TW201100952A - Pellicle - Google Patents

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    • H01L21/0334Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane
    • H01L21/0337Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane characterised by the process involved to create the mask, e.g. lift-off masks, sidewalls, or to modify the mask, e.g. pre-treatment, post-treatment

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Description

201100952 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種在製造半導體裝置、 __ 器等產品時作為防塵n使用的防麟顺件。1 i板或液晶顯不 【先前技術】 程中# 3 ^日^晶顯示器等產品的製造過 Ο ❹ Γ使gif ΓΓ光’使光反射’除了會 觀等吏邊緣雙粗i之外,還會使基底污黑,損壞尺寸、品質、外 要瘦=拉Γίίί通常是在無塵室内進行,然而即使如此,想 f=:,進行曝光。此時,異物並非=== ΙΞΪ 2塵薄膜組件上,故只要在微影時將焦點對準光 、二案’防塵細組件上的異物就不會對轉印造成影響。 纖維素或是氟樹脂等物質所構成的透明防塵薄膜,貼 框二ίit由鋁、不銹鋼、聚乙烯等物質所構成的防塵薄膜組件 到=罢知面。然後,在防塵薄膜組件框架的下端設置用來裝設 而由聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯s旨樹脂、丙晞酸樹脂等物 貝=的枯著層,以及以保護枯著層為目的的脫模層(隔離部)。 防塵塵薄膜組件貼附於光罩上的狀態下,為了消除 裤加1/、且件内部所包圍的空間與外部的氣壓差,而在防塵薄膜 、=丁部份±開設氣壓調整用小孔,並設置過紅件防止異物從 二孔流,的空氣侵入到内部(參照專利文獻i)。 六*i人,常會以獲得所期望之異物捕集性能以及通氣性能的方 二過濾元件的捕集口徑以及面積,當僅設置1片過遽元 …、去ic传所期望的通氣性能時,吾人可設置複數片過濾元件。 3 201100952 ,如’在半導體製造過程情使用的防塵薄膜組件大多僅設置1 ’ 1對於此’ 1邊超過5〇()mm的大魏晶製造用防麟膜組件 為了確保通氣量通常會設置8片〜數十片。 在,使用的過濾元件’一般係採用將pTFE等材質延伸加工成 薄膜以作為通氣膜使用的片狀構件,從成本、形狀等觀點 ,考置,很適合使用於防麟膜組件,是很f_構件。其構造 f示’在過航件通氣膜41的單面上以環狀的方式配置用 合_著層43 ’在其相對側的表面上接合用來保護過 巧件^賴41而由ΡΡ等材質·成的粗網格狀的保護網42, =3巧造’厚度整體為心〜⑽贿左右。對於該過渡 了防止產生塵屑,會在過渡元件上實施塗佈或浸潤 枯者性物質的加工(參照專利文獻2)。 、古笑酿件框架,—般侧界面滩織在純水中用超音 ί=ί!ΐί時,通氣孔的内部雖然也會在液中被超音波洗 而由於超音波比較難以侵入通氣孔内部,故通常洗淨效果 孔部以外的)防塵細組件框架表面更差。尤其,一邊超 的大㈣雜料於其购寬 S率=變得更差°再者,在洗淨後對通 氣躺部辭無法用目視觀察的不良 罢、3?者’過?元件通f是以在防麟贿件框架❸卜側表面覆 安裝的。因此’例如’當對過濾元件吹送空氣使 時膜面會因為接觸通氣孔周緣部而擦傷 ^ 。在該部位所產生的塵屑,因為是在防塵薄膜组 側區域’可能會引起異物附著罩_上的嚴重4、] [先行技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本實公昭63-39703號公報 [專利文獻2]日本特開平09-068792號公報 201100952 【發明内容】 [發明所欲解決的問題] 本發明之目的在於提供-種防塵細組件,其在 用來將防塵薄膜組件内部與外部的氣壓調整成相ί ίit ,其特徵為:在使用中不會有從通氣孔或過濾、=產 生塵屑的疑慮,可靠度非常高。 、兀仵產 [解決問題之技術手段] Ο Ο t發明之防塵薄膜組件,在防塵薄膜組件框架上設 ,塵薄膜組件⑽的氣壓織成與外部相同的通氣孔 畜 ,孔二止微粒侵人防塵薄膜組件内部的過滤元件、:盆二 二m膜組件框架上的通氣孔的周緣部設置咖〜叫或 〜R1.0的倒角。通常,通氣孔周緣部會因為喷砂等 右 C〇j左右的自然倒角,惟藉由實施倒角加工,能夠降低從 :寺ίίί::而且還能夠防止過據元件膜與通氣孔周緣部在接 的、甫ϋ同ί之防塵薄膜組件中’設置在防塵薄膜組件框架上 ,通亂孔魏㈣面側向外面_推餘的方式擴大。若韻、 洗淨效果提高 产Rit,〗在同上之防㈣酿件中,將職孔壁_表面粗韃 二a5又在以下。如是除了能夠提》^ 讓異物難以附著。 又,在上述防塵薄膜組件中,除了該等通 =對所安裝之過濾、元件的通氣膜塗佈浸' 話,則能夠更進-部消除在使财產生顧的疑^讀物貝的 [對照先前技術之功效] “ 式擴i ’則用目視觀察洗淨後的通氣孔内部就會 二’而且有助於超音波在洗淨時深人通氣孔内部,讓 使其 5 201100952 =從周緣部職生的麵,並能夠很精確地檢 $留馳。再者,由於通氣孔内壁的表面粗輪度二= 效率很咼,而且異物附著可能性也很小。如是,便 【實施方式】 非以制來實施本發_實施形態進行説明,惟本發明並 非以此為限。又,本發明在框架寬度很寬( 於液晶製造用途,且-邊長度超過彻mm的大‘塵H 3 效果特別明顯,然而應用於使用在半導體用 / γ S孔很短),且一邊約150mm左右的小型防^: 到所期望的效果,故其用途並無特別蚊。權、、且件也月匕付 圖4表示在本發嗯中所使用的過濾元件的構造。 mE等材質所構成的多孔質以構== 佯膜組件框架上的枯著層43 ’又,頂面設置用來 保棱過濾兀件通氣膜的保護網42。由於 用2
可用在中央部露出的過渡元件膜41讓氣體流曰通。°又置成城,故 的通= 表:發明一實施形態之防塵薄膜組件框架U =====亦 ,4:; ir:zrmrK(,-ir - 困,除此之外,尺寸太小加工也合變得2 ΞΪ塑Γ置成超過lmm這麼大時,對框架剛' ί Γίϊ而且對於提高通氣孔内的洗淨效率。32 ⑺大以匕文裝位置所要求的公差變嚴格等不利的因辛,故^ 201100952 較不宜這樣設置。 件ifJ1氣緣部17設置成倒角,即使從外面對過濾、元 邻】7 °人^么的:流麵*树16 _而翻魏11孔的周緣 I田^/、不疋鋭利的部位,故幾乎不會因為摩擦而產生塵屑。 ,開"變大’也有在防塵薄膜組件框架11洗淨後 m^12喊讨無㈣味容㈣個優點。 雜方的周在防塵薄膜組件框架11的外側以及内側 “可。。貝施反倒角’惟料慮到成本面而僅在外側實 Ο Ο 教孔明另—實施形態的通氣孔附近的剖面圖。通 式擴大。°又因^攸薄膜組件框架内面侧向外面側以推拔狀的方 觀“ J H1σ A在防塵薄敵件框架洗淨後從外側以目視 異物,了作容易地深人檢查通氣孔㈣是否有 率善之外,檢査精確度也大幅提高。 此%,通氣孔内的表面粗糙度Ra =:7*要該=度=在_孔加-開孔之後實施^ 實施電“二行研磨、使用藥液進行化學研磨’或 i;SSiHF^= 的可能性也會降低。 再者’在製造步射’異物附著 孔4=;=率:點來看,吾人也有考慮到讓通氣 視方向的對向面比:;拔=:即使增大孔徑,由於沒有朝目 高效ί 34本發_手段,可料财雜合以更進- 施力丄理置加2 201100952 理使圖2所示的推拔狀通氣孔内壁的表 好關子。推拔_並_丨,;在〜= ㈣崎w缘部的倒 此日$ ’月包夠獲得上述2個與:你办丨& -ί!Γ:ϊΐ#^^5 37 又, 產生塵屑的危險性大i降低。、u H有叙獅部分,故 係將全部設成推拔狀’而 手段的觀點來看,_f二的孔控大小。從加工 間的效果並無ί別 置成讀的形狀亦無不可,兩者之 面粗iiR^f圖3的構造中,更宜進—步麵氣孔内壁的表 產2;可=防止通氣』 容易度哪-個觀點來看都非常良好的防^、檢査的 此=對所安裝㈣航件36塗佈或浸潤_性物質,# ,壤防塵_組件在使用時更無產生麵之虞。 ^ 5 ΪΊ並非在無塵室環境製造’而且就算是在無塵ί環“ ΐ 防:if過巧階段的衝孔加工到製成完成品之前,仍無法2 之的:付著。因此’在讓空氣流通時所附著的異物二有ϋ 將节生物f,可使用矽氧粘著劑、丙_粘著劑等。 ^伴;ί^ί 另外,該溶液的濃度或浸潤的液量,在^夠 確保過以件崎氣性㈣範ffi㈣當決定之即可。 约 [實施例] 201100952 以下記載本發明的實施例,惟本發明並非以此為限。 利用機械加工從Α5052鋁合金的壓延板製作出如圖5 之 形狀的防塵薄膜組件框架,其外寸為1526xl748mm, 1493x1711mm,高度為6.2mm。在該框架上設置16個通氣孔^ 通氣孔形成如目3所示的剖面形狀。在此,圖中的尺寸為:如= 1.5mm、3b=2.2mm、3C (曲率半徑)=〇.5腿。又,該通 ^ 1内壁的Ra研磨加工至〇 5/zm。然後’在機械加工完成之後, 對該框架表面f施姆處理,再實施黑色氧皮銘處理。 Ο 〇 内、隹^ΪΪΪΙ的無塵$㈣雜雜淨錢錄燥,絲在暗室 内進仃異物檢査。當然,對通氣孔内部也 外側仔細觀察,確認内部並無異物殘留。L物檢査’攸框架 在該框架的上端面塗佈用甲苯稀釋且乾 二 4膜接5 4 33。然後,在另一端面上塗佈用甲 寬度為6_的矽氧粘著劑 .^ ^ ^ H作 ==著劑35。此時⑽劑的4約為=
製過滹it制幢辄加讀砂® 4所示之構造的pTFE 於雕元^ > ί ί商品名KR37GG]以手動式塗佈器塗佈 :件36^表面,讓粘著劑浸潤過濾元件。 組’將該框架加熱到130。。使枯著劑、接合劍中的冷胁 :於完全交聯’接著將另外製作好的隔ί部: 佈脫模劑的備==隔_、將單面塗 製作而成的構件(純125㈣,核明)切成框架的形狀所 姑讲ϋ’詳述防塵薄膜的製造過程。在上述無塵室内,將矣而 燥之後的石英基板洗淨、待其乾 此係使用^,其乾燥後膜厚為6倾。成膜方法在 、〜佈法,惟亦可使用其他如旋塗法、狹缝盘旋 201100952 ί佈^等的各種方法。之後’將每片成膜基板用烤箱加埶到200 媒錢。接著’在冷卻之後,將框狀㈣顧離工呈接 &膜上,織緩緩地從基板上讎撕下,如是便製得剝離
最後,將該剝離膜貼合於前述框架的薄膜接合層 器將外側多餘的薄膜切除,便完成防塵薄膜組件。口層上用切告1J 生塵薄麻件在對過4元件吹送氣流時是否產 璃其2先二準備162°Xl78°X厚度跑111且表面經過研磨的石英玻 上室内洗淨、乾燥之後,在暗室内用集光燈檢 的異物用圖將其位置正確記錄起來。 ”、、在去除 巧,如圖7所示的’將所製作之防塵薄膜組件72貼合於該 包二上,製作出由防塵薄膜組件72與娜板71所 部以’在所有防塵薄膜組件72的過濾元件 ΐ中隨意選出5個,從外側吹送氣流。氣流吹送 /cmi為ΐ實口徑:2mm、距離:2〇麵、壓力:約392必(4kgf /cm ),吹送時間:1〇sec。 s 視方在ί過據兀件吹送氣流之後,在暗室内用集光燈以目 作比增上加的異物’並與氣流吹送前的檢査圖 [比較例] 械加工從A5G52齡金_延板製作出如圖5所示之 Η93χϋ塵賴 1組件框架,其外寸為⑸6x1748mm,内寸為 同―㈣:站尚度為6.2麵。在該框架上設置16個如圖6所示 後ϋίίΐ直㈣^麵的通氣孔62。在機械加工終了 测量ίΐ 實施喷砂處理,再實施黑色氧皮鱗理。另外, 、:1通虱孔62的内壁表面粗糙度Ra為2〜4//Π1左右。 淨並谢目同,在α_的無魅⑽該框架洗 /、乾、木,於暗室内確認有無異物附著。此時,亦對通氣孔 10 201100952 惟因為通氣孔又狭又深,無咖確地確認 罩枯二==:=的薄=合劑” 將該框架加綱13(TC讓觸絲,同軸^、^纽件。接者’ ^在光著層上齡糾料好的 的薄:j上所製作之防塵薄膜貼合於該框架 用切割補1架外侧多餘的薄膜,完成防塵 Ο 該防塵薄驗件的評價,與上述實施 示的,從外部對貼附在玻璃基板71 ϋ目同,如圖7所 元件吹送_,評價衫姓I int#5=i72的過遽 氣孔其附近的玻璃基板上附著數個直徑‘、二個通 【圖式簡單說明】 的叫Ξ』係施形態之防塵薄膜組件框架的通氣孔附近 的。】面圖,该通軋孔的兩端周緣部設置成汉倒角。 孔設實施雜之通氣孔附近的剖關,該通氣 成推實=孔顯•合-部分形 圖4係過濾元件的構造概略圖。 圖5係防塵薄膜組件的外觀概略圖。 圖6係習知通氣孔其附近的概略圖。 圖7係用來說明過濾元件是否產生塵屑的評價方法的概略圖。 【主要元件符號說明】 11防塵薄膜組件框架 12通氣孔 11 201100952 13薄膜接合層 14防塵薄膜 15光罩粘著層 16過滤元件 17 (通氣孔的)周緣部 21 防塵薄膜組件框架 22 通氣孔 23薄膜接合層 24防塵薄膜 25光罩钻著層 26過爐、元件 31 防塵薄膜組件框架 32通氣孔 33薄膜接合層 34防塵薄膜 35光罩粘著層 36過渡元件 37 (通氣孔的)周緣部 3a通氣孔同徑部 3b通氣孔推拔部徑長 3c周緣部R倒角半徑 41 過濾元件通氣膜 42 保護網 43粘著層 61防塵薄膜組件框架 62通氣孔 63薄膜接合層 64 防塵薄膜 65光罩粘著層 66過遽元件 201100952 71玻璃基板 72防塵薄膜組件
〇 13

Claims (1)

  1. 201100952 七、申請專利範圍: 1、一種防塵薄膜組件,其於 防塵薄膜組件内部的氣_ 社設置用來將 氣孔上安裝用以防思此^ 外°卩相同的通氣孔,並在該通 其特徵為: 〃 $人到防塵薄膜組件内部的過濾元件, 角。在通氣孔關緣部設⑽.5〜⑽的懒或脱5〜ri 〇的倒 陡鹿1、Γ種防塵薄膜組件,其在防塵薄膜組件框竿上-·晉用也脸 ,氣_與外部相同的通氣孔 ίϋί防止異物侵人到防塵薄膜組件内部的過濾ίΐ 該通氣孔從框架内面側向外面側以推拔狀的方式擴大。 .種防塵薄膜組件,其在防塵薄膜組件框架上机晋Η也收 :塵,牛内部的氣壓調整成與外部相同的通氣孔 裝用以防止異物侵人到防塵薄膜組件内部的過濾: 該通氣孔内壁的表面粗糙度1^在1#m以下。 中,4、如中請專利範圍第丨至3項中任—項之防塵薄膜組件,其 在該過濾元件上塗佈或浸潤粘著性物質。 八、圖式: 14
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