CN103140067A - 壳体及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种具有蓝色外观的壳体，该壳体包括基体、形成于该基体表面的结合层、形成于该结合层上的硬质层以及形成于该硬质层上的颜色层，该硬质层由铬元素与碳元素组成，该颜色层由铬元素、氧元素和氮元素组成，颜色层中铬元素、氧元素及氮元素的原子个数比为（0.8-1.0）：（1.2-1.5）：（0.3-0.5），该颜色层呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标为35至40，a*坐标为0至3，b*坐标为-10至-15。该颜色层呈稳定的、鲜艳的蓝色，从而使该壳体呈现出具有金属质感的蓝色外观。本发明还提供一种上述壳体的制作方法。

Description

壳体及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有鲜艳蓝色金属外观的壳体及其制作方法。
背景技术
鲜艳的蓝色是一种具有吸引力的色彩。为了使电子装置外壳呈现具有金属质感的鲜艳蓝色，现有技术中通过光学镀膜工艺在外壳上形成一层很薄的光学膜，该光学膜通过光的干涉原理来获得鲜艳的蓝色，然而由于该光学膜非常薄，不耐磨；而且，通常光学膜从不同的角度观，会呈现不同的颜色，因此，通过光学膜呈现的鲜艳蓝色是不稳定的。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种具有金属质感的鲜艳蓝色外观、且耐磨的壳体。
另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。
一种壳体，包括基体，该壳体还包括形成于该基体表面的结合层、形成于该结合层上的硬质层以及形成于该硬质层上的颜色层，该硬质层由铬元素与碳元素组成，该颜色层由铬元素、氧元素和氮元素组成，颜色层中铬元素、氧元素及氮元素的原子个数比为（0.8-1.0）：（1.2-1.5）：（0.3-0.5），该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为35至40，a*坐标为0至3，b*坐标为-10至-15。
所述颜色层肉眼直观表现为鲜艳的蓝色。
所述结合层及硬质层也可以省略，此时，该颜色层可直接形成于基体的表面上。
一种壳体的制作方法，包括采用磁控溅射方法在基体上依次沉积结合层、硬质层及颜色层，其中，
沉积该结合层是在溅射条件下，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到基体表面形成结合层，所述磁控靶为铬靶、钛靶及锆靶中的一种；
积该硬质层是在溅射条件下，以乙炔为反应气体，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到该结合层表面形成由碳元素与铬元素组成的硬质层，所述磁控靶为铬靶；
沉积该颜色层是在溅射条件下，以氧气与氮气为反应气体，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到该硬质层表面形成由铬元素、氧元素与氮元素组成的颜色层，所述磁控靶为铬靶。
所述壳体的表面形成有该由铬元素、氧元素及氮元素组成的颜色层，该颜色层不但呈现出鲜艳的蓝色，而且具有金属质感，使壳体具有亮丽的外观。而且，颜色层所呈现的颜色为其自身的色彩，而非通过光学干涉所产生，因此相比于光学镀膜所呈现的蓝色更为稳定。另外，形成于壳体表面的膜系由结合层、由铬元素与碳元素组成的硬质层以及由铬元素、氧元素及氮元素组成的颜色层组成，该膜系具有较高的硬度，因此耐磨性较好。
所述壳体的制备方法通过磁控溅射方法在形成所述颜色层时，通过对靶材的选取，同时对反应气体氧气与氮气流量的设计及膜厚实时监控，从而达到使颜色层呈现稳定的鲜艳蓝色的目的。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图。
图2是图1所示壳体的制作过程中所用磁控溅射设备的结构示意图。
主要元件符号说明
壳体 10
基体 11
结合层 13
硬质层 14
颜色层 15
磁控溅射设备 30
真空室 31
真空泵 32
气源通道 33
转架 35
磁控靶 36
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明较佳实施例的壳体10包括基体11、形成于基体11上的结合层13、形成于结合层13上的硬质层14以及形成于该硬质层14上的颜色层15。该颜色层15肉眼直观呈鲜艳的蓝色。
基体11的材质可为不锈钢、钛合金、铜合金及玻璃中的一种，优选为不锈钢或钛合金。
该结合层13为铬、钛或锆等结合力较强、与基体11热膨胀系数相近的金属形成。结合层13主要用于提高硬质层14与颜色层15的附着力。当基体11为不锈钢时，结合层13优选为铬。当基体11为钛合金时，结合层13优选为钛。结合层13的厚度可为0.05μm-0.2μm。
该硬质层14由碳元素与铬元素组成。硬质层14中碳元素与铬元素的原子个数比大约为1:1。硬质层14的厚度大约为0.8μm-2.0μm。该硬质层14呈银色。硬质层14为较浅的颜色，可避免对颜色层15的颜色产生干扰。硬质层14具有较高的硬度，可提高壳体10表面复合膜层的整体硬度。
所述颜色层15由铬元素、氧元素及氮元素组成。颜色层15中铬元素、氧元素及氮元素的原子个数比（Cr:O:N）为（0.8-1.0）：（1.2-1.5）：（0.3-0.5）。该颜色层15肉眼直观呈现鲜艳的蓝色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为35至40，a*坐标为0至3，b*坐标为-10至-15。颜色层15的厚度可为0.3μm-0.6μm，当颜色层15的厚度小于0.3μm时，其L*坐标值将大于35，则颜色层15的蓝色过浅（L*坐标值越大颜色越浅）。
所述结合层13、硬质层14及颜色层15可分别通过磁控溅射方法形成。颜色层15具有金属质感。
上述壳体10的制作方法，主要包括采用磁控溅射方法在基体11上依次沉积该结合层13、硬质层14及颜色层15。其中，沉积该结合层13是在溅射条件下，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到基体11表面形成结合层13，所述磁控靶为铬靶、钛靶及锆靶中的一种；沉积该硬质层14是在溅射条件下，以乙炔（C2H2）为反应气体，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到该结合层13表面形成由碳元素与铬元素组成的硬质层14，所述磁控靶为铬靶；沉积该颜色层15是在溅射条件下，以氧气（O2）与氮气（N2）为反应气体，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到该硬质层14表面形成由铬元素、氧元素与氮元素组成的颜色层15，所述磁控靶为铬靶。
请结合参阅图2，所述结合层13、硬质层14及颜色层15的形成是在磁控溅射设备30中完成。磁控溅射设备30包括一真空室31、用以对真空室31抽真空的真空泵32以及与真空室31相通的气源通道33。该真空室31内设有转架35及磁控靶36。所述基体11放置在转架35上随转架做圆周运行。基体11在随转架35运行的同时也进行自转。镀膜时，溅射气体与反应气体经由气源通道33进入真空室31。
所述磁控靶36优选为对靶结构，可以根据需要使用一对或多对磁控靶36。每对磁控靶36由一个电源供电，并分别与该电源的正、负极相连。
所述电源可以为现有的各种用于磁控溅射镀膜的电源，优选为中频电源。
所述的磁控溅射条件包括以惰性气体为溅射气体，该惰性气体可以为氩气，其流量可为150sccm(标准状态毫升/分钟)-250sccm；溅射过程中控制真空室31内绝对压力（即镀膜压力）为0.3Pa-0.6Pa；温度为110℃-180℃，其中，沉积结合层13和硬膜层14的温度可为150℃-180℃，优选为160℃，沉积颜色层15的温度可为110℃-130℃，优选为120℃。
所述沉积该结合层13的电源功率为10kW-15kW；沉积时间为5min-10min；在所述电源功率和沉积时间下，形成的结合层13的厚度为0.05μm-0.2μm。
所述沉积该硬质层14的电源功率为12kW-16kW；沉积时间为60min-90min；反应气体乙炔的流量为60sccm-90sccm；在所述电源功率和沉积时间下，形成的硬质层14的厚度为0.8μm-2.0μm。
所述沉积该颜色层15的电源功率为12kW-15kW；反应气体氧气的流量为60sccm-90sccm，优选为70sccm-80sccm，氮气的流量为30sccm-60sccm；沉积过程中，可用晶控仪(也称膜厚仪)对颜色层15的厚度进行实时监控，并由此确定沉积时间。
该颜色层15肉眼直观呈现鲜艳的蓝色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为35至40，a*坐标为0至3，b*坐标为-10至-15。
所述氧气的通入可以提供颜色层15的鲜艳程度。但当氧气的流量大于90sccm时，颜色层15的颜色虽然仍为蓝色色系，但颜色比较淡，开始偏红；当氧气流量小于60sccm时，颜色层15的颜色虽然仍为蓝色色系，但颜色比较深暗，开始偏绿。
为了提高膜层的附着力，可以在基体11上施加偏压电源。沉积结合层13过程中，施加在基体11上偏压电源的偏压可以为-100V至-150V；沉积硬质层14过程中，施加在基体11上偏压电源的偏压可以为-80V至-120V；沉积颜色层15过程中，施加在基体11上偏压电源的偏压可以为-50V。
所述磁控溅射设备还可以包括偏压装置（图未示），偏压装置可以为偏压电源，偏压电源的正极与真空室31的壳体相连，负极与转架4相连。
该壳体10的制作方法还可以包括在沉积该结合层13之前，对磁控靶36进行清洗（也称洗靶）的步骤。对磁控靶进行清洗的方法已为本领域技术人员所公知，例如，可以通过在0.8Pa-1.2Pa压力下，在磁控靶36上施加电源使磁控靶36的表层被溅射掉，从而实现对磁控靶36的清洗。清洗磁控靶36所用电源的功率可为8kW-15kW。清洗时间为8min-15min。
为可提高膜层的结合力，该壳体的制作方法还可以包括在清洗磁控靶36之后、沉积该结合层13之前，对基体11进行离子清洗的步骤。该离子清洗的方法已为本领域技术人员所公知，例如，可在压力为0.6Pa-1.2Pa下，对基体11施加800V-1200V的偏压，对基体11表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为10min-20min。
优选情况下，该壳体的制作方法还可以包括在清洗磁控靶36之前，对基体11进行去污清洗。比如，可将基体11放入含乙醇等有机溶剂的溶液中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等。
下面通过具体实施例对本发明进行进一步详细说明。
实施例1
1. 超声清洗
将不锈钢（316L型号）材质的基体11放入乙醇溶液中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
2. 镀膜
采用磁控溅射设备（深圳南方创新真空技术有限公司生产，型号为SM-1100H。该磁控溅射设备包括真空室、转架、磁控靶和偏压电源。磁控靶为对靶结构，包括两对铬靶，每对靶之间形成有一定距离。基体固定在转架上，转架旋转时带动基体从每对铬靶之间经过。
洗靶：将真空室中绝对压力调至6.0×10-3Pa，然后向真空室通入氩气直至压力为0.8Pa，开启铬靶的电源，调节电源功率为8kW，对铬靶辉光清洗8分钟。
离子清洗基体：关闭铬靶的电源，调节真空室压力为0.6Pa，对基体施加-800V的偏压，对基体进行氩气等离子体清洗15分钟。
沉积结合层：向真空室通入氩气，氩气流量为150sccm，控制真空室内压力为0.3Pa，调节真空室内温度为150℃，开启铬靶的电源，调节电源功率为10 kW，调节施加于基体上的偏压为-100V，对基体溅射10分钟，以于基体表面形成所述由铬金属形成的结合层。
沉积硬质层：维持上述操作，不同的是，调节铬靶的电源功率为12kW，同时通入反应气体乙炔，乙炔的流量为60sccm，调节基体偏压为-80V，溅射80分钟，在结合层上沉积一层由铬元素与碳元素组成的硬质层。
沉积颜色层：维持上述操作，不同的是，调节真空室内温度为110℃，停止通入乙炔，同时通入反应气体氧气和氮气，氧气流量为60sccm，氮气流量为30sccm，调节基体偏压为-50V，晶控仪（德国Inficon公司生产，型号XTC/3）监控到颜色层的厚度为0.6μm时停止溅射，在硬质层上沉积一层由铬元素、氧元素及氮元素组层的颜色层。
关闭铬靶、偏压电源并停止通入氧气和氮气，冷却后取出镀覆好的基体，肉眼直观呈鲜艳的蓝色，用色差计（东莞惠美仪器公司生产，型号CM-2600d/2500d）测试颜色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为35，a*坐标为0，b*坐标为-15。实施例1的样品记做S1。
实施例2
1. 超声清洗
将不锈钢（316L型号）材质的基体11放入乙醇溶液中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
2. 镀膜
采用磁控溅射设备（深圳南方创新真空技术有限公司生产，型号为SM-1100H）。该磁控溅射设备包括真空室、转架、磁控靶和偏压电源。磁控靶为对靶结构，包括两对铬靶，每对靶之间形成有一定距离。基体固定在转架上，转架旋转时带动基体从每对铬靶之间经过。
洗靶：将真空室中绝对压力调至4.0×10-3Pa，然后向真空室通入氩气直至压力为1.2Pa，开启铬靶的电源，调节电源功率为15kW，对铬靶辉光清洗15min。
离子清洗基体：关闭铬靶的电源，调节真空室压力为1.2Pa，对基体施加-1200V的偏压，对基体进行氩气等离子体清洗10分钟。
沉积结合层：向真空室通入氩气，氩气流量为250sccm，控制真空室内压力为0.6Pa，调节真空室内温度为180℃，开启铬靶的电源，调节电源功率为15kW，调节施加于基体上的偏压为-150V，对基体溅射5min，以于基体表面形成所述由铬金属形成的结合层。
沉积硬质层：维持上述操作，不同的是，调节铬靶的电源功率为16kW，同时通入反应气体乙炔，乙炔的流量为90sccm，调节基体偏压为-120V，溅射70min，在结合层上沉积一层由铬元素与碳元素组成的硬质层。
沉积颜色层：维持上述操作，不同的是，调节真空室内温度为130℃，停止通入乙炔，同时通入反应气体氧气和氮气，氧气流量为90sccm，氮气流量为60sccm，调节铬靶的电源功率为15kW，调节基体偏压为-50V，晶控仪（德国Inficon公司生产，型号XTC/3）监控到颜色层的厚度为0.3μm时停止溅射，在硬质层上沉积一层由铬元素、氧元素及氮元素组层的颜色层。
关闭铬靶、偏压电源并停止通入氧气和氮气，冷却后取出镀覆好的基体，肉眼直观呈鲜艳的蓝色，用色差计（东莞惠美仪器公司生产，型号CM-2600d/2500d）测试颜色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为40，a*坐标为3，b*坐标为-10。实施例2的样品记做S2。
实施例3
1. 超声清洗
将不锈钢（316L型号）材质的基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
2. 镀膜
采用磁控溅射设备（深圳南方创新真空技术有限公司生产，型号为SM-1100H）。该磁控溅射设备包括真空室、转架、磁控靶和偏压电源。磁控靶为对靶结构，包括两对铬靶，每对靶之间形成有一定距离。基体固定在转架上，转架旋转时带动基体从每对铬靶之间经过。
洗靶：将真空室中绝对压力调至6.0×10-3Pa，然后向真空室通入氩气直至压力为1.0Pa，开启铬靶的电源，调节电源功率为10kW，对铬靶清洗8分钟。
离子清洗基体：关闭铬靶的电源，调节真空室压力为0.8Pa，对基体施加-1000V的偏压，对基体进行氩气等离子体清洗15分钟。
沉积结合层：向真空室通入氩气，氩气流量为160sccm，控制真空室内压力为0.4Pa，调节真空室内温度为160℃，开启铬靶的电源，调节电源功率为12kW，调节施加于基体上的偏压为-150V，对基体溅射10分钟，以于基体表面形成所述由铬金属形成的结合层。
沉积硬质层：维持上述操作，不同的是，调节铬靶的电源功率为14kW，同时通入反应气体乙炔，乙炔的流量为70sccm，调节基体偏压为-100V，溅射80分钟，在结合层上沉积一层由铬元素与碳元素组成的硬质层。
沉积颜色层：维持上述操作，不同的是，调节真空室内温度为120℃，停止通入乙炔，同时通入反应气体氧气和氮气，氧气流量为70sccm，氮气流量为40sccm，调节铬靶的电源功率为12kW，调节基体偏压为-50V，用晶控仪（德国Inficon公司生产，型号XTC/3）监控到颜色层的厚度为0.51μm时停止溅射，在硬质层上沉积一层由铬元素、氧元素及氮元素组层的颜色层。
关闭铬靶、偏压电源并停止通入氧气和氮气，冷却后取出镀覆好的基体，肉眼直观呈鲜艳的蓝色，用色差计（东莞惠美仪器公司生产，型号CM-2600d/2500d）测试颜色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为36.8，a*坐标为1.3，b*坐标为-12。实施例3的样品记做S3。
实施例4
1. 超声清洗
将不锈钢（316L型号）材质的基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
2. 镀膜
采用磁控溅射设备（深圳南方创新真空技术有限公司生产，型号为SM-1100H）。该磁控溅射设备包括真空室、转架、磁控靶和偏压电源。磁控靶为对靶结构，包括两对铬靶，每对靶之间形成有一定距离。基体固定在转架上，转架旋转时带动基体从每对铬靶之间经过。
洗靶：将真空室中绝对压力调至5.0×10-3Pa，然后向真空室通入氩气直至压力为1.2Pa，开启铬靶的电源，调节电源功率为15kW，对铬靶清洗10分钟。
离子清洗基体：关闭铬靶的电源，调节真空室压力为1.0Pa，对基体施加-1200V的偏压，对基体进行氩气等离子体清洗10分钟。
沉积结合层：向真空室通入氩气，氩气流量为220sccm，控制真空室内压力为0.5Pa，调节真空室内温度为170℃，开启铬靶的电源，调节电源功率为15kW，调节施加于基体上的偏压为-100V，对基体溅射8分钟，以于基体表面形成所述由铬金属形成的结合层。
沉积硬质层：维持上述操作，不同的是，调节铬靶的电源功率为16kW，同时通入反应气体乙炔，乙炔的流量为80sccm，调节基体偏压为-120V，溅射70分钟，在结合层上沉积一层由铬元素与碳元素组成的硬质层。
沉积颜色层：维持上述操作，不同的是，调节真空室内温度为125℃，停止通入乙炔，同时通入反应气体氧气和氮气，氧气流量为80sccm，氮气流量为50sccm，调节铬靶的电源功率为14kW，调节基体偏压为-50V，用晶控仪（德国Inficon公司生产，型号XTC/3）监控到颜色层的厚度为0.39μm时停止溅射，在硬质层上沉积一层由铬元素、氧元素及氮元素组层的颜色层。
关闭铬靶、偏压电源并停止通入氧气和氮气，冷却后取出镀覆好的基体，肉眼直观呈鲜艳的蓝色，用色差计（东莞惠美仪器公司生产，型号CM-2600d/2500d）测试颜色，其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为38.7，a*坐标为2.1，b*坐标为-13.5。实施例4的样品记做S4。
测试
使用下面的方法对实施例1-4的样品的附着力（百格测试）、耐弹簧力（Scrach Rod Test）及维氏硬度进行了测试。所述三种测试测试的标准已经为业界熟知，所以不再列出。测试结果如下表所示：
样品编号 附着力 耐弹簧力 维氏硬度
S1 Grade 0 20N，未露出基体 586HV
S2 Grade 0 20N，未露出基体 548HV
S3 Grade 0 20N，未露出基体 578HV
S4 Grade 0 20N，未露出基体 540HV
本发明壳体10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他装饰类产品的壳体。
所述壳体10的表面形成有该由铬元素、氧元素及氮元素组成的颜色层15，该颜色层15不但呈现出鲜艳的蓝色，而且具有金属质感，使壳体10具有亮丽的外观。而且，颜色层15所呈现的颜色为其自身的色彩，而非通过光学干涉所产生，因此相比于光学镀膜所呈现的蓝色更为稳定。另外，形成于壳体10表面的膜系由结合层13、由铬元素与碳元素组成的硬质层14以及由铬元素、氧元素及氮元素组成的颜色层15组成，该膜系具有较高的硬度，因此耐磨性较好。
所述壳体10的制备方法通过磁控溅射方法在形成所述颜色层15时，通过对靶材的选取，同时对反应气体氧气与氮气流量的设计及膜厚实时监控，从而达到使颜色层15呈现稳定的鲜艳蓝色的目的。
可以理解，当对结合力及硬度要求不高时，所述结合层及硬质层14可以省略，此时，该颜色层15可直接形成于基体11的表面上。

Claims (13)

1.一种壳体，包括基体，其特征在于：该壳体还包括形成于该基体表面的结合层、形成于该结合层上的硬质层以及形成于该硬质层上的颜色层，该硬质层由铬元素与碳元素组成，该颜色层由铬元素、氧元素和氮元素组成，颜色层中铬元素、氧元素及氮元素的原子个数比为（0.8-1.0）：（1.2-1.5）：（0.3-0.5），该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为35至40，a*坐标为0至3，b*坐标为-10至-15。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该颜色层的厚度为0.3μm-0.6μm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该结合层由铬、钛及锆中的一种形成。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该硬质层中碳元素与铬元素的原子个数比为1:1。
5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该基体的材质为不锈钢、钛合金、铜合金及玻璃中的一种。
6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该颜色层通过磁控溅射方法形成。
7.一种壳体，包括基体，其特征在于：该壳体还包括形成于该基体表面的颜色层，该颜色层由铬元素、氧元素和氮元素组成，颜色层中铬元素、氧元素及氮元素的原子个数比为（0.8-1.0）：（1.2-1.5）：（0.3-0.5），该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为35至40，a*坐标为0至3，b*坐标为-10至-15。
8.一种壳体的制作方法，包括采用磁控溅射方法在基体上依次沉积结合层、硬质层及颜色层，其中，
沉积该结合层是在溅射条件下，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到基体表面形成结合层，所述磁控靶为铬靶、钛靶及锆靶中的一种；
积该硬质层是在溅射条件下，以乙炔为反应气体，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到该结合层表面形成由碳元素与铬元素组成的硬质层，所述磁控靶为铬靶；
沉积该颜色层是在溅射条件下，以氧气与氮气为反应气体，在磁控靶上施加电源使磁控靶上的靶材物质溅射并沉积到该硬质层表面形成由铬元素、氧元素与氮元素组成的颜色层，所述磁控靶为铬靶。
9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：磁控溅射条件包括以惰性气体为溅射气体，溅射气体的流量为150sccm-250sccm；溅射的绝对压力为0.3Pa-0.6Pa；溅射温度为110℃-180℃。
10.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述沉积该结合层的电源功率为10kW-15kW；沉积温度为150℃-180℃；沉积时间为5min-10min。
11.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述沉积该硬质层的电源功率为12kW-16kW；沉积温度为150℃-180℃；沉积时间为60min-90min；乙炔的流量为60sccm-90sccm。
12.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述沉积该颜色层的电源功率为12kW-15kW；沉积温度为110℃-130℃；氧气的流量为60sccm-90sccm，氮气的流量为30sccm-60sccm。
13.如权利要求12所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述氧气的流量为70sccm-80sccm。
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