TW201216011A - Light irradiation apparatus - Google Patents

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TW201216011A
TW201216011A TW100129063A TW100129063A TW201216011A TW 201216011 A TW201216011 A TW 201216011A TW 100129063 A TW100129063 A TW 100129063A TW 100129063 A TW100129063 A TW 100129063A TW 201216011 A TW201216011 A TW 201216011A
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TW
Taiwan
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light
light source
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irradiated
discharge lamp
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TW100129063A
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English (en)
Inventor
Shigenori Nakata
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Ushio Electric Inc
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    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Description

201216011 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於爲了形成線狀圖案所使用之光照 ,更詳述來說,關於例如於圖案化相位差薄膜的製 中,爲了將光照射至光聚合性液晶材料或光配向膜 的光照射裝置。 【先前技術】 3D映像顯示裝置係表現3維立體映像者,作 3D映像顯示裝置,先前開發有電影用及電視再生 因爲今後期待可利用於遊樂場設施、店舖顯示器、 的用途,近年來受到注目。 3D映像顯示裝置係藉由將偏光的振動方向不 眼用映像及左眼用映像,經由由僅透射右眼用映像 光板右眼用透鏡,與僅透射左眼用映像的附偏光板 透鏡所構成的偏光眼鏡來捕捉,於觀察者中,左眼 及右眼用映像的合成映像被辨識作爲1個立體映像 ,此種3D映像顯示裝置係例如專利文獻1所記載 然後,於3D映像顯示裝置中,爲了區別觀察 眼及右眼所分別辨識之左眼用映像及右眼用映像, 案化相位差薄膜。 又,於液晶顯示裝置等中,作爲提升其性能的 提案有使用具有液晶聚合物層之圖案化相位差薄膜 專利文獻2)。 射裝置 造工程 所適用 爲此種 用者, 醫療等 同之右 的附偏 左眼用 用映像 的構造 者的左 使用圖 手段, (參照 -5- 201216011 此種圖案化相位差薄膜係如圖18(A)所示,對於薄 膜基材90上隔著配向膜9 1所形成之光聚合性液晶材料層 92,經由各別線狀之多數遮光部96及多數透光部97交互 並排之方式配置所成的遮罩95,照射光線,藉此,如圖 1 8 ( B )所示,形成條紋狀之圖案的液晶聚合物層93,之 後,藉由去除殘存之光聚合性液晶材料層92來取得。 於此種圖案化相位差薄膜的製造中,藉由將紫外光等 的活性能量線對於光聚合性液晶材料層92進行廣範圍照 射來提升量產性,通常使用具備長弧型放電燈的光照射裝 置,遮罩95係以遮光部96及透光部97所延伸之方向( 於圖18中垂直於紙面的方向)正交於長弧型放電燈的長 邊方向之方式配置。 然而,於此種光照射裝置中,有以下問題。 亦即,因爲長弧型放電燈爲線光源,無法藉由光學系 ,使從放電燈放射之光線,於該當放電燈的長邊方向中相 互平行的平行光。爲此,如圖19所示,透射遮罩95的透 光部97之光的一部份,於遮罩95,斜交於其面方向並射 入’藉此’照射位於身爲被照射物的光聚合性液晶材料層 92之遮光部96的緣部正下之區域,結果,難以形成具有 忠於遮罩95的圖案且高解析度圖案的液晶聚合物層93。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2002-185983號公報 201216011 [專利文獻2]日本特開2009-276664號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 本發明係有鑑於以上狀況所發明者,其目的爲 形成忠於遮罩之圖案且高解析度之圖案的光照射裝 [用以解決課題之手段] 本發明的光照射裝置,其特徵爲具備: 光射出部,係具有由短弧型的放電燈,及以包 放電燈之方式配置,將來自該當放電燈的光線反射 光軸平行方向的反射器所構成之光源元件複數並排 向而配置所成的光源元件列;及 遮罩,係各別往垂直於前述一方向的方向延伸 的多數遮光部及多數透光部,交互並排於前述一方 置所構成; 各別具有光吸收性的複數遮光板,係以各別沿 反射器的光軸,對於前述一方向垂直延伸之姿勢, 前述一方向而配設。 於本發明的光照射裝置中,前述反射器,係具 光軸爲中心之旋轉拋物面狀的光反射面者; 更具備由具有剖面爲拋物線狀之光反射面的柱 構成的聚光構件之構造爲佳。 又,於本發明的光照射裝置中,前述光射出部 提供可 置。 圍該當 至與其 於一方 之線狀 向而配 著前述 並排於 有以其 面鏡所 ,係具 201216011 有分別延伸於同方向之至少兩個光源元件列;該等光源元 件列,係以連結1個光源元件列相關之光源元件之放電燈 的電極間中心點,與最接近該當光源元件,其他光源元件 列相關之光源元件之放電燈的電極間中心點的直線,與延 伸於前述一方向之直線斜交之方式配置之構造爲佳。 進而,於本發明的光照射裝置中,前述遮光板,係由 並設於前述反射器的光軸方向之複數遮光板構成構件所構 成之構造爲佳。 進而,於本發明的光照射裝置中,可作爲具有將被照 射物搬送至前述遮罩之透光部所延伸的方向之搬送手段; 前述被照射物爲薄膜狀者; 前述搬送手段,係具有接觸前述被照射物,進行搬送 的滾筒: 前述聚光構件,係將來自前述光射出部的光線,聚光 成延伸於前述一方向的線狀,於接觸前述滾筒之處中照射 至前述被照射物之構造。 [發明的效果] 依據本發明的光照射裝置,基本上,作爲構成光源元 件的放電燈,使用身爲點光源的短弧型者,藉由以將具有 此種放電燈之複數光源元間並排於一方向之方式配置所成 的光源元件列來構成光射出部,故可使從各光源元件之放 電燈射出之光線,藉由光源元件之各反射器及聚光構件, 成爲於光源元件並排的一方向中相互平行的平行光。而且 -8- 201216011 ,藉由設爲各別具有光吸收性的複數遮光扳以各別沿著前 述反射器的光軸,對於前述一方向垂直延伸之姿勢,並排 於前述一方向而配設之構造,可將起因於構成放電燈之發 光部的例如玻璃材料的厚度大小及其不均一性所致之透鏡 效果所產生之光的折射,及反射器之光反射面的加工精度 ,從理想的光路徑(平行於反射器之光軸的光路徑)偏離 而從各光源元件射出之光線(以下稱爲「雜光」),藉由 遮光板吸收並加以遮光,故可從光射出部射出更高階之平 行度的平行光。所以,防止或抑制位於被照射物之遮罩的 遮光部正下區域被照射光,結果,於被照射物中,可形成 忠於遮罩的圖案且高解析度的圖案。 【實施方式】 以下,針對本發明的實施形態,進行詳細說明。 [第1實施形態] 圖1係揭示關於本發明第1實施形態之光照射裝置的 構造槪略的立體圖,圖2係揭示以A-A線切斷圖1所示 之光照射裝置的側面剖面圖,圖3係揭示以B-B線切斷圖 1所示之光照射裝置的俯視剖面圖,圖4係揭示關於第1 實施形態的光照射裝置之光射出部的構造槪略的前視圖。 關於此第1實施形態的光照射裝置,係例如爲了製造 圖案化相位差薄膜所使用者,具備:具有複數例如3個以 上的光源元件1 2所構成之光源元件列1 1的光射出部1 〇 • 9 - 201216011 、將來自此光射出部1〇的光線,聚光成往後述之光源元 件12並排之一方向延伸之線狀的聚光構件20、將來自此 聚光構件20的光線,修整爲條紋狀的遮罩30、及用以搬 送例如由相位差薄膜製造用的光聚合性液晶材料或配向膜 材料所構成之被照射物W的搬送手段40。 於構成光射出部10的光源元件列11中,光源元件 12各別以並排於一方向(於圖2中爲垂直於紙面的方向 。以下將此一方向稱爲「X方向」。)之方式配置。光源 元件列1 1之光源元件1 2係各別具有於發光管1 4內配置 沿著其管軸而相互對向之一對電極(省略圖示)所構成之 短弧型放電燈13、及以包圍該放電燈13之方式配置,將 來自該當放電燈13的光線,反射至與其光軸平行方向的 反射器1 5。 作爲放電燈1 3,係可使用例如於由石英玻璃等的玻 璃材料所構成之發光管14內,封入水銀、稀有氣體及鹵 素,以高效率放射例如波長270〜450nm之紫外光的超高 壓水銀燈。於此種放電燈1 3中,一對電極間的電極間距 離例如爲 0.5〜2.0mm,水銀的封入量例如爲 0.08〜 0.3 0mg/mm3。 於第1實施形態的光照射裝置中,反射器1 5係藉由 具有以其光軸C爲中心的旋轉拋物面狀之光反射面16的 抛物面鏡所構成,該當反射器15係以其光軸C位於放電 燈1 3之發光管14的管軸上,且其焦點F位於放電燈13 之電極間的亮點之方式配置,在此狀態下,藉由固定構件 -10- 201216011 1 8,固定於放電燈1 3。 又,於第1實施形態的光照射裝置中,聚光構件20 係藉由具有垂直於X方向的剖面爲拋物線狀的光反射面 21,沿著X方向延伸之柱面拋物面鏡所構成。該當聚光構 件20係以於與光射出部10之各反射器15的光軸C垂直 之光射出面17的前方,其焦點f位於被照射物W的表面 上之方式配置。 此聚光構件20係施加僅使目的之波長的紫外光反射 ,透射不需要之可視光及紅外光的冷光鏡被覆者即可。 遮罩30係X方向之長條矩形的板狀者,於聚光構件 20的下方,沿著對於該當聚光構件20所致之反射光的光 軸L垂直之平面進行配置。此遮罩30係以分別往垂直於 X方向的方向(於圖2及圖3中爲左右方向。以下,將此 方向稱爲「y方向」。)延伸之線狀的多數遮光部及多數 透光部於X方向交互並排之方式配置所成者。 圖5係揭示遮罩30的具體構造之一例的說明圖,( A)係俯視圖,(B )係側視圖。於此遮罩3 0中,於例如 由石英玻璃所構成的透光性基板31之一面,例如由鉻所 構成之多數線狀的遮光膜32以所需要間隔離間並排之方 式配置,藉由形成遮光膜32的區域,形成線狀的遮光部 35,藉由鄰接之遮光膜32之間的區域,形成透光部36。 對此遮罩3 0,如圖5 ( A )中以虛線Lb所示,射入往遮 光部35及透光部36並排之X方向延伸之帶狀的光。 被照射物W係藉由後述之搬送手段40,往y方向搬 -11 - 201216011 送,故遮罩30係對於被照射物W離間而設置。遮罩30 與被照射物W之間的最小間隔G係例如爲50〜lOOOy m ο 又,被照射物W係藉由在接觸後述之滾筒41之狀態 下被搬送,遮罩30與被照射物W之間的間隔係隨著該當 被照射物W被搬送至y方向而變動,故來自遮罩30之聚 光構件20的光線被射入的有效照射寬度,係考慮遮罩30 與被照射物W之間的間隔的允許變動値、滾筒41的半徑 ,設定縮小在可能之範圍內爲佳。此係以下理由所致。亦 即,因爲在搬送被照射物W,通過遮罩30的正下區域時 ,被照射物W與遮罩3 0之間的間隔,係首先隨著被照射 物W往y方向移動而變小,到達遮罩30之中央位置的正 下之後,隨著被照射物往y方向移動而變大,但是,最小 有效照射寬度越大,間隔的變動幅度也越大,故無法形成 後述之忠於遮罩30的圖案且高解析度的圖案。 具體來說,如圖6所示,在將遮罩30與被照射物W 之間的間隔之允許變動値設爲a,將滾筒4 1的半徑設爲r 時,有效照射寬度d可藉由d = ^ {r2 -(r-a)2 }x2來求出。 於此計算式中,理論上,必須考慮被照射物W的厚度, 但是,被照射物W的厚度係相較於滾筒41的半徑,非常 地小,故可以無視。舉出具體範例的話,在遮罩3 0與被 照射物W之間的間隔之允許變動値爲5 0 // m,滾筒4 1的 半徑r爲300mm時,有效照射寬度d爲約11mm以下爲 佳。所以,將來自前述之光射出部10之短弧型的各放電 -12- 201216011 燈13的放射光,藉由各反射器15及聚光構件20聚光成 往X方向延伸之線狀,有助於使光線聚光於有效照射寬度 d的範圍內,進而,促使形成忠於遮罩30的圖案且高解 析度的圖案。 搬送手段40係具有接觸被照射物W,搬送該當被照 射物W的滾筒41。具體來說,滾筒41係以接觸被照射物 W之處位於遮罩30的正下位置之方式,該當滾筒41的旋 轉中心軸〇往X方向延伸之姿勢配置,藉由該滾筒41旋 轉,被照射物W被搬送至y方向。 在被照射物爲薄膜狀者時,因爲搬送手段40具有接 觸被照射物W而搬送該當被照射物W的滾筒41,藉由減 少滾筒41的偏心,可將遮罩30與接觸滾筒41之薄膜壯 的被照射物W之間的間隔維持爲一定。 再者,藉由於滾筒41設置水冷機構,即使對被照射 物W照射高照度的紫外光之狀況,也可藉由接觸被照射 物W的滾筒41來冷卻被照射物W,故可防止被照射物W 的收縮等之變形。 然後,於此第1實施形態的光照射裝置中,各光源元 件1 2之反射器1 5的光射出面1 7之X方向之兩側的開口 端部附近位置中,各別具有光吸收性的複數遮光板70以 各別沿著前述反射器15的光軸C,對於X方向垂直延伸 之姿勢,與構成光源元件12之反射器15的光射出面17 之X方向的開口寬度幾近相同大小的配置間隔,並排於X 方向而配設。藉由將遮光板70配設於前述位置,可減少 -13- 201216011 於被照射物W上被聚光成線狀之光線的照度分布的影響 〇 各遮光板7〇係一端部(於圖4中爲上端部)於光源 元件列11的上方,藉由以延伸於與遮光板70垂直之方向 之方式設置的板狀之一端側支持構件75支持並固定,並 且另一端部(於圖4中爲下端部)於光源元件列11的下 方,藉由延伸於與遮光板70垂直之方向的板狀之另一端 側支持構件77支持並固定。 各遮光板70的厚度係例如0.5mm〜2mm程度爲佳, 藉此,可防止在高溫時熱變形,並且可迴避妨礙來自反射 器15的射出光。 又,各遮光板70的全長(光射出方向的尺寸)係可 依據遮光板70的排列間隔及應截斷之雜光的種類來適切 決定。具體來說,將遮光板70全長設爲Ls,遮光板70 的排列間隔設爲P時,來自光源元件1 2之雜光的射出角 度Θ係可以tan 0 = ( P/Ls )來表示,故因應欲截斷之雜 光的角度,決定遮光板7 0的全長L s與排列間隔p即可。 例如,因應光源元件1 2的排列間隔而設定之遮光板70的 排列間隔P爲23mm,欲截斷之雜光的射出角度0爲i 。 時,將遮光板70的全長Ls設爲120mm即可。 遮光板7 0係可吸收從放電燈1 3放射之紫外線並加以 遮蔽(對於紫外線的反射率較低者),並且需要爲具優良 耐熱性者’作爲構成此種遮光板70的材料,例如可例示 工程塑膠、CFRP ( Carbon Fiber Reinforced Plastics)、 -14- 201216011 聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺等的樹脂材料、陶瓷材料、或不 銹鋼等的金屬材料等。在此,遮光板70由CFRP所構成 時,使用於表面施加耐紫外線透明塗裝者,又,在由不銹 鋼所構成時,使用表示被黑色化處理之厚度1mm程度者 〇 於前述的光照射裝置中,從光射出部10射出之光線 ,經由聚光構件20及遮罩30,照射至藉由搬送手段40 往y方向被搬送的被照射物W。具體說明的話,於光射出 部10中,從光源元件列11之各光源元件12的放電燈13 放射之光,藉由該當光源元件12之反射器15的光反射面 16反射,藉此,成爲沿著該當反射器15的光軸C之平行 光,從光射出面17往聚光構件20射出。之後,成爲從光 射出部10射出之平行光的光線,係藉由聚光構件20之光 反射面21朝向下方反射,藉此,一邊被聚光成延伸於x 方向之線狀,一邊射入遮罩30。此時,射入至遮罩30的 光線係於X方向中相互平行的平行光。然後,射入至遮罩 30的光線藉由該當遮罩30之遮光部35及透光部36被修 整爲條紋狀,並照射至被照射物W,藉此,於被照射物W 之滾筒41所接觸處的表面,形成遮罩30之遮光部35及 透光部36的圖案所對應之條紋狀的光照射區域,並且被 照射物W藉由搬送手段40往y方向搬送,藉此,對於該 當被照射物W,達成所需的光照射處理》 於此種光照射裝置中,使用光聚合性液晶材料,如以 下所述,可製造圖案化相位差薄膜。 -15- 201216011 首先,如圖7(A)所示,藉由於薄膜基材51上,塗 佈液狀的配向膜用材料並使其乾燥或硬化,形成配向膜用 材料層5 2A,對於該當配向膜用材料層5 2A施加硏磨處理 ,藉此,如圖7(B)所示,於薄膜基材51上形成配向膜 52。接下來,如圖7 ( C )所示,於配向膜52上形成光聚 合性液晶材料層53A。之後,對於光聚合性液晶材料層 53 A,藉由前述光照射裝置進行選擇性曝光處理,使光聚 合性液晶材料層53A的一部份硬化,藉此,如圖7 ( D ) 所示,形成被圖案化爲條紋狀的液晶聚合物層53。然後 ,藉由去除配向膜52上之光聚合性液晶材料層53A,如 圖7(E)所示,可取得於薄膜基材51上隔著配向膜52 而條紋狀形成液晶聚合物層53所構成的圖案化相位差薄 膜。 依據第1實施形態的光照射裝置,基本上,因爲構成 光源元件12的放電燈13爲點光源的短弧型者,藉由將此 種放電燈13與具有旋轉拋物面狀之光反射面16的反射器 15所構成的複數光源元件12,以沿著X方向並排之方式 配置所構成的光源元件列1 1,來構成光射出部1 0,故從 構成該當光源元件列1 1的光源元件1 2各別之放電燈1 3 放射之光線,藉由該當光源元件1 2各別之反射器1 5,成 爲於光源元件12並排之X方向中相互平行的平行光。而 且,藉由設爲各別具有光吸收性的複數遮光板70以各別 沿著反射器15的光軸C,對於X方向垂直延伸之姿勢, 並排於X方向而配設之構造,可將起因於構成放電燈13 -16- 201216011 之發光部的例如玻璃材料的厚度大小及其不均一性所致之 透鏡效果所產生之光的折射,及反射器15之光反射面16 的加工精度,從各光源元件12未藉由反射器15捕捉而從 光射出面17直接射出之雜光,具體來說,視角較大之例 如視角超過3.5度的光線全部藉由遮光板70吸收並加以 遮光,故可從光射出部10射出更高階之平行度的平行光 。所以,來自聚光構件20的光線係如圖8所示,對於遮 罩30的透光部36,正交或略正交於其面方向射入,並透 射該當透光部3 6。所以,防止或抑制位於被照射物W之 遮罩30的遮光部35正下區域被照射光,結果,於被照射 物中,可形成忠於遮罩30的圖案且高解析度的圖案。 然後,如前述光照射裝置,於藉由複數光源元件形成 光源元件列,構成光射出部者中,爲了提高光源元件12 的排列密度而使光源元件的平均亮度提升,如圖9所示, 將具有旋轉拋物面狀之光反射面16的反射器15A之光射 出開口的開口緣(於圖9中以虛線表示)之圓周方向的4 處,設爲以從光射出方向側觀看時之光射出面1 7的開口 緣之外周輪廓成爲略方形狀之方式加工的構造者,藉此構 成各光源元件12爲佳,於具有藉由此種反射器15A構成 之光源元件12的構造者中,本發明係極爲有用者。
亦即,於具備此種反射器15A的光源元件12中,從 放電燈13朝反射器15A之光射出面17的開口緣4邊部 放射之光線,經由缺口直接射出,或如圖10所示,藉由 以於該當4邊部中封堵缺口 151之方式,與反射器15A -17- 201216011 的光軸c平行設置之區隔各光源元件12之間的光照射裝 置之間隔壁19反射而射出。由該4邊部射出之光線係成 爲例如從斜交於反射器的光軸C之理想光路徑脫離之雜光 Ml〜M3,依據本發明的光照射裝置,可將該雜光Ml〜 M3藉由遮光板70吸收並遮光,防止射入至聚光構件20 及遮罩30,進而,可確實防止照射至被照射物W,故可 確實取得前述效果。 [第2實施形態] 圖1 1係揭示關於本發明第2實施形態的光照射裝置 之光射出部的構造槪略的前視圖。此第2實施形態的光照 射裝置係除了光射出部,與第1實施形態的光照射裝置相 同構造。 此光照射裝置之光射出部1 0,係以兩個光源元件列 11A、11B相互延伸於相同方向並排之方式配置所構成。 具體說明的話,光源元件列U A、11 B各別以複數光源元 件12並排於一方向(X方向)之方式配置所構成,光源 元件1 2係各別具有短弧型放電燈1 3、及以包圍該放電燈 13之方式配置,反射來自該當放電燈13之光線的反射器 1 5 A。放電燈1 3係與第1實施形態的光照射裝置中者相 同構造。反射器1 5 A係如圖9所示,以從光射出方向前 方側觀看時之光射出面1 7的開口緣之外周輪廓爲略方形 狀之方式加工構成者。 然後,兩個光源元件列1 1 A、1 1 B係以連結一方之光 -18- 201216011 源元件列1 1 A相關之光源元件1 2之放電燈1 3的電極間 中心點,與最接近該當光源元件1 2,另一方之光源元件 列1 1 B相關之光源元件1 2之放電燈1 3的電極間中心點的 直線T,與延伸於X方向之直線X斜交之方式配置。 於此光照射裝置中,於構成一方之光源元件列11A 的各光源元件1 2之光射出面1 7的開口端附近位置,各別 具有光吸收性的複數遮光板70A以各別沿著反射器15A 的光軸C,對於X方向垂直延伸之姿勢,並以與構成光源 元件12之反射器15A的光射出面17之X方向的開口寬 度幾近相同大小的配置間隔,並排於X方向而配設,並且 於構成另一方之光源元件列11B的各光源元件12之光射 出面17的開口端附近位置,各別具有光吸收性的複數遮 光板70B以各別沿著反射器15A的光軸C,對於X方向 垂直延伸之姿勢,並以與構成光源元件12之反射器15A 的光射出面17之X方向的開口寬度幾近相同大小的配置 間隔,並排於X方向而配設。 一方之光源元件列1 1 A相關之各遮光板70A係一端 部(於圖11中爲上端部)於一方之光源元件列11A的上 方,藉由以延伸於與遮光板70A垂直之方向之方式設置 的板狀之一端側支持構件75支持並固定,並且另一端部 (於圖11中爲下端部)於一方之光源元件列11A與另一 方之光源元件列1 1 B之間的中間位置中,藉由延伸於與遮 光板70A垂直之方向的板狀之另一端側支持構件76支持 並固定。 -19 - 201216011 又,另一方之光源元件列1 1 B相關之各遮光板70B 係一端部(於圖11中爲上端部)藉由中央支持構件76支 持並固定,並且另一端部(於圖11中爲下端部)於另一 方之光源元件列11B的下方,藉由延伸於與遮光板7 0B 垂直之方向的板狀之另一端側支持構件77支持並固定。 —端側支持構件75、中央支持構件76及另一端側支 持構件77係作爲具有光吸收性者亦可,作爲不具有光吸 收性者亦可。 依據此第2實施形態的光照射裝置,可取得與第1實 施形態的光照射裝置相同之效果,並且光射出部10爲分 別延伸於相同方向之兩個光源元件列1 1 A、1 1 B以特定位 置關係配置所構成,故可照設於X方向中具有均一照度分 布的光線》 光射出部10爲分別延伸於相同方向之兩個光源元件 列1 1 A、1 1 B以特定位置關係配置所構成者中,如圖12 所示,一方之光源元件列11A之各遮光板70A,以其另一 端側部份(於圖1 2中爲下端側部份)比一方之光源元件 列1 1 A的另一端更突出於另一方之光源元件列1 1 B側並 延伸,位於構成另一方之光源元件列11B的各光源元件 12之光軸C上之方式配設。進而,另一方之光源元件列 1 1B之各遮光板70B,以其一端側部份(於圖12中爲上 端側部份)比另一方之光源元件列1 1 B的一端更突出於一 方之光源元件列1 1 A側並延伸,位於構成一方之光源元 件列11A的各光源元件12之光軸C上之方式配設亦可。 -20- 201216011 依據具備此種光射出部ίο的光照射裝置,一個光源 元件列之遮光板的配置間隔,爲構成光源元件1 2之反射 器15A的光射出面17之X方向的開口寬度約1/2程度而 較爲狹小,故可更確實將從各光源元件12射出之雜光加 以遮光’也可更確實取得與前述第1實施形態的光照射裝 置相同之效果。 又,各遮光板70A、70B的厚度係例如爲〇.5〜2mm 程度’相較於光射出面1 7的開口寬度相當小,故設爲以 另一方之光源元件列1 1 B (—方之光源元件列1 1 a )之遮 光板70B ( 70A )的一部份位於一方之光源元件列1 1 a ( 另一方之光源元件列11B)之光源元件12的前方位置之 構造,藉此,對於被照射物W上被聚光成線狀之光線的 照度分布之影響,實際上成爲可無視程度者。 [第3實施形態] 圖1 3係揭示關於本發明第3實施形態之光照射裝置 的構造槪略的側面剖面圖。 關於此第3實施形態的光照射裝置,係例如爲了製造 圖案化相位差薄膜所使用者,具備:具有複數例如3個以 上的光源元件12所構成之光源元件列11的光射出部10 、將來自此光射出部10的光線,聚光成往後述之光源元 件12並排之一方向(X方向)延伸之線狀的聚光構件20 、將來自此聚光構件20的光線,修整爲條紋狀的遮罩30 、及用以搬送被照射物W的搬送手段40。在此,遮罩30 -21 - 201216011 及搬送手段40係與第1實施形態的光照射裝置之遮罩30 及搬送手段40相同構造。 於構成光射出部10的光源元件列11中,設爲反射器 15係藉由具有以其光軸C爲中心的旋轉拋物面狀之光反 射面16的拋物面鏡所構成,該當反射器15係以其光軸C 位於放電燈13之發光管14的管軸上,且其焦點F位於放 電燈13之電極間的亮點之方式配置,在此狀態下,藉由 固定構件18,固定於放電燈13的構造。在此,放電燈13 係與第1實施形態的光照射裝置之放電燈1 3相同構造。 又,於第3實施形態的光照射裝置中,聚光構件20 係藉由沿著X方向延伸之方式配置,將來自光照射部10 的光線,聚光成延伸於一方向之線狀的柱面凸透鏡22, 與將來自此柱面凸透鏡22的光線,朝向遮罩30反射的平 面鏡23所構成。 聚光構件20之柱面凸透鏡22,係於與光射出部10 之各反射器15的光軸C垂直之光射出面17的前方,於其 凸面成爲光射出面的朝向,其焦點f位於藉由平面鏡23 投影之被照射物W的表面上之方式配置。 聚光構件20之平面鏡23,係於遮罩30的上方,該 當平面鏡的光反射面24,在對於反射器15的光軸C,例 如以45β的角度傾斜之狀態下配置。 於此第3實施形態的光照射裝置中,各光源元件1 2 之反射器1 5的光射出面1 7之X方向之兩側的開口端部附 近位置中,各別具有光吸收性的複數遮光板70以各別沿 -22- 201216011 著前述反射器15的光軸C,對於χ方向垂直延伸之姿勢 ’與構成光源元件12之反射器15的光射出面17之X方 向的開口寬度幾近相同大小的配置間隔,並排於x方向而 配設。各遮光板70係與第1實施形態的光照射裝置中者 相同構造。 於前述的光照射裝置中,從光射出部.10射出之光線 ’經由聚光構件20及遮罩30,照射至藉由搬送手段40 往y方向被搬送的被照射物w。具體說明的話,於光射出 部1 〇中’從光源元件列1 1之各光源元件1 2的放電燈1 3 放射之光,藉由該當光源元件12之反射器15的光反射面 16反射,藉此’成爲沿著該當反射器15的光軸C之平行 光’從光射出面17往聚光構件20射出。之後,成爲從光 射出部10射出之平行光的光線,係藉由聚光構件20之柱 面凸透鏡22,一邊被聚光成延伸於χ方向之線狀,一邊 藉由平面鏡23的光反射面24朝向方反射,藉此射入遮罩 30。此時,射入至遮罩30的光係於χ方向中相互平行的 平行光。然後,射入至遮罩30的光線藉由該當遮罩30之 遮光部35及透光部36被修整爲條紋狀,並照射至被照射 物W,藉此,於被照射物W之滾筒41所接觸處的表面, 形成遮罩30之遮光部35及透光部36的圖案所對應之條 紋狀的光照射區域,並且被照射物W藉由搬送手段40往 y方向搬送,藉此,對於該當被照射物W,達成所需的光 照射處理。 依據第3實施形態的光照射裝置,可更確實取得與第 -23- 201216011 1實施形態的光照射裝置相同之效果。 [第4實施形態] 圖1 4係揭示關於本發明第4實施形態之光照射裝置 的構造槪略的側面剖面圖。 此第4實施形態的光照射裝置,係例如爲了製造圖案 化相位差薄膜所使用者,除了於聚光構件20與遮罩30之 間的光路徑上配置偏光元件45之外,與第1實施形態的 光照射裝置相同構造》 偏光元件45並不特別被限定者,例如,藉由於由玻 璃或石英玻璃所構成之矩形的透明基板之一面,例如由鋁 或銀等之高光反射率的金屬材料所構成之多數金屬引線於 沿著與該透明基板的一邊平行之方向,以一定間隔配置的 線柵(wire grid )偏光元件所構成。 於此種偏光元件(線柵偏光元件)45中,照射金屬 引線之配置節距約兩倍以上之波長的光時,藉由反射或吸 收構成該當光線之振動成分中金屬引線延伸之方向振動的 成分,並且透射與金屬引線延伸之方向垂直的方向振動的 成分,而作爲直線偏光光。 於前述的光照射裝置中,從光射出部10射出之光線 ,經由聚光構件20、偏光元件45及遮罩30,照射至藉由 搬送手段40往y方向被搬送的被照射物W。此時,來自 聚光構件20的光線係藉由偏光元件45成爲直線偏光光, 故該當直線偏光光被照射至被照射物W。 -24- 201216011 於此種光照射裝置中,使用光配向膜用材料,如以下 所述,可製造圖案化相位差薄膜。 首先,如圖15(A)所示,藉由於薄膜基材51上, 塗佈液狀的光配向膜用材料並使其乾燥或硬化,形成光配 .向膜用材料層55A。 接下來,藉由對於光配向膜用材料層5 5A,利用前述 光照射裝置來進行直線偏光光所致之選擇性曝光處理,如 圖15(B)所示,於薄膜基材51上條紋狀地形成被圖案 成形之第1光配向膜55。 進而,藉由更適切的光照射裝置,利用與在前述圖 15(B)中照射之偏光光9(Τ偏光方向不同之直線偏光光 來進行全面曝光處哩,藉此,如圖15(C)所示,於鄰接 之第1光配向膜55之間,形成第2光配向膜56。 接下來,如圖15(D)所示,於第1光配向膜55及 第2光配向膜56的表面上,形成光聚合性液晶材料層 57Α,之後,對於光聚合性液晶材料層57Α,藉由適切的 光照射裝置進行全面曝光處理,使該當光聚合性液晶材料 層57Α硬化,藉此,如圖15 ( Ε)所示,形成有於第1光 配向膜55上所形成的第1液晶聚合物層部分57及與第1 液晶聚合物層部分57之液晶配向狀態不同的第2液晶聚 合物層部分5 8條紋狀地被圖案化所構成的液晶聚合物層 5 9,藉此,取得圖案化相位差薄膜。 依據此種光照射裝置,可取得與第1實施形態的光照 射裝置相同之效果,並且可對於被照射物W照射直線偏 -25- 201216011 光光,故非常適合作爲使用光配向膜用材料,用以製造圖 案化相位差薄膜的光照射裝置。 以上,已針對本發明的實施形態進行說明,但是,本 發明不限定於前述之實施形態者,可施加各種變更。 例如,於第1實施形態乃至第3實施形態中,遮光板 係如圖16所示,藉由於反射器15的光軸C方向被分割, 短冊狀的複數個(在此範例中爲4個)遮光板構成構件 701、702、703、7 04 所構成亦可 ° 構成遮光板70C的遮光板構成構件701〜704係在反 射器1 5的光軸C方向不抵接而隔開微小間隙來配置之狀 態中,一端部及另一端部藉由沿著與遮光板構成構件701 〜704的長邊方向垂直之方向所延伸之反射器15的光軸C 而設置之例如柱狀的一端側支持構件75A及另一端側支 持構件77A支持並固定。 於一端側支持構件75A及另一端側支持構件77A,如 圖1 7 A所示,形成有沿著反射器1 5的光軸C方向延伸之 凹溝79A、79B,於另一端側支持構件77A的凹溝79B, 嵌合遮光板構成構件701〜704的另一端部,並且於一端 側支持構件75A的凹溝79A,遮光板構成構件701〜704 的一端部以於遮光板構成構件701〜704的一端面與凹溝 79A的內面之間形成間隙K之方式以可動嵌合狀態插入, 藉此,支持各遮光板構成構件70 1〜704。 依據此種構造的遮光板70C,即使在因爲會產生由各 光源元件12射出之雜光的吸收所產生之遮光板70C之溫 -26- 201216011 度分布的不均,遮光板7 0C成爲高溫之狀況,也可藉由間 隙κ吸收熱膨脹所致之變位(延伸),故可抑制或防止 產生遮光板7 0C彎曲、翹屈等之起因於熱的變形之狀況, 可確實取得遮光板70C之所期望功能,可確實形成忠於遮 罩的圖案且高解析度的圖案。 於第3實施形態中,與第4實施形態相同地配置偏光 元件亦可。 又’配置偏光元件的位置,係只要在光射出部與遮罩 之間的光路徑上即可,所以,不限定於聚光構件與遮罩之 間的光路徑上,例如在光射出部與聚光構件之間的光路徑 上亦可。 又’於第3實施形態中,將光線從對側面照射被照射 物時,不是平面鏡亦可。 【圖式簡單說明】 [圖1]揭示關於本發明第1實施形態之光照射裝置的 構造槪略的立體圖。 [圖2]揭示以A_A線切斷圖1所示之光照射裝置的側 面剖面圖。 [圖3]揭示以B_B線切斷圖1所示之光照射裝置的俯 視剖面圖。 [圖4]揭示關於第1實施形態的光照射裝置之光射出 部的構造槪略的前視圖。 [圖5]揭示遮罩的具體構造之一例的說明圖,(A) -27- 201216011 係俯視圖’ (B)係側視圖。 [圖6]揭示射入來自遮罩之聚光構件的光線之有效照 射寬度、遮罩與被照射物之間的間隔之允許變動値、及滾 筒的半徑之關係的說明圖。 [圖7]揭示圖案化相位差薄膜的製造工程之一例的說 明圖。 [圖8]揭示藉由本發明的紫外線照射裝置所照射之光 線的朝向的說明圖。 [圖9]揭示構成光源元件之反射器的其他構成例的前 視圖。 [圖10]揭示具備具有圖9所示之反射器的光源元件, 本發明光照射裝置的其他範例之構造槪略的俯視剖面圖。 [圖11]揭示關於本發明第2實施形態的光照射裝置之 光射出部的構造槪略的前視圖。 [圖12]揭示關於本發明第2實施形態的光照射裝置之 光射出部的其他構造槪略的前視圖。 [圖13]揭示關於第3實施形態的光照射裝置之構造槪 略的側面剖面圖。 [圖14]揭示關於第4實施形態的光照射裝置之構造槪 略的側面剖面圖。 [圖15]揭示圖案化相位差薄膜的製造工程之其他範例 的說明圖。 [圖16]揭示遮光板之其他構成例的說明圖。 [圖17]揭示放大遮光板的支持構造之一部份的剖面圖 -28- 201216011 [圖18]揭示圖案化相位差薄膜之製造工程的說明圖。 [圖19]揭示藉由先前的紫外線照射裝置所照射之光線 的朝向的說明圖。 【主要元件符號說明】 1 〇 :光射出部 1 1,1 1 A,1 1 B :光源元件列 1 2 :光源元件 1 3 :放電燈 14 :發光管 15,15A :反射器 1 5 1 :缺口 1 6 :光反射面 1 7 :光射出面 1 8 :固定構件 1 9 :間隔壁 C :反射器的光軸 F :反射器的焦點 2 0 :聚光構件 21 :光反射面 2 2 :柱面凸透鏡 23 :平面鏡 f :聚光構件的焦點 -29- 201216011 30 :遮罩 3 1 :透光性基板 32 :遮光膜 35 :遮光部 36 :透光部 W :被照射物 G :最小間隔 40 :搬送手段 41 :滾筒 〇:滾筒的旋轉中心軸 45 :偏光元件 51 :薄膜基材 52A :配向膜用材料層 52 :配向膜 52A :光聚合性液晶材料層 53 :液晶聚合物層 55A:光配向膜用材料層 55 :第1光配向膜 56 :第2光配向膜 57A :光聚合性液晶材料層 57 :第1液晶聚合物層部分 58 :第2液晶聚合物層部分 5 9 :液晶聚合物層 70,70A,70B,70C :遮光板 -30- 201216011 701,7 02,703,704:遮光板構成構件 75,75A : —端側支持構件 76:中央支持構件 77,77A :另一端側支持構件 79A , 79B :凹溝
Ml〜M3 :雜光 K :間隙 90 :薄膜基材 9 1 :配向膜 92 :光聚合性液晶材料層 93·液晶聚合物層 95 :遮罩 96 :遮光部 97 :透光部 -31 -

Claims (1)

  1. 201216011 七、申請專利範圍: 1. 一種光照射裝置,其特徵爲: 具備= 光射出部,係具有由短弧型的放電燈,及以包圍該當 放電燈之方式配置,將來自該當放電燈的光線反射至與其 光軸平行方向的反射器所構成之光源元件複數並排於一方 向而配置所成的光源元件列;及 遮罩,係各別往垂直於前述一方向的方向延伸之線狀 的多數遮光部及多數透光部,交互並排於前述一方向而配 置所構成; 各別具有光吸收性的複數遮光板*係以各別沿著前述 反射器的光軸,對於前述一方向垂直延伸之姿勢,並排於 前述一方向而配設。 2. 如申請專利範圍第1項所記載之光照射裝置,其 中, 前述反射器,係具有以其光軸爲中心之旋轉拋物面狀 的光反射面者; 更具備:聚光構件,係由具有剖面爲拋物線狀之光反 射面的柱面鏡所構成。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之光照射 裝置,其中, 前述光射出部,係具有分別延伸於同方向之至少兩個 光源元件列; 該等光源元件列,係以連結1個光源元件列相關之光 -32- 201216011 源元件之放電燈的電極間中心點,與最接近該當光源元件 ’其他光源元件列相關之光源元件之放電燈的電極間中心 點的直線,與延伸於前述一方向之直線斜交之方式配置。 4. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之光照射 裝置,其中, 前述遮光板,係由並設於前述反射器的光軸方向之複 數遮光板構成構件所構成。 5. 如申請專利範圍第2項所記載之光照射裝置,其 中, 具有:搬送手段,係將被照射物搬送至前述遮罩之透 光部所延伸的方向; 前述被照射物爲薄膜狀者; 前述搬送手段,係具有接觸前述被照射物,進行搬送 的滾筒; 前述聚光構件,係將來自前述光射出部的光線,聚光 成延伸於前述一方向的線狀,於接觸前述滾筒之處中照射 至前述被照射物。 _ 33 -
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