201139732 产 - 六、發明說明：
C 明所属技斗軒領域J 技術領域 本發明係有關於兼具耐蝕性及與塗裝樹脂層之塗裝後 二次密著性的辞系鍍敷鋼板及其製造方法。 【先前技術3 背景技術 以於汽車、家電、建材等各種用途所使用之鋅系鍍敷 鋼板顯現設計性、耐蝕性、絕緣性等各種特性為目的，施 行有塗裝、積層等處理。又，視用途，亦使用未施行塗裝、 ^ 積層等之鋅系鍍敷鋼板。 鋅系鍍敷鋼板藉由施行於二鉻酸溶液中之浸潰或以電 解於表面形成氧化鉻被膜之表面處理(鉻酸鹽處理），提升塗 裝後二次密著性、而ί姓性，而於廣大之領域、用途上使用。 然而’近年來’對地球環境問題之關心高漲，考量到有可 能從鉻酸鹽處理被膜溶出之六價鉻對環境的負擔，現正期 望不使用鉻酸鹽處理。 不使用鉻酸鹽處理而形成之表面處理被膜，即未含有 六價鉻之被膜中，未能得到如含有六價鉻之被膜的塗裝後 二次密著性、耐蝕性之提升效果。此處，以使未含有六價 絡之被膜顯現與含有六價鉻之被膜同等的性能為目的，開 發了各種處理。 例如，以下所示之專利文獻1中’記載了以非鉻塗布型 酸性組成物進行之金屬表面處理方法。該方法藉由將包含 201139732 氣離子之處理水溶液塗布於金屬表面後，不進行水洗步驟 而燒附乾燥，形成被膜，故無法避免氟混入被膜。此時， 因以氟混入處為起點而生鏽，故於經表面處理之金屬板未 能顯現充分之耐蝕性’即使表面處理層上經施行塗裝，仍 未能保證充分之耐飯性。 相對於該技術’以下所示之專利文獻2〜4中，記載了於 形成表面處理被膜後，將其水洗之方法。專利文獻2中，揭 示有使用含有锆及/或鈦離子' 與氟離子之處理液的金屬化 學轉化處理方法。專利文獻3中，揭示了含有下列至少1種 之表面處理液：包含選自於由Ti、Zr、Hf、及si所構成之蛘 之1種以上的70素之化合物、包含γ及/或鑭元素之化合物、 硝酸及/或硝酸化合物、含有氟之化合物。專利文獻4中， 揭不了含有下列且游離氟離子濃度為之表面化學 轉化處理液：包含選自於由Zr、Ti、Hf、及Si所構成之群之 1種以上的元素之化合物、選自於由氫氟酸、硝酸、硫酸及 該等之鹽所構成之群之1種以上的酸成分、包含選自於由
Fe、Mn、Ni ' Co、Ag、Mg、μ、Zn、⑺及以所構成之群 之1種以上的元素之化合物。 以下所示之專利文獻5中，揭示了含有下列之組成物作 為不使用六價鉻’而於金屬基體表面形成優異之防錄被膜 的液體防鏽被膜組成物，（A)氧化性物 二氧化…選自一r、Ce、Sr'v:: 金屬陽離子、該等之氧金屬陰離子及氟金屬陰離子所構成 之群之至少1種金屬料。亦記歸氡化性物f可舉過氧化 201139732 - 物與硝酸為例，其中以過氧化氫為佳。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :曰本專利特開平5-.195244號公報 專利文獻2 :日本專利特開2004-43913號公報 專利文獻3 :專利第4242827號公報 專利文獻4:國際公開第2〇〇7/〇61〇11號手冊 專利文獻5:日本專利特開平9_53192號公報 t 明内容】 發明概要 發明欲解決之課題 專利文獻2〜4之處理液因不需鉻酸鹽處理即可形成表 面處理被膜，故其利用增加。然而，該等之處理液中，因 包含促進反應成分之脫水縮合的氟，故以水洗之裎度，無 法充分地避免氟混入於被膜中。使用如此之處理液形成有 表面處理被膜的鋅系鍍敷鋼板中，因以被膜之氟混入處為 起點而生鏽’故耐蝕性、塗裝後二次密著性更不充分。雖 利用成膜後之熱處理可將被膜中之氟量降低至對耐蝕性不 會造成不良影響之程度，但此時，有塗裝後二次密著性下 降的情形。 又，專利文獻5之處理液雖記載著可形成防鏽被膜，但 例如，實施例1之No.6的水溶液中，未添加記載作為PH調整 劑之NaOH，而顯示鹼性，即使將基材於25°C下浸潰60秒， 仍未析出包含作為處理液之主成分的矽之化合物，故耐蝕 201139732 性、塗裝後二次密著性亦不充分。 如此，具有兼具耐蝕性與塗裝後二次密著性之被膜的 表面處理鋅系鍍敷鋼板迄今尚未開發，而期待盡快地開發。 本發明係有鑑於前述課題而作成者，本發明之目的係 提供具有未含六價鉻，且未含氟化合物之無機表面處理被 膜’並具有優異之财蚀性與優異之塗裝後二次密著性之被 膜的鋅系鍍敷鋼板、及其製造方法。 用以欲解決課題之手段 本發明人等致力於檢討解決前述課題之手段，結果， 發見形成於鋅系鑛敷鋼板之鑛敷表面的處理被膜係未含氟 化口物之氣化矽系被膜，且於該被膜之在900〜950cm·1之炎 自 Si-〇HM 沾 Λ 來自Si 紅外吸收光譜強度1Si〇H與在1110〜1000cm丨之 。· 1以::〜%的紅外吸收光譜強度Isi°Si之比1Si-/Isi⑽為 蝕性，而〜鋅系鍍敷鋼板具有高塗裝後二次密著性與高耐 而元成本發明。 乃之旨趣係如以下所述。 膜之紐鋼板，躲職表面具有氧化妙系被 氟化合"板，其特徵在於，該氧化妙系被膜未含有 Si-〇H鰱的：且該氧化石夕系被膜之在900〜咖⑽·1之來自 自Si ο ς. 〇卜吸收光譜強度1_與在⑴一刪⑽·1之來 Μ _心卜吸收光譜強度之比係至少 (2) 係0 · 1〜2 4 W述（1)之鋅系鑛敷鋼板， 其中前述比ISi0H/Isi0Si 201139732 ⑺如刖述(2)之鋅系鍍敷鋼板’其中前述比ISi0H/Isi0Si 係 1~2。 (4) 如則述（1)〜(3)中任一者之辞系鍍敷鋼板，其中於前 述氧化矽系被膜存在最大直徑係至少25nm之結晶粒子。 (5) 如削述(4)之鋅系鍍敷鋼板，其中於〇 1μηιχ〇 面 積内存在的最大直杈為至少25nm之結晶粒子的數量係 1~50個。 (6) —種鋅系鍍敷鋼板之製造方法，其特徵在於，將鋅 系鍍敷鋼板浸潰於未含氟離子之包含含氧酸陰離子的矽酸 鹽水溶液，並以陰極電解而於該鍍敷鋼板表面形成氧化矽 系被膜。 (7) 如前述(6)之鋅系鍍敷鋼板之製造方法，其中前述 陰極電解之電流密度係l〇mA/cmL1A/em2。 (8) 如前述(6)或(7)之鋅系鍍敷鋼板之製造方法，其中 前述矽酸鹽水溶液之矽酸鹽濃度係^mM~1M。 (9) 如前述(6)〜(8)中任一者之鋅系鍍敷鋼板之製造方 法，其中前述矽酸鹽水溶液之含氧酸陰離子濃度係
ImM〜1M。 (1 〇)如前述(6)〜(9)中任一者之鋅系鍍敷鋼板之製造方 法，其中前述含氧酸陰離子之濃度係相當於與 前述發酸鹽 之濃度為同等以上的規定濃度。 (11) 如前述(6)〜(10)中任一者之鋅系鍍敷鋼板之製造 方法’其中前述矽酸鹽水溶液之pH係1〜4。 (12) 如前述(6)〜(11)中任一者之鋅系鍍敷鋼板之製造 201139732 方法，其中前述韓鹽係選自於砂酸鈉、石夕酸奸、石夕酸經 之至少1種。 (13)如前述⑹〜(12)中任一者之辞系鍛敷鋼板之製造 方法，其中前述含氧酸陰離子係選自於璘酸離子、确酸離 子、硫酸離子之至少1種。 發明效果 依據本發明’可提供-種耐餘性與塗裝後二次密著性 優異且具有未含氟化合物之氧化砂系被膜的表面處理鍵辞 系鋼板。X，依據本發明之鋅系錄敷鋼板之製造方法，可 有效率地製造具有未含氟化合物絲线異之雜性與塗 裝後二次密著性之氧化矽系被膜的鋅系鍍敷鋼板。 圖式簡單說明 第1A圖係顯示僅以浸潰形成之氧切系被膜之表面狀 態的SEM(掃描式電子顯微鏡)照片。 第1B圖係顯示以陰極電解形成之氧化石夕系被膜之表面 狀態的SEM照片。 第2圖係說明由本發明之鑛辞鋼板之氧化石夕系被膜的 si-o-si鍵峰值與Si_〇H鍵峰值測定紅外吸收光譜強度之例 的圖。 【實施方式】 用以實施發明之形態 以下詳細地說明本發明。 本發明人等致力進行檢討，結果，發現氧化石夕系被膜 之在900〜95Gem’丨之來自Si_〇H鍵的紅外吸收光譜強度^ 8 201139732 「在::。1000cm ’之來自si 〇 si鐽的紅外吸收光譜強度 為至少°.1，且未含氟化合物之氧化㈣ 鋅系鍍敷鋼板顯現高塗裝後二次密著性(以下僅稱 作「密著性」）與高耐絲。 U U下純 為 *切纟賴」係如氧切及/或氫氧化矽 作:::之被膜。該被膜中金屬種類亦可含有石夕以外者， :二？種類之合計含量所占的石夕之量需為― 二夕系被臈中金屬石夕之含量可以營光x射線確認。 ㈣岐时魏切系《，提升鋅系鑛 敷鋼板之塗裝後二次密著性與耐健之特性的組成。 :切系被膜之在900〜950cm_之來 魏W與在⑴〇〜刚W之來自㈣猶的 紅t吸收光譜強度1咖之比“，為至纽卜即包含有 效董之《切的氧化㈣被膜，因以其 樹脂層與化學鍵或氣鍵等可形成堅固之鍵 = 塗裝後二次歸性。又，因氧化㈣被《包含氧切， 故1 壁特性尚’亦有助於提升耐飯性。於WW比小於 0.1時，因氮氧切不充分，故有塗裝後二次密著性不充分 ° 〇 ^Isi〇H/Isi〇siA^2af 5 ^ 視為因氧化石夕少所弓丨起之障壁特性下降導致產生耐钱性下 降的情形°由該等可知’WW匕之較佳範圍為01〜2, 更佳者係1〜2。 此外本發明中’氧化石夕系被膜未含敗化物，這有助 於抑制起因於被膜材料之生鑛。 201139732 氧化矽系被膜之平均厚度以lnm〜Ιμηι為佳。較佳者為 Inm〜300nm。於小於lnm時，有被膜之被覆率小於1〇〇%的 情形，有耐蝕性、塗裝後二次密著性不充分的情形。若為 Ιμηι以上之厚度，即可充分地使用於未特別嚴格要求耐蝕 性之用途，又，於大於3〇〇nnr^^，塗裝後二次密著性之提升 效果飽和。因此，只要並未特別嚴格要求耐蝕性的話，氧 化石夕系被膜之平均厚度以1〜300nm為佳。於特別要求耐钱 性時，雖需要大於300μηι之厚度，但大於小爪時，因塗裝後 一次Φ著性及耐蝕性飽和，不符合經濟效益，故有因應力 集中被膜剝離，而產生不適合的情形。因此，氧化矽系被 膜之平均厚度的上限α1μΐΏ為佳。
JfCi/爽 于岣厚度」係指 ------化孔儿吵糸皮膜之1〇〇〇 〜20萬倍左右的截面SEM(掃描式電子顯微鏡）觀察或截 TEM(穿透式電子顯微鏡)觀察中，任意之1〇視野所測定之 厚的平均值之意。「塗裝後二次密著性」係指，於鍍敷表 形成有氧化矽系被膜之鋅系鍍敷鋼板，與藉由塗裝或積層 於氧化矽系被膜上形成之有機樹脂被膜層的密著性之音。 本發明之形成有未含a化合物之氧化♦系被膜_ 鍵敷鋼板’只要於構成職被膜之元素中，鋅以f量比計 3〇%以上者的話，並未特職定。可舉例如：電鍍辞鋼柄 電鑛鋅合金她、熱浸麟触、熱雜鋅合金鋼板等。 具有未含氟化合物之氧切系被膜的本發明之辞系 敷鋼板可藉由將鋅系缝鋼板浸潰於未含氣離子之包含 氧酸陰離子的㈣鹽水溶液，並以陰極電解於該鑛敷鋼 10 201139732 v 表面形成氧化矽系被膜的方法製造。 石夕酸鹽可使用石夕酸鈉、石夕酸鉀、石夕酸裡等，且該等並 未特別限制。水溶液中矽酸鹽之濃度範圍以 ImM〜lM(mol/L)為佳。小於ImM時，因成膜速度慢不符合 經濟效益，且於陰極電解時有產生所謂「無光澤鍍膜」之 情形。大於1M時’成膜速度飽和，無高濃度化之效果，且 水洗水等廢液處理費上升，故不符合經濟效益。矽酸鹽濃 度，較佳者是5mM〜500mM ’更佳者係i〇mM〜100mM。 含氧酸陰離子可使用構酸離子、硝酸離子、硫酸離子、 硼酸離子等。特別地，以磷酸離子、硝酸離子、硫酸離子 . 為佳’具體而言’係使用填酸、硝酸、硫酸。 含氧酸陰離子之濃度以相當於與矽酸鹽濃度為同等以 上（1倍以上）的規定濃度為佳。小於i倍時，有處理水溶液之 pH顯示驗性的情形’成膜行為變得不穩定。大於1〇倍時， 有電解中氫氣產生反應活躍地產生，成膜量變得不穩定的 情形。含氧酸陰離子之濃度範圍，較佳者是矽酸鹽濃度之 1〜3倍’更佳者係丨〜2倍。 石夕酸鹽水溶液（金屬表面處理劑）之pH以1〜4為佳。水溶 液pH小於1時’有電解中氫氣產生反應活躍地產生，成為低 密度之被膜的情形。另一方面，於pH大於4時，有溶液不穩 定且凝集物析出的情形。pH之調整，只要使用前述含氧酸 陰離子、或氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等即可。 石夕酸鹽水溶液之調製可使用工業化學藥品，藉此即使 處理水溶液中混入作為雜質之矽以外的不可避免之金屬元 201139732 素，對氧化矽系被膜之形成仍不會造成任何影響。此外， 所得之被膜中即使混入作為雜質之矽以外的不可避免之金 屬元素’仍不會對特性造成任何影響。例如，於本發明之 鑛鋅鋼板表面的氧化砍系被膜上塗布有機樹脂塗料形成上 層皮膜時，藉由為了塗料之乾燥、燒附所進行之加熱而擴 散，有由鍍敷層混入氧化矽系被膜中之可能性的Zn、A丨、' Fe等不可避免之金屬的量，相對於被膜之質量分別係丨質量 。/。左右、或至多5質量%左右1程度之不可避免之雜質: 不會對本發明之氧化矽系被膜的特性特意造成不良影響。 陰極電解之電流密度以i0mAW〜1 A/em2為 者係1〇mA/cm2〜100mA/cm2。這是可直接活用製造辞系锻 敷鋼板之-般工廠中電鍍或電解化學轉化處理設備的： 件，符合經濟效益。然而’因電流密度大幅地受到處理液 之流量、連續處理時通過速度之影響，故適#地設定即可。 電解時之石夕酸鹽水溶液溫度(反應溫度），以常溫〜8叱 為佳。電料間對應於目狀«量設定即可，但考量到 生產性，以1秒〜6〇分鐘為佳。 作為㈣於本發明之製造方法的原板之鋅系鑛敷鋼 °在浸'責於發酸鹽水溶液前，視需要施行前處理。較 號前處理，可舉職、去除水垢為例但前處理 該等所限定。 又 法之氧化矽系被膜的成膜組成係如下述推定。 離子==氧釀陰離子之PH1〜夕酸鹽水溶液中，發酸 里t·矽形成平衡反應，藉由破壞該平衡，於基材 12 201139732 (鋅系鍍敷鋼板)上析出（氫)氧化矽。此時，含氧酸陰離子作 為反應位置形成劑作用，維持pH等。藉由鋅系鍍敷鋼板之 陰極電解時的氫氣產生反應與鋼板表面附近之pH上升，可 破壞則述反應之平衡，藉此，可於辞系鍍敷鋼板上有效率 地形成氧化矽系被膜。即使僅將鋅系鍍敷鋼板浸潰於前述 矽酸鹽水溶液，仍可藉由氫氣產生反應與鋼板表面附近之 pH上升破壞平衡，形成被膜。然而，確認出相較於僅浸潰 於矽酸鹽水溶液而形成之被膜，藉由陰極電解而形成之被 膜具高耐蝕性。該理由，由SEM觀察結果（第ία、⑴圖）可 知，（氫）氧化矽之結晶化係利用陰極電解之作用進行，藉 此，於進行陰極電解時被膜之障壁特性提升，耐蝕性受到 改善。相對於顯示僅浸潰（1〇秒鐘）而形成之被膜表面狀態的 第1A圖中，鋅系鍍敷表面所確認之結晶粒僅為少量，顯示 藉由陰極電解(l00mA/cm2，i秒鐘）而形成之被膜表面狀態 的第1B®巾’讀敷表面確認出乡數之粒狀結晶。此處記 载之「（氫)氧切」係指氧⑽及/或氫氧切之意。 本發明中，顯示氧化矽系被膜之充分障壁特性之結晶 的寺a b係镜察堆積有結晶粒子之被膜，以存在直徑（最 大技）為至少25nm之粒子為佳。若直徑小於25nm，有結晶 化不充&的情形。χ ’以〇 1μιηχ() Ιμηι之面積内存在卜別 個直徑（最大徑）為至少25nm之粒子為佳。於大㈣個時， 有結晶呈粉狀附著的情形，有密著性未必充分的情形。該 粒子數’更佳者係5〜4〇，最佳者為1〇~3〇。此處之「最大徑」 係才曰’SEM觀察錄表面，所發現之堆積（氫)氧切結晶粒 13 201139732 子各個方向之直徑中最大者。 於電解時矽酸鹽水溶液溫度（反應溫度），以常溫〜8(rc 為佳。電解時間對應目的之成膜量設定即可，但考量到生 產性，以1秒~60分鐘為佳。 於本發明之鋅系鍍敷鋼板的氧化矽系被膜上層，亦可 形成有機樹脂系被膜。 形成於上層之有機樹脂系被膜可為單層膜、多數層膜 之任一者。有機樹脂系被膜之膜厚並未受到限制，但以 0.1〜3μΐΓΐ為佳。小於〇_ιμπ^|，有被覆不完全的情形使得 上層皮膜所需之特性不足。大於3口!„時，特性飽和，不符 合經濟效益。 構成有機樹脂系被膜之樹脂種類並未特別限定。可舉 合Η 藉由丁基化二聚氰胺、曱基化三聚氰胺、丁基甲基 混〇 —聚氰胺、尿素樹脂'異氰酸酯、天然橡膠或藉由該 等之混合系的交聯劑成分交聯聚酯系樹脂、丙烯酸系樹 月裒氧系Μ月曰、胺曱酸乙酯系樹脂、氟系樹脂、矽聚酯 系樹脂、氣乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、丁醛系樹脂、聚 碳酸酿系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚酿亞 胺系省月日、崎系樹脂、或該等之改f樹脂等樹脂成分者， 抑或電子光束硬化型、紫外線硬化型之樹料 予有適當Μ基之義。脂紐财、可添加以接 耐触性為目的之二氧化碎、氧化鈦、氧化紹、氧化 屬氧化物粒子、著色顏料、染料、二氧切等光澤_金 表面平滑劑、紫外線吸收劑、受阻胺系光安定劑、 14 201139732 >· 整劑、硬化觸媒、顏料分散劑、抗顏料沉降劑、顏色分離 抑制劑、磷酸化合物等防鏽劑、抗氧化劑、碳黑粉末等添 加劑。該等可單獨使用，亦可混合多數使用。然而，以選 擇顧慮到地球環境者為佳。 有機樹脂系被膜之形成方法亦未特別限定，可使用塗 裝、電沉積塗裝、塗布、積層等。又，設有前述氧化矽系 被膜之本發明的辞系鍍敷鋼板，即使與以習知鉻酸鹽皮膜 作為基底之有機樹脂系被覆、或無基底處理之有機樹脂系 被覆組合，仍顯現良好之性能，可問題無虞地使用。 實施例 • 以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並非 受該等實施例所限定者。 基材之鋅系鍍敷鋼板，係使用EG(電鍍鋅鋼板、鍍敷附 著量：20g/m2)、GI(熱浸鑛辞鋼板、鑛敷附著量：6〇g/m2)、 AS(合金化熱浸鍍辞鋼板、鍍敷附著量：60g/m2)、SD(熱浸 鍍鋅合金鋼板（Zn-ll%Al-3%Mg-0.2°/〇Si、鑛敷附著量： 60g/m2)、ZL(電鍍鋅鍍鎳系合金鋼板、鍍敷附著量： 20g/m2)。將該等於丙酮中施行超音波脫脂處理後，於實驗 中使用。 於表卜2、3、4顯示氧化矽系被膜之形成條件。表i、 3中，亦顯示形成有被膜之基材種類。表2、4所示之實驗中 使用的基材係前述EG。 混合表1〜4所示之濃度的矽酸鹽及含氧酸製作處理 液，於較預定之pH低時，添加氫氧化鈉，於較預定之pH高 15 201139732 時’含氧酸為硝酸、磷酸時，添加硫酸，含氧酸為硫酸時， 添加硝酸’將處理液調整至預定之pH。 將進行至脫脂處理之基材浸潰於處理液後，電解，於 基材表面形成氧化矽系被膜。利用電解形成氧化矽系被膜 時’係將基材浸潰於處理液中，控制電流密度（最大 1500mA/cm2)於常溫下進行陰極電解〇.1〜20秒鐘。成膜後水 洗被膜並乾燥。於不使用陰極電解而僅藉由浸潰來形成氣 化矽系被膜時(表中之電流密度為0mA/cm2時），係將基材於 常溫下浸潰於處理液2秒鐘，成膜後水洗被膜並乾燥。於進 行成膜後熱處理時，係以鋼板到達溫度150°C進行熱處理後 放冷。 利用蟹光X射線確s忍所得之被膜為氧化碎及/或氫氣化 矽被膜（被膜中之全金屬種類的合計含量所占之石夕量4 50mol°/〇以上）。此外’藉由截面SEM或截面TEM觀察求得 平均厚度，如以下地分類。 A :小於lnm B : lnm以上、小於lOOnm C : lOOnm以上、小於300nm D : 300nm以上、小於Ιμηι Ε :大於Ιμπι 又，藉由表面SEM觀察確認被膜之表面狀態，求得 Ο.ΙμπίχΟ.Ιμηι之面積内所見之直徑25nm(最大徑）以上的粒 子數，如以下地分類。 A : 0個 16 201139732 B : 1個以上、小於5個 C : 5個以上、小於1〇個 D : 10個以上、30個以下 E : 31個以上、4〇個以下 F : 41個以上、5〇個以下 G : 51個以上 求得氧化矽系被膜之在900〜950cm.1之來自Si-OH鍵的 紅外吸收光譜強度ISi0 η與在1110〜1000cm·丨之來自Si-O-Si ’、·外及收光g普強度isiosi之比iSi0H/isi0Si，如以下地分類。 A :小於0.1 B : 0.1以上、小於1 C : 1以上、2以下 D :大於2 紅外吸收光譜強度係藉由FT-IR(傅立葉轉換紅外線光 譜分析）之高感度反射法所得。第2圖係以該方法所測定之 氧化石夕系皮膜之紅外吸收光譜的一例。如第2圖所示， S卜Ο-Si鍵及Si-〇H鍵分別於 1〇〇〇〜1250cm·1、^O—lOOOcm-1 可見吸收峰值。1000〜1250cm·1之來自Si-O-Si鍵的峰值係屬 於環狀、直鏈狀等之矽氧烷鍵。第2圖中，以切線連接 850cm·1附近之吸收峰值底部、i33〇cm-i附近之吸收峰值底 部’將其作為背景之基線，測定由該基線之各峰值的吸光 度峰值高度，並將其作為峰值強度。測定係於FT-IR(商品 名「FT/IR_4l〇〇」，日本分光(股)製)設置高感度反射用測 定器具（商品名「RAS PRO410-H」，日本分光(股)製）’以 17 201139732 入射角85°C、解析度4cm_1、累積次數50次之條件進行。紅 外吸收光譜強度之測定亦可使用KBr錠劑法或八丁尺法 (Attenuated Total Reflectance:減弱全反射法）。此時，測定 方法有可能因為機器之差異產生峰值位置的偏移，此時， 只要另外一併使用X射線光電子光譜法等，特定峰值位置， 補正峰值位置後測定峰值強度即可。 表3所示之比較例係使用添加有氫氣酸作為含氧酸之 處理液，形成氧化矽系被膜者、無處理材、塗布型鉻酸鹽 處理材。塗布型鉻酸鹽處理中，使用於還原率4〇0/〇之鉻酸 加入二氧化矽（SN0WTEX0,日產化學工業社製），使鉻酸 /二氧化石夕= 1/3(固形分質量比）的處理劑，並以桿狀塗布器 將其塗布於基材，以板溫60°C乾燥。 使用水性樹脂形成鋅系鍍敷鋼板之上層有機樹脂系被 膜。將水性環氧樹脂（旭電化工業（股）製，ADEKA RESIN EM〇436FS-l2)、水性酚醛樹脂（住友BAKELITE(股）製， PR-NPK-261)、水性聚醋樹脂（大日本油墨化學工業(股)製， FINETEC ES-650)、水性聚胺曱酸乙g旨樹脂（旭電化工業（股) 製，ADEKA BONTIGHTER HUX320)、水性丙烯酸樹脂（日 本NSC(股），CANEBINOL KD-5)、水性聚烯烴樹脂（東邦化 學工業(股)製，HYTEC S-3121)調整至固形分濃度為2〇〇/0質 量，再以桿狀塗布器塗布經準備之塗料，使乾燥膜厚為 Ιμηι ’使用熱風乾燥爐以到達板溫15〇ac乾燥後，水冷。於 使用水性聚胺曱酸乙酯樹脂時，改變固形分濃度，使形成 之被膜的乾燥膜厚變為〇·〇5〜4μηι。又，將於水性環氧樹脂 18 201139732 中相對於樹脂固形分10 0質量％，含有二氧化矽粒子（日產化 學工業（股）製、81^(^^丁丑乂-〇)30質量％、於水性聚胺曱酸乙 酯樹脂中相對於樹脂固形分100質量％，含有二氧化矽粒子 (曰產化學工業（股）製、SNOWTEX-N)30質量％，使固形分 濃度為20質量％之塗料，以桿狀塗布器塗布使乾燥膜厚為 Ιμηι，使用熱風乾燥爐以到達板溫150°C乾燥後，水冷。 關於製作之供試材，以以下之方法進行評價。 評價形成有氧化矽系被膜之供試材的未塗膜耐蝕性 (平板）。以膠帶密封試驗板之邊緣、裡面，進行SST(JIS Z 2371)試驗。觀察6小時後之平板部白鐵鏽產生狀況，藉由 以下所示之評價基準進行評分，評分為6以上即為合格。於 表1顯示結果。 評分10 :未產生白鐵鏽 9 :白鐵鏽小於1% 8 :白鐵鏽為1%以上、小於3% 7 :白鐵鏽為3%以上、小於5% 6 :白鐵鏽為5%以上、小於7% 5 :白鐵鏽為7%以上、小於10% 4 :白鐵鏽為10%以上、小於15% 3 :白鐵鏽為15%以上、小於20% 2 :白鐵鏽為20%以上、小於30% 1 :白鐵鏽為30%以上 評價設有有機樹脂系被膜之供試材的耐蝕性（加工 部）、被膜密著性。 19 201139732 加工部之耐蝕性係於試驗板以愛理遜壓凹試驗機施行 6mm之擠壓加工後，以膠帶密封試驗板之邊緣、裡面，進 行SST(JIS Z 2371)試驗。觀察120小時後之加工部白鐵鏽產 生狀況，藉由以下所示之評價基準進行評分，評分為6以上 即為合格。於表2、3、4顯示結果。 評分10 :未產生白鐵鏽 9 :白鐵鏽小於ι〇/0 8 :白鐵鏽為1%以上、小於3〇/〇 7 .白鐵錄為3%以上、小於5% 6 :白鐵鏞為5%以上、小於7% 5 :白鐵鑛為7%以上、小於1〇% 4 :白鐵鐳為1〇%以上、小於15% 3 :白鐵鏽為15%以上、小於20% 2 :白鐵鏽為20%以上、小於30% 1 :白鐵鏽為30%以上 被膜密著性（塗裝後二次密著性）之評價係如以下地進 行。於供試材之上層有機樹脂系被膜上，使用桿狀塗布器 塗布三聚氰胺-醇酸樹脂塗料（關西塗料（股）製，amirak # 1000)，使乾燥膜厚為30μπι ’以爐溫130°C燒附20分鐘， 形成被膜。於放置一晚後，將供試材浸潰於沸水3〇分鐘後， 施行7mm之愛理遜壓凹加工，於該加工部貼附黏著膠帶 (NICHIBAN(股）：商品名Cellotape) ’再快速地往斜45。之方 向抽離，使其剝離，對應於被膜之殘留率，如以下所示地 賦予評分1〇(未剝離)〜1(完全剝離）進行評價，評分為7以上 20 201139732 即為合格。於表2、3、4顯示結果=另外，於剝離後SEM觀 察其界面，確§忍主要之剝離部為乳化石夕糸被膜與有機樹脂 系被膜之界面。 評分10 :被覆殘留率為100% 9 :被覆殘留率97%以上、小於100% 8 :被覆殘留率95%以上、小於97% 7 :被覆殘留率90%以上、小於95% 6 :被覆殘留率80%以上、小於90% 5 :被覆殘留率70%以上、小於80% 4 :被覆殘留率60%以上、小於70% 3 :被覆殘留率50%以上、小於60% 2 :被覆殘留率30%以上、小於50% 1 :被覆殘留率小於30% 21 201139732
5 AS〇 ·«? At) Λ4) 咬 和 衝χ 性能評價 劍±1 Os ο Ο 〇 〇 Ο Ο Ο ϋ ω ω PJ W ω '..-X ^ 3M U CQ ffl ffl CQ m »RTn 1 H- 為 (N < υ Q Q EX· Ufiul -M Μ 厚度 < PQ 〇 Q ω SE 膜時 (sec) 1—^ m in o 银〇 〇 ο 100 100 100 ㈣旦 樂 D, T—^ I Ή 怒 m 智 智 «3 晋 眾 眾 晋 眾 S s s s S 4〇 ε ε B ε S W § § § § § 喊 € 苍 额 m vei 键 怒 阳 韶 给 S s S S S 〇 B 〇 S ο r-Η ε ο ε ο ^ 6 r—Η CN cn r—^ iri r*H 22 201139732 備考 實施例 比較例 比較例 比較例 比較例 比較例 比較例 比較例 比較例 比較例 塗裝後 而ί钮性 〇\ ON cn 寸 寸 寸 寸 性能評價結果 ±1 密著性 〇\ On ON oo 00 OO 卜 衡 樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙烯酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙稀酸樹脂層 丙烯酸樹脂層 IsiOH /IsiOSi CQ < Q Q Q Q Q Q Q 1 被膜種類 直徑25nm 以上之粒子 Q Q < < < < < < < 1 厚度 CQ CQ PQ PQ CQ CQ CQ PQ CQ 1 成膜後 熱處理 碟 杯 难 碟 碟 #. 墀 趣 成膜 時間 (sec) 〇 〇 (N (N (N (N (N (N CN § 電流密| (mA/cm2) 〇 o 〇 〇 〇 〇 〇 〇 o Ο m 處理液 含氧酸 80mM硝酸 80mM硝酸 80mlVU肖酸 120mM硝酸 160mM石肖酸 320mM硝酸 480mM硝酸 800mM石肖酸 1M硝酸 35%Η2〇2 2g/L 62%ΗΝ〇3 20g/L 石夕酸钟40g/L 石夕酸鈉40g/L (pH未調整） 石夕酸鹽 20mM矽酸鈉 20mM梦酸納 20mM碎酸鈉 20mM破酸鈉 20mM>5夕酸納 20mM矽酸鈉 20mM梦酸納 20mM梦酸鈉 20mM珍酸鈉 實驗 No. (N (N CN rn CN CN (N v〇 (N CN 00 <N 〇\ 1 (N 2-10 23 201139732 (ss *\τ i實施例丨 i實施例1 !實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 β施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 ^實施例1 1實施例丨 1實施例1 1實施例1 ;實施例1 i實施例丨 1實施例1 1實施例丨 1實施例I 1實施例1 1實施例丨 1實施例丨 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例1 性能評價結果 塗裝後 耐蝕性 〇\ ON 卜 〇\ σν ON ON Os a\ ON On 卜 <3\ 〇\ OS ON On 00 Os σ\ σ\ σ\ ON os ο On ο OS ON ν〇 〇\ ο 〇 1 與樹脂之密著性 1 1密著性1 ON 卜 Os 〇 CTs OS On σν ON 卜 Os 〇 〇\ Ο On Os σ\ Os Os ON 〇\ ON 〇\ Os ON ο ON ON ON σ\ ON 樹脂層 1 I 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 | 丙烤酸樹脂層 I 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 I 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 丙稀酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 I 丙烯酸樹脂層 1 I 丙烯酸樹脂層 I I 丙烯酸樹脂層 I 1 丙烯酸相ί脂層 Ί 1 酚醛樹脂層 1 1 聚酯樹脂層 1 s ο si a. o 唆 鉍 1 聚烯烴樹脂層 1 1 fN $ 鉍 /—s i 鉍 «gs 1 環氧樹脂層 1 势 為 jj Ί + jrf 璲 1 聚胺曱酸乙酯樹脂層 1 /*—S Ι jO Μ + 溫 〇 S- 筚 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 i I 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 I 丙烯酸樹脂層 I 基材 2 2 2 〇 UJ 〇 LH 2 2 2 2 α ω 2 2 〇 UJ 2 〇 ω 〇 m α ω α UJ α UJ 2 2 α ω α ω α PJ 〇 ω α ω α u α ω α UJ ο UJ α ω a ω 2 ο ω 〇 UU I Isi〇h/ j IsiOSi U CQ U CQ m CQ CQ U CQ U CQ U U 0Q CQ CQ CQ CQ CQ CQ CD CQ CQ CQ m m CQ CQ CD CQ CQ u CQ 0Q CQ 被膜種類 1直徑25nm以 上之粒子 CQ CQ CQ m CQ CQ CQ CQ QQ U U Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q < U Q Q 厚度 CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ ω CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CD CQ CD CQ m CQ CQ DQ CQ QQ < m υ Q 成膜條件 丨成膜時間 (sec) VO \〇 (N 00 v〇 寸 00 (N in rt· ΓΟ <N (N <N <N CN (N fN cs (N (N (N (N (N <N (N — 〇 rn 〇 1電流密度 (mA/cm2) 沄 S 沄 〇 S s 沄 沄 〇 m 〇 CO o 8 ο 8 處理液 I X - »〇 (N - 对 — 寸 一 ΓΛ (N (N (N (N (N (N (N (N (N fN <N (N (N (N 1含氧酸1 | 4mM磷酸I 4mM填酸1 | 4mM硝酸I | 4mM硝酸1 4mM硝酸| 4mM硝酸| 4mMi肖酸| 2mM硫酸j | 2mM硫酸I | 20mM硝酸| 1 20mM硝酸1 | 40mM硝酸| 1 40mM頌酸1 | 40mM硝酸| | 40mM確酸| 丨40mM硝酸i i 40mM硝酸| | 40mM硝酸I | 40mM硝酸j 40mM硝酸| | 40mM硝酸| | 40mM硝酸| 40mIVU肖酸 | | 40mM硝酸| | 40mM硝酸| | 40mM硝酸| | 40mM硝酸| | 40mM硝酸| | 40mM£肖酸 | | 40mM硝酸| | 60mM頌酸| | 60mM硝酸| | 60mM确酸| 1 60mM硝酸1 | 60mM硝酸| 1 矽酸鹽 I | lmM石夕酸納I :lmM矽酸鈉1 lmM石夕酸納I lmlVU夕酸納I lmM^酸鈉I | lmM矽酸纳I lmM碎酸鈉I lmM石夕酸納1 lmM石夕酸納1 丨5mM石夕酸納1 5mM石夕酸納1 | 10mM石夕酸纳I 1 IOmM矽酸鈉1 | IOmM矽酸鈉I | IOmM矽酸鈉I 丨KJmM矽酸鋰1 丨丨OmM碎较斜I IOmM石夕酸納1 IOmM石夕酸納1 | IOmM矽酸納I | IOmM石夕酸纳1 丨IOmM矽酸鈉1 1 IOmM矽酸納I 1 IOmM矽酸納I 1 IOmM石夕酸納1 | IOmM矽酸納I | IOmM矽酸納I | IOmM石夕酸納1 | IOmM矽酸納I | IOmM矽酸鈉I 1 IOmM矽酸納I 1 10mM€夕酸納I | IOmM石夕酸納1 I IOmM石夕酸納| | lOmJVU夕酸納| 實驗 No. fA (N rA rn rA 1 ΓΛ v〇 ΓΛ 00 rA 3-10 1 3-11 1 1 3-12 I 1 3-13 1 1 3-14 I 1 3-15 I 1 3-16 1 1 3-17 1 1 3-18 1 1 3-19 1 1 3-20 I 1 3-21 1 1 3-22 1 1 3-23 I 1 3-24 I 1 3-25 1 | 3-26 I 1 3-27 1 3-28 1 3-29 3-30 1 3-31 1 3-32 | 1 3-33 1 1 3-34 I 1 3-35 丨 24 201139732 ((Nw)s 會 1實施例1 丨實施例丨 i實施例1 1 f施例1 1實施例1 1實施例1 1實施例丨 1實施例丨 1實施例1 丨實施例1 丨實施例丨 1實施例丨 1實施例丨 1實施例丨 1實施例1 1實施例1 1實施例1 i比較例1 i比較例i 比較例1 1比較例1 比較例1 1比較例1 比較例1 比較例1 較例1 比較例1 比較例1 比較例1 比較例丨 比較例1 比較例丨 比較例1 比較例1 性能評價結果 塗裝後 财餘性 〇 ON OS 00 卜 On 〇 ON 卜 〇\ Os On ο 〇\ ON ON ON ON OS 〇\ OS 〇\ Os 〇 OS ON 〇 as 〇 — 一 — 1 與樹脂之密著性 1密著性 Os 〇 0〇 卜 〇 ON Os os 卜 On Ο Ο 〇\ ON as Q\ v〇 Os ON Ό\ σ\ 〇\ Os 〇\ 〇\ 〇s 丨 樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 丨 丙烯酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 丙婦酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 i 1 丙稀s变樹脂層 1 丙稀酸樹脂層 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 1 丙稀酸樹脂層 1 丙稀酸樹脂層 1 丙稀酸樹脂層 1 1 丙烯酸樹脂層 1 丙稀自脂層 1 酚醛樹脂層 1 i 聚酯樹脂層 1 〇 ijm 装 聚缔煙樹脂層(0.1 μπι) | 聚烯烴樹脂層 1 (N /-S I % 鉍 環氧樹脂層 丨 i. 為 Ί + % 锌 聚胺甲酸乙酯樹脂層 1 U ；〇 Μ + 〇 雄 勢 lim tn; 荜 $ 丙烯酸樹脂層 1 丙稀酸樹脂層 1 α 10 〇 LU 〇 Ui α ίύ 2 C ω α ω α EX) a UJ a ω 2 a ω ο ω 5 g N a ω s a ω S 〇 ω a ω a ω S a ω S 2 2 5 N IsiOH〆 IsiOSi CQ CQ CQ CQ U U qq CQ CQ υ CD CQ οα CQ CQ CQ CQ 1 塗布型鉻酸鹽 1 1 塗布型鉻酸鹽 I 塗布型鉻酸鹽 」 塗布型鉻酸鹽 丨 塗布型鉻酸鹽 」 塗布型鉻酸鹽 _I 塗布型鉻酸鹽 | 塗布型鉻酸鹽 1 塗布型鉻酸鹽 | 塗布型鉻酸鹽 I 塗布型鉻酸鹽 | 塗布型鉻酸鹽 1 塗布型鉻酸鹽 1 無處理 1 無處理 1 無處理 1 被膜種類 直徑25nm以 上之粒子j U. Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q Q 〇 Q D Q Q 厚度 1 Ιύ CQ CQ οα CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ CQ 03 成膜條件 成膜時間 (sec) - - 一 — V» 寸 co (N — 一 (N Ο (N d cs ίΝ fN (N (N 電流密度 (mA/cm2) ο 〇 CO 〇 〇 o 〇 〇 ο Ο o o 1 處理液 1 - - 一 m 寸 m CM 一 — <N <N «Ν <N <N 1含氧酸 1 60mM確酸 | 80mM确酸 | 120mM硝酸 | 160mM 硝酸 1 | 0.4M硝酸| | 0.4M硝酸1 | 0.4M硝酸I | 0.4M硝酸I | 0.4M硝酸1 1 2M硝酸1 1 2Μ硝酸1 | 4M硝酸I | 6M硝酸I 1 40mM硝酸1 40mM硝酸| 1 40mM硝酸| ! 40mM硝酸| 40mM氫氟酸| | 矽酸鹽 1 10mM矽酸鈉 | lOmM石夕酸納 | 10mM石夕酸納 | 10mM石夕酸納 | 0.1M矽酸鈉| 丨0·1 Μ矽酸鈉I | 0.1 M矽酸鈉I 1 0.1 M矽酸鈉I 1 0.1 M矽酸鈉 1 1 0.5M矽酸納1 1 0·5Μ矽酸鈉1 | ΙΜ矽酸鈉 I | 1.5M矽酸鈉1 丨lOmM石夕酸納I | lOmM矽酸鈉I lOmlVU夕酸納I | lOmM矽酸鈉I lOmM石夕酸納1 錄0 1 3-36 I 3-37 I 3-38 1 3-39 I 3-40 Ϊ I 3-42 tj- 1 3-44 1 1 3-45 1 1 3-46 1 3-47 1 3-48 1 3-49 I | 3-50 I •ri rA 1 3-52 I 1 3-53 1 1 3-54 1 1 3-55 1 1 3-56 I 1 3-57 I 1 3-58 I 1 3-59 I | 3-60 I 3 丨 3-62 I rn 1 3-64 I 3-65 I 3-66 I 1 3-67 I I 3-68 I 3-69 25 201139732 備考 革 5 鸯 嫁 省 Λ4) <«? 嫁 如ί 如C 诘政 %ί ^κ 〇〇 〇> 〇\ Os Os On Os < 〇〇 On 〇 Os oo OO 卜 锲 掷 1)01 ns： 萆 Cgai Q|n Q|n [gn i)m 甥 迴 迴 寒 荜 率 率 荜 ας 率 潜 谱 智 盔 潜 «3 % 紫 裝 装 爱 爱 装 爱 、·_ X 55 〇 2 U U ffl CQ « PQ 03 目屮 a里 黩 W CQ U Q Q ω P-H 〇 梁1 •H -Μ 厚度 (nm) 0Q 0Q 0Q CQ CQ U 〇 5» 〇 tl^ Nw/ <n 〇 〇 〇 〇 银〇 in 〇 〇 τ-Η 〇 l〇 1000 1500 X cx »~H τ^ r-H 潜 谱 遛 韶 潜 宽 眾 眾 宽 笼 眾 眾 S S ,s S 2 S 4〇 B e B 6 B S S 喊 § 〇 00 〇 〇〇 〇 00 g 签 签 额 怒 怒 键 潜 S S S S S B B ε ε ε B 宕 〇 CN 〇 (N 〇 (Ν 〇 (N 實驗 No. T < 4 (N 4 ΓΟ ^f ^f ν〇 rp 26 201139732 由表 1〜4(實驗 No. 1-1〜1-5、2-1〜2-10、3-1-3-69、4-1〜4-7) 之結果，具有本申請案發明之氧化矽系被覆的供試材顯示 優異之耐蝕性能，與設有包含氟化物之被膜的比較供試 材、無處理之比較供試材相較，顯示優異之性能，且可知 具有與經於鉻酸鹽處理之基底施行有機被覆的比較供試材 匹敵或同等以上之性能。 【圖式簡單說明】 第1A圖係顯示僅以浸潰形成之氧化矽系被膜之表面狀 態的SEM(掃描式電子顯微鏡)照片。 第1B圖係顯示以陰極電解形成之氧化矽系被膜之表面 狀態的SEM照片。 第2圖係說明由本發明之鍍鋅鋼板之氧化矽系被膜的 Si-0-Si鍵峰值與Si-OH鍵峰值測定紅外吸收光譜強度之例 的圖。 【主要元件符號說明】 (無） 27