黑色的目的，以该方法所制得的镀膜件呈现出黑色外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图。
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
镀膜件 10
基体 11
色彩层 13
真空镀膜机 20
镀膜室 21
氮化硼靶 23
轨迹 25
真空泵 30
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明较佳实施例的镀膜件10包括基体11及形成于基体11上的色彩层13。
所述基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。
所述色彩层13为硼-碳-氮层，其厚度为300~700nm。该色彩层13肉眼直观呈现黑色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。所述色彩层13通过磁控溅射方法形成。
所述镀膜件10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他产品的装饰性部件。
上述镀膜件10的制作方法，包括以下步骤：
提供基体11。基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。
将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
结合参阅图2，提供一真空镀膜机20，该真空镀膜机20包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)相对设置的二氮化硼靶23。转架带动基体11沿圆形的轨迹25公转，且基体11在沿轨迹25公转时亦自转。
在基体11的表面形成色彩层13。该色彩层13为硼-碳-氮层，其采用磁控溅射的方式形成。形成该色彩层13的具体操作方法可为：如图2所示，将基体11放入一真空镀膜机20的镀膜室21内，抽真空使该镀膜室21的本底真空度为8×10-3Pa，以乙炔气体为反应气体，向镀膜室21内通入流量为300~500sccm的乙炔，以氩气为工作气体，调节其流量至200~400sccm，对基体11施加-100~-250V的偏压，设置占空比为40~60%，加热该镀膜室至100~200℃（即溅射温度为100~200℃），并设置工件架的公转转速为1.0~3.0rpm；开启氮化硼靶23的电源，设置其功率为7~10kw，沉积色彩层13。沉积该色彩层13的时间为50~90min（即溅射时间为50~90min）。所述色彩层13的厚度为300~700nm。
该色彩层13于CIE LAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
在上述提供的参数范围内，当乙炔的流量改变时，所述色彩层13中硼元素与氮元素的质量百分含量相应发生改变，色彩层13的色差值也随之改变，但均在上述色差值范围之内，均呈现为黑色。具体参数参见表1。
表1
Figure 2011100931669100002DEST_PATH_IMAGE001
所述镀膜件10的制作方法通过磁控溅射方法在形成所述色彩层13时，通过对靶材的选取、反应气体乙炔流量的设计及溅射时间的控制，使所述色彩层13呈现出稳定的黑色，且该色彩层13的色度区域于CIE LAB表色系统的L*低于35。以该方法所制得的镀膜件10呈现出黑色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，提高了产品的外观竞争力。此外，所述色彩层13具有良好的抗磨损性能，可持久保持其良好的黑色的外观，同时还可有效防止基体11被磨损，相应地延长了镀膜件10的使用寿命。

Claims (6)

1.一种镀膜件，包括基体及形成于该基体上的色彩层，其特征在于：该色彩层为硼-碳-氮层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层的厚度为300~700nm。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述色彩层呈现黑色。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基体的材质为金属、玻璃、陶瓷及塑料中的一种。
5.一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用磁控溅射镀膜法，以氮化硼靶为靶材，以乙炔为反应气体，于该基体的表面形成色彩层；该色彩层为硼-碳-氮层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于32至35之间，a*坐标介于0.6至1之间，b*坐标介于0.8至1之间。
6.如权利要求5所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：氮化硼靶的功率为7~10kw，施加于基体的偏压为-100~-250V，占空比为40~60%；乙炔的流量为300~500sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为200~400sccm，溅射温度为100~200℃，溅射时间为50~90min。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102747321A (zh) * 2011-04-18 2012-10-24 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件及其制备方法
CN116410019A (zh) * 2022-01-05 2023-07-11 北京小米移动软件有限公司 陶瓷件的制作方法、陶瓷件及电子设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101768721A (zh) * 2008-12-29 2010-07-07 中国科学院兰州化学物理研究所 在不锈钢基底上沉积硼碳氮薄膜方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101768721A (zh) * 2008-12-29 2010-07-07 中国科学院兰州化学物理研究所 在不锈钢基底上沉积硼碳氮薄膜方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
S.ULRICH ET AL.: "Phase separation in magnetron sputtered superhard BCN thin films", 《DIAMOND AND RELATED MATERIALS》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102747321A (zh) * 2011-04-18 2012-10-24 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件及其制备方法
CN116410019A (zh) * 2022-01-05 2023-07-11 北京小米移动软件有限公司 陶瓷件的制作方法、陶瓷件及电子设备

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