TW201124027A - Carrier for manufacturing substrate and method of manufacturing substrate using the same - Google Patents

Description

201124027 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種製備基板之載板及使用其製備基板 之方法。 本申請案主張享有於20〇9年12月3〇日申請之韓國專利 申請案第No.10-2009-0133970號’標題為「製備基板之載板 及使用該載板製備基板之方法」之利益，其揭示内容全體 皆引用作為本說明書之參考資料。 【先前技術】 一般而言，印刷電路板（PCBs)係於基板之單側或兩 側圖案化（patterning )而製造’其係由各種熱固性樹脂 (thermosetting resins)而組成，使用鋼箔（c〇pper)，並 於基板上配置且固定1C或電子元件以形成電路，且其後於 基板塗佈絕緣材料（ insulator)。 近來，隨著電子產業之進步，電子元件越來越需要高 度功能化、輕、薄、短及小》因此載於此等電子元件之印 刷電路板亦需高度緻密化及薄。 特別是為了跟上印刷電路板輕型化之趨勢，可藉由移 除一核心而降低厚度並縮短訊號處理時間之無核心基板 (coreless substrate )相當引人注目。然而’因無核心基板 並無核心，於製程間其係需要一載板（carrier)作為支撐。 於下文中，一種製備無核心基板之常見方法將參照圖1A至 1E加以說明。 4 201124027 示使用载板製造基板之常見方

常見技術之問題將參照圖1 A至丨E加以說明 圖1A至1 E係為連續顯 法之之剖面圖’而圖2為妨士 首先如圖1A所不，係提供載板1〇。該載板1〇係於— 銅箔基板（CCLH丨夕相，丨a # ,、 如圖1Α所示

為了穩定地相互連接銅羯基板丨丨及第二金屬層14 ,此處介 於兩者之連接面需有一10 mm之厚度，且第一金屬層13及第 二金屬層14為真空吸附（vacuum_ads〇rbed)。 其後，如圖1B所示，增層（build up layer) 15形成於載 板10之兩側。於此，增層15以一般方式形成，且額外提供 第二金屬層16以防止最外層增層15翹曲（warpage)。 接著，如圖1C所示，增層15與載板1〇分開。於此，增 層15與載板1 〇藉由移除黏著膜分開，其中該黏著膜係透過 成型製程而將銅羯基板II及第二金屬層14相互連接。 其後，如圖1D所示，形成於最外層增層15之第二金屬 層14及第三金屬層15係以蝕刻移除。 其後，如圖1E所示，外露焊墊（pads ) 1 9之開口 1 7形 成於增層15之最外側絕緣層，且焊錫球（solder ball) 18形 成於焊墊丨9上。 201124027 於上述製備基板之常見方法卡，銅箔係作為第一金屬 層13及第—金屬箔14。然而，該銅落包含有一具有高表面 粗链度之無光澤面（matte surface，M surface)及一具有低表 面粗縫度之光澤面（shiny surface ’ S surface)。故，如圖2所 示’由於有無光澤面（M surface)，於第一金屬層丨3及第二 金屬層14間係形成小間隔（sma丨1 space，S)，因此難以完整 地維持一真空。因此’當有增層15形成於第二金屬層丨4上 時’會有皺摺（wrink丨es)產生之問題。 再者，甚至當針孔（pin-hole)形成於第—金屬層η或第 二金屬層】4時，會有無法於第一金屬層13及第二金屬層14 之間維持真空之問題，因此難以繼續一製程。 此外，當增層15與載板1〇透過成型製程移除黏著膜之 邊緣而分開時，該增心會因介於第—金屬層π及載板1〇 絕緣材料之材料性質差異，而以極端程度料。因此，會 有製程自動化無法實現錢續製程需手動執行之問題。 【發明内容】 因此，本發明係用以解φ μ .+, β日 解决上述問題，且本發明提供一 製造用基板之載板，其係將姑邮& ^ 、將輔助黏者層附著至金屬層而完 整地維持真空，且甚至經成型製 ^ a ^ ^ ^ 裎後，該載板仍利用辅助 黏者層之黏者力於預定時間内 之點著，以防止增層之趣曲=輔助黏著層及金屬層 備基板之方法。 ，楗供-種使用該載板製 201124027 本發：之-方面提供一種製借基板用之載板包含： 二#著層其係形成於該底板—側或兩側上；輔助黏 者層三每-輔助黏著料埋於每—黏著層之—側，且具有 小於每-黏著層之面積及低於每一黏著廣之黏著力；以及 金屬層:每-金屬層係形成於每—輔助黏著層之一側上， 其邊緣係連接絲著層，且除邊緣外之其他部分係'連接至 輔助黏著層。 此處’該黏著層可為預'浸材（prepreg)、ABF(aji_〇t〇 bU1丨d Up fllm)、或環氧樹脂（epoxy)膜。 又’該輔助黏著層可為聚合物膜。 又，該輔助黏著層可具〇 〇1〜〇 2 KN/m之黏著力。 又，該辅助黏著層一側之黏著力可小於該輔助黏著層 另一側。 本發明之另一方面提供一種使用該載板製備基板用之 載板，包含.於底板之一側或兩側上形成黏著層；於該黏 著層上形成輔助黏著層，該輔助黏著層具有相較黏著層為 低之黏著力及較小之面積；塗佈金屬層於該輔助黏著層之 一側上，其後加熱及加壓該金屬層，以將該輔助黏著層埋 入黏著層之一側，再將金屬層之邊緣連接至黏著層，將金 屬層除邊緣外之其他部分係連接至輔助黏著層以提供一製 備基板用之載板；以及於金屬層之一側上形成增層，其後 移除金屬層連接至黏著層之邊緣’以將該金屬層與輔助黏 著層分開。 7 201124027 此處，於將金屬層與輔助黏著層分開中，金屬層及辅 助黏著層間之黏著係因輔助黏著層之黏著力，而於金屬層 之邊緣經移除後可維持一預定時間。 又，於將金屬層與輔助黏著層分開中，可藉由彎折金 屬層，而於金屬層之邊緣移除後，將該金屬層係與辅助黏 著層分開。 又，於形成黏著層中，該黏著層可為預浸材（prepreg)、 ABF(ajinomoto build up film)、或環氧樹脂力膜。 又，於形成輔助黏著層令，該輔助黏著層可為聚合物 膜。 又於形成輔助點著層中，該輔助黏著層可具〇 〇 1〜〇 2 KN/m之黏著力。 又，於塗佈金屬層於該輔助黏著層之一側中，其中該 輔助黏著層之一側，其黏著力可小於該輔助黏著層之另一 側0 本發明之各種目的、優點及特徵將透過下列實施例之 指述並配合所附圖示，而變得明確。 本發明說明書及申請專利範圍所使用之術語或文字不 應理解域表性意義或字典定義之限制，但應理解為均等 於基於依發明人適當定義術語概念之法則，以描述他或她 所熟知實行本發明最佳方法之本發明技術範圍的意義或概 念。 【實施方式】 201124027 本發明之目的、優點及特徵將從下列詳細描述及較佳 貫化例’搭配附圖而更加清楚理解。所有附圖中，相同參 考仏號用於代表相同或相似之元件符號，且省略贅敘。此 外’於下列敘述中，術語Γ 一側」、「另一側」以及其他 類似術》。’係用以區分一特定元件與其他元件，但此類元 件之配置不應視為受限於該術語。此外本發明之敘述中， 規定當相關領域之描述若會模糊本發明之主旨肖，此描述 將可省略。 於下文中，本發明之較佳實施例將參照圖示詳細說明。 圖3為一剖面圖，顯示依本發明—實施例所述之製備基 板用之載板。 & 如圖3所示，依此實施例所述之製備基板用之載板 _，包含：底板uo;黏著層120,其係形成於該底板n〇 側或兩側上，輔助黏著層丨3〇，每一輔助 於每一黏著層⑶之-側，且具有小於每—黏著層之】= 積及低於每一黏著層丨2〇之黏著力；以及金屬層14〇 ,每一 金屬層140係形成於每一輔助黏著層13〇之一側上，其邊緣 係連接至黏著層120’且除邊緣外之其他部分係連接至輔助 黏著層130。 該黏著層120，形成於該底板1]1〇之兩側上，其係用於 連接亚固定金屬層丨4G。圖中，點著層丨2G形成於底板11〇之 兩側上’但本發明並未受限於此，㈣層丨⑽可形成於底 板"0之-側上。再者，由於黏著層丨20需連接至金屬層 14〇,係可由具有至少—預定之黏著力之預浸材(prepreg)、 201124027 ABF (ajinomoto build up film)、環氧樹脂（ep〇xy)膜或類似 物形成。 同時，底板1 1 0之種類並未特別限定。銅箔基板（CCL)， 一預浸材其兩側覆有銅箔或類似物者係可作為底板110。 該輔助黏著層130，係埋於黏著層12〇之一側，其係用 於維持黏著層120及金屬層140之黏著，即使是在黏著層12〇 之邊緣經移除而黏著層12〇及金屬層14〇相互分開後。辅助 黏著層130不能埋在黏著層12〇全部區域中，輔助黏著層丨3〇 必須要形成具有大於黏著層丨2〇之面積，且必須埋入黏著層 120之部分區域，以便使黏著層120之邊緣與金屬層140之邊 緣接觸。由於輔助黏著層13〇以其黏著力與金屬層丨4〇連 接，故有別於常見技術，不使用真空吸附。然而，由於金 屬層丨40必須最終與輔助黏著層130分開，故輔助黏著層丨30 必頂有小於黏著層1 20之黏著力，且金屬層〗4〇須藉由實行 頜外刀離製程或彎折該金屬層丨4〇而與輔助黏著層1 3〇分開 (參考圖8至9)。因此，該輔助黏著層13〇係具〇 〇1〜〇 2 KN/m 之黏著力，但本發明並未受限於此。 此外，為了最終分開金屬層14〇與輔助黏著層13〇，介 ;輔助黏著層13G與金屬層14G間之結合力須小於輔助黏著 ^與黏著層1間。因此，較佳為輔助黏著層i 3〇 —側之 ，著力（其側係與金屬層】4〇接觸）小於輔助黏著層13〇另 側之黏著力（其另一側係與黏著層120接觸）。 201124027 考慮容易控制結合力及理解介於輔助黏著層丨3 〇 一側 與另-側黏著力之差異，較佳為使用聚合物膜作為輔助黏 著層130。 該金屬層140，係形成於輔助黏著層之一側上其 係作為脫離層以分開增層15〇與黏著層12〇及輔助黏著層 130。如上所述，由於輔助黏著層13〇形成以致有大於黏著 層120之面積，故該黏著層12〇外露。因此，當金屬層“ο係 形成於輔助黏著層130上，其後加熱及加壓該金屬層14〇以 連接至黏著層120之邊緣，除邊緣外之金屬層其他部分係連 接至輔助黏著層130。同時，由於金屬層14〇須與載板1〇〇和 增層150分開，其後從增層15〇移除，故金屬層14〇係由容易 蝕刻之銅（Cu)、鎳（Ni)或鋁（A)製成（參考圖1〇)。例如，銅箔 係可作為金屬層140。 根據本實施例之載板1〇〇,有別於常用載板，將有助於 藉由輔助黏著層130之黏著力，將金屬層14〇及輔助黏著層 1 30相互連接’以便能不需使用真空吸附，因此製備基板之 製程運作更為穩定。 再者’根據本貫施例之載板1 〇〇 ’甚至在黏著層12〇經 成型製程後’仍有助於利用輔助黏著層13〇之黏著力維持該 輔助黏著層130及金屬層140之黏著，以防止增層之赵曲， 因此實現製程自動化。 圖4至1 1係為剖面圖’連續顯不依本發明一實施例所述 之使用該載板製造基板之方法。 201124027 如圖4至1 1所示’依此實施例所述’使用該載板1 〇〇製 備基板之方法，包含：於底板1 1 0之一側或兩側上形成點著 層120 ;於該黏著層120上形成輔助黏著層13〇，該輔助黏著 層130具有相較黏著層120為低之黏著力及較小之面積；塗 佈金屬層140於該輔助黏著層130之一側上，其後加熱及加 壓該金屬層140 ’以將該輔助黏著層埋入黏著層i2〇之— 側’其後將金屬層140之邊緣連接至黏著層120，將金屬層 140除邊緣外之其他部分連接至輔助黏著層丨％，以提供一 版備基板用之載板100 ;以及於金属層丨4〇之一側上形成增 層丨50,其後移除連接至黏著層120之金屬層14〇邊緣以將該 金屬層140與輔助黏著層13〇分開。 首先’如圖4所示’於底板110上形成黏著層12〇。於此， 由於該黏著層120用於在後續製程中連接並固定金屬層 140，係可由具有至少一預定之黏著力之預浸材（prepreg)、 ABF (ajinomoto build up film)、環氧樹脂（ep〇xy)膜或類似 物形成。圖中’黏著層120形成於底板11〇之兩側上，但本 發明並未受限於此，且黏著層12〇係可形成於底板11〇之一 側上。當黏著層120係僅形成於底板u 〇之一側上，輔助黏 著層130、金屬層140及增層亦依序僅形成於底板11〇之一 側。 其後，如圖5所示，輔助黏著層13〇形成於黏著層12〇 之一側。於此，該輔助黏著層13〇係用於維持黏著層12〇及 金屬層140之黏著，甚至於黏著層之邊緣於後續製程移 除後。此外，該輔助黏著層13〇係有小於黏著層12〇之面積 12 201124027 以便使黏著層1 20之邊緣與金屬層丨4〇之邊緣接觸。同時， 由於金屬層140必須最終與輔助黏著層13〇分開，故輔助黏 ^層130必須有小於黏著層丨2〇之黏著力。因此，該輔助黏 著層130係具〇.〇1〜〇·2 KN/mi黏著力，但本發明並未受限 於此。 此外，為了最終使金屬層14〇與輔助黏著層13〇相互分 開，介於輔助黏著層130與金屬層14〇間之結合力須小於輔 助黏著層130與黏著層1 20間。因此，較佳為輔助黏著層丨3〇 一側之黏著力（其—側係與金屬層14〇接觸）小於輔助黏著 層130另一側之黏著力（其另一側係與黏著層^ 接觸）。 其後，如圖ό所示，金屬層14〇塗佈於該輔助黏著層13〇 之一側上以提供載板100。具體來說，金屬層14〇係形成於 輔助黏著層130之一側，其後加熱及加壓該金屬層Μ〇以將 辅助黏著層13〇埋於黏著層丨2〇之一側，且同時除邊緣外之 金屬層其他部分係連接至輔助黏著層13〇。同時，金屬層14〇 之邊緣連接至黏著層120，將除邊緣外之金屬層14〇其他部 刀係連接至輔助黏著層130。此製程中，由於輔助黏著層13〇 金屬層140之相互連接，不使用真空吸附，而係使用辅助 黏著層130之黏著力，與常見技術有別。 其後，如圖7所示，於金屬層14〇之一側上形成增層 1 50。该增層} 5〇係使用塗佈或印刷連續地層壓圖案化電路 層153及絕緣材料157而形成。具體來說，增層15〇藉由塗佈 絕緣材料151於金屬層14〇上而完成，使用YAG或c〇2雷射 經絕緣材料157之盲孔洞而形成’其後透過半加成製程 ς 13 201124027 (Semi-Additive Process，SAP )或經修飾之半加成製程 (Modified Semi-Additive Process，MSAP)而形成電路層 1 53，其係包含有於絕緣材料1 5 1上之盲孔1 5 1。此外，增層 1 50係於最外層提供防焊層155。於此，防焊層155係以耐熱 塗料製成，且用以保護電路層1 53以致使焊料不會在焊接過 程中塗至電路層153。 同時，圖中，增層150形成於載板100之兩側上，但增 層1 50係可僅形成於載板i 〇〇之一側上，於前述製程，黏著 層120、輔助黏著層130及金屬層14〇依序僅形成於底板π〇 之一側。 其後’如圖8至9所示，移除金屬層140之邊緣以分開金 屬層140與輔助黏著層丨3〇。當連接至黏著層12〇邊緣之金屬 層M0邊緣移除時，介於黏著層12〇及金屬層M〇間之結合力 消失。然而’由於除邊緣外之金屬層！ 4〇其他部分係連接至 輔助黏著層130，該金屬層140之邊緣無法一移除就使該金 屬層140與輔助黏著層130分開（參考圖8A)。然而，由於輔 助黏著層1 30之黏著力減少時間流逝，該金屬層140係可與 與輔助黏著層130在預定時間後分開。此外，金屬層14〇係 可藉由彎折該金屬層140 (參考圖8B)或額外之分離製程，而 與輔助黏著層13〇分開。於此製程中，由於金屬層14〇無法 立即與輔助黏著層13〇分開，且金屬層14〇及辅助黏著層13〇 間之黏著係因輔助黏著層13〇之黏著力，而維持一預定時 間，該增層1 50之彎折係可預防，因此實現製程自動化。 14 201124027 其後，如圖10至11所示，其後，金屬層140從增層15〇 矛夕除’且孔洞1 59形成於防焊層1 55。於此，金屬層i 40係可 以蝕刻移除，且孔洞159係形成於防焊層155以電性連接電 路層1 53與外部電路。然而，此於防焊層i 55形成孔洞} 59之 製程不須藉由額外製程而實行。 如上所述，根據本發明，藉由輔助黏著層之黏著力將 金屬層及輔助黏著層相互連接，以致於不需使用真空吸 收’因此製備基板之製程運作更為穩定。 此外，根據本發明，即使經成型製程後，利用輔助黏 著層之黏著力於預定時間内可維持該輔助黏著層及金屬層 之黏著仍可防止增層之翹曲，因而實現製程自動化。 ,儘官為了說明之目的，已揭示本發明之較佳實施例， 熟悉該項技術領域者應能理解，在不背離如所附申請專利 範圍之本發明範圍和精神的前提下，均可能有各種修改、 增加和替換。 本發明之簡單修改、增加和替換均屬本發明之範圍， 且本發明之特定範圍將由所附申請專利範圍而明確定義。 【圖式簡單說明】 圖以魏係為剖面圖’其係連續顯示使用載板製造基板之 常見方法。 圖2為放大圖，顯示第一金屬層之必要部分且第二金屬層顯 示於圖1。 圖3為剖面圖’顯示依本發明—實施例所述之製備基板用之 載板。 15 201124027 圖4至1 1係為剖面圖，連續顯示依本發明一實施例所述之使 用該載板製造基板之方法。 【主要元件符號說明】 10載板 13第一金屬層 16第三金屬層 19焊墊 120黏著層 150增層 155防焊層 11銅箔基板 14第二金屬層 17開口 100載板 130輔助黏著層 1 5 1絕緣材料 1 5 7絕緣材料 12黏著膜 15增層 18焊錫球 110底板 140金屬層 153電路層 15 9孔洞

Claims (1)

1. 201124027 七、申請專利範圍： 1. 一種製備基板用之載板，包含·· 一底板； 黏著層，其係形成於該底板-側或兩側上； 輔助黏著層，每一辅助黏著層係埋於每一黏著層之一 1具有j、於每―黏著層之面積及低於每-a著層之黏 著力；以及 ’ 金屬層，其每—金屬層係形成於每-輔助黏著層之- 側上、’其邊緣係連接至該些黏著層，且除邊緣外之其他部 分係連接至該些輔助黏著層。 ^如申請專利範圍第1項所述之製備基板用之載板， 其中錢者層係為㈣材（pr<epi_eg)、ABF (咖。細。buiid up film)、或環氧樹脂（ep〇xy)膜。 3. 如申請專利範圍第1項所述之製備基板用之載板， 其中該輔助黏著層係為聚合物膜。 4. 如申請專利範圍第丨項所述之製備基板用之載板， 其中該輔助黏著層係'具2 KN/m之黏著力。 5. 如申請專利範圍第1項所述之製備基板用之載板， 該辅助黏著層一側之黏著力係小於該輔助黏著層另一側。 6· 一種使用載板製備基板之方法，包含： 於—底板之一側或兩側上形成一黏著層； 於4黏著層上形成一輔助黏著層，該輔助黏著層具有 相較該黏著層為低之黏著力及較小之面積； 17 201124027 之 側上’其後加熱及 5玄勒著層之—側， 將該金屬層除邊緣 提供—製備基板用 其後移除該金屬層 與該輔助黏著層分 塗佈一金屬層於該輔助黏著層 加壓忒金屬層，以將該輔助黏著層埋入 再將該金屬層之邊緣連接至該黏著層， 外之其他部分連接至該輔助黏著層，以 之載板；以及 於該金屬層之一側上形成一增層， 連接至該黏著層之邊緣，以將該金屬層 開。 /如中請專利範圍第6項所述之使用載板製備基板之 方法，其中於將該金屬層與該輔助黏著層分開中，該金屬 層及該輔助黏著層間之黏著係因該輔助黏著層之黏著力， 而於該金屬層之邊緣經移除後維持一預定時間。 8. 如中請專利範圍第6項所述之使用載板製備基板之 方法，其中於將該金屬層與該輔助黏著層分開中藉由彎 折該金屬層，而於該金屬層之邊緣移除後，將該金屬3層與 輔助黏著層分開。 S 〃 9. 如申請專利範圍第6項所述之使用載板製備基板之 方法，於形成該黏著層中，該黏著層係為預浸材、 ABF(ajinomot〇 build up film)、或環氧樹脂（ep〇xy)膜。 10. 如申請專利範圍第6項所述之使用載板製備基板之 方法，於形成該輔助黏著層中，該輔助黏著層係為聚合物 膜。 18 201124027 M•如申請專利範圍第6項所述 方法，&卅&又使用栽板製備基板之 万去於…輔助點著層中，該輔 KN/m之點著力。 f層係具0.01〜0.2 1，2.如申請專利範圍㈣所述之使用載板製備基板之 豆Φ-、:中於塗佈該金屬層於該辅助黏著層之-側上中， ^輔助黏著層之_側，其黏著力係、小於該辅助黏著居 之另一側。 曰 八、圖式（請見下頁）： 19