CN209194045U - 钛离子电镀膜饰品 - Google Patents
钛离子电镀膜饰品 Download PDFInfo
- Publication number
- CN209194045U CN209194045U CN201821176521.2U CN201821176521U CN209194045U CN 209194045 U CN209194045 U CN 209194045U CN 201821176521 U CN201821176521 U CN 201821176521U CN 209194045 U CN209194045 U CN 209194045U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- ion
- conductance
- ornaments
- plated film
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims description 7
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 23
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 12
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 7
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 6
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims description 4
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 claims 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 claims 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract description 10
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010421 TiNx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009500 colour coating Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种饰品，包括：一个基材(1)，所述基材表面包括至少一个凹凸位(2)；及一个均匀地附着所述凹凸位的涂层(3)；其中，所述涂层(3)是包括钛成分的离子电镀膜，所述凹凸位的纵横比是2至6。
Description
技术领域
本实用新型涉及饰品涂层。
背景技术
目前市场上出现的足金和K金饰品，表面有色涂层是用传统的电镀、电泳或涂油技术生产的，涂层材料有黑铑、黑钌、白铑、黄金等金属和珐琅、聚脂等非金属。这种做法可以满足一般的饰件生产，但无法同时满足颜色均匀、与基材的密着性、耐磨耐药品耐大气环境、涂层薄、快速和大量生产的要求。如市面现有的有色饰件，其有色表面只能满足以上部份要求。离子电镀膜可以解决上述涂层技术的多种问题，可是如果饰品的表面上有超过一定纵横比的凹凸位，形成高低电位差别大，一般的离子电镀膜会在凹凸位内造成有色涂层颜色不均，甚至基材外露。因此，市面上有离子电镀膜的饰品一般不能有纵横比较大的凹凸位，现有技术的一般纵横比在2以下。
实用新型内容
针对上述现有技术的不足，本实用新型的主要目的在于满足以上各项质量要求，提供一种用离子电镀膜技术制造的饰品。
在一个实施例，本实用新型提供的饰品包括：一个基材(1)，所述基材表面包括至少一个凹凸位(2)；及一个均匀地附着所述凹凸位的涂层(3)；其特征是：所述涂层 (3)是包括钛成分的离子电镀膜，所述凹凸位的纵横比是2至6。在另一实施例，所述基材(1)具有纵横比较大凹凸位(2)，所述纵横比如图1A所表示。
在一个实施例，所述凹凸位的所述凹凸位的深度是0.08至1.07mm。在另一个实施例，宽度是0.04至0.5mm。
在一个实施例，所述涂层是碳化钛(TiC)离子电镀膜。在另一个实施例，所述 TiC离子电镀膜的特性是硬度为≥4H、厚度为0.5～1.5μm、颜色的L数值为≤37。在另一个实施例，所述颜色的L数值为36-37、a数值为0±2、b数值为0±2。
在一个实施例，所述基材是足金或K金。在另一个实施例，所述基材是不规则形状。在一个实施例，所述基材表面至少一个部分已经喷砂、抛光、拉丝或打磨。
在一个实施例，所述饰品包括戒指、手链、串珠、耳环、项链、吊饰、手镯、头饰、脚链、摆设、企礼、衣服配饰。
在一个实施例，检测所述涂层(3)是否成功的特性包括所述涂层(3)的颜色、成分、硬度、厚度、均勻度中的一种或多种。
在一个实施例，所述涂层的颜色包括黑色、枪色、红色、粉红、黄色、绿色、蓝色、紫色和彩色。
在一个实施例，本实用新型进一步提供一个以离子电镀膜的方法制造的饰品，所述方法包括：将至少一个基材(1)置于一个真空式物理气相沉积设备内；调整所述真空式物理气相沉积设备的参数；及在所述基材上进行离子电镀产生涂层(3)。
在一个实施例，所述基材(1)是足金或K金。在另一个实施例，所述基材(1)表面包括至少一个凹凸位(2)。在另一个实施例，所述凹凸位(2)的纵横比是2至6。
在一个实施例，所述真空式物理气相沉积设备的参数选自真空度、电流供应模式、溅射电流、溅射电压、温度、时间、靶材、反应气体中的一种或多种。
在一个实施例，所述反应气体选自氩气、乙炔、氧气、二氧化碳和氮气中的一种或以上。
通过使用不同的参数，可令涂层展现如表1所列的不同颜色和成分。
表1:涂层颜色和成分
| 涂层颜色 | 涂层成分 |
| 黑色、枪色 | TiC<sub>x</sub> |
| 红色、蓝色、紫色、彩色 | TiO<sub>x</sub> |
| 绿色、粉红 | TiC<sub>x</sub>O<sub>y</sub> |
| 黄色 | TiN<sub>x</sub> |
附图说明
图1A是一个具有较大纵横比凹凸位(2)的基材(1)。
图1B是在图1A的基材进行离子电镀产生涂层(3)。
图1C显示把图1B的凹凸位(2)外的涂层(3)移除后的基材。
图2是以离子电镀膜的方法制造饰品的流程。
具体实施方式
本实用新型的一个实施例如下：
本实用新型提供一种用于饰品上的离子电镀膜，所述离子电镀膜包含钛(Ti)分子。它适用为一种具有较高硬度的涂层，涂层和基材表面之间的附着力大，耐磨耐药品耐大气环境高。
由于很多金饰的表面有很多凹凸位和不规则形状，在涂层时形成高低电位差别大，会造成有色涂层颜色不均，甚至基材外露。Ti离子电镀配合不同的操作条件可以有效地改善涂层颜色不均的问题。本实用新型利用目前真空离子电镀机具备的三种独特溅射沉积设计和表2的操作条件，即使工件的凹凸位置的纵横比(aspect ratio)在2.3至5.4或以上，其不同位置的色度相比一般镀膜均匀，Ti镀膜的硬度亦可达至4H以上。第一，本实用新型在真空离子电镀机系统里面使用了一种非平衡磁控溅射系统设计，其功能可以加强的离化溅射效能，有效地激发气体原子而产生等离子体，以潜在于的能量碰撞钛靶材而凝成钛金属的等离子体，溅射镀层于工件表面，提供到高效能量及贯穿渗透力到工件的凸凹位和部份的缝隙位，从而沉积到更致密镀层，结合力更强，更有均匀的膜层。第二，在离子电镀设备里使用一种闭合磁场磁控溅射设计，是将两个磁控溅射靶座面对面设定在一起，工件转动在两个磁控溅射靶座面前运行转动，其特征能够将电子被集于磁场内的空间，当启动电源更有效地激发等离子体。溅射靶座内的结构磁场排列阵是N-S-N,而另一边溅射靶是S-N-S的设计方式，可以将两组磁控靶的南和北极方位磁场联贯在一起，其功能将电子就能被集中于磁场在镀膜区域内和两个靶之间运动，避免了电子的流失，从而增加了镀膜区域的离子浓度，可以进一步加大电离化的能量，大幅度提高了溅射效率，更均匀地沉积镀膜在工件表面。第三，在离子电镀设备具体一种三维转动工件设计，能带动工件自行转动而进行溅射沉积镀膜工艺。此设计是工件转架的底部由外部机械马达通过齿轮进行一维公转转动，并带动行星齿轮的二维的工件挂具转动，再传达转动每一组的分支工件挂具的机械齿轮，再由拨片令工件挂具的底部齿轮自行转动，为三维工件转动方式。其功能有效地转动工件，让工件表面每一处都能均匀地受溅射镀膜，能加大生产能力和保证镀层均匀性。
综合上述的技术方案，本实用新型的离子电镀膜的制作条件如表2所示。
表2:黑色TiC离子电镀膜操作条件
按照表2的制作条件所产成的黑色涂层具有表3的特性:
表3:黑色TiC离子电镀膜特性
含Ti离子电镀膜的饰件的制作流程如图2。步骤(a)如图1B，离子电镀在基材
(1)上产生涂层(3)。步骤(b)如图1C，凹凸位(2)外的涂层(3)被移除。步骤 (c)如图1A，如果饰件不合格，可把基材还原。
为达到饰件覆盖Ti离子电镀膜目的，使用一种真空式物理气相沉积设备，其包括气相沉积真空室、与该气相沉积真空室相连的抽气系统、充气系统及电气控制系统，所述气相沉积真空室中设有至少一个磁控式溅射阴极、至少一个可调式磁控等离子平面电极及加热系统。
所述气相沉积真空室内设有筒状的工件转架，筒状型设计可使饰件更容易放在气相沉积真空室内，该工件转架的筒壁位于磁控式溅射阴极之间及可调式磁控等离子平面电极之间，且所述工件转架与所述气相沉积真空室绝缘。
所述工件转架底部由外部机械马达通过齿轮进行驱动并进行自转。工件转架进行自转的目的是可以令Ti离子电镀膜更均匀地覆盖在凹凸位和不规则的饰件上。
完成Ti离子电镀膜后的饰件会按照款式分类，进行不同的后加工处理。
在其中一个实施例子中，先把不需要脱掉Ti离子电镀膜的饰件，涂上可撕性油墨，通过120℃烘干60±15分钟后，浸泡在脱色剂内15±5分钟后，再进行超声波清洗和喷蒸汽，饰件上不需要Ti离子电镀膜部份完全清除，然后撕掉油墨，加上后续喷砂、抛光和清洗工艺完成。
在其中一个实施例子中，先把不需要脱掉Ti离子电镀膜的饰件，涂上可撕性油墨，通过120℃烘干60±15分钟后，浸泡在脱色剂内15±5分钟后，再进行超声波清洗和喷蒸汽，饰件上不需要Ti离子电镀膜部份完全清除，然后撕掉油墨，加上后续拉丝或打磨工艺完成。
以上也可以通过夹具设计去改变Ti离子电镀膜在饰件上的覆盖范围，可利用夹具覆盖饰件不需要Ti镀膜的地方，镀膜完成后无需使用脱色剂脱色，直接进行后续喷砂、抛光、拉丝或打磨的后加工处理，可有效地节省时间。
假若需要进行脱色返工工序，先把Ti离子电镀膜的饰件，浸泡在脱色剂内15±5分钟后，再进行超声波清洗和喷蒸汽，饰件上的Ti离子电镀膜完全清除。
以上述方法制作的饰品，如表4所示纵横比可达5以上。
表4：饰品凹凸位的纵横比
本实用新型提及的制作流程、工艺、物料、设备及涂层特性等均包括应用于所有种类和款式的足金及K金饰件上。
以上所述，仅为本实用新型的实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种饰品，包括：
a.一个基材(1)，所述基材表面包括至少一个凹凸位(2)；及
b.一个均匀地附着所述凹凸位的涂层(3)；
其特征是：所述涂层(3)是包括钛成分的离子电镀膜，所述凹凸位的纵横比是2至6。
2.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：所述包括钛成分的离子电镀膜是碳化钛离子电镀膜。
3.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：所述包括钛成分的离子电镀膜选自氧化钛离子电镀膜、碳氧化钛离子电镀膜、氮化钛离子电镀膜。
4.根据权利要求2所述的饰品，其特征是：所述碳化钛离子电镀膜的特性是硬度为≥4H、厚度为0.5～1.5μm、颜色的L数值为≤37。
5.根据权利要求4所述的饰品，其特征是：所述颜色的L数值为36-37、a数值为0±2、b数值为0±2。
6.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：所述基材是足金或K金。
7.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：所述基材是不规则形状。
8.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：所述至少一个凹凸位外的表面已经喷砂、抛光、拉丝或打磨。
9.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：选自摆设、企礼和衣服配饰。
10.根据权利要求1所述的饰品，其特征是：选自戒指、手链、串珠、耳环、项链、吊饰、手镯、头饰、脚链。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| HK18156289 | 2018-04-30 | ||
| HK18156289 | 2018-04-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN209194045U true CN209194045U (zh) | 2019-08-02 |
Family
ID=67403353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201821176521.2U Active CN209194045U (zh) | 2018-04-30 | 2018-07-24 | 钛离子电镀膜饰品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN209194045U (zh) |
-
2018
- 2018-07-24 CN CN201821176521.2U patent/CN209194045U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Constantin et al. | Performance of hard coatings, made by balanced and unbalanced magnetron sputtering, for decorative applications | |
| US8697249B1 (en) | Coated article | |
| TW201323636A (zh) | 鍍膜件及其製備方法 | |
| TW201311102A (zh) | 殼體及其製備方法 | |
| CN112281125B (zh) | 复合金属薄膜及其制备方法和应用 | |
| JP2014156116A (ja) | ハウジング及びその製造方法 | |
| JP6847297B1 (ja) | 装飾的な面の作製方法 | |
| TW201325367A (zh) | 殼體及其製作方法 | |
| CN107236924A (zh) | 装饰品以及钟表 | |
| CN209194045U (zh) | 钛离子电镀膜饰品 | |
| CN112342512A (zh) | 蓝黑色金属薄膜及其制备方法和应用 | |
| CN104451560A (zh) | 一种氮化钛铝锆铌氮梯度仿金装饰膜层的制备方法 | |
| TW201326447A (zh) | 真空鍍膜件及其製造方法 | |
| JP2002206161A (ja) | 装飾成形部材およびその製造方法 | |
| TWM573348U (zh) | 鈦離子電鍍膜飾品 | |
| JPS6270599A (ja) | 装飾品における多色被膜形成方法 | |
| JP2007254851A (ja) | 金属酸化物被膜及び金属酸化物被膜被覆部材 | |
| JPS6138265B2 (zh) | ||
| JPH02104680A (ja) | 表面化粧処理方法 | |
| TW201326438A (zh) | 鍍膜件及其製備方法 | |
| CN212688170U (zh) | 蓝黑色金属薄膜和镀膜制品 | |
| JP2007254853A (ja) | 金属酸化物被膜及び金属酸化物被膜被覆部材 | |
| TW201309151A (zh) | 殼體及其製作方法 | |
| JP2007254850A (ja) | 金属酸化物被膜及び金属酸化物被膜被覆部材 | |
| CN102732828A (zh) | 镀膜件及其制作方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |