TW201103566A - Cation compatible metal oxides and oral care compositions containing the metal oxides - Google Patents

Description

201103566 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種陽離子相容經修改金屬氧 種製造及在口腔護理組成物中使用經修改金屬 法。特定言之，本發明關於含一種陽離子相容 氧化物及一種陽離子殺菌劑之口腔護理組成物 使用該組成物之方法。 【先前技術】 口腔護理組成物（例如潔牙劑）經常含一 制機械性清潔及拋光牙齒之磨料物質。金屬氧 例如矽石）經常在口腔護理組成物中作爲磨料 之硏磨作用係在潔牙劑中用於自牙齒去除外膜 於潔牙劑之習知矽石具有帶負電表面。 爲了控制惡臭及/或其他治療作用，現在越 殺微生物劑加入口腔護理組成物。氯化鯨！I (“CPC”）經常作爲此目的用殺微生物劑。CPC爲 (「正電性」）電荷之化合物。CPC之殺微生 了解係由其結合存在於口腔之細菌細胞上帶陰 負電性」）電荷之蛋白質部分的能力所造成。 機構造成細菌之正常細胞功能瓦解，而且促成 成及其他之細菌作用。 在口腔護理組成物中使用CPC遭遇之問題 無差別地結合帶負電表面。例如經常用於口腔 作爲磨料之金屬氧化物粒子（例如矽石粒子） 化物，及一 氧化物之方 經修改金屬 ，及製造及 種用於經控 化物粒子（ 。例如砂石 。大部分用 來越希望將 I基吡啶鹽 帶陽離子性 物作用大致 離子性（「 此CPC附著 防止牙垢形 爲CPC趨於 護理組成物 具有帶負電 201103566 表面且可結合CPC。一旦結合金屬氧化物粒子、或其他之 帶負電共成分，CPC通常無法實行任何有意義之殺微生物 作用。 許多專利公告已敘述CPC相容口腔護理組成物製備用 組成物及方法。 例如美國專利第6,3 5 5,229號敘述一種含瓜爾膠羥丙 基三甲基氯化銨之CPC相容潔牙劑調配物。瓜爾膠錯合物 對於結合帶負電物種具有較CPC高之親和力。其偏向結合 陰離子成分而使CPC自由地結合牙垢》 W02004/〇7353 9A號專利揭示一種包含多孔性矽石粒 子之沉澱矽石，其直徑大於5 00埃之全部孔的累積表面積 小於8平方米/克，及CPC相容性百分比大於約55%。由於 CPC不附著低表面積矽石產物，沉澱矽石產物極適合用於 含CPC之潔牙劑。 現在業界仍需要在口腔護理組成物中可與陽離子殺微 生物劑（如CPC ) —起使用，但不損及任一成分之個別功 能的金屬氧化物。由以下揭示顯而易知，本發明符合這些 需求等。 【發明內容】 現已發現，口腔護理調配物中陽離子分子-金屬氧化物 不相容之問題可藉由使用陽離子相容、經修改金屬氧化物 成分而克服。出乎意料地，現已發現以重要之維生素分子 處理帶負電金屬氧化物粒子（如矽石）充分地改變金屬氧 化物粒子之表面電荷，而對經處理金屬氧化物粒子之表面 201103566 提供實質上正電荷。經帶正電維生素處理金屬氧化物表面 使CPC、及一般用於口腔護理組成物之其他帶正電成分之 吸附或反應最小，因而促進殺菌劑與金屬氧化物粒子二者 在口腔護理組成物中實行個別意圖功能之可用性。 陽離子相容經修改金屬氧化物係藉由例如藉反應及/ 或吸附將維生素分子直接固定在負表面電荷金屬氧化物粒 子之表面上而形成。本發明之經維生素處理金屬氧化物在 包含CPC及其他陽離子殺菌劑之口腔護理組成物（例如潔 牙劑）中作爲陽離子相容磨料或增稠劑特別有用。包含本 發明經維生素處理金屬氧化物、及一或多種陽離子活性殺 菌劑之口腔護理組成物以口腔護理組成物在人類使用或消 耗期間之與其成分瀝濾相關之安全性風險最小而提供相容 性增加之益處。 因而本發明之一個優點爲提供一種負表面電荷金屬氧 化物材料’其與CPC及其他之陽離子殺菌劑相容。 又本發明之一個優點爲提供一種包含陽離子相容金屬 氧化物之新穎口腔護理組成物。 又本發明之一個優點爲提供一種包含陽離子相容矽石 之新穎口腔護理組成物。 本發之另一個優點爲提供一種包含陽離子相容金屬 氧化物、及陽離子殺菌劑（例如c p c )之口腔護理組成物 ，其中金屬氧化物與殺菌劑之反應最小。 本發明之又一個優點爲提供一種包含陽離子相容矽石 、及陽離子殺菌劑（例如CPC)之口腔護理組成物，其中 201103566 矽石與殺菌劑之反應最小。 又本發明之一個優點爲提供一種製備包含經維生素修 改負表面電荷金屬氧化物（例如矽石）、及陽離子殺菌劑 (例如CPC)之口腔護理組成物，其中金屬氧化物與殺菌 劑之反應最小的方法。 本發明之又一個優點爲提供一種使用依照本發明之組 成物及方法的方法。 本發明之這些及其他態樣在以下進一步詳述。 【實施方式】 本發明關於一種陽離子相容金屬氧化物，其在含帶正 電分子（特別是例如CPC之殺菌劑）之口腔護理組成物中 特別有用。陽離子相容金屬氧化物係藉由將合適之維生素 分子附著金屬氧化物粒子之表面，以在金屬氧化物粒子之 表面上提供實質上正電荷而形成。爲了本發明之目的，名 詞「實質上正電荷」在此用以表示足以排斥及/或使與陽離 子分子之反應最小的正電荷。 適合用於本發明之金屬氧化物粒子包括任何在使用條 件下具有負電荷表面之金屬氧化物的粒子。一般而言，金 屬氧化物具有小於8，較佳爲小於5，而且最佳爲小於3之 等電點。合適之金屬氧化物包括但不限於選自矽石、鈦白 、氧化錐、矽石鋁氧、及其混合物之金屬氧化物。名詞「 矽石鋁氧」在此用以包括非晶質矽石鋁氧或結晶質矽石鋁 氧（如沸石）。 依照本發明，帶負電金屬氧化物粒子之表面係藉由處

S -6- 201103566 理金屬氧化物以將所需維生素分子固定在金屬氧化物粒子 之表面上而實質上變正。爲了本發明之目的，名詞「固定 」在此用以表示維生素被吸附於或與金屬氧化物粒子之表 面化學地反應。金屬氧化物之維生素處理將金屬氧化物表 面上之負電荷改變成實質上正電荷。正電荷在經處理金屬 氧化物表面上之存在因排斥及/或使與陽離子分子（即具有 正電荷之分子）之反應最小，而促進陽離子相容性。 雖然維生素附著金屬氧化物表面之確實機構未知，其 假設維生素分子可藉維生素分子之醇基與金屬氧化物表面 上之表面羥基的反應形成酯鍵，而化學地附著金屬氧化物 表面》另一種附著機構可能爲由於維生素分子之極性本性 造成維生素分子對金屬氧化物表面之物理吸附。 在本發明之一個較佳具體實施例中，金屬氧化物粒子 包含矽石粒子。爲了本發明之目的，名詞「矽石粒子」在 此用以表示細微分割矽石、矽石一級粒子、矽石凝集體（ 即多個矽石一級粒子之單團）、及矽石黏聚物（即多個矽 石凝集體之單團），單獨或其組合。 可用於本發明之矽石粒子可爲任何在口腔護理組成物 中具有足以促進外膜去除之機械整體性的矽石粒子。一般 而言，可用於本發明之矽石粒子具有約1平方米/克至約 200平方米/克，較佳爲約10平方米/克至約50平方米/克 之範圍的BET表面積，及約1微米至約20微米，較佳爲 約3微米至約15微米之範圍的黏聚物大小中位數。 可用於本發明之矽石包括但不限於天然非晶質矽石，

E 201103566 例如矽藻土；或合成非晶質矽石，例如沉澱矽石或矽膠， 如矽石乾凝膠，或其混合物。合成非晶質矽石之較佳等級 爲小心地控制製程使得將陰離子雜質（特別是各得自硫酸 鈉與矽酸鈉之硫酸鹽與矽酸鹽）之含量保持最小者。或者 或另外可藉由以例如去離子或蒸餾水小心地清洗矽石，而 將陰離子雜質之含量降低至所需程度。在本發明之一個較 佳具體實施例中，矽石爲沉澱矽石。 可用於本發明之矽石可藉習知手段由矽酸鹽與酸製備 成沉澱物或凝膠，收集粗矽石產物然後以水（較佳爲去離 子水）清洗，直到洗液之導電度小於200微西門子公分η ，較佳爲小於1 0 0微西門子公分_1，然後乾燥，如果必要 則硏磨以得所需大小之粒子。或者可將起初以水清洗直到 洗液具有小於2000微西門子公分〃之導電度的粗產物繼而 以酸或酸水溶液（例如礦物酸，如硝酸，或有機酸，如乙 酸或檸檬酸）清洗，直到矽石具有小於8，較佳爲6至7.6 之間的Ph値。 可用於本發明之維生素分子包括任何可固定在帶負電 金屬氧化物粒子之表面上，以在金屬氧化物粒子之表面上 形成實質上正電荷的維生素分子。在本發明之一個較佳具 體實施例中，維生素分子係藉由將維生素直接吸附於粒子 之表面上，或藉由直接反應維生素與粒子之表面，而固定 在金屬氧化物粒子（例如矽石粒子）上。合適之維生素包 括例如維生素B、維生素Μ (葉酸）、維生素U、及其鹽 與衍生物。名詞「維生素Β」係用於本發明以表示維生素Β

S 201103566 族之維生素，如維生素B1 (硫胺）、維生素B2(核黃素 )、維生素B3(菸鹼酸）、維生素B4(腺嘌呤）、維生 素B6(咳醇）、及其鹽。 在本發明之一個較佳具體實施例中，維生素爲維生素 B。維生素最佳爲選自維生素B1、維生素B2、維生素B6 、其鹽、及其混合物之維生素 依照本發明，維生素係藉由使用習知技術以所需維生 素接觸負表面電荷金屬氧化物而固定在金屬氧化物粒子之 表面上》本發明之一個具體實施例將金屬氧化物粒子在含 足以對經處理金屬氧化物之表面提供實質上正電荷之濃度 的所需維生素之水溶液（較佳爲水）中漿化。較佳爲此水 溶液依維生素在水溶液中之固有溶解度含約〇.〇1重量％之 濃度至完全飽和的維生素。例如在維生素爲維生素B1時， 濃度範圍爲約〇.〇1重量％至約50重量％;在維生素爲維生 素B6時，濃度範圍爲約0.01重量％至約23重量％。金屬 氧化物粒子係在特定溫度接觸維生素水溶液足以反應及/ 或吸附足以對金屬氧化物粒子之表面提供正或實質上正電 荷之量的維生素之時間。較佳爲金屬氧化物粒子在範圍爲 約周溫至約98 °C接觸維生素水溶液經約1分鐘至約72小時 〇 然後一般將經處理金屬氧化物之漿液過濾及清洗以去 除殘渣。在清洗後將濾塊在特定溫度乾燥足以去除水且形 成經處理金屬氧化物粒子之粉末的時間，一般爲範圍爲約 6 0 eC至約1 2 (TC之溫度經約1分鐘至約4小時。視情況地將 201103566 經乾燥金屬氧化物粒子藉習知手段（例如空氣磨粉或機械 磨粉）粉碎成所需之粒度，例如小於20微米，較佳爲小於 15微米。 或者經維生素修改金屬氧化物粒子可藉由首先將金屬 氧化物粒子分配於水溶液（較佳爲水）中形成漿液，然後 對槳液加入足以完全分散維生素且提供所需之維生素於漿 液中濃度之量的維生素而形成。然後將含維生素漿液在特 定溫度混合足以反應及/或吸附足以對金屬氧化物粒子之 表面提供正或實質上正電荷之量的維生素之時間，例如在 約周溫至約98 °C經約1分鐘至約72小時。然後將所得之經 維生素處理金屬氧化物粒子過濾，清洗，乾燥，視情況地 粉碎成所需粒度。 另一種將維生素分子固定在金屬氧化物粒子之表面上 的方法包括將金屬氧化物粒子以含維生素溶液（較佳爲水 溶液）浸漬，以部分地或完全地充塡金屬氧化物粒子之孔 。依維生素於溶液介質之固有溶解度而定，較佳爲含維生 素溶液具有約0.01重量％至完全飽和之維生素濃度。繼而 將經浸漬金屬氧化物材料乾燥以去除過量水。視情況地將 經乾燥金屬氧化物材料懸浮於水中，過濾及清洗以去除過 量維生素溶液。然後如上所述將金屬氧化物材料乾燥，視 情況地粉碎而得到所需粒度。 在製造金屬氧化物之製造程序期間以維生素分子影響 金屬氧化物粒子之處理亦在本發明之範圍內。例如以維生 素分子處理矽石粒子可在一般用於口腔護理組成物之矽石 -10- 201103566 的習知製備期間完成。例如 矽石之水性漿液。將維生素 ，而且在特定溫度混合足以 正電荷的時間，例如在範圍 1分鐘至約72小時。然後如 洗，過濾，乾燥，視情況地 通常經維生素處理金屬 供實質上正表面電荷之濃度 金屬氧化物爲矽石之處，維 石組成物之約〇.〇1至約10. 5.0重量％，最佳爲約0.5至 意圖加入本發明之陽離 組成物包括例如潔牙劑、口 牙劑」表示口腔護理產品， 著劑，但不意圖限制。 本發明之經維生素處理 生素處理矽石粒子）亦可具 包括例如作爲金屬、陶瓷或 較佳爲依照本發明之口 陽離子殺菌劑，其中矽石粒 粒子之表面提供實質上正電 分子之存在已顯示明顯地增 是CPC )之相容性，如以下 在沉澱矽石之製備期間形成含 或其水溶液加入矽石水溶液中 對矽石粒子之表面提供實質上 爲約周溫至約9 8 t之溫度經約 上所述將經處理矽石之漿液清 粉碎。 氧化物含足以對金屬氧化物提 的所需維生素。一般而言，在 生素在矽石上之濃度爲全部矽 0重量％，較佳爲約0.015至約 1重量％的範圍。 子相容金屬氧化物的口腔護理 香糖、及漱口液等。名詞「潔 其通常爲牙膏、牙粉與假牙黏 金屬氧化物粒子（特別是經維 有更廣義之清潔用途及應用， 瓷器清潔或洗滌劑。 腔護理組成物包含粒狀矽石與 子在其表面上包含足以對矽石 荷之量的維生素分子。維生素 加矽石與陽離子殺菌劑（特別 實例中定義之相容性測試所證 201103566 爲了本發明之目的，名詞「％ CPC相容性」係用以表 示在140 °F以27克之0.3重量％ CPC溶液接觸3克之經維 生素處理矽石經7日後，溶液中可得CPC之莫耳百分比。 莫耳濃度係使用UV-可見光光譜儀測量2 5 9奈米之UV吸 收峰而測定。通常經維生素處理矽石具有至少1 0%，較佳 爲至少5 0 % ;最佳爲至少6 0 %之％ C P C相容性。據信C P C 相容性通常爲陽離子殺菌劑相容性之指標。較佳爲經維生 素處理金屬氧化物之％ CPC相容性範圍爲約10%至約100% :最佳爲約2 0 %至約8 0 %。 上述加入經維生素處理金屬氧化物產物之口腔護理組 成物較佳爲包含殺微生物有效量之CPC。此量可依調配物 之其他成分、及規範當局（例如FDA)對其用途施加之限 制而改變，但是通常此量範圍爲約0.01至約1重量％，較 佳爲約0.1至約0.75重量％，最佳爲約0.25至0.50重量％ 〇 CPC在此作爲陽離子殺菌劑之代表。本發明意圖任何 合適之陽離子殺微生物劑。其他合適之陽離子殺菌劑包括 但不限於二氯苯二胍己烷與二氯苯二胍己烷葡萄糖酸酯； 氯化烷基二甲基苄基銨（BZK); 氯化苄乙氧銨 (benzethonium chloride)(BZT);度米芬；及金屬鹽，如氯 化鋅、檸檬酸鋅或葡萄糖酸鋅、及氯化錫與氟化錫。如果 存在則額外陽離子殺菌劑通常包含口腔護理組成物之至多 約2重量％。較佳爲殺菌劑包含口腔護理組成物之約〇.〇1 至1重量％，最佳爲約0.1至約〇. 7 5重量％。 £ -12- 201103566 常用或有益於口腔護理組成物之其他添加劑可視情況 地包括於口腔護理調配物。含本發明矽石產物之口腔護理 組成物的成分用醫藥上可接受載劑爲選用，而且可爲任何 適合用於人類或其他溫血動物之口腔的媒液。此載劑包括 但不限於牙膏、牙粉、預防膏、錠劑、膠等習知成分，而 且在以下更詳細地敘述。 調味劑可視情況地加入口腔護理組成物。合適之調味 劑包括冬青油、薄荷油、綠薄荷油、黃樟油、與丁香油、 肉桂、大茴香腦、薄荷腦、及其他此種味道成分，以添加 果味、香味等。這些調味劑係由醛、酮、酯、酚、酸、及 脂族、芳族與其他醇類之混合物化學地組成。 可使用之增甜劑包括阿斯巴甜、醋磺內酯、糖精、右 旋糖、果糖、與環己胺磺酸鈉。調味及增甜劑通常以口腔 護理組成物之約0.00 5%至約2重量％的程度使用。 水溶性氟化物供應化合物可視情況地以在2 5 °c足以在 組成物中提供氟離子濃度，及/或在用於其意圖用途時，爲 約0.0025 %至約5.0重量％，較佳爲約0.005 %至約2.0重量 %之量加入及存在於口腔護理組成物，以提供額外之防蛀 牙效果。在本組成物中可使用廣泛種類之氟離子產生材料 作爲可溶性氟化物來源。合適氟離子產生材料之實例可由 美國專利第3,5 3 5,42 1號與美國專利第3,67 8，154號得知， 其在此倂入作爲參考。代表性氟離子來源包括：氟化錫、 氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、及許多特佳者、及其混合 物。 S' -13- 201103566 水亦以依組成物之意圖用途而定之量存在於口腔護理 組成物。例如用於製備合適牙膏之水應較佳爲去離子且無 有機雜質。水通常包含牙膏組成物之約2 %至5 0%，較佳爲 約5 %至2 0重量％。這些量之水包括隨其他添加劑與材料（ 如保濕劑）另外加入之自由水。 依意圖用途而對口腔護理組成物添加一些增稠或黏合 劑材料可能爲必要的。例如在製備牙膏時，其經常需要增 稠及黏合劑材料以提供所需之稠度與搖變性。較佳之增稠 劑爲羧乙烯基聚合物、鹿角菜苷、羥乙基纖維素、及纖維 醚之水溶性鹽（如羧甲基纖維素鈉與羧甲基羥乙基纖維素 鈉）。亦可使用天然膠，如刺梧桐膠、黃原膠、阿拉伯膠 、與黃蓍膠。其通常可使用全部組成物之約0.5%至約5.0 重量％之量的增稠劑。 矽石增稠劑亦可用於口腔護理組成物，然而如本發明 所述’矽石經維生素處理。典型矽石增稠劑包括但不限於 沉澱矽石、矽膠與發煙矽石。矽石增稠劑通常可以約5%至 約1 5重量％之含量加入。 亦經常希望在口腔護理組成物（例如牙膏）中包括一 些保濕劑材料’以將其保持不硬化。合適之保濕劑包括甘 油（丙三醇）、山梨醇、聚伸烷二醇（如聚乙二醇與聚丙 二醇）、氫化澱粉水解物、木糖醇、半乳糖醇、氫化玉米 糖發 '及其他之可食用多羥基醇，單獨或以其混合物而使 用。合適之保濕劑通常可以約丨5 %至約7 〇重量％之含量加 入。 -14- 201103566 鉗合劑視情況地可加入本發明之口腔護理組成物，如 酒石酸與檸檬酸之鹼金屬鹽，或焦磷酸或聚磷酸之鹼金屬 臨 0 rm 亦可如所需或希望加入口腔護理組成物之其他選用成 分與佐劑，例如美國專利第5,676,932號、及Pader，M.之 Oral Hygiene Products and Practice, Marcel Dekker, Inc., New York，1 9 88所述之潔牙劑。這些可加入本發明口腔護 理組成物之其他選用佐劑、添加劑與材料包括例如發泡劑 (例如月桂基硫酸鈉）、清潔劑或界面活性劑、著色或增 白劑（例如二氧化鈦、F D & C染料）、防腐劑（例如苯甲 酸鈉、對羥苯甲酸甲酯）、鉗合劑、殺微生物劑、及可用 於口腔護理組成物之其他材料。如果存在，則選用添加劑 通常以如各不大於約6重量％之量存在。 在全部之情形，用於口腔護理調配物之成分（如增稠 膠、發泡劑等）係與治療劑與香味相容而選擇> 本發明組成物之安全及有效量可以數種習知方式應用 於溫血動物，較佳爲人類之用途。爲了減少其中不欲之口 腔微生物的含量，其通常將本發明之組成物局部地應用於 口腔之黏膜組織、口腔之齒齦組織、及/或牙齒表面。例如 可將齒齦或黏膜組織浸於及/或稍後以包含本發明組成物 之潔牙劑（例如牙膏、牙膠或牙粉）刷牙產生之液體。將 本發明之組成物應用於齒齦黏膜組織及牙齒表面的其他方 法對熟悉所需用途者爲顯而易知的。 爲了進一步描述本發明及其優點而提供以下之指定實

S -15- 201103566 例。實例係爲了所請專利之指定例證。然而應注意，本發 明不限於以下實例所述之指定細節。 實例及其餘說明書中之全部份及百分比均爲重量比， 除非另有指示。 此外說明書或申請專利範圍中所列之任何數量範圍（ 如表示特定組之性質、測量單位、條件、物理狀態、或百 分比）’以及在此範圍內之任何數量（包括所列任何範圍內 之任何次組數量），意圖按字面明確地倂入作爲參考。 以下實例係提出以描述本發明，但是本發明不視爲受 其限制。 實例 對於以下實例，使用以下步驟得到未處理及經處理矽 石材料之CPC相容性：在塑膠離心槽中安置3.0克之矽石 、與27.0克之0.3重量％ CPC溶液。將槽以蓋密封且將管 之內容物混合及置於130°F至140°F烤箱中。在所需時間 (約3小時至約8日）後將混合物自烤箱移除，冷卻，及 以1 0,000 rpm離心10分鐘。小心地抽取在離心管中固態 矽石層上方形成之透明液的樣品（1.000克），將之以DI 稀釋成20:1 ( 1.000克之透明液於19.000克之DI水）。然 後使用Shimadzu UV· 1601 UV-可見光光譜光度計，在符合 1公分路徑長度之石英光析管中測試溶液在259奈米之吸 收度》CPC在259奈米處具有特徵UV吸收峰。使用此UV 吸收峰測定溶液中保持自由之CPC濃度。所得參考用稀釋 成20:1之0·3重量％ CPC在259奈米之典型吸收度値（矽 S. -16- 201103566 石不存在）爲1.87。在矽石存在下加熱後自由地保留在溶 液中之CPC百分比（定義成％ CPC相容性）係如下計算： % CPC相容性=1〇〇χ(樣品溶液在259奈米之吸收度）n.78 實例1 在塑膠離心槽中安置3.0克之沉澱矽石、與27.0克之 0.3重量％ CPC溶液。沉澱矽石之性質如下：11微米之APS 、31平方米/克之表面積、0.1 cc/克之N2孔體積。將槽以 蓋密封且將槽之內容物混合，然後置於140°F烤箱中。在6 日後將混合物自烤箱取出，冷卻，及以10, 〇〇〇 rpm離心10 分鐘。小心地抽取在離心管中固態矽石層上方形成之透明 液的1.000克樣品，及組合19.000克之DI水而稀釋成20:1 。將所得溶液轉移至1公分石英光析管且將結果報告於以 下表1。 表1 時間 (在 140°F) UV吸收度 (259奈米） CPC相容性 (Ads259奈米/1.78) X100 6曰 0 0% 溶液之吸收度係在259奈米測量。這些結果顯示全部 帶正電CPC分子已被未處理矽石吸附且在溶液中非自由可 得。 實例2 在覆以表玻璃之50毫升錐形瓶中將噻肢HCL 〇8克 )溶於18.6克之DI水。加入具有以下性質之沉澱矽石（ 4.0克）：11微米之八？8、31平方米/克之表面積、〇.1(^/ 克之N2孔體積，而且將混合物在~98°C加熱攪拌。在1小

S -17- 201103566 時後將混合物熱過濾且以50毫升份之H20清洗3次。將隔 離固體在瓷碟中於120 °C乾燥過夜。所得固體之百分比CPC 相容性測試記錄於以下表2。 表2 時間 (在 130oF) UV吸收度 (259奈米） CPC相容性 (Ads 259 奈米/1.78) X100 2小時 1.224 69% 3曰 1.122 63% 7曰 1.115 63% 如表2所芣，2小時後在溶液中可得69%之CPC。然 而令人印象深刻爲在3及7日後各溶解63 %之CPC及在溶 液中自由可得，表示CPC未實質上吸附於經噻胺處理矽石 之表面。 實例3 在覆以表玻璃之125毫升錐形瓶中將噻胺HCL( 20克 )溶於20克之DI水。加入1〇·〇克具有以下性質之沉澱砍 石（10.0克）：11微米之APS、31平方米/克之表面積、 0.1 cc/克之N2孔體積’而且將混合物在〜98 °C加熱攪拌。 在加熱7小時後將混合物熱過濾且以1〇〇毫升份之HiO清 洗4次。將隔離固體在瓷碟中於I20 °C乾燥過夜。所得固體 之百分比C P C相容性測試記錄於以下表3 ° 表3 時間 (在 1400F) UV吸收度 (259奈米） CPC相容性 (Ads 259 奈米/1.78) X100 3小時 1.122 63% 8曰 0.917 52%

S -18- .201103566 如表3所明示’ 8日後52%之CPC在溶液中自由地可 溶及可得。 實例4 在50毫升燒杯中將噻胺HCL溶液（1.94克之噻胺HCL 於18.4克之DI水）逐滴加入20克之沉澱矽石（具有以下 性質：11微米之APS、3 1平方米/克之表面積、0.1 cc/克 之N2孔體積）。將混合物以刮勺攪拌直到形成均勻之漿稠 度。將材料轉移至瓷碟且於120°C乾燥4小時。將乾燥材料 懸浮於100毫升之DI水且使用布赫納漏斗過濾。然後將濕 塊以3份100毫升之DIH20清洗，而且在過濾器中風乾。 所得固體之百分比CPC相容性測試記錄於以下表4。 表4 時間 UV吸收度 CPC相容性 (在 130oF) (259奈米） (Ads 259 奈漱 1.78) χΙΟΟ 1曰 1.095 62% 7曰 1.142 64% 如表4所示，在130°F經1日後百分比CPC相容性爲 62%，及在130°F經7日後爲64%。這些結果證明CPC仍 未被經噻胺處理矽石吸附且在溶液中可溶及可得》 實例5 在覆以表玻璃之125毫升錐形瓶中將哆醇（2.02克） 溶於18.11克之DI水。加入4.03克之沉澱矽石（具有以下 性質：1 1微米之APS、31平方米/克之表面積、0.1 cc/克 之N2孔體積），而且將混合物在~9 8°C加熱攪拌。在加熱6 小時後將混合物熱過濾及以100毫升份之H20清洗4次。 S· -19- 201103566 將隔離固體在瓷碟中於12 0°C乾燥過夜。所得固體之百分比 CPC相容性測試記錄於以下表5。 表5 時間 (在 130〇F) UV吸收度 (259奈米） CPC相容性 (Ads 259 奈私 1.78) X100 7曰 1.12 63% 如表5所示，在1 4 0 ° F經7日後百分比C P C相容性爲 63°/。。這些結果顯示在7日後，63 %之CPC仍未被經吡哆素 處理矽石吸附且在溶液中可溶及自由可得。 【圖式簡單說明】 無。 【主要元件符號說明】 無。 £ -20-

Claims (1)

1. 201103566 七、申請專利範圍： 1·一種陽離子相容金屬氧化物’其包含一種具有負表面電 荷之金屬氧化物粒子、及一種以足以對金屬氧化物粒子 之表面提供實質上正電荷之量固定在金屬氧化物粒子 之表面上的維生素分子。 2.如申請專利範圍第1項之陽離子相容金屬氧化物，其中 金屬氧化物粒子之金屬氧化物具有小於7之等電點。 3 ·如申請專利範圍第2項之陽離子相容金屬氧化物，其中 金屬氧化物係選自矽石、鈦白、氧化鉻、矽石鋁氧、及 其混合物。 4. 如申請專利範圍第1項之陽離子相容金屬氧化物，其中 維生素分子係直接固定在金屬氧化物粒子之表面上。 5. 如申請專利範圍第1項之陽離子相容金屬氧化物，其中 固定在金屬氧化物粒子之表面上的維生素分子之量範 圍爲金屬氧化物之約0.01至約10.0重量％。 6. 如申請專利範圍第1項之陽離子相容金屬氧化物，其中 維生素分子係選自維生素B、維生素Μ、維生素U'其 鹽與衍生物、及其混合物。 7. 如申請專利範圍第6項之陽離子相容金屬氧化物，其中 維生素分子爲維生素Β。 8. 如申請專利範圍第7項之陽離子相容金屬氧化物，其中 維生素Β係選自維生素Β1、維生素Β2、維生素Β6、其 鹽、及其混合物。 9. 如申請專利範圍第4項之陽離子相容金屬氧化物，其中 S -21- 201103566 將維生素分子直接浸漬於金屬氧化物粒子之表面上。 10. 如申請專利範圍第4項之陽離子相容金屬氧化物，其中 將維生素分子直接吸附於金屬氧化物粒子之表面上。 11. 如申請專利範圍第4項之陽離子相容金屬氧化物，其中 將維生素分子直接與金屬氧化物粒子之表面化學地反 應。 12. 如申請專利範圍第1、5或8項之陽離子相容金屬氧化 物，其中金屬氧化物粒子爲矽石粒子。 13. —種口腔護理組成物，其包含 (1) 殺菌有效量之至少一種陽離子殺菌劑：及 (2) 至少一種等電點小於7，而且具有至少一種以足以排 斥或使金屬氧化物與該至少一種陽離子殺菌劑之反 應最小之量固定在金屬氧化物粒子之表面上的維生 素分子之金屬氧化物粒子。 14. 如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其中陽離 子殺菌劑爲氯化鯨蠟基吡啶鹽（C PC)。 15. 如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其中金屬 氧化物粒子之金屬氧化物係選自矽石、鈦白、氧化锆、 矽石鋁氧、及其混合物。 16·如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其中固定 在金屬氧化物粒子之表面上的維生素分子之量範圍爲 金屬氧化物之約0.01重量％至約10.0重量％。 17.如申請專利範圍第16項之口腔護理組成物，其中將維 生素分子直接固定在金屬氧化物粒子之表面上。 S -22- 201103566 18. 如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其中維生 素分子係選自維生素B、維生素Μ、維生素U、其鹽與 衍生物、及其混合物^ 19. 如申請專利範圍第18項之口腔護理組成物，其中維生 素分子爲維生素Β。 2〇·如申請專利範圍第19項之口腔護理組成物，其中維生 素Β係選自維生素Β1、維生素Β2、維生素Β6、其鹽、 及其混合物。 21. 如申請專利範圍第20項之口腔護理組成物，其中金屬 氧化物粒子之金屬氧化物爲矽石。 22. 如申請專利範圍第17項之口腔護理組成物，其中將維 生素分子浸漬於金屬氧化物粒子之表面上。 23. 如申請專利範圍第17項之口腔護理組成物，其中將維 生素分子直接吸附於金屬氧化物粒子之表面上。 24. 如申請專利範圍第17項之口腔護理組成物，其中將維 生素分子與金屬氧化物粒子之表面化學地反應》 2 5 .如申請專利範圍第1 3項之口腔護理組成物，其中組成 物爲選自潔牙劑、口香糖、漱口液、及其混合物之形式 〇 26. 如申請專利範圍第25項之口腔護理組成物，其中組成 物爲選自牙膏、牙粉、假牙黏著劑、及其混合物之潔牙 劑。 27. 如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其進〜步 包含至少一種選自增稠劑、增白劑、磨料劑、香料、保 S- -23- 201103566 濕劑、清潔劑、界面活性劑、氟化物供應化合物、去敏 感劑、及其混合物之材料。 28. 如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其進一步 包含至少一種增甜劑。 29. 如申請專利範圍第13項之口腔護理組成物，其進一步 包含至少一種另外之陽離子殺菌劑。 30. —種減少溫血動物之口腔中微生物存在之方法，該方法 包含對溫血動物之口腔施以有效量之如申請專利範圍 第13、14、15、及20項之α腔護理組成物。 31. 如申請專利範圍第30項之方法，其中溫血動物爲人類 〇 32. 如申請專利範圍第3 0項之方法，其中口腔護理組成物 爲選自潔牙劑、口香糖、漱口液、及其混合物之形式。 33. 如申請專利範圍第32項之方法，其中口腔護理組成物 爲選自牙膏、牙粉、假牙黏著劑、及其混合物之潔牙劑 〇 34. 如申請專利範圍第30項之方法，其中口腔護理組成物 進一步包含至少一種選自增稠劑、增白劑、磨料劑 '香 料、保濕劑、清潔劑、界面活性劑、氟化物供應化合物 、去敏感劑、增甜劑、及其混合物之材料。 35. 如申請專利範圍第30項之方法，其中口腔護理組成物 進一步包含至少一種另外之陽離子殺菌劑。 36. 如申請專利範圍第12項之陽離子相容金屬氧化物，其 中矽石粒子具有至少1〇%之％ CPC相容性。 S. -24- 201103566 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 。 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：