CN103924199B - 一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法 - Google Patents
一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103924199B CN103924199B CN201410182978.4A CN201410182978A CN103924199B CN 103924199 B CN103924199 B CN 103924199B CN 201410182978 A CN201410182978 A CN 201410182978A CN 103924199 B CN103924199 B CN 103924199B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- organic materials
- metal
- rete
- organic
- deposited film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明所述的一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法,通过在有机材料层上逐层堆积金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层,从而获得金属质感,所获得的有机材料壳体具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐磨性、表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性,满足了当代人对电子产品的需求。
Description
技术领域
本发明属于镀膜技术领域,具体地是涉及一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法。
背景技术
能源、信息和生物科技被称为现代社会的三大支柱,而材料科学又是能源、信息和生物科技的基础。自上世纪30年代氟化镁(MgF2)增透膜层被发明以来,特别近20年来,由于材料科学与薄膜技术的结合,薄膜技术对材料新功能的不断需求,使光学薄膜材料的品种、应用范围以及使用数量惊人的速度增加。因此,镀膜技术的发展,时刻伴随并强有力的推动着。镀膜材料的发展和完善,薄膜材料与薄膜技术形成了密不可分的相辅相成关系。
目前,随着电子产品越来愈多的涌入人们的生活,对于电子产品上所使用的有机材料壳体的要求也越来越高,不仅要不影响电子产品的性能,同时还要有金属的质感并且可以防指纹耐脏污。与本发明相关的现有技术请参考2014年1月15日公告的第CN103510049A号中国发明专利,其公开了一种使塑胶表面具有高金属质感的处理方法,包括离子轰击步骤:将洁净的塑胶产品置于真空蒸发镀膜室内,对塑胶产品的表面进行离子轰击,参数如下:先将真空蒸发镀膜室内的真空度抽至2.0×10-2~3.0×10-2Pa,充入氩气,流量保持在800~1300sccm,使真空蒸发镀膜室内的真空度达2~3Pa,在电压2~2.4KV,电流0.8~1A下,氩气产生电离并轰击塑胶产品的表面,轰击时间150~180秒;镀膜步骤:将真空蒸发镀膜室内的真空度抽至2.0×10-2~3.0×10-2Pa,在塑胶产品的表面镀金属膜,参数如下:电压220~240V,电流60~65A,时间18~20秒,镀膜材料为锡或铟或铟锡合金,镀膜材料重量为0.182±0.01g,以保证产品表面不导电。经过上述方法处理的塑胶表面具有较高的金属质感。但是该塑胶表面在获得金属质感的同时其他各方面的性能并不突出,尤其是在膜层稳定性,膜层厚度,耐磨性、表面光泽度、防指纹耐脏污等方面不尽如人意,因此急需一种可以获得良好金属质感并且各方面性能都不错的具有金属质感的有机材料壳体。
发明内容
本发明旨在克服现有技术的不足,提供一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:
一种具有金属质感的有机材料壳体,包括由下而上依次堆积在有机材料层上的金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层,其中所述有机材料层由一种或者多种有机材料组成。
进一步地所述金属铬膜层的厚度为160nm,所述金属铝膜层的厚度为35nm,所述二氧化硅膜层的厚度为20nm,所述AF膜层的厚度为0.5nm。
进一步地所述有机材料为有机玻璃。
进一步地所述有机材料为棉、麻、化纤、塑料、橡胶中的一种或者多种。
一种具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,包括如下步骤:
S1:将有机材料面板加工成具有指定形状的有机材料层;
S2:在阻蒸镀膜设备上对真空度、加热温度以及金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层的厚度值进行设定,开启所述阻蒸镀膜设备在所述具有指定形状的有机材料层上依次镀上金属铬、金属铝、二氧化硅形成有机材料壳体半成品;
S3:在所述阻蒸镀膜设备上对真空度、加热温度以及AF膜层的厚度值进行设定,开启所述阻蒸镀膜设备在所述有机材料壳体半成品上镀上AF膜层,获得具有金属质感的有机材料壳体;
S4:对所述具有金属质感的有机材料壳体进行质量检测,合格后进行包装。
进一步地所述步骤S2具体包括:
S21:在所述阻蒸镀膜设备上将真空度设定为7.0×10-6Torr、加热温度设定为50℃,所述金属铬膜层厚度设定为160nm、所述金属铝膜层厚度设定为35nm、所述二氧化硅膜层厚度设定为20nm;
S22:在所述阻蒸镀膜设备内冲入氩气一分钟之后开启离子源轰击所述具有指定形状的有机材料层的表面并持续三分钟后关闭所述离子源;
S23:自动开启所述阻蒸镀膜设备内电子枪,对铬靶材进行轰击,当所述金属铬膜层厚度达到设定值后,电子枪自动关闭;
S24:自动启动阻蒸工序,当所述金属铝膜层厚度达到设定值后,关闭所述阻蒸工序;
S25:放置材料坩埚自行运转二氧化硅材料的位置使其对准电子枪,启动电子枪,对所述二氧化硅材料进行轰击,当所述二氧化硅膜层厚度达到设定值后,关闭电子枪,所述阻蒸镀膜设备自行运转至破真空状态。
进一步地所述步骤S3具体包括:
S31:在所述阻蒸镀膜设备上将真空度设定为2.5×10-5Torr、加热温度设定为50℃,所述AF膜层厚度设定为0.5nm;
S32:启动阻蒸工序,当所述AF膜层厚度达到设定值后,关闭所述阻蒸工序,所述阻蒸镀膜设备自行运转至破真空状态。
进一步地所述有机材料面板的材料为有机玻璃。
进一步地所述有机材料面板的材料为棉、麻、化纤、塑料、橡胶中的一种或者多种。
进一步地所述步骤S1具体包括:
S11:将有机材料面板加工成具有预定尺寸的有机面板板材,并将检测合格的流入所述步骤S12;
S12:给所述有机面板板材贴覆保护膜;
S13:对所述有机面板板材进行精加工,使得所述有机面板板材具有指定形状;
S14:撕去所述保护膜并进行相应的清洁和检查,获得具有指定形状的有机材料层。
采用上述技术方案,本发明至少包括如下有益效果:
本发明所述的一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法,通过在有机材料层上逐层堆积金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层,从而获得金属质感,所获得的有机材料壳体具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐磨性、表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性,满足了当代人对电子产品的需求。
附图说明
图1为一种实施例所述的具有金属质感的有机材料壳体的结构图。
图2为一种实施例所述的具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法的流程图。
具体实施方式
实施例1
如图1所示,为符合本实施例所述的一种具有金属质感的有机材料壳体,包括由下而上依次堆积在有机材料层上的金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层,其中所述有机材料层由一种或者多种有机材料组成。
本实施例根据离子扩散的机理来改变有机材料层的表面组成,在一定的温度、真空度和时间下把所述有机材料层放入阻蒸镀膜设备内,靶材在电子枪的轰击下离子化,金属离子因扩散而沉积在有机材料层表面,从而使有机材料层表面呈现金属质感。并且金属铬膜层和金属铝膜层的设置可以使得整个表面的光泽度较高。由于金属铝容易氧化变色,所述二氧化硅膜层设置在所述金属铝膜层的表面可以有效的起到防氧化的作用,同时可以为后续的AF膜层打底,提高所述AF膜层的附着力,膜层间的稳定性较强。
最后再堆积一层AF膜层,众所周知,所述AF膜为高透防指纹AF膜,既能有效防指纹防油防灰尘,又具有非常高的透光率,同时没有磨砂膜那种雾面的感觉,表面光泽度高,耐磨性强。通过采用本实施例所述的具有金属质感的有机材料壳体制成的电子产品,可以很好地满足当代人的使用需求。
优选地所述金属铬膜层的厚度为160nm,所述金属铝膜层的厚度为35nm,所述二氧化硅膜层的厚度为20nm,所述AF膜层的厚度为0.5nm。所述金属铬膜层、所述金属铝膜层、所述二氧化硅膜层和所述AF膜层的整体厚度仅为215.5nm,使得整个具有金属质感的有机材料壳体具有轻薄的特点。
本领域技术人员应当知晓,上述所述的金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层的厚度的选择只是一种较优的实施方式,并非用于对本实施例的限制,其他显而易见的数据变化均在本实施例的保护范围之内。
在一实施例中所述有机材料优选为有机玻璃,在另一实施例中所述有机材料优选为棉、麻、化纤、塑料、橡胶中的一种或者多种。本领域技术人员应当知晓,上述所述的有机材料的选择只是为了可以充分说明本实施例所述的技术方案,而非用于对本实施例的限制,其他显而易见的材料变化和替换均在本实施例的保护范围之内。
本实施例所述的一种具有金属质感的有机材料壳体,通过在有机材料层上逐层堆积金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层,从而获得金属质感,所获得的有机材料壳体具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐磨性、表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性,满足了当代人对电子产品的需求。
实施例2
如图2所示,为符合本实施例所述的一种具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,包括如下步骤:
S1:将有机材料面板加工成具有指定形状的有机材料层;
S2:在阻蒸镀膜设备上对真空度、加热温度以及金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层的厚度值进行设定,开启所述阻蒸镀膜设备在所述具有指定形状的有机材料层上依次镀上金属铬、金属铝、二氧化硅形成有机材料壳体半成品;
S3:在所述阻蒸镀膜设备上对真空度、加热温度以及AF膜层的厚度值进行设定,开启所述阻蒸镀膜设备在所述有机材料壳体半成品上镀上AF膜层,获得具有金属质感的有机材料壳体;
S4:对所述具有金属质感的有机材料壳体进行质量检测,合格后进行包装。
本实施例根据离子扩散的机理来改变有机材料层的表面组成,在一定的温度、真空度和时间下把所述有机材料层放入阻蒸镀膜设备内,靶材在电子枪的轰击下离子化,金属离子因扩散而沉积在有机材料层表面,从而使有机材料层表面呈现金属质感。并且金属铬膜层和金属铝膜层的设置可以使得整个表面的光泽度较高。由于金属铝容易氧化变色,所述二氧化硅膜层设置在所述金属铝膜层的表面可以有效的起到防氧化的作用,同时可以为后续的AF膜层打底,提高所述AF膜层的附着力,膜层间的稳定性较强。
最后再堆积一层AF膜层,众所周知,所述AF膜为高透防指纹AF膜,既能有效防指纹防油防灰尘,又具有非常高的透光率,同时没有磨砂膜那种雾面的感觉,表面光泽度高,耐磨性强。通过采用本实施例所述的具有金属质感的有机材料壳体制成的电子产品,可以很好地满足当代人的使用需求。
所述步骤S2具体包括:
S21:在所述阻蒸镀膜设备上将真空度设定为7.0×10-6Torr、加热温度设定为50℃,所述金属铬膜层厚度设定为160nm、所述金属铝膜层厚度设定为35nm、所述二氧化硅膜层厚度设定为20nm;
S22:在所述阻蒸镀膜设备内冲入氩气一分钟之后开启离子源轰击所述具有指定形状的有机材料层的表面并持续三分钟后关闭所述离子源;
S23:自动开启所述阻蒸镀膜设备内电子枪,对铬靶材进行轰击,当所述金属铬膜层厚度达到设定值后,电子枪自动关闭;
S24:自动启动阻蒸工序,当所述金属铝膜层厚度达到设定值后,关闭所述阻蒸工序;
S25:放置材料坩埚自行运转二氧化硅材料的位置使其对准电子枪,启动电子枪,对所述二氧化硅材料进行轰击,当所述二氧化硅膜层厚度达到设定值后,关闭电子枪,所述阻蒸镀膜设备自行运转至破真空状态。
此处在所述阻蒸镀膜设备启动前需要将铝丝缠绕钨角丝上,放入阻蒸处。继而在阻蒸过程中利用钨丝通电产生的高能量将固体蒸发完成整个阻蒸过程。并且以上所述的步骤均可以在设定数值后自动运行,无需再人工操作。本领域技术人员应当知晓,本实施例所述的破真空状态是相对于所述真空状态而言的。
所述步骤S3具体包括:
S31:在所述阻蒸镀膜设备上将真空度设定为2.5×10-5Torr、加热温度设定为50℃,所述AF膜层厚度设定为0.5nm;
S32:启动阻蒸工序,当所述AF膜层厚度达到设定值后,关闭所述阻蒸工序,所述阻蒸镀膜设备自行运转至破真空状态。
此处需要在阻蒸处取下钨角丝,放入钼舟,然后在钼舟内放入AF药丸。通过所述钼舟通电产生的高能量将所述AF药丸蒸发完成整个阻蒸过程。并且以上所述的步骤均可以在设定数值后自动运行,无需再人工操作。
在一实施例中所述有机材料优选为有机玻璃,在另一实施例中所述有机材料优选为棉、麻、化纤、塑料、橡胶中的一种或者多种。本领域技术人员应当知晓,上述所述的有机材料的选择只是为了可以充分说明本实施例所述的技术方案,而非用于对本实施例的限制,其他显而易见的材料变化和替换均在本实施例的保护范围之内。
所述步骤S1具体包括:
S11:将有机材料面板加工成具有预定尺寸的有机面板板材,并将检测合格的流入所述步骤S12;
S12:给所述有机面板板材贴覆保护膜;
S13:对所述有机面板板材进行精加工,使得所述有机面板板材具有指定形状;
S14:撕去所述保护膜并进行相应的清洁和检查,获得具有指定形状的有机材料层。
所述步骤S12中的保护膜旨在保护所述有机面板板材,可以为双面贴覆保护膜,或者单面贴覆保护膜,本领域技术人员完全可以根据实际使用需求进行相应设定,本实施例不对此进行限定。所述步骤S13中的精加工过程所采用的技术手段为本领域技术人员常规技术手段,此处不在赘述。
本实施例所述的一种具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,通过在有机材料层上逐层堆积金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层、AF膜层,从而获得金属质感,所获得的有机材料壳体具有膜层稳定性强,膜层薄,有更强的耐磨性、表面光泽度高、防指纹耐脏污等优良特性,满足了当代人对电子产品的需求。
以上对本发明的实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本发明创造的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明创造的实施范围。凡依本发明创造申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。
Claims (5)
1.一种具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1:将有机材料面板加工成具有指定形状的有机材料层;
S2:在阻蒸镀膜设备上对真空度、加热温度以及金属铬膜层、金属铝膜层、二氧化硅膜层的厚度值进行设定,开启所述阻蒸镀膜设备在所述具有指定形状的有机材料层上依次镀上金属铬、金属铝、二氧化硅形成有机材料壳体半成品;
S3:在所述阻蒸镀膜设备上对真空度、加热温度以及AF膜层的厚度值进行设定,开启所述阻蒸镀膜设备在所述有机材料壳体半成品上镀上AF膜层,获得具有金属质感的有机材料壳体;
S4:对所述具有金属质感的有机材料壳体进行质量检测,合格后进行包装;
其中所述步骤S3具体包括:
S31:在所述阻蒸镀膜设备上将真空度设定为2.5×10-5Torr、加热温度设定为50℃,所述AF膜层厚度设定为0.5nm;
S32:启动阻蒸工序,当所述AF膜层厚度达到设定值后,关闭所述阻蒸工序,所述阻蒸镀膜设备自行运转至破真空状态。
2.如权利要求1所述的具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,其特征在于,所述步骤S2具体包括:
S21:在所述阻蒸镀膜设备上将真空度设定为7.0×10-6Torr、加热温度设定为50℃,所述金属铬膜层厚度设定为160nm、所述金属铝膜层厚度设定为35nm、所述二氧化硅膜层厚度设定为20nm;
S22:在所述阻蒸镀膜设备内冲入氩气一分钟之后开启离子源轰击所述具有指定形状的有机材料层的表面并持续三分钟后关闭所述离子源;
S23:自动开启所述阻蒸镀膜设备内电子枪,对铬靶材进行轰击,当所述金属铬膜层厚度达到设定值后,电子枪自动关闭;
S24:自动启动阻蒸工序,当所述金属铝膜层厚度达到设定值后,关闭所述阻蒸工序;
S25:放置材料坩埚自行运转二氧化硅材料的位置使其对准电子枪,启动电子枪,对所述二氧化硅材料进行轰击,当所述二氧化硅膜层厚度达到设定值后,关闭电子枪,所述阻蒸镀膜设备自行运转至破真空状态。
3.如权利要求1所述的具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,其特征在于,所述有机材料面板的材料为有机玻璃。
4.如权利要求1所述的具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,其特征在于,所述有机材料面板的材料为棉、麻、化纤、塑料、橡胶中的一种或者多种。
5.如权利要求1-4任一任一所述的具有金属质感的有机材料壳体的镀膜方法,其特征在于,所述步骤S1具体包括:
S11:将有机材料面板加工成具有预定尺寸的有机面板板材,并将检测合格的流入所述步骤S12;
S12:给所述有机面板板材贴覆保护膜;
S13:对所述有机面板板材进行精加工,使得所述有机面板板材具有指定形状;
S14:撕去所述保护膜并进行相应的清洁和检查,获得具有指定形状的有机材料层。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410182978.4A CN103924199B (zh) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410182978.4A CN103924199B (zh) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103924199A CN103924199A (zh) | 2014-07-16 |
CN103924199B true CN103924199B (zh) | 2016-02-24 |
Family
ID=51142586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410182978.4A Active CN103924199B (zh) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103924199B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104498876B (zh) * | 2014-12-25 | 2017-02-08 | 江西昌佳鑫科技有限公司 | 摄像头盖板的真空镀膜方法 |
CN105563557A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-11 | 苏州安洁科技股份有限公司 | 一种使得刀模表面不粘刀的方法及对应的刀模结构 |
WO2017204752A1 (en) * | 2016-05-26 | 2017-11-30 | Kimpai Lamitube Co., Ltd. | Multi layered flexible sheet with high specular gloss |
CN106400011B (zh) * | 2016-09-18 | 2020-06-09 | 惠州Tcl移动通信有限公司 | 一种结合af镀膜的深灰色锌合金表面处理方法 |
CN110139508B (zh) * | 2018-02-09 | 2021-05-14 | 华为技术有限公司 | 复合材料、加工复合材料的方法、壳体以及终端 |
CN109852928A (zh) * | 2019-03-05 | 2019-06-07 | 昆山金百辰金属科技有限公司 | 多层离子环保镀 |
CN113088965B (zh) * | 2019-12-23 | 2022-09-09 | 深圳市万普拉斯科技有限公司 | 壳体及其制作方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5272015A (en) * | 1991-12-19 | 1993-12-21 | General Motors Corporation | Wear resistant hyper-eutectic aluminum-silicon alloys having surface implanted wear resistant particles |
CN101209904A (zh) * | 2006-12-26 | 2008-07-02 | 比亚迪股份有限公司 | 一种镀膜玻璃 |
CN202208152U (zh) * | 2011-09-06 | 2012-05-02 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 一种触摸屏用防指纹膜 |
CN203976898U (zh) * | 2014-04-30 | 2014-12-03 | 苏州安洁科技股份有限公司 | 一种具有金属质感的有机材料壳体 |
-
2014
- 2014-04-30 CN CN201410182978.4A patent/CN103924199B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5272015A (en) * | 1991-12-19 | 1993-12-21 | General Motors Corporation | Wear resistant hyper-eutectic aluminum-silicon alloys having surface implanted wear resistant particles |
CN101209904A (zh) * | 2006-12-26 | 2008-07-02 | 比亚迪股份有限公司 | 一种镀膜玻璃 |
CN202208152U (zh) * | 2011-09-06 | 2012-05-02 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 一种触摸屏用防指纹膜 |
CN203976898U (zh) * | 2014-04-30 | 2014-12-03 | 苏州安洁科技股份有限公司 | 一种具有金属质感的有机材料壳体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103924199A (zh) | 2014-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103924199B (zh) | 一种具有金属质感的有机材料壳体及其镀膜方法 | |
WO2004106582A3 (en) | Physical vapor deposition of titanium-based films | |
CN103305802A (zh) | 电子产品金属表面pvd薄膜及其制备方法 | |
CN107254662B (zh) | 蓝色复合薄膜及其制备方法 | |
CN109554680A (zh) | 一种卷绕式真空镀膜机 | |
US20120207988A1 (en) | Coated glass and method for making the same | |
Kulczyk-Malecka et al. | Investigations of diffusion behaviour in Al-doped zinc oxide and zinc stannate coatings | |
Kim et al. | Effect of substrate temperature on the structural, electrical, and optical properties of GZO/ZnO films deposited by radio frequency magnetron sputtering | |
CN106242313A (zh) | 一种耐磨耐高温低辐射镀膜玻璃的镀膜方法 | |
CN105568239B (zh) | 一种蓝色真空镀膜方法 | |
CN101497992A (zh) | 用等离子体轰击制备绒面氧化锌透明导电镀膜玻璃的方法 | |
CN101654331A (zh) | 一种制备绒面ZnO透明导电镀膜玻璃的方法 | |
CN204966512U (zh) | 一种双层tco的cigs太阳能电池 | |
CN106684184A (zh) | 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池窗口层及其制备方法 | |
Wang et al. | Development of natively textured surface hydrogenated Ga-doped ZnO-TCO thin films for solar cells via magnetron sputtering | |
CN103140067A (zh) | 壳体及其制作方法 | |
CN107620047A (zh) | 一种用于pvd镀膜的反应腔室以及加工方法 | |
CN102683435A (zh) | 薄膜太阳能电池用导电玻璃及其制备方法 | |
KR101512063B1 (ko) | 다층박막이 코팅된 투명전도막의 제조방법, 제조 방법에 의해 제조된 다층 박막형 투명 전도막, 및 다층 박막형 투명 전도 제조 장치 | |
CN108642463A (zh) | 一种用于太阳能电池前电极复合薄膜的制备方法 | |
CN105063557A (zh) | 一种定向增加ito导电膜阻值的方法 | |
Heo et al. | Deposition of amorphous zinc indium tin oxide and indium tin oxide films on flexible poly (ether sulfone) substrate using RF magnetron Co-sputtering system | |
CN203976898U (zh) | 一种具有金属质感的有机材料壳体 | |
Ritz et al. | Atmospheric pressure dielectric barrier discharge (DBD) for post-annealing of aluminum doped zinc oxide (AZO) films | |
CN102723441A (zh) | 高功函数多层导电膜及其制备方法、有机电致发光器件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |